JPH02271824A - 曲率測定装置 - Google Patents
曲率測定装置Info
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- JPH02271824A JPH02271824A JP2076086A JP7608690A JPH02271824A JP H02271824 A JPH02271824 A JP H02271824A JP 2076086 A JP2076086 A JP 2076086A JP 7608690 A JP7608690 A JP 7608690A JP H02271824 A JPH02271824 A JP H02271824A
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- Eye Examination Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、曲面の曲率半径を測定する装置に関しさらに
詳しくは、人眼の角膜の曲率半径を測定するオフサルモ
メータに応用できる曲率測定装置に関する。
詳しくは、人眼の角膜の曲率半径を測定するオフサルモ
メータに応用できる曲率測定装置に関する。
本明細書においては、本発明の原理及び実施例をオフサ
ルモメータについて説明するが、本発明はこれに限定さ
れるものでなく、広く光反射性を有する球面またはトー
リック面形状曲面の主径線の曲率半径を測定する場合に
も本発明は適用できるものである。
ルモメータについて説明するが、本発明はこれに限定さ
れるものでなく、広く光反射性を有する球面またはトー
リック面形状曲面の主径線の曲率半径を測定する場合に
も本発明は適用できるものである。
人眼角膜自体の屈折力は、眼全体の総圧折力の略80%
、約45Dの屈折力をもち、また、乱視眼においては約
75%が角膜乱視すなわち角膜前面が球面でなくトーリ
ック面形状をしていることに起因している。また、コン
タクトレンズ処方に際しては、そのベースカーブは、コ
ンタクトレンズを装用させる眼の角膜前面の曲率半径を
もとに処方する必要がある。これら観点から、角膜前面
の曲率半径を測定することは、重要な意義がある。
、約45Dの屈折力をもち、また、乱視眼においては約
75%が角膜乱視すなわち角膜前面が球面でなくトーリ
ック面形状をしていることに起因している。また、コン
タクトレンズ処方に際しては、そのベースカーブは、コ
ンタクトレンズを装用させる眼の角膜前面の曲率半径を
もとに処方する必要がある。これら観点から、角膜前面
の曲率半径を測定することは、重要な意義がある。
この要求から、人眼角膜前面の曲率半径を測定する装置
として、種々の形式のオフサルモメータが実用化されて
いる。いずれの型式のオフサルモメータも、被検角膜上
に1つ、もしくは複数の視標を投影し、その投影像の大
きさあるいはその反射像位置を、観察望遠鏡の焦点面で
観察し、投影像の大きさの変化量あるいは視標反射像の
相対的位置ズレ量から、被検角膜の曲率半径及び角膜乱
視軸を測定するものであった。
として、種々の形式のオフサルモメータが実用化されて
いる。いずれの型式のオフサルモメータも、被検角膜上
に1つ、もしくは複数の視標を投影し、その投影像の大
きさあるいはその反射像位置を、観察望遠鏡の焦点面で
観察し、投影像の大きさの変化量あるいは視標反射像の
相対的位置ズレ量から、被検角膜の曲率半径及び角膜乱
視軸を測定するものであった。
オフサルモメータにおいては、特に角膜がトーリック面
形状の乱視眼角膜の測定に際しては、その第1(強主径
線)及び第2主径線(弱主径線)の曲率半径及び少なく
とも一方の主径線方向の角度の3つの被測定量を測定す
ることが必要であり、上述の従来のオフサルモメータは
これら3つの測定値をもとめるのに3段階の測定を必要
としていた。しかしながら、人眼には生理的な眼球振動
がつねにともなっており、測定時間の長時間化は眼球振
動にともなう投影像の振動となり、それゆえに測定誤差
や、測定中の頻繁なアライメント調整操作を必要とする
という大きな問題点があった。
形状の乱視眼角膜の測定に際しては、その第1(強主径
線)及び第2主径線(弱主径線)の曲率半径及び少なく
とも一方の主径線方向の角度の3つの被測定量を測定す
ることが必要であり、上述の従来のオフサルモメータは
これら3つの測定値をもとめるのに3段階の測定を必要
としていた。しかしながら、人眼には生理的な眼球振動
がつねにともなっており、測定時間の長時間化は眼球振
動にともなう投影像の振動となり、それゆえに測定誤差
