JPH02286660A - 置換キノリンの逐次酸化による置換ピリジン―２，３―ジカルボン酸の製造法 - Google Patents
置換キノリンの逐次酸化による置換ピリジン―２，３―ジカルボン酸の製造法Info
- Publication number
- JPH02286660A JPH02286660A JP2067382A JP6738290A JPH02286660A JP H02286660 A JPH02286660 A JP H02286660A JP 2067382 A JP2067382 A JP 2067382A JP 6738290 A JP6738290 A JP 6738290A JP H02286660 A JPH02286660 A JP H02286660A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogen
- formula
- hydroxy
- halogen
- reaction mixture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N quinolinic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CN=C1C(O)=O GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 26
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title abstract description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title abstract description 13
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N anhydrous quinoline Natural products N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 15
- 125000002943 quinolinyl group Chemical class N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 title 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 27
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 27
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 19
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 18
- -1 nitro, hydroxy, formyl Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 13
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 9
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 5
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 claims description 5
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004963 sulfonylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000171 (C1-C6) haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000006577 C1-C6 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 2
- NRIMHVFWRMABGJ-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hepta-2,5-diene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C(C(=O)O)=C(C(O)=O)C1C=C2 NRIMHVFWRMABGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004992 haloalkylamino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004769 (C1-C4) alkylsulfonyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 229940111121 antirheumatic drug quinolines Drugs 0.000 abstract description 4
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 abstract description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 3
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Inorganic materials Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001204 N-oxides Chemical class 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 2
- 125000005278 alkyl sulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical group 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- JUYUYCIJACTHMK-UHFFFAOYSA-N quinoline-8-sulfonyl chloride Chemical compound C1=CN=C2C(S(=O)(=O)Cl)=CC=CC2=C1 JUYUYCIJACTHMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 2
- IRFHMTUHTBSEBK-QGZVFWFLSA-N tert-butyl n-[(2s)-2-(2,5-difluorophenyl)-3-quinolin-3-ylpropyl]carbamate Chemical compound C1([C@H](CC=2C=C3C=CC=CC3=NC=2)CNC(=O)OC(C)(C)C)=CC(F)=CC=C1F IRFHMTUHTBSEBK-QGZVFWFLSA-N 0.000 description 2
