JPH02290056A - 集積回路 - Google Patents

集積回路

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JPH02290056A
JPH02290056A JP1189217A JP18921789A JPH02290056A JP H02290056 A JPH02290056 A JP H02290056A JP 1189217 A JP1189217 A JP 1189217A JP 18921789 A JP18921789 A JP 18921789A JP H02290056 A JPH02290056 A JP H02290056A
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JP
Japan
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beta22
transistor
beta32
beta31
beta21
Prior art date
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JP1189217A
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English (en)
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JPH048950B2 (ja
Inventor
Koji Eguchi
江口 宏次
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPH02290056A publication Critical patent/JPH02290056A/ja
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は集積回路に関する。
M.IS型集積回路は基本的にはAND回路、OR回路
、NOT回路等の論理回路の組合せと見なすことができ
、とシわけ相補MI8型集積回路はその回路構成が明確
である。これらの回路をアートワークする際に各接点容
量を小さくすることは回路動作の高速化に寄与するはか
シでなく、低消費電力化をも計る.ことが可能である。
第1図は従来の標準的なNチャネルトランジスタによる
2人力NAND回路であシ負荷トランジスタTRIと、
駆動トランジスタTR2 ,TR3とによシ構成されて
いる。通常、駆動トランジスタTR2 .TR3のチャ
ネル幅Wは同一である。
従来の方法でこの回路の駆動トランジスタ部分のみをパ
ターン化すると第2図のようになる。即ち、ゲート電極
2.3をN型領#1.5.4間に設けて駆動トランジス
タTR2 .TR3の単なる直列接続を行い互いに共有
しない拡散層領竣の一方4 ’ii GND端子とし、
他方】を出力端子とするものである。このアートワーク
法は簡単明瞭であシ現在一般に使用されている。しかし
駆動される負荷が重い場合には負荷トランジスタTRI
はもとよシ駆動トランジスタTR2,TR3の駆動能力
を上げるべく該トランジスタのWを太きくしなければな
らない。ところが、これに伴クて拡散層面積が増し各接
点容量が増加する。又、更に駆動トランジスタのゲート
電極2.3であるぼりシリコンの抵抗も無視出来ない程
迄増加する。
従ってチャネル幅Wを大きくすることによシ駆動力を上
けても従来のアートワーク法では回路の高速化という観
点から見るとWの増加量に比例した改善は成されなくな
る。
本発明では上記欠点を取シ除くのみならず、従来のアー
トワーク法による回路特性を上廻る特性が期待できるも
のである。
第3図は本発明のキーポイントともなる第1図同様の機
能を呆たす2人力NAND回路である。第1図と第3図
が等価になる為には駆動トランジスタTR2 ,TR3
の電流増幅率をそれぞれβ2,β3とし、又駆動トラン
ジスタTR21 ,TR22,TR31,嘗R32の電
流増幅率をそれぞれβ21?22,β31,β3■とし
たとき、β2−β21+β22,β3−β,,+β32
,β2/β3−β22/β52なる条件を満足している
ことが必要である。上記関係からさらにβ21/β,1
=β22/β52の関係も自明の如く得られる。この条
件を満足することによって第3図におけるTR31のド
レイン電極(又はTR2 1のソース電極)A点とTR
32のドレイン電極(又はTR22のソース電極)B点
とは接続する必要性がなくなり、それでいて、第1図と
第3図とは回路的に等価となる。
第4図は第3図の回路の駆動トランジスタ部分のみをア
ートワークしたものである。
第4図において、P型半導体の一主面上にトランジスタ
TR31のソースおよびト1レインとしてのN型領域8
および9と、トランジスタTR2 1のドレインとトラ
ンジスタTR22のドレインとしてのN型領埴11と、
トランジスタTR22のソースとトランジスタTR3 
2のドレインとしてのN型領域10と、トランジスタT
R32のソースとしてのN型領域13が同一方向に配置
されている。ポリシリコン6はTR21とTR22のゲ
ート電極配線を構成し、ポリシリコン7はトランジスタ
TR3 1とTR32のデートt極配線を構成する。N
型領謔11に設けられたコンタクト】5からは第2図の
出力端子OUTが引き出される。
コンタク}12および14け共に接地電源に接続される
。ここでは各N型領域の巾は第2図の場合の約1/2と
されている。
以上のように、トランジスタのWを2等分割して2組の
直列パターンを形成し、そのドレイン領琥を互いに共有
したパターン構成を行ったことによって回路特性に影饗
を与える出力端子に相当するパターン11の容量が従来
の方法によるものと比較して小さくすることができる。
一般に拡散層容董はパターン面積に比例する項と、パタ
ーンの周囲長に比例する項の和で安わされるが、これは
出力端子11のパターンをTR2 1とTR22のゲー
トボリシリによって挾んだことによシ夾現出来て出力端
子(1])のパターン面積と、その周凹長とが減小でき
たことによるものである。又、このパターン構成は上下
左右対称な為、l」合せズレが生じても、トランジスタ
特性にはほとんど影響を与えない。更に駆動トランジス
タをそれぞれ2分割してあることから、ゲートポリシリ
の抵抗も減小し遅延時間の短縮に寄与するものである。
以上の効果は駆動トランジスタのチャネル幅が増加する
程大きくなる。
第5図は本発明による効果を示すもので、従来のアート
ワーク法によるパターン面積及び周囲長を基準にした時
、本発明によるそれらの割合をパーセント表示したもの
である。この図においてX軸には駆動トランジスタのチ
ャネル幅wyとりY軸には百分率をとっている。]1は
パターン面積に関するものでチャネル幅が約50μ以上
になると従来のノぞターン面積の約75%になシ飽相状
態に入る。
l2は、周囲長に関するものでこれはチャネル幅の増加
に伴って従来のそれと比較し減小していく、 尚、ここでは幾何学的なサイズで比較したが、各単位容
量を考慮に入れれば効果が具体的に知ることができる。
以上で述べたように特別なパターンを設けることなく、
アートワーク上の工夫だけで回路特性をよシ優れたもの
にすることができ、又、とのノやターン構成が左右上下
対称な為、目合せズレが生じて本トランジスタの駆動能
力及びその接点容量はほとんど変らない。ここで述べた
のはNチャネルトランジスタを使クた一例に過ぎず、他
にNチャネルトランジスタを使クた回路に限らすPチャ
ネルトランジスタ又は相補MIS型トランジスタの回路
のアートワークでも採用可能である。特に相補MIS型
集積回路のアートワークに採用すれば本発明の使用頻度
が高くなシ好適となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は標準的なNチャネルMOS トランジスタによ
るNAND回路を示す図、第2図は第1図の回路のアー
トワーク図である。 第3図は本発明によるアークワーク図の弊価回路であり
、第4図は本発明を2人力NAND回路を例にしたとき
のアートワーク図である。 第5図は本発明によるパターン面積及び周囲長を従来の
アートワーク法による場合の面積及び周囲長を基準に取
ったときの割合をチャネル幅Wの依存としてノヤ一セン
ト表示したものである。 1・・・出力端子領域、2・・・TR2のf−}ポリシ
リ、3・・・TR3のグー}/リシリ、4・・・GND
端子領域、5・・・出力端子領域、6・・・TR21,
TR22のグートポリシリ、7・・・TR31,TR3
2のゲートボリシリ, 代埋人 弁埋士 内 原   晋 Vcc 第 図 第4 図 第 因