や、測定中の頻繁なアライメント調整操作を必要とする
という大きな問題点があった。
この従来の装置の欠点を解決する装置として、例えば特
開昭56−18837号公報、特開昭56−66235
号公報、あるいは米国特許第4159867号明細書に
は、投影像の角膜からの反射像を1次元型あるいは二次
元型のポジションセンサで検出して、その検出位置から
被検眼角膜の曲率半径及び主径線軸角度を測定する装置
が図示されている。
開昭56−18837号公報、特開昭56−66235
号公報、あるいは米国特許第4159867号明細書に
は、投影像の角膜からの反射像を1次元型あるいは二次
元型のポジションセンサで検出して、その検出位置から
被検眼角膜の曲率半径及び主径線軸角度を測定する装置
が図示されている。
しかしながら、これら装置も、従来の実用されているオ
フサルモメータと同様に、投影視標の角膜からの反射像
を望遠鏡で結像する型式であり、測定精度を上げるには
望遠鏡の焦点距離を大きくせねばならず、いきおい装置
が大型化するという欠点があった。また結像型式である
ためその合焦機構を必要としていた。また、装置と被検
角膜とのアライメントもこの合焦望遠鏡を利用してアラ
イメントするためアライメントも不正確であり、かつ測
定時間の短縮化や完全な自動化にはつながらなかった。
フサルモメータと同様に、投影視標の角膜からの反射像
を望遠鏡で結像する型式であり、測定精度を上げるには
望遠鏡の焦点距離を大きくせねばならず、いきおい装置
が大型化するという欠点があった。また結像型式である
ためその合焦機構を必要としていた。また、装置と被検
角膜とのアライメントもこの合焦望遠鏡を利用してアラ
イメントするためアライメントも不正確であり、かつ測
定時間の短縮化や完全な自動化にはつながらなかった。
非結像光学系を利用して、光学系の屈折特性、主に眼鏡
レンズの球面屈折力や円柱屈折力及びその軸角度を測定
する装置が、米国特許第3880525号明細書に開示
されている。この装置は、被検眼鏡レンズに平行光束を
照射し、被検レンズの屈折特性により偏向された光束を
無開口を有するマスク手段で選択し、被検レンズの焦点
距離より短かい距離に配置された平面型イメージディテ
クターやTVカメラの撮像面に投影し、上記無開口を通
過した光線の該ディテクター上への投影点の位置から被
検レンズの屈折特性をもとめる構成であった。しかしな
がら、この米国特許明細書は、屈折光学系における屈折
特性測定を開示するのみであり、反射光学系の曲面特性
、特にその反射曲面の曲率半径の測定等については何ら
開示も示唆もしていない。
レンズの球面屈折力や円柱屈折力及びその軸角度を測定
する装置が、米国特許第3880525号明細書に開示
されている。この装置は、被検眼鏡レンズに平行光束を
照射し、被検レンズの屈折特性により偏向された光束を
無開口を有するマスク手段で選択し、被検レンズの焦点
距離より短かい距離に配置された平面型イメージディテ
クターやTVカメラの撮像面に投影し、上記無開口を通
過した光線の該ディテクター上への投影点の位置から被
検レンズの屈折特性をもとめる構成であった。しかしな
がら、この米国特許明細書は、屈折光学系における屈折
特性測定を開示するのみであり、反射光学系の曲面特性
、特にその反射曲面の曲率半径の測定等については何ら
開示も示唆もしていない。
そこで、本発明は上述した従来のオフサルモメータの欠
点を解決し、非結像型光学系を利用して自動測定が可能
な、オフサルモメータやラジアスメータ等に応用できる
曲率測定装置を提供せんとするものである。
点を解決し、非結像型光学系を利用して自動測定が可能
な、オフサルモメータやラジアスメータ等に応用できる
曲率測定装置を提供せんとするものである。
本発明のもう一つの目的は、非結像型光学系を使用する
ことにより、従来の装置に比較して小型で、かつ結像望
遠鏡等の検者が観察および操作する必要のある光学部材
を有しない、自動的に曲率半径を測定出来る曲率測定装
置を提供することにある。
ことにより、従来の装置に比較して小型で、かつ結像望
遠鏡等の検者が観察および操作する必要のある光学部材
を有しない、自動的に曲率半径を測定出来る曲率測定装
置を提供することにある。
本発明の更にもう一つの目的は、従来の装置が規準によ
り行っていた被検曲面と装置光軸とのアライメントのた
めの情報を自動的に出力できる操作性がすぐれそして測
定時間を短縮できる自動曲率測定装置を提供することに
ある。
り行っていた被検曲面と装置光軸とのアライメントのた
めの情報を自動的に出力できる操作性がすぐれそして測