- WREVVZMUNPAPOV-UHFFFAOYSA-N 8-aminoquinoline Chemical compound C1=CN=C2C(N)=CC=CC2=C1 WREVVZMUNPAPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKZKDUOONABEJO-UHFFFAOYSA-N 8-chloro-3-ethylquinoline Chemical compound ClC1=CC=CC2=CC(CC)=CN=C21 JKZKDUOONABEJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUSMDMDNFUYZTM-UHFFFAOYSA-N 8-chloroquinoline Chemical compound C1=CN=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 RUSMDMDNFUYZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical group OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical class [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- RJIWZDNTCBHXAL-UHFFFAOYSA-N nitroxoline Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=C([N+]([O-])=O)C2=C1 RJIWZDNTCBHXAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYESAYHWISMZOK-UHFFFAOYSA-N quinolin-5-ol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=N1 GYESAYHWISMZOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000012258 stirred mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000005420 sulfonamido group Chemical group S(=O)(=O)(N*)* 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D213/79—Acids; Esters
- C07D213/80—Acids; Esters in position 3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/62—Oxygen or sulfur atoms
- C07D213/69—Two or more oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は塩基性条件下において適当な置換基をもつキノ
リン前駆体を二段階で逐次酸化することにより置換基を
もったピリジン−２，３−ジカルボン酸を製造する方法
に関する。本発明方法に関連した方法は米国特許第４，
８１６，５８８号に記載されており、この方法では塩基
性条件下において置換基をもったまたはもたないピリジ
ン−２，３−ジカルボン酸が従来法よりも有利に製造さ
れる。該ジカルボン酸を製造する上で、塩基性条件下に
おいて新規に過酸化水素を使用することにより置換基を
もっＦ−−２，３−ジカルボン酸を高純度で製造し得る
ことが、従来法に比べて明確な利点となっている。
リン前駆体を二段階で逐次酸化することにより置換基を
もったピリジン−２，３−ジカルボン酸を製造する方法
に関する。本発明方法に関連した方法は米国特許第４，
８１６，５８８号に記載されており、この方法では塩基
性条件下において置換基をもったまたはもたないピリジ
ン−２，３−ジカルボン酸が従来法よりも有利に製造さ
れる。該ジカルボン酸を製造する上で、塩基性条件下に
おいて新規に過酸化水素を使用することにより置換基を
もっＦ−−２，３−ジカルボン酸を高純度で製造し得る
ことが、従来法に比べて明確な利点となっている。
これを要約すれば本発明においては置換キノリンを過酸
化水素およびヒポ塩素酸塩で逐次酸化するこ七により置
換ピリジン−２，３−ジカルボン酸を製造する方法が提
供される。
化水素およびヒポ塩素酸塩で逐次酸化するこ七により置
換ピリジン−２，３−ジカルボン酸を製造する方法が提
供される。
従って本発明の目的は塩基の水溶液の存在下においてヒ
ポ塩素酸塩（アルカリ金属塩として加えるかその場で生
成させる）を使用し、逐次酸化を行うことにより著しく
増加した収率で高純度の２゜３−ピリジンジカルボン酸
を製造し得るように、該過酸化水素と塩基とを用いると
酸化工程の改良法を提供することである。
ポ塩素酸塩（アルカリ金属塩として加えるかその場で生
成させる）を使用し、逐次酸化を行うことにより著しく
増加した収率で高純度の２゜３−ピリジンジカルボン酸
を製造し得るように、該過酸化水素と塩基とを用いると
酸化工程の改良法を提供することである。
本発明においては過酸化水素と塩基とによる酸化工程の
後にヒポ塩素酸を添加すると、生成物の最適な純度を得
るのに必要な過酸化水素の量を驚くほどに減少させるこ
とができ、且つ生成物の収率を著しく増加させ得ること
が見出だされた。このようにしてつくられた置換ピリジ
ン−２，３−ジカルボン酸は米国特許第４，５１８，７
８０号および同第４，６３８．０６８号記載のような新
規ピリジンおよびキノリン・イミダシリン除草剤製造の
中間体として有用である。上記特許において原料として
使用される適当な置換基をもったピリジンおよびキノリ
ン−２゜３−ジカルボン酸は米国特許第４，５６２．２
５７号記載の方法でそのピリジンおよびキノリン−２，
３−ジカルボン酸前駆体から製造することができる。式
Ｉの置換ピリジン−２，３−ジカルボン酸から式ＩＶの
有用な除草剤を製造する上記米国特許に記載された反応
の順序を下記第１図に示す。
後にヒポ塩素酸を添加すると、生成物の最適な純度を得
るのに必要な過酸化水素の量を驚くほどに減少させるこ
とができ、且つ生成物の収率を著しく増加させ得ること
が見出だされた。このようにしてつくられた置換ピリジ
ン−２，３−ジカルボン酸は米国特許第４，５１８，７
８０号および同第４，６３８．０６８号記載のような新
規ピリジンおよびキノリン・イミダシリン除草剤製造の
中間体として有用である。上記特許において原料として
使用される適当な置換基をもったピリジンおよびキノリ
ン−２゜３−ジカルボン酸は米国特許第４，５６２．２
５７号記載の方法でそのピリジンおよびキノリン−２，
３−ジカルボン酸前駆体から製造することができる。式
Ｉの置換ピリジン−２，３−ジカルボン酸から式ＩＶの
有用な除草剤を製造する上記米国特許に記載された反応
の順序を下記第１図に示す。
流れ図Ｉ
本発明は式■
■
■
但し式中Ｘは水素、またはメチルであるが、下記Ｙおよ
びＺが一緒になって構造−（ＣＨｚ）−１ここでｎは３