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 第1の端子と第2の端子との間に順次直列に接続された
    一導電型の第1および第2のMISトランジスタとを有
    する第1の直列回路と、前記第1の端子と第2の端子と
    の間に順次直列に接続された前記一導電型の第3および
    第4のMISトランジスタとを有する第2の直列回路と
    を有し、前記第1および第3のトランジスタのゲートに
    は第1の入力信号が共通に与えられ、前記第2および第
    4のトランジスタのゲートには第2の入力信号が共通に
    与えられ、前記第1、第2、第3および第4のトランジ
    スタの電流増幅率をそれぞれβ_1、β_2、β_3、
    β_4としたとき、β_1/β_3=β_2/β_4と
    なっていることを特徴とする集積回路。
JP1189217A 1989-07-21 1989-07-21 集積回路 Granted JPH02290056A (ja)

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JP1189217A JPH02290056A (ja) 1989-07-21 1989-07-21 集積回路

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JP2997280A Division JPS56125854A (en) 1980-03-10 1980-03-10 Integrated circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02290056A true JPH02290056A (ja) 1990-11-29
JPH048950B2 JPH048950B2 (ja) 1992-02-18

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ID=16237524

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JP1189217A Granted JPH02290056A (ja) 1989-07-21 1989-07-21 集積回路

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6084436A (en) * 1996-10-24 2000-07-04 Nec Corporation Multi-input semiconductor logic device with mask pattern for reduced parasitic capacitance
JP2007134577A (ja) * 2005-11-11 2007-05-31 Toshiba Corp 半導体装置

Cited By (3)

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US6084436A (en) * 1996-10-24 2000-07-04 Nec Corporation Multi-input semiconductor logic device with mask pattern for reduced parasitic capacitance
JP2007134577A (ja) * 2005-11-11 2007-05-31 Toshiba Corp 半導体装置
US7915688B2 (en) 2005-11-11 2011-03-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device with MISFET

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Publication number Publication date
JPH048950B2 (ja) 1992-02-18

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