定時間を短縮できる自動曲率測定装置を提供することに
ある。
すなわち、本発明によるならば、光源と、この光源から
の光を平行光束とするコリメータ手段とを有する照明光
学系と;該照明光学系からの光束で被検曲面によって反
射された光束を選択する少なくとも3点からなる点パタ
ーンを有するマスク手段とこのマスク手段で選択された
、前記反射光を検出する検出手段を有する検出光学系と
;この検出手段で検出した前記点パターンに対応した検
出点情報から被検曲面の曲率半径を演算する演算手段と
を有し、前記マスク手段と前記検出手段のいずれもが前
記光源と光学的に互いに異なる非共役な面に位置されて
いる曲率測定装置が提供される。
の光を平行光束とするコリメータ手段とを有する照明光
学系と;該照明光学系からの光束で被検曲面によって反
射された光束を選択する少なくとも3点からなる点パタ
ーンを有するマスク手段とこのマスク手段で選択された
、前記反射光を検出する検出手段を有する検出光学系と
;この検出手段で検出した前記点パターンに対応した検
出点情報から被検曲面の曲率半径を演算する演算手段と
を有し、前記マスク手段と前記検出手段のいずれもが前
記光源と光学的に互いに異なる非共役な面に位置されて
いる曲率測定装置が提供される。
本発明においては、以上の構成上の特徴により従来の曲
率半径測定装置に比較して、装置が小型となり、また、
測定時間が短くかつ測定精度高く自動的に被検曲面の曲
率半径を測定できる。さらに、アライメント情報を自動
的に出力できるので、さらに測定精度が高くすることが
できる。
率半径測定装置に比較して、装置が小型となり、また、
測定時間が短くかつ測定精度高く自動的に被検曲面の曲
率半径を測定できる。さらに、アライメント情報を自動
的に出力できるので、さらに測定精度が高くすることが
できる。
これらの本発明の長所は、特にオ・フサルモメータに本
発明を応用した場合、眼球振動の影響を受けず、測定精
度が高く、測定時間の短かい小型で構成の簡単な自動測
定が可能なオフサルモメータを提供することができる。
発明を応用した場合、眼球振動の影響を受けず、測定精
度が高く、測定時間の短かい小型で構成の簡単な自動測
定が可能なオフサルモメータを提供することができる。
以下本発明を角膜の曲率半径を測定するオフサルモメー
タに適用した測定原理及び実施例を図面を参照して説明
する。
タに適用した測定原理及び実施例を図面を参照して説明
する。
第1図、第2図は本発明の測定原理を説明する図である
。
。
被検角膜Cの頂点OCから装置光軸0.にそって前方に
距離lのところに原点0゜を光軸O8もつx、−y、直
交座標系を想定し、このXo Y。
距離lのところに原点0゜を光軸O8もつx、−y、直
交座標系を想定し、このXo Y。
座標面に3つの無開口■。(。Xl、。Y、)、Jo(
。Xl、。Y+)、K、(。X3、。Y、)を有するマ
スクMが配置されている。マスクMから光軸01にそっ
て、距離dさらに前方には検出面りが配置されている。
。Xl、。Y+)、K、(。X3、。Y、)を有するマ
スクMが配置されている。マスクMから光軸01にそっ
て、距離dさらに前方には検出面りが配置されている。
この検出面りに原点Oを光軸O1と一致させたX−Y直
交座標系を想定する。
交座標系を想定する。
角膜Cは、その光学中心OcをX0軸と平行な方向にE
lf、YO軸と平行な方向にEvずらし、そして最小の
曲率半径γ1の第1′主径線(像上径線)がX0軸と平
行な軸に対して角度θだけ傾けて配置されているものと
する。また、その最大曲率半径を有する第2主径線(弱
主径線)の曲率半径をγ2とする。なお第2主径線のX
0軸と平行な軸に対する角度はθ+90°である。
lf、YO軸と平行な方向にEvずらし、そして最小の
曲率半径γ1の第1′主径線(像上径線)がX0軸と平
行な軸に対して角度θだけ傾けて配置されているものと
する。また、その最大曲率半径を有する第2主径線(弱
主径線)の曲率半径をγ2とする。なお第2主径線のX
0軸と平行な軸に対する角度はθ+90°である。
今、被検角膜Cの光線1..1.、Lを含む光軸0.に
平行な平行光線束が照射されると、この平行光線束は角
膜Cで反射されマスクMに向う。
平行な平行光線束が照射されると、この平行光線束は角
膜Cで反射されマスクMに向う。
そして、光線II、It、I3のそれぞれの反射光線1
l’ 、It# 、I3′が無開口1.、J、、Ko
で選択通過され、検出面り上の位置1(XI、Y、)、
J(Xz、Y、)、J(X3、YI)にそれぞれ到達し
たとすると、マスクMの無開口1o、Jo、Koと検出