または４、で表される環をつくる場合にはＸは水素であ
り、 Ｙは水素、ハロゲン、ｃ、〜ｃ６アルキル、ｃｌ〜Ｃ６
ヒドロキシアルキル、Ｃｌ””Ｃａハロアルキル、０１
〜Ｃ６アミノアルキル、ｃ１〜ｃ６スル７オニルアルキ
ル、ニトロ、ヒドロキシ、フォルミル、カルボキシ、ア
シノ呟アミド、アミノＣ１〜Ｃ，アルキルアミノ、ジ低
級アルキルアミノ、Ｃ１〜Ｃ，アルキルスルフォニル、
スルフォンアミド、または随時１個のＣ０〜ｃ４アルキ
ル基、ｃＩ〜Ｃ，アルキルスルフォニル基、ハロゲン、
ヒドロキシまたはトリフルオロメチル基で置換されたフ
ェニルでアリ、 Ｚは水素、０１〜ｃ６アルキル、Ｃ１〜ｃ６ヒドロ＝７ キシアルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、０１〜Ｃ６ア
ミノアルキル、Ｃ□〜Ｃ６スルフオニルアルキル、ニト
ロ、ヒドロキシ、フォルミル、カルボキシ、アシル、ア
ミド、アミノ、Ｃ，−Ｃ，アルキルアミノ、ジ低級アル
キルアミノ、０１〜Ｃ，アルキルスルフォニル、スルフ
ォンアミド、または随時１個の０１〜Ｃ，アルキル基、
０１〜Ｃ。
びＺが一緒になって構造−（ＣＨｚ）−１ここでｎは３
または４、で表される環をつくる場合にはＸは水素であ
り、 Ｙは水素、ハロゲン、ｃ、〜ｃ６アルキル、ｃｌ〜Ｃ６
ヒドロキシアルキル、Ｃｌ””Ｃａハロアルキル、０１
〜Ｃ６アミノアルキル、ｃ１〜ｃ６スル７オニルアルキ
ル、ニトロ、ヒドロキシ、フォルミル、カルボキシ、ア
シノ呟アミド、アミノＣ１〜Ｃ，アルキルアミノ、ジ低
級アルキルアミノ、Ｃ１〜Ｃ，アルキルスルフォニル、
スルフォンアミド、または随時１個のＣ０〜ｃ４アルキ
ル基、ｃＩ〜Ｃ，アルキルスルフォニル基、ハロゲン、
ヒドロキシまたはトリフルオロメチル基で置換されたフ
ェニルでアリ、 Ｚは水素、０１〜ｃ６アルキル、Ｃ１〜ｃ６ヒドロ＝７ キシアルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、０１〜Ｃ６ア
ミノアルキル、Ｃ□〜Ｃ６スルフオニルアルキル、ニト
ロ、ヒドロキシ、フォルミル、カルボキシ、アシル、ア
ミド、アミノ、Ｃ，−Ｃ，アルキルアミノ、ジ低級アル
キルアミノ、０１〜Ｃ，アルキルスルフォニル、スルフ
ォンアミド、または随時１個の０１〜Ｃ，アルキル基、
０１〜Ｃ。
アルキルスルフォニル
キシまたはトリフルオロメチル基で置換されたフェニル
であり、 ＹおよびＺは一緒になって構造−（ＣＨ２）、−、ここ
でｎは３または４、で表される環をつくることもでき、
この場合にはＸは水素であり、或いは Ｌ Ｍ Ｑ Ｒ。
であり、 ＹおよびＺは一緒になって構造−（ＣＨ２）、−、ここ
でｎは３または４、で表される環をつくることもでき、
この場合にはＸは水素であり、或いは Ｌ Ｍ Ｑ Ｒ。
一ｃ＝ｃ−ｃ＝ｃ− 。
但しＬ％Ｍ， ＱおよびＲ１はそれぞれヒドロキシ、ハ
ロゲン、ｃｌ〜Ｃ，アルキル、Ｃｌ〜Ｃ，アルキルスル
７オ二ル ルキルアミノ、０１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ低級アル
キルアミノ、およびトリフルオロメチルであるが、Ｌ，
Ｍ， ＱおよびＲ。
ロゲン、ｃｌ〜Ｃ，アルキル、Ｃｌ〜Ｃ，アルキルスル
７オ二ル ルキルアミノ、０１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ低級アル
キルアミノ、およびトリフルオロメチルであるが、Ｌ，
Ｍ， ＱおよびＲ。
はただ１つだけが水素、ハロゲンまたは０１〜Ｃ，アル
キル以外の置換基である、であることもできる、 のピリジン−２．３−ジカルボン酸の製造法において、
式Ｉ＋ に２ 但し式中ｘ１ＹおよびＺは式Ｉと同じ意味を有し、Ｒ２
、Ｒ，、Ｒ，およびＲ，はそれぞれ水素、ヒドロキシ、
ＳＯ３Ｍ， ＳＯ２ＣＩＳＳＨ，ハロゲン、Ｎｏ．、Ｎ
Ｈ．であるが、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ，およびＲ，の一つは水
素以外であり、Ｒ２がヒドロキシである場合には Ｒ，、Ｒ４およびＲ５の少なくとも１つは水素以外であ
る、 のキノリン化合物、そのＮ−オキシド、酸付加塩を水性
延期の存在下において過酸化水素を使用して酸化した後
、ヒポ塩素酸塩を加える方法に関する。
キル以外の置換基である、であることもできる、 のピリジン−２．３−ジカルボン酸の製造法において、
式Ｉ＋ に２ 但し式中ｘ１ＹおよびＺは式Ｉと同じ意味を有し、Ｒ２
、Ｒ，、Ｒ，およびＲ，はそれぞれ水素、ヒドロキシ、
ＳＯ３Ｍ， ＳＯ２ＣＩＳＳＨ，ハロゲン、Ｎｏ．、Ｎ
Ｈ．であるが、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ，およびＲ，の一つは水
素以外であり、Ｒ２がヒドロキシである場合には Ｒ，、Ｒ４およびＲ５の少なくとも１つは水素以外であ
る、 のキノリン化合物、そのＮ−オキシド、酸付加塩を水性
延期の存在下において過酸化水素を使用して酸化した後
、ヒポ塩素酸塩を加える方法に関する。
本発明方法に使用するのに適した水性塩基には、アルカ
リ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物および炭酸塩
、例えばナトリウム、カリウム、リチウムおよびカルシ
ウムの水酸化物または炭酸塩、或いはこれらの混合物が
含まれる。水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムの水
溶液が好適な塩基である。
リ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物および炭酸塩
、例えばナトリウム、カリウム、リチウムおよびカルシ
ウムの水酸化物または炭酸塩、或いはこれらの混合物が
含まれる。水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムの水
溶液が好適な塩基である。
水性塩基を２．０〜１０．０モル当量（好ましくは５．
０〜６．０モル当量）存在させて式ＩＩのキノリンを７
．０〜２０．０モル当量、好ましくは７．５〜９．０モ
ル当量の過酸化水素により２５〜１２５°ｃ１好ましく
は８５〜９゜０Ｃで処理する。添加終了後反応温度を少
なくとも１時間約２５〜１２５°Ｃ１好ましくは約８５
〜９０’Ｏに保つ。
０〜６．０モル当量）存在させて式ＩＩのキノリンを７
．０〜２０．０モル当量、好ましくは７．５〜９．０モ
ル当量の過酸化水素により２５〜１２５°ｃ１好ましく
は８５〜９゜０Ｃで処理する。添加終了後反応温度を少
なくとも１時間約２５〜１２５°Ｃ１好ましくは約８５
〜９０’Ｏに保つ。
反応混合物を約２５〜９０°Ｃ１好ましくは約６５〜７
０’０に冷却し、鉱酸を加えてｐＨを約８〜１４、好ま
しくはｌ０８５〜１１．０に保つ。この時点で１．０〜
４．０モル当量（好ましくは１．０〜２．０モル当量）
のヒポ塩素酸陰イオンを５〜３０％水溶液として加える
か、或いは直接塩素ガスを加えてヒポ塩素酸陰イオンを
その場で発生させる。反応温度は２５°Ｃ以上１２５°
Ｃ以内が適当であるが、これよりも温度が低いと完全な
酸化が起こるのにさらに反応時間を必要とする。
０’０に冷却し、鉱酸を加えてｐＨを約８〜１４、好ま
しくはｌ０８５〜１１．０に保つ。この時点で１．０〜
４．０モル当量（好ましくは１．０〜２．０モル当量）
のヒポ塩素酸陰イオンを５〜３０％水溶液として加える
か、或いは直接塩素ガスを加えてヒポ塩素酸陰イオンを
その場で発生させる。反応温度は２５°Ｃ以上１２５°
Ｃ以内が適当であるが、これよりも温度が低いと完全な
酸化が起こるのにさらに反応時間を必要とする。
本発明方法において式ＩＩのキノリンを酸化して式Ｉの
ピリジン−２，３−ジカルボン酸にするには、二工程と
して処理が行われる。酸化の最初の工程では水性塩基の
存在下において過酸化水素により官能基をもったベテロ
原子を含まない方の芳香環が開裂して式１１ａの中間体
が生じる。第２の工程ではヒポ塩素酸陰イオンが加えら
れると、式１１ａの中間体の側鎖が酸化されて下記第２
図のようにカルボン酸官能基を生じる。
ピリジン−２，３−ジカルボン酸にするには、二工程と
して処理が行われる。酸化の最初の工程では水性塩基の
存在下において過酸化水素により官能基をもったベテロ
原子を含まない方の芳香環が開裂して式１１ａの中間体
が生じる。第２の工程ではヒポ塩素酸陰イオンが加えら
れると、式１１ａの中間体の側鎖が酸化されて下記第２
図のようにカルボン酸官能基を生じる。
流れ図■
ここでＲ６およびＲ７はカルボン酸、グリコール酸、ア
ルデヒド、ヒドロキシルメチル基、および酸化の中間段
階における他のアルキル基から成る官能基から成る群か
ら選ばれる基の混合物である。過酸化水素は第１の酸化
段階、即ち芳香環系の開裂に使用することが好ましいが
、驚くべきことにはヒポ塩素酸陰イオンは得られた中間
体の酸化を完結させ最終的なジカルボン酸にするのに使
用するのが好ましいことが見出だされた。
ルデヒド、ヒドロキシルメチル基、および酸化の中間段
階における他のアルキル基から成る官能基から成る群か
ら選ばれる基の混合物である。過酸化水素は第１の酸化
段階、即ち芳香環系の開裂に使用することが好ましいが
、驚くべきことにはヒポ塩素酸陰イオンは得られた中間
体の酸化を完結させ最終的なジカルボン酸にするのに使
用するのが好ましいことが見出だされた。
ヒポ塩素酸陰イオンを導入する時点における反応溶液の
ｐＨは反応の収率に大きな影響を及ぼす。
ｐＨは反応の収率に大きな影響を及ぼす。
反応のｐＨを約１０．５〜１１．５に調節すると、反応
生成物に関し優れた収率が得られることが見出だされＩ
こ。
生成物に関し優れた収率が得られることが見出だされＩ
こ。
ヒポ塩素酸塩を５〜３０％の水溶液として添加するか、
或いは塩素ガスを加えてその場で発生させた後、ヨウ化
カリウム・澱粉指示薬試験を用いてヒポ塩素酸陰イオン
の存在を検出する。ヨウ化カリウム・澱粉指示薬試験が
陰性になったなら（通常約１時間後）、反応混合物を鉱
酸で酸性にして生成物のジカルボン酸をつくり、標準的
な方法、例えば濾過、またはテトラヒドロフラン、アセ
トン、０３〜Ｃ６アルコール、またはエチレングリコー
ルのモノＣ１〜Ｃ４エーテルのような適当な有機溶媒中
に抽出する方法で分離することができる。好適な有機溶
媒はテトラヒドロフランである。
或いは塩素ガスを加えてその場で発生させた後、ヨウ化
カリウム・澱粉指示薬試験を用いてヒポ塩素酸陰イオン
の存在を検出する。ヨウ化カリウム・澱粉指示薬試験が
陰性になったなら（通常約１時間後）、反応混合物を鉱
酸で酸性にして生成物のジカルボン酸をつくり、標準的
な方法、例えば濾過、またはテトラヒドロフラン、アセ
トン、０３〜Ｃ６アルコール、またはエチレングリコー
ルのモノＣ１〜Ｃ４エーテルのような適当な有機溶媒中
に抽出する方法で分離することができる。好適な有機溶
媒はテトラヒドロフランである。
この方法で製造し得る化合物の例を第１表に示す。
第１表
ＣＨ８
Ｃ，Ｈ。
Ｃ２Ｈ。
ＨｘＮ−Ｃａ−Ｈｒ２
ｒ
ＮＨ。
ＮＨ。
０ＣＨ２
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２
ＳＯ□ＮＨ２
ＣＨｌ−Ｃ８（ＯＨ）
本発明方法に使用できる式Ｉ＋のキノリンは３−エチル
−８−クロロキノリン、８−クロロキノリン、３−メチ
ル−８−クロロキノリン、５−ヒドロキシキノリン、塩
化８−キノリンスルフォニル、８−（３−エチル−キノ
リン）スルフォン酸、５−ニトロ−８−ヒドロキシキノ
リン等である。
−８−クロロキノリン、８−クロロキノリン、３−メチ
ル−８−クロロキノリン、５−ヒドロキシキノリン、塩
化８−キノリンスルフォニル、８−（３−エチル−キノ
リン）スルフォン酸、５−ニトロ−８−ヒドロキシキノ
リン等である。
本発明の理解をさらに容易にするために、主として本発
明の詳細点を例示する目的で下記に実施例を示す。下記
実施例において特記しない限りすべての割合は重量によ
り、温度は摂氏で示す。
明の詳細点を例示する目的で下記に実施例を示す。下記
実施例において特記しない限りすべての割合は重量によ
り、温度は摂氏で示す。
実施例１
過酸化水素およびヒポ塩素酸ナトリウムを用いるピリジ
ン−２，３−ジカルボン酸の製造８−アミノキノリン（
７，２１ｇ、 ０．０５モル）および水酸化カリウム１
５％水溶液（１２１，６ｇ、 ０．３２５モル）を撹拌
し、８モル当量の過酸化水素（４５，３ｇ、 ０．４０
モル）を用いこれを３０％水溶液として１時間に亙り８
０〜９０°Ｃで処理する。さらに３０分間反応混合物を
８０〜９０°Ｃに保ち、６５℃に冷却した後９６％硫酸
で処理してｐＨを１１にし、次いで１５％ヒポ塩素酸ナ
トリウム（４４，７ｇ１０．０９モル）で処理する。全
部で１時間半に亙り反応温度を６５〜７０°Ｃの温度に
保つ。反応混合物を２５°Ｃに冷却し、高圧液体クロマ
トグラフ分析法で決定して５３．４％の収率で標題化合
物を得た。
ン−２，３−ジカルボン酸の製造８−アミノキノリン（
７，２１ｇ、 ０．０５モル）および水酸化カリウム１
５％水溶液（１２１，６ｇ、 ０．３２５モル）を撹拌
し、８モル当量の過酸化水素（４５，３ｇ、 ０．４０
モル）を用いこれを３０％水溶液として１時間に亙り８
０〜９０°Ｃで処理する。さらに３０分間反応混合物を
８０〜９０°Ｃに保ち、６５℃に冷却した後９６％硫酸
で処理してｐＨを１１にし、次いで１５％ヒポ塩素酸ナ
トリウム（４４，７ｇ１０．０９モル）で処理する。全
部で１時間半に亙り反応温度を６５〜７０°Ｃの温度に
保つ。反応混合物を２５°Ｃに冷却し、高圧液体クロマ
トグラフ分析法で決定して５３．４％の収率で標題化合
物を得た。
上記方法を使用し、第２表に示す式ＩＩ＋のキノリンを
用いてピリジン−２，３−ジカルボン酸を製造した。
用いてピリジン−２，３−ジカルボン酸を製造した。
凰Ｉ茎
過酸化水素およびヒポ塩素酸塩を用い置換キノリンを逐
次酸化してピリジン−２，３−ジカルボン酸（ＰＤＣ）
を製造する方法。
次酸化してピリジン−２，３−ジカルボン酸（ＰＤＣ）
を製造する方法。
式■の化合物
Ｒ，Ｒ，Ｒ。
ＨＨＨ
Ｎｏ、ＨＨ
ＨＨ
■
ＯＨ
ＯＨ
ＯＨ
モル当量
塩基
５．５
６．５
５．５
％収率
ＰＤＣ
５３，６
３７，３
５８゜５
実施例２
塩化８−キノリンスルフォニルの逐次酸化によるピリジ
ン−２，３−ジカルボン酸の製造２５ｍＱの水と塩化８
−キノリンスルフォニル（１１，４ｇ。
ン−２，３−ジカルボン酸の製造２５ｍＱの水と塩化８