面りの到達点I、J、にの6点について、以下の係数の
式を定義する。
l’ 、It# 、I3′が無開口1.、J、、Ko
で選択通過され、検出面り上の位置1(XI、Y、)、
J(Xz、Y、)、J(X3、YI)にそれぞれ到達し
たとすると、マスクMの無開口1o、Jo、Koと検出
面りの到達点I、J、にの6点について、以下の係数の
式を定義する。
(A、B)=O・・・・(2)式
が成立する。この二次方程式の2根Zt 、Zzはそれ
ぞれ、マスクMから角膜Cの第1主径線の焦点FTI、
第2主径線の焦点Frtまでの距離を示しているから、
球面反射光学系の焦点距離fは、その曲率半径Rとの間
にf=R/2の定理があるので、この2根2..2.か
ら角膜Cの第1および第2主径線の曲率半径71、γ2
は、それぞれここで、P、qはそれぞれ上記(1)式の
A、B。
ぞれ、マスクMから角膜Cの第1主径線の焦点FTI、
第2主径線の焦点Frtまでの距離を示しているから、
球面反射光学系の焦点距離fは、その曲率半径Rとの間
にf=R/2の定理があるので、この2根2..2.か
ら角膜Cの第1および第2主径線の曲率半径71、γ2
は、それぞれここで、P、qはそれぞれ上記(1)式の
A、B。
C,Dのいずれかをとるものとすると
でもとめることができる。
ここで、距離2は、公知の作動距離検出手段でもとめた
定数としても、また、リレー光学系を使って!−〇にな
るようにマスクMを設定してもよい。
定数としても、また、リレー光学系を使って!−〇にな
るようにマスクMを設定してもよい。
第1主径線T1のX0軸と平行な軸と成す角度θは、
として得られる。第2主径線T、の角度はθ十90°で
ある。
ある。
また角膜頂点Ocと装置光軸Olとのプライメン1−a
Jl整に関しては、無開口1o 、Jo 、Koのそれ
ぞれの座標(。Xl、oY+)、(。XZ、oYz)、
(。X3、。Ys)について が成立するようにマスクMの無開口の配置を予め定めて
おけば、検出面りへの到達点1.J、にのそれぞれの座
標値(Xl、YI)、(x、 、Yz)、(X3、Y、
)から をもとめると、α、βはそれぞれ第1図において角膜C
の頂点(光軸0.)がX0軸と平行な方向にEo、Ko
軸と平行な方向Evずれて配置されたことに起因するズ
レ量を表現していることになり、これより、α=β=O
となるように光軸0゜をX0方向、Yo力方向動かして
アライメント調整すればよい。
Jl整に関しては、無開口1o 、Jo 、Koのそれ
ぞれの座標(。Xl、oY+)、(。XZ、oYz)、
(。X3、。Ys)について が成立するようにマスクMの無開口の配置を予め定めて
おけば、検出面りへの到達点1.J、にのそれぞれの座
標値(Xl、YI)、(x、 、Yz)、(X3、Y、
)から をもとめると、α、βはそれぞれ第1図において角膜C
の頂点(光軸0.)がX0軸と平行な方向にEo、Ko
軸と平行な方向Evずれて配置されたことに起因するズ
レ量を表現していることになり、これより、α=β=O
となるように光軸0゜をX0方向、Yo力方向動かして
アライメント調整すればよい。
第3図は、前述の本発明の測定原理にもとづ〈実施例を
オフサルモメータに応用した例を示す光学配置図である
。
オフサルモメータに応用した例を示す光学配置図である
。
照明光学系工においては、光源20からの光束は、赤外
透過フィルタ21及び拡散板22を通り、コンデンサレ
ンズ24によりピンホール7を通過し、ピンホール7の
位置に焦点をもつコリメータレンズ30により平行光束
となって、被検角膜Cに照明される。
透過フィルタ21及び拡散板22を通り、コンデンサレ
ンズ24によりピンホール7を通過し、ピンホール7の
位置に焦点をもつコリメータレンズ30により平行光束
となって、被検角膜Cに照明される。
一方、測定光学系2のポジションセンサ9とリレーレン
ズ10の間には少なくとも3つの無開口が形成されたマ
スク31が配置されている。そして、リレーレンズ10
により、マスク31の光学的共役像Mは被検角膜Cの頂
点から距M1の位置に、ポジションセンサ9の光学的共
役像である仮態検出面りはマスク31の光学的共役像M
から距離dの位置にそれぞれ作られる。
ズ10の間には少なくとも3つの無開口が形成されたマ
スク31が配置されている。そして、リレーレンズ10
により、マスク31の光学的共役像Mは被検角膜Cの頂
点から距M1の位置に、ポジションセンサ9の光学的共
役像である仮態検出面りはマスク31の光学的共役像M
から距離dの位置にそれぞれ作られる。
このマスク31の点間口としては第4図に示した開口板
23のように多数の点間口23a、23b、・・・23