−キノリンスルフォニル（１１，４ｇ。
０．０５モル）との混合物を撹拌し８５％水酸化カリウ
ム（２４，２ｇ、 ０．３７５モル）で処理し、若干の
水を蒸溜しなから２５０°Ｃに加熱する。反応混合物を
１７２時間時間量２５０°Ｃに保ち、２０−５０℃に冷
却し、１００ｍｆｆの水で処理する。次いで反応混合物
を８５℃に加熱し、８モル当量の３０％過酸化水素（４
５，３ｇ、 ０．４モル）で１時間に亙り８５〜９０°
Ｃで処理する。さらに３０分間８５℃に保った後６５°
Ｃに冷却し、９６％硫酸を加えてｐＨを１１にし、次い
で１．８モル当量の１５％ヒポ塩素酸ナトリウム（４４
，７ｇ、 ０．０９モル）を３０分間に亙り６５〜７０
°Ｃで加える。さらに１時間反応混合物を６５〜７０°
Ｃに保ち、室温に冷却し、高圧液体クロマトグラフ（Ｈ
ＰＬＣ）分析法で決定して生成物のピリジン−２゜３−
ジカルボン酸を得た。
ム（２４，２ｇ、 ０．３７５モル）で処理し、若干の
水を蒸溜しなから２５０°Ｃに加熱する。反応混合物を
１７２時間時間量２５０°Ｃに保ち、２０−５０℃に冷
却し、１００ｍｆｆの水で処理する。次いで反応混合物
を８５℃に加熱し、８モル当量の３０％過酸化水素（４
５，３ｇ、 ０．４モル）で１時間に亙り８５〜９０°
Ｃで処理する。さらに３０分間８５℃に保った後６５°
Ｃに冷却し、９６％硫酸を加えてｐＨを１１にし、次い
で１．８モル当量の１５％ヒポ塩素酸ナトリウム（４４
，７ｇ、 ０．０９モル）を３０分間に亙り６５〜７０
°Ｃで加える。さらに１時間反応混合物を６５〜７０°
Ｃに保ち、室温に冷却し、高圧液体クロマトグラフ（Ｈ
ＰＬＣ）分析法で決定して生成物のピリジン−２゜３−
ジカルボン酸を得た。
本発明の主な特徴及び態様は次の通りである。
１、式Ｉ
但し式中Ｘは水素、またはメチルであるが、下記Ｙおよ
びＺが一緒になって構造−（ＣＨ２）。−１ここでｎは
３または４、で表される環をつくる場合にはＸは水素で
あり、 Ｙは水素、ハロゲン、０１〜Ｃ６アルキル、０１〜Ｃ６
ヒドロキシアルキル、Ｃ，−Ｃ，ハロアルキル、０１〜
Ｃ６アミノアルキル ルアルキル ミル、カルボキシ、アシル、アミド、アミノ、Ｃ１〜Ｃ
，アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、ＣＩ〜Ｃ，
アルキルスルフォニル、スルフォンアミド、または随時
１個の０１〜Ｃ，アルキル基、Ｃ＋〜Ｃ，アルキルスル
フォニル基、ハロゲン、ヒドロキシまたはトリフルオロ
メチル基で置換されたフェニルであり、 Ｚは水素、Ｃｌ〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシ
アルキル、０１〜Ｃ６ハロアルキル、０１〜Ｃ６アミノ
アルキル、Ｃｌ〜Ｃ６スルフオニルアルキル、ニトロ、
ヒドロキシ、７オルミル ボキシ、アシル、アミド、アミノ、Ｃ１〜Ｃ，アルキル
アミノ、ジ低級アルキルアミノ、Ｃｌ〜Ｃ，アルキルス
ルフォニル、スルフォンアミド、または随時１個のＣ１
〜Ｃ４アルキル基、０１〜Ｃ。
びＺが一緒になって構造−（ＣＨ２）。−１ここでｎは
３または４、で表される環をつくる場合にはＸは水素で
あり、 Ｙは水素、ハロゲン、０１〜Ｃ６アルキル、０１〜Ｃ６
ヒドロキシアルキル、Ｃ，−Ｃ，ハロアルキル、０１〜
Ｃ６アミノアルキル ルアルキル ミル、カルボキシ、アシル、アミド、アミノ、Ｃ１〜Ｃ
，アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、ＣＩ〜Ｃ，
アルキルスルフォニル、スルフォンアミド、または随時
１個の０１〜Ｃ，アルキル基、Ｃ＋〜Ｃ，アルキルスル
フォニル基、ハロゲン、ヒドロキシまたはトリフルオロ
メチル基で置換されたフェニルであり、 Ｚは水素、Ｃｌ〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシ
アルキル、０１〜Ｃ６ハロアルキル、０１〜Ｃ６アミノ
アルキル、Ｃｌ〜Ｃ６スルフオニルアルキル、ニトロ、
ヒドロキシ、７オルミル ボキシ、アシル、アミド、アミノ、Ｃ１〜Ｃ，アルキル
アミノ、ジ低級アルキルアミノ、Ｃｌ〜Ｃ，アルキルス
ルフォニル、スルフォンアミド、または随時１個のＣ１
〜Ｃ４アルキル基、０１〜Ｃ。
アルキルスルフォニル
キシまたはトリフルオロメチル基で置換されたフェニル
であり、 ＹおよびＺは一緒になって構造−（ＣＨ２）、−、ここ
でｎは３または４、で表される環をつくることもでき、
この場合にはＸは水素であり、或いは Ｌ Ｍ Ｑ Ｒ。
であり、 ＹおよびＺは一緒になって構造−（ＣＨ２）、−、ここ
でｎは３または４、で表される環をつくることもでき、
この場合にはＸは水素であり、或いは Ｌ Ｍ Ｑ Ｒ。
ｃ＝ｃ−ｃ＝ｃ−。
但しり， Ｍ， ＱおよびＲ１はそれぞれヒドロキシ、
ハロゲン、０１〜Ｃ４アルキル、Ｃｌ〜Ｃ４アルギルス
ルフォニル、Ｃ１〜Ｃ，ハロアルキルアミノ、Ｃ，−Ｃ
，アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、およびトリ
フルオロメチルであるが、Ｌ， Ｍ， ＱおよびＲ１は
ただ１つだけが水素、ハロゲンまたは０１〜Ｃ４アルキ
ル以外の置換基である、であることもできる、 のピリジン−２３−ジカルボン酸の製造法において、式
Ｉ＋ に２ 但し式中Ｘ１ＹおよびＺは式Ｉと同じ意味を有し、Ｒ２
、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ水素、ヒドロキシ、
Ｓｏ，Ｈ、ＳＯ２Ｃ１、ＳＨ，ノ＼ロゲン、ＮＯ２、Ｎ
ｌ２であるが、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ，およびＲ，の一つは水
素以外であり、Ｒ２がヒドロキシである場合には Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の少なくとも１つは水素以外であ
る、 のキノリン化合物、そのＮ−オキシド、酸付加塩を、約
７．０〜２０．０モル当量の過酸化水素と、２．０〜１
０。
ハロゲン、０１〜Ｃ４アルキル、Ｃｌ〜Ｃ４アルギルス
ルフォニル、Ｃ１〜Ｃ，ハロアルキルアミノ、Ｃ，−Ｃ
，アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、およびトリ
フルオロメチルであるが、Ｌ， Ｍ， ＱおよびＲ１は
ただ１つだけが水素、ハロゲンまたは０１〜Ｃ４アルキ
ル以外の置換基である、であることもできる、 のピリジン−２３−ジカルボン酸の製造法において、式
Ｉ＋ に２ 但し式中Ｘ１ＹおよびＺは式Ｉと同じ意味を有し、Ｒ２
、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ水素、ヒドロキシ、
Ｓｏ，Ｈ、ＳＯ２Ｃ１、ＳＨ，ノ＼ロゲン、ＮＯ２、Ｎ
ｌ２であるが、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ，およびＲ，の一つは水
素以外であり、Ｒ２がヒドロキシである場合には Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の少なくとも１つは水素以外であ
る、 のキノリン化合物、そのＮ−オキシド、酸付加塩を、約
７．０〜２０．０モル当量の過酸化水素と、２．０〜１
０。
０モル当量の水性塩基の存在下において、約２５〜１２
５°Ｃの範囲の温度において反応させ、このようにして
生じた反応混合物を１２５°Ｃより低い温度に冷却し、
冷却した反応混合物を鉱酸で処理してｐＨを約８〜１４
にし、このｐＨを調節した反応混合物を１．０〜４．０
モル当量のヒポ塩素酸塩で処理し、該反応混合物を約２
５〜１２５°Ｃの範囲の温度に保って式ｌのピリジン−
２，３−ジカルボン酸をつくる方法。
５°Ｃの範囲の温度において反応させ、このようにして
生じた反応混合物を１２５°Ｃより低い温度に冷却し、
冷却した反応混合物を鉱酸で処理してｐＨを約８〜１４
にし、このｐＨを調節した反応混合物を１．０〜４．０
モル当量のヒポ塩素酸塩で処理し、該反応混合物を約２
５〜１２５°Ｃの範囲の温度に保って式ｌのピリジン−
２，３−ジカルボン酸をつくる方法。
２、該反応混合物を酸性化し有機溶媒で抽出して式Ｉの
ピリジン−２，３−ジカルボン酸を分離する上記第１項
記載の方法。
ピリジン−２，３−ジカルボン酸を分離する上記第１項
記載の方法。
３、式１１のキノリンの溶液を撹拌し、これに約７、５
〜９．０モル当量の過酸化水素および５．０〜６．０モ
ル当量の水性塩基を加える上記第１項記載の方法。
〜９．０モル当量の過酸化水素および５．０〜６．０モ
ル当量の水性塩基を加える上記第１項記載の方法。
４、反応混合物のｐＨ範囲はヒポ塩素酸塩添加時におい
てＩＯ．５〜１１，５である上記第３項記載の方法。
てＩＯ．５〜１１，５である上記第３項記載の方法。
５、塩素ガスを加えてその場で１．０〜２．０モル当量
のヒポ塩素酸塩を生成させる上記第４項記載の方法。
のヒポ塩素酸塩を生成させる上記第４項記載の方法。
６、５〜１５％の水溶液として１．０〜２．０モル当量
のヒポ塩素酸塩を加える上記第４項記載の方法。
のヒポ塩素酸塩を加える上記第４項記載の方法。
７．有機溶媒はテトラヒドロフラン、アセトン、Ｃ３〜
Ｃ６アルコールおよびエチレングリコールのモノＣ１〜
Ｃ，エーテルから成る群から選ばれる上記第２項記載の
方法。
Ｃ６アルコールおよびエチレングリコールのモノＣ１〜
Ｃ，エーテルから成る群から選ばれる上記第２項記載の
方法。
８、有機溶媒はテトラヒドロフランである上記第７項記
載の方法。
載の方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式 I ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 但し式中Ｘは水素、またはメチルであるが、下記Ｙおよ
びＺが一緒になって構造−（ＣＨ＿２）＿ｎ−、ここで
ｎは３または４、で表される環をつくる場合にはＸは水
素であり、 Ｙは水素、ハロゲン、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル、Ｃ＿１
〜Ｃ＿６ヒドロキシアルキル、Ｃ＿１−Ｃ＿６ハロアル
キル、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アミノアルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿６
スルフォニルアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、フォルミ
ル、カルボキシ、アシル、アミド、アミノ、Ｃ＿１〜Ｃ
＿４アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、Ｃ＿１〜
Ｃ＿４アルキルスルフォニル、スルフォンアミド、また
は随時１個のＣ＿１〜Ｃ＿４アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
４アルキルスルフォニル基、ハロゲン、ヒドロキシまた
はトリフルオロメチル基で置換されたフェニルであり、 Ｚは水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿６ヒ
ドロキシアルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿６ハロアルキル、Ｃ＿
１〜Ｃ＿６アミノアルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿６スルフォニ
ルアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、フォルミル、カルボ
キシ、アシル、アミド、アミノ、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキ
ルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アル
キルスルフォニル、スルフォンアミド、または随時１個
のＣ＿１〜Ｃ＿４アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル
スルフォニル基、ハロゲン、ヒドロキシまたはトリフル
オロメチル基で置換されたフェニルであり、 ＹおよびＺは一緒になって構造−（ＣＨ＿２）＿ｎ−、
ここでｎは３または４、で表される環をつくることもで
き、この場合にはＸは水素であり、或いは ▲数式、化学式、表等があります▼、 但しＬ、Ｍ、ＱおよびＲ１はそれぞれヒドロキシ、ハロ
ゲン、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキ
ルスルフォニル、Ｃ＿１〜Ｃ＿４ハロアルキルアミノ、
Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ
、およびトリフル オロメチルであるが、Ｌ、Ｍ、ＱおよびＲ＿１はただ１
つだけが水素、ハロゲンまたは Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル以外の置換基である、であるこ
ともできる、 のピリジン−２，３−ジカルボン酸の製造法において、
式II ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 但し式中Ｘ、ＹおよびＺは式 I と同じ意味を有し、Ｒ
＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４およびＲ＿５はそれぞれ水素、ヒ
ドロキシ、ＳＯ＿３Ｈ、ＳＯ＿２Ｃｌ、ＳＨ、ハロゲン
、ＮＯ＿２、ＮＨ＿２であるが、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿
４およびＲ＿５の一つは水素以外であり、Ｒ＿２がヒド
ロキシである場合には Ｒ＿３、Ｒ＿４およびＲ＿５の少なくとも１つは水素以
外である、 のキノリン化合物、そのＮ−オキシド、酸付加塩を、約
７．０〜２０．０モル当量の過酸化水素と、２．０〜１
０．０モル当量の水性塩基の存在下において、約２５〜
１２５℃の範囲の温度において反応させ、このようにし
て生じた反応混合物を１２５℃より低い温度に冷却し、
冷却した反応混合物を鉱酸で処理してｐＨを約８〜１４
にし、このｐＨを調節した反応混合物を１．０〜４．０
モル当量のヒポ塩素酸塩で処理し、該反応混合物を約２