j、23k、231・・・23tを交差する直線状に配
列すると、測定精度の向上につながりより好ましいが、
本実施例では、説明を簡単にするために第5図に示すよ
うにX0軸上に点間口Jo、Noを、Y0軸に点間口1
o、Koをその原点○。を中心に対称に配したマスクを
例に説明する。
23のように多数の点間口23a、23b、・・・23
j、23k、231・・・23tを交差する直線状に配
列すると、測定精度の向上につながりより好ましいが、
本実施例では、説明を簡単にするために第5図に示すよ
うにX0軸上に点間口Jo、Noを、Y0軸に点間口1
o、Koをその原点○。を中心に対称に配したマスクを
例に説明する。
角膜Cに照明された平行光束は、角膜で反射されマスク
31の点間口1.、J、、K、、N、で選択透過され、
ポジションセンサ9に到達する。
31の点間口1.、J、、K、、N、で選択透過され、
ポジションセンサ9に到達する。
このポジションセンサ9の走査による検出点を第5図に
示すようにI(X、、Yl)、J(X!、YZ)、K(
X、、Yl)、N(X、、Y4)とすれば、マスクの点
間口の座標1o(oX+、oY+)、JO(OX2、。
示すようにI(X、、Yl)、J(X!、YZ)、K(
X、、Yl)、N(X、、Y4)とすれば、マスクの点
間口の座標1o(oX+、oY+)、JO(OX2、。
Y2)、KO(OX3、oY、)、No(oX4、oY
a)とから、上述の第(1)〜(4)式により被検角膜
Cの曲率半径T1、T2及び角度θが演算でもとめられ
る。
a)とから、上述の第(1)〜(4)式により被検角膜
Cの曲率半径T1、T2及び角度θが演算でもとめられ
る。
第6図は以上の検出及び演算処理をするための検出駆動
及び演算処理回路を示すブロック図である。
及び演算処理回路を示すブロック図である。
マイクロプロセッサ100のクロックパルス発振器10
1からのクロックパルス201の制御のもとに走査駆動
回路102は、平面型ポジションセンサ9を走査する。
1からのクロックパルス201の制御のもとに走査駆動
回路102は、平面型ポジションセンサ9を走査する。
ポジションセンサ9の各受光単位素子からの出力信号2
01は、A/D変換器103で予め定めた分解能、例え
ば8ビツト(1/256)の分解能でデジタル信号に変
換されたのち、マイクロプロセッサ100に入力される
。
01は、A/D変換器103で予め定めた分解能、例え
ば8ビツト(1/256)の分解能でデジタル信号に変
換されたのち、マイクロプロセッサ100に入力される
。
マイクロプロセッサ100は、その入力信号から到達点
1.J、に、Hの座標値を算出し、予め定められた原点
0゜と比較し、(5′)式によりα、βを計算する。こ
の値をもとにインターフェース回路105を介してCR
Tデイスプレィ106上にアライメントズレ量α、βを
図形表示し、測定者にズレ方向及びその量を知らせる。
1.J、に、Hの座標値を算出し、予め定められた原点
0゜と比較し、(5′)式によりα、βを計算する。こ
の値をもとにインターフェース回路105を介してCR
Tデイスプレィ106上にアライメントズレ量α、βを
図形表示し、測定者にズレ方向及びその量を知らせる。
または算出されたα及びβ値から装置本体を公知の電気
機械駆動系107で左右上下に駆動し、自動的にアライ
メント調整してもよい。
機械駆動系107で左右上下に駆動し、自動的にアライ
メント調整してもよい。
アライメント調整完了後、ポジションセンサ9へのマス
ク31の点間口を通過した角膜反射光線の新たな到達点
1.J、に、N (第5図参照)の座標情報はポジショ
ンセンサ9の走査出力202としてA/D変換器103
、マイクロプロセンサ100を介して、ランダム−アク
セスメモリ(RAM)等で構成されるメモリ回路104
のポジションセンサ9の各受光素子に対応したメモリ番
地に順次記憶される。その到達点座標値と、メモリ回路
104に予め格納されているマスク31の点間口1.、
J、、Ko、Noの座標値とに基づいてマイクロプロセ
ッサlOO内の演算回路109で上記第(1)〜第(4
)式に従って演算し、その演算結果をインターフェース
回路105を介してCRTデイスプレィ106上に被検
角膜の曲率半径T+ 、Tz及び主径線角度θとして表
示する。
ク31の点間口を通過した角膜反射光線の新たな到達点
1.J、に、N (第5図参照)の座標情報はポジショ
ンセンサ9の走査出力202としてA/D変換器103
、マイクロプロセンサ100を介して、ランダム−アク
セスメモリ(RAM)等で構成されるメモリ回路104
のポジションセンサ9の各受光素子に対応したメモリ番
地に順次記憶される。その到達点座標値と、メモリ回路
104に予め格納されているマスク31の点間口1.、
J、、Ko、Noの座標値とに基づいてマイクロプロセ
ッサlOO内の演算回路109で上記第(1)〜第(4
)式に従って演算し、その演算結果をインターフェース
回路105を介してCRTデイスプレィ106上に被検
角膜の曲率半径T+ 、Tz及び主径線角度θとして表
示する。
また必要に応じてプリンタ回路110で打出してもよい
。これら一連の検出演算処理はプログラムメモリ111
に予め入れられている処理プログラムによって実行され
る。
。これら一連の検出演算処理はプログラムメモリ111
に予め入れられている処理プログラムによって実行され
る。
以上の実施例において、ポジションセンサ9として平面
型のポジションセンサを利用したが、そのかわりに第7
図に示すように、直線状のポジションセンサ32をマイ
クロプロセッサ100により制御される制御回路112
に接続されたパルスモータ113により回転して角膜C
からの反射光の到達点を検出してもよい。
型のポジションセンサを利用したが、そのかわりに第7
図に示すように、直線状のポジションセンサ32をマイ
クロプロセッサ100により制御される制御回路112
に接続されたパルスモータ113により回転して角膜C
からの反射光の到達点を検出してもよい。
また、基準原点0゜を予め設計上定めておくかわりに、
例えば第8図に示すように、照明光軸0□に垂直な平面
内に反射面をもつミラー12を挿入し、このミラー12
により反射された照明光束を照明光軸02に平行に照射
光路と同一光路を逆進させ、ポジションセンサ9でその
反射光を検出し、この検出点U。(oX+、oY+)、
Vo(。X2.。Yz)、W o (o X 3.0Y
3)、00(OX4、。Y4)(第5図参照)をもとに
原点Oを決定してもよい。この方式によれば、マスク3
10点間口の作成精度やマスク31の装置組立時の位置
合せ精度をラフにできる利点がある。
例えば第8図に示すように、照明光軸0□に垂直な平面
内に反射面をもつミラー12を挿入し、このミラー12
により反射された照明光束を照明光軸02に平行に照射
光路と同一光路を逆進させ、ポジションセンサ9でその
反射光を検出し、この検出点U。(oX+、oY+)、
Vo(。X2.。Yz)、W o (o X 3.0Y
3)、00(OX4、。Y4)(第5図参照)をもとに
原点Oを決定してもよい。この方式によれば、マスク3
10点間口の作成精度やマスク31の装置組立時の位置
合せ精度をラフにできる利点がある。
さらに、上述の測定原理及び実施例の説明において開口
板23、マスク31を光を透過する点間口の例で説明し
たが、本発明はこれに限定されるものでなく、開口板や
マスクは光を反射する点状反射面を有するのでもよい。
板23、マスク31を光を透過する点間口の例で説明し
たが、本発明はこれに限定されるものでなく、開口板や
マスクは光を反射する点状反射面を有するのでもよい。
第1図及び第2図は本発明の測定原理を説明するための
図、第3図は本発明の実施例を示す光学配置図、第4図
はマスク板の別の実施例を示す平面図、第5図は実施例
の点間口と到達点との関係を示す図、第6図は実施例の
検出、演算処理回路のブロック図、第7図は実施例にお
ける検出手段の別の実施例を示す図、そして第8図は基
準原点を決定するための一部省略した光学配置図である
。 ■・・・照明光源、2・・・測定光学系、7・・・ピン
ホール、9.32・・・ポジションセンサ、10・・・
リレーレンズ、12・・・反射ミラー、23・・・開口
板、30・・・集光レンズ、31・・・マスク。
図、第3図は本発明の実施例を示す光学配置図、第4図
はマスク板の別の実施例を示す平面図、第5図は実施例
の点間口と到達点との関係を示す図、第6図は実施例の
検出、演算処理回路のブロック図、第7図は実施例にお
ける検出手段の別の実施例を示す図、そして第8図は基
準原点を決定するための一部省略した光学配置図である
。 ■・・・照明光源、2・・・測定光学系、7・・・ピン
ホール、9.32・・・ポジションセンサ、10・・・
リレーレンズ、12・・・反射ミラー、23・・・開口
板、30・・・集光レンズ、31・・・マスク。
Claims (9)
- (1)光源と、該光源からの光を平行光束とするコリメ
ータ手段とを有する照明光学系と; 該照明光学系からの光束で被検曲面によって反射された
光束を選択する少なくとも3つの点パターンを有するマ
スク手段と、該マスク手段で選択された該反射光を検出
する検出手段を有する検出光学系と; 該検出手段で検出した前記点パターンに対応した検出点
情報から前記被検曲面の曲率半径を演算する演算手段と
を有し、 前記マスク手段と前記検出手段のいずれもが前記光源と
光学的に互いに異なる非共役な面にそれぞれ配置されて
いる ことを特徴とする曲率測定装置。 - (2)前記コリメータ手段はその前側焦点位置に前記光
源からの光束を通すピンホールが配置されていることを
特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の曲率測定装
置。 - (3)前記照明光束は赤外光であることを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項または第(2)項記載の曲率測
定装置。 - (4)前記点パターンは開口から成ることを特徴とする
特許請求の範囲第(1)項ないし第(3)項のいずれか
に記載の曲率測定装置。 - (5)前記検出光学系は、前記マスク手段と前記検出手
段の両方をそれぞれの前記非共役面に結像するリレー光
学手段を有してなることを特徴とする特許請求の範囲第
(1)項ないし第(4)項のいずれかに記載の曲率測定
装置。 - (6)前記検出光学系は前記被検曲面と前記マスク手段
との間に前記照明光学系の光軸と垂直な反射面を有する
反射部材を挿入可能に有してなることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項ないし第(5)項のいずれかに記
載の曲率測定装置。 - (7)前記リレー光学手段の光軸と前記照明光学系の光
軸とを少なくとも一部共通に有したことを特徴とする特
許請求の範囲第(5)項または第(6)項記載の曲率測
定装置。 - (8)前記検出手段は多数の受光素子を平面状に配置し
た平面型ポジションセンサであることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項ないし第(7)項のいずれかに記
載の曲率測定装置。 - (9)前記検出手段は多数の受光素子を直線状に配列し
てなりかつ前記非共役面上で回転するリニアポジション
センサであることを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項ないし第(7)項のいずれかに記載の曲率測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2076086A JPH02271824A (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 曲率測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2076086A JPH02271824A (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 曲率測定装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56173527A Division JPS5873336A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | 曲率測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02271824A true JPH02271824A (ja) | 1990-11-06 |
JPH0314444B2 JPH0314444B2 (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=13595018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2076086A Granted JPH02271824A (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 曲率測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02271824A (ja) |
-
1990
- 1990-03-26 JP JP2076086A patent/JPH02271824A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0314444B2 (ja) | 1991-02-26 |
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