５〜１２５℃の範囲の温度に保って式 I のピリジン−
２，３−ジカルボン酸をつくることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US32694089A | 1989-03-22 | 1989-03-22 | |
| US326940 | 1989-03-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02286660A true JPH02286660A (ja) | 1990-11-26 |
| JP2825596B2 JP2825596B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=23274431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2067382A Expired - Fee Related JP2825596B2 (ja) | 1989-03-22 | 1990-03-19 | 置換キノリンの逐次酸化による置換ピリジン―２，３―ジカルボン酸の製造法 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0388619B1 (ja) |
| JP (1) | JP2825596B2 (ja) |
| KR (1) | KR0141483B1 (ja) |
| CN (1) | CN1030569C (ja) |
| AT (1) | ATE109772T1 (ja) |
| CA (1) | CA2012558C (ja) |
| DE (1) | DE69011367T2 (ja) |
| DK (1) | DK0388619T3 (ja) |
| ES (1) | ES2058625T3 (ja) |
| IE (1) | IE66018B1 (ja) |
| IL (1) | IL93394A (ja) |
| ZA (1) | ZA902184B (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5206368A (en) * | 1991-03-12 | 1993-04-27 | American Cyanamid Company | Process for extracting pyridine- and quinolinedicarboxylic acids from aqueous media |
| ATE165347T1 (de) * | 1993-12-28 | 1998-05-15 | American Cyanamid Co | Verfahren zur herstellung pyridin-2,3- dicarboxylicsäure |
| US5686470A (en) * | 1995-02-10 | 1997-11-11 | Weier; Richard M. | 2, 3-substituted pyridines for the treatment of inflammation |
| NZ314904A (en) * | 1996-06-10 | 1998-06-26 | American Cyanamid Co | Preparation of a herbicidal [(5,6-dicarboxy-3-pyridyl)methyl]ammonium halide |
| NL1006596C2 (nl) * | 1997-07-16 | 1999-01-19 | Dsm Nv | Werkwijze voor de bereiding van 5-methoxymethylpyridine-2, 3-dicarbonzuur en derivaten daarvan. |
| US6174901B1 (en) | 1998-12-18 | 2001-01-16 | Amgen Inc. | Substituted pyridine and pyridazine compounds and methods of use |
| CN103193713A (zh) * | 2013-04-09 | 2013-07-10 | 常州博海威医药科技有限公司 | 一种制备2-丙级咪唑-4,5-二羧酸的方法 |
| CN105646120B (zh) * | 2014-12-02 | 2019-03-19 | 浙江省诸暨合力化学对外贸易有限公司 | 一种羧酸的制备方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4623726A (en) * | 1983-04-18 | 1986-11-18 | American Cyanamid Company | Method for oxidizing alkyl groups on pyridine, quinoline and benzene ring compounds to carboxylic acids under basic conditions |
| US4736036A (en) * | 1983-08-08 | 1988-04-05 | Appleton Papers Inc. | Process for the preparation of quinolinic acid |
| DE3345223A1 (de) * | 1983-12-14 | 1985-06-27 | Rütgerswerke AG, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von chinolinsaeure aus chinolin |
| US4754039A (en) * | 1986-01-30 | 1988-06-28 | Ruetgers-Nease Chemical Co., Inc. | Process for the preparation of pyridine-2,3-dicarboxylic acid |
| DE3771153D1 (de) * | 1986-09-12 | 1991-08-08 | American Cyanamid Co | Verfahren zur herstellung von pyridin-2,3-dicarboxylsaeuren. |
| IL89142A (en) * | 1988-03-10 | 1993-04-04 | American Cyanamid Co | Method for the sequential oxidation of substituted 8-hydroxyquinolines to produce substituted pyridine-2,3- dicarboxylic acids |
-
1990
- 1990-02-09 AT AT90102551T patent/ATE109772T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-02-09 ES ES90102551T patent/ES2058625T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-09 EP EP90102551A patent/EP0388619B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-09 DK DK90102551.0T patent/DK0388619T3/da active
- 1990-02-09 DE DE69011367T patent/DE69011367T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-14 IL IL9339490A patent/IL93394A/en not_active IP Right Cessation
- 1990-02-21 CN CN90100953A patent/CN1030569C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-19 JP JP2067382A patent/JP2825596B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-20 CA CA002012558A patent/CA2012558C/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-21 IE IE103090A patent/IE66018B1/en not_active IP Right Cessation
- 1990-03-21 KR KR1019900003824A patent/KR0141483B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-03-21 ZA ZA902184A patent/ZA902184B/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE109772T1 (de) | 1994-08-15 |
| CN1030569C (zh) | 1995-12-27 |
| JP2825596B2 (ja) | 1998-11-18 |
| EP0388619B1 (en) | 1994-08-10 |
| EP0388619A1 (en) | 1990-09-26 |
| DE69011367D1 (de) | 1994-09-15 |
| ZA902184B (en) | 1991-11-27 |
| IE66018B1 (en) | 1995-11-29 |
| IE901030L (en) | 1990-09-22 |
| KR0141483B1 (ko) | 1998-06-01 |
| ES2058625T3 (es) | 1994-11-01 |
| KR900014320A (ko) | 1990-10-23 |
| IL93394A (en) | 1994-08-26 |
| CA2012558C (en) | 2001-04-03 |
| DE69011367T2 (de) | 1995-03-23 |
| DK0388619T3 (da) | 1994-10-03 |
| CA2012558A1 (en) | 1990-09-22 |
| CN1045776A (zh) | 1990-10-03 |
| IL93394A0 (en) | 1990-11-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH02286660A (ja) | 置換キノリンの逐次酸化による置換ピリジン―２，３―ジカルボン酸の製造法 | |
| JPH01211567A (ja) | 新規なスルホンアミド化合物 | |
| NZ207238A (en) | Quinolone carboxylic acid derivatives and pharmaceutical compositions | |
| JPS59122470A (ja) | キノリン−３−カルボン酸誘導体の製造法 | |
| US4816588A (en) | Method for the preparation of pyridine-2,3-dicarboxylic acids | |
| JPH01268677A (ja) | 置換‐８‐ヒドロキシキノリンの逐次酸化による置換‐ピリジン‐２，３‐ジカルボン酸の製造方法 | |
| AU599698B2 (en) | Method for the preparation of pyridine-2,3-dicarboxylic acids | |
| JP2004525927A (ja) | ランソプラゾール及びその中間体の製造方法 | |
| US5374732A (en) | Certain substituted N-fluoropyridiniumsulfonates | |
| CN102584695A (zh) | 一种5-甲基烟酸的制备方法 | |
| JPS5929595B2 (ja) | ピリミジン誘導体の製法 | |
| JPS6372676A (ja) | アニリノフマレートの新規な製造方法 | |
| JPH03215472A (ja) | 新規な４―置換―３，５―ジメチルピコリン酸化合物およびその製造方法 | |
| JPS61137860A (ja) | １，４−ジヒドロピリジン酸誘導体の製造法 | |
| JPH05222038A (ja) | 新規な５−メトキシ−２−［［（４−メトキシ−３，５−ジメチル−２−ピリジル）メチルチオイミダゾ［４，５−ｂピリジンの製造方法並びにその製造中間体及びその製造方法 | |
| JPH05125047A (ja) | ２−クロルピリジンの製法 | |
| JPS5962589A (ja) | プロトベルベリン誘導体の製造法 | |
| JPS6056701B2 (ja) | Ν−（３，４−ジメトキシシンナモイル）アントラニル酸の製造方法 | |
| JPS6346736B2 (ja) | ||
| JPH01143875A (ja) | フロベンゾイソオキサゾール誘導体の工業的製法 | |
| JPH02124872A (ja) | ４−アルキルチオピリジン−ｎ−オキシド誘導体の製造法 | |
| JPH09255657A (ja) | Ｎ−フルオロピリジニウムテトラフルオロボラートの製造方法 | |
| JPH0543549A (ja) | αークロロシアノピリジン類の製造法 | |
| EP0791583A1 (en) | Process for producing 3-(aminomethyl)-6-chloropyridines | |
| JPH03169834A (ja) | ビス（４―ハローフタル酸）１／４塩並びにその製造方法及びその使用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080911 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080911 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090911 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |