JPS5873336A - 曲率測定装置 - Google Patents

曲率測定装置

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JPS5873336A
JPS5873336A JP56173527A JP17352781A JPS5873336A JP S5873336 A JPS5873336 A JP S5873336A JP 56173527 A JP56173527 A JP 56173527A JP 17352781 A JP17352781 A JP 17352781A JP S5873336 A JPS5873336 A JP S5873336A
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  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Eye Examination Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し、さらに詳しくは、人眼の角膜の曲率半径を測定する
オフサルモメータやコンタクトレンズの曲率半径を測宇
するラジアスメー□タに応用できる曲率測定装置に関す
る。
本明細書においては、本発明の原即及び実施例を主にオ
フサルモメータについて説明するが、本発明はこれKw
I定されるものでなく、広く光反射性を有する曲面体の
曲面の曲率半径を測定する場合にも本発明は適用できる
ものである。
人眼角膜自体の屈折力は、眼全体の総屈折力の略ざ0 
% 、約4/30の屈折力をもち、また乱視眼において
は約7.5%が角膜乱視すなわち角膜前面が球面でなく
トーリック面形状をしていることに起因している。また
、コンタクトレンズ処方に際しては、そのペースカーブ
は、コンタクトレンズを装用させる眼の角膜前面の曲率
半径をもとに処方する必要がある。これら観点から、角
膜前面の曲率半径を測定することは、重要な倉義がある
この要求から、人眼角膜前面の曲率半径を測定する装置
として、種々の形式のオフサルモメータが実用化されて
いる。いずれの型式のオフサルモメータも、被検角膜上
に1つ、もしくは複数のfJFlljを投影し、その投
影像の大きさあるいはその反射像位置を、智察望遠鏡の
焦点面で智察し、投影像の大きさの肇化量あるいは視標
反射像の相対的位置ズレ量から、被検角膜の曲率半径及
び角膜乱視!l11を測定するものであった0 オフサルモメータにおいては、特に角膜がトーリック面
形状の乱親眼角膜の測定に際しては、その第1及び第コ
主径線の曲率半径及び主径線方向の軸角度の3つの被測
定量を測定することが必要であり、上述の従来のオフサ
ルモメータはこれら3つの測定値をもとめるのに3段階
の測定を必要としていた。しかしながら、人眼には生理
的な眼球振動がつねにともなっており、測定時間の長時
間化は眼球振動にともなう投影像の振動となり、それゆ
えに測定誤差や、測定中の頻繁なアライメント調整操作
を必要とするという大きな問題点があった。
この従来の装置の欠点を解決する装置として、例えば特
開昭36一/ざg37号公報、特開昭JAー64ノ33
号公報、あるいは米国特許第qisqgA7号明細書に
は、投影像の角膜からの反射像をl次元型あるいは二次
元型のポジションセンサで検出して、その検出位置から
被検眼角膜の曲率半径及び主径線軸角度を測定する装置
が図示されている。
しかしながら、これら装置も、従来の実用されているオ
フサルモメータと同様釦、投影視標の角膜からの反射書
を望遠鏡で結像する型式であり、測定精度を上げるには
望遠鏡の焦点距離を大きくせねばならず、いきおい装置
が大型化するという欠点があった。また結像型式である
ためその合焦機構を必要としていた。また、装置と被検
角膜とのアライメントもこの合焦望遠鏡を利用してアラ
イメントするためアライメントも不正確であり、かつ測
定時間の短縮化や完全は自動化にはつながらなかった。
非結像光学系を利用して,光学系の屈折特性、主に[!
!−レンズの球面屈折力や円柱屈折力及びその軸角度を
測定する装置が、米国特許第3gg0!:ljs号明細
書に開示されている。この装置は、被検[Jレンズに平
行光束を照射し、被検レンズの屈折特性により偏向され
た光束を点間口を有するマスク手段で選択し、被検レン
ズの焦点距離より短かい距離に!lii″、tされた平
面型イメージディテクターやTVカメラの撮會面に投影
し、上紀点開口を通過した光線の骸ディテクター上への
投影点の位置から被検レンズの屈折特性をもとめる構成
であった。しかしながら、この米国特許明細書は、屈折
光学系における屈折特性測定を開示するのみであり、反
射光学系の曲面特性、特にその反射曲面の曲率半径の測
定岬については何ら開示も示唆もしていない。
そこで、本発明は上述した従来のオフサルモメータの欠
点を解決し、非結gIWi光学系を利用して自動測定が
可能な、オフサルそメータやラジアスメータ等に応用で
きる曲率測定装置を提供せんとするものである。
本発明のもう一つの目的は、非結像型光学系を使用する
ことにより、従来の装置に比較して小型で、かつ結倫望
遠鏡婢の検者が観察および操作する必要のある光学部材
を有しない、自動的に曲率半径を測定出来る曲率測定装
置を提−供することにある。
本発明の更にもう一つの目的は、従来の装置が規準によ
り行こなっていた被検曲面と装置光軸とのアライメント
のための情報を自動的に出力できる操作性がすぐれそし
て測定時間を短縮できる自動曲率測定装置を提供するこ
とにある。
すなわち、本発明によるならば、光軸に垂直な同一平面
内に予め定められた間隔をへたてて配置された少なくと
も3点の点光源と、この光軸上に配置されたピンホール
を通して該点光源を射出した照明光束の主光線をその光
軸と平行にして被検曲面に向ける結像レンズとを有する
照明光学系と、前記照明光学系の前記被検曲面からの反
射光を前記点光源と光学的に非共役な面内で検出する検
出手段と、この検出手段が検出した前記反射光の主光線
の到達位置情報から前F被検曲面の曲率半径を演算する
演算手段とから構成された曲率測定装置が提供される。
また、本発明によれば、同一平面内に予め定められた間
隔なへだてて配置された少なくとも3つの光検出器と、
光軸上に配!されたピンホールを逆して被検曲面からの
平行光束の主光線を該光検出器に入射させるレンズとを
有する検出光学系と、前記被検曲面に光を照射するため
に前記光検出器と光学的に非共役な一つの面内から発光
する多数の発光単位が同一面内に配置されてなる発光源
と、前F光検出器が検出したときの前記発光源の発光単
位の位電情報から前記被検曲面の曲率半径を演算する演
算手段とから構成された一一一曲率測定装置が提供され
る。
更に、本発明によるならば、光源と、この光源からの光
を平行光束とするコリメータ手段とを有する照明光学系
と、該照明光学系からの光束で被検曲面によって反射さ
れた光束を選択する少なくと、このマスク手段で選択さ
れた、前記反射光を検出する検出手段と、この検出手段
で検出した前配点パターンに対応した検出点情報から被
検曲面の曲率半径を演算する演算手段とを有し、前Pマ
スク手段と前r検出手段のいずれもが前記光源と光学的
に互いに異なる非共役な面内に位置されている曲率・測
定装豐が提供される。
更にまた、本発明によるならば、多数の発光単位が同一
面内に配置されてなる発光源と、該発光源からの光束を
選択する少なくとも3点の点パターンを有するマスク手
段と、このマスク手段により選択され被検曲面により反
射されて装置光軸と平行な光線を1光軸上に配置された
ピンホール手段に導びく集光手段と、このピンホール手
段を通過した光線を検知する検知手段と、この検知手段
が、前記光線を検知したときの前記発光源の発光位置か
ら被検曲面の曲率半径を演算する演算手段とから構成さ
れ、前記マスク手段と前記発光源のいずれもが前記ピン
ホールと光学的に非共役な互供される。
本発明においては、以上の構成上の特徴により従来の曲
率半径測定装fK比較して、装置が小型となり、また、
測定時間が短くかつ測定精度高く自動的に被検曲面の曲
率半径を測定できる。さらに、アライメント情報を自動
的に出力できるので、さらに測定精度が高くすることが
できる。
これらの本発明の長所は、特にオフサルモメータに本発
明を応用した場合、−球振動の影響を受けない測定精度
が高く、測定時間の短かい小型で構成の簡単な自動測定
が可能なオフサルモメータを提供することができる。
また、本発明をコンタクトレンズの裏面のペースカーブ
を測定するラジアスメータに応用すれば、ターゲット倫
をコンタクトレンズの裏面と、その曲率中心に一度合焦
し、そのときの対物レンズの移動量からペースカーブの
曲率中心を測定していた従来のラジアスメータに比較し
て、従来のラジアスメータがもっていたターグツト*観
察及びそれによる測定用の顕微鏡光学系を一切必要とせ
ず、ゆ★に測定精度を直接左右する視度調節を一切必要
としないばかりか、演11定時■の、41−ソナルエラ
ーも発生しない、自動測定が出来る高精度ラジアスメー
タをIjll=することができる。
明する。
笛1図は本発明の第1の測定原理を訝明するための斜祈
図であり、第2図は平面図である。
これらのrylVCおいて、装置光軸O4に原点を有す
るXo −Yo直交外標系を考える。このXo −Y。
座標系を含む面K、その頂点を接するように角膜Cが配
!されているものとする。この角膜Cは、その光学中心
OCをXo 軸方向にEH、Yo  軸方向にEv ず
らし、そして、曲率半径r、の第1主径線をXo  軸
に対して角度θだけ傾けて配置されているものとする。
また、その第コ主径線の曲率半径をγ2 とする。今、
とのXo −Yo座標面から装置光軸01  にそって
距離l離れた位置に、その装置光軸0.上に原点0をも
つX−Y直交座標系を惣定し、とのX−Y座標面に検出
面Oを配置したとする。
今、この角膜Cに光軸O9から予め定られた間隔を隔て
て光軸0.と平行が3本の光線11.12.1 を押射
すると、これら光線は角膜Cにより反射され、その反射
光線11′、12′、+3’kt検出面りに到遺する。
光線11.12.13の×0− Yo  が積面に入射
する入射点をそれぞれυo(oXl、OY、)、Vo(
oX2.0Y2)、Wo (o X 5.0Y3)とし
、また反射光線11’、’2’、15′の検出面りへの
到達点のX−Y座標上の位置をそれぞれU(×4、Y、
)、v(×2、Y2)、W(×3、v、)とし、これI
?A点ニツいて以下の係数の式を定義する。
以上の定義のもとに角膜の曲率半径γは・・−・・・・
・・・・・・・・・・(2i式の方程式であられされる
。ここにlは角膜の頂点と検出面0との間の距離であり
、γは、角膜の曲率半径である。
こへで、上記係数のカッコ式を以下のもので定義する。
ここで、P%qはそれぞれ上記(1)式の^、日。
=0 ・・・・・・・・・(3)式 として表わされる。ここで上記の二次方程式のコ根を とおく。
また、検出面D=5第一図に示すように角層頂点から距
離l′ の位置におかれた検出面D−への反射光線1.
′、+21.13′の到達点U’(x、’ 、 v、′
)、y/ (X、、#、Y2′)、W′(×3′、Y5
’ ) K ツいて考えると、Xo −Yo座標面への
光線14.12.13 の入射点Uo(oXl、0YI
)、VO(OX2、oY2) 、Wo(oX3、o Y
 s )  との間には、やはり上述の第(3)式と同
様Kが成立し、そのコ根 とが得らる。これら、(4)、(4)1式から角膜Cの
第1主径線の曲率半径γ、と第2主径線の曲率半径γ2
を久それぞれ としてもとめらhる。また第1主杼線のXo  軸とな
る角θは と、してもとめられる。
また第一図に示すよ5に検出面りとD′ の間の距離△
が予め定められた一定値を取るならば、反射光線の反射
方向は検出面D(およびD′)の位置に無関係に一定で
あるから、検出面りにおける到達d u (x、、Y、
)から検出面D′ における到達点u’(X+’ 、”
′)への変化量ΔXはつねに一定である。このことから
、本測定原理に基づけば、装置の基準面Pと被検角膜C
との間の作動距離#に測定結果は左右されない。換言す
るならば、従来のオフサルモメータのよ5に、測定に際
して予め定められた装置固有の作動距離の調整をすると
いう必要がなく、これは優れた長所と言える。
またアライメント調整は、入射AUO%VO%WO17
)ソttぞれの座標(o X 1、oYl)、(oX 
2、o Y 2 )、(o X s、o Y 3) が成立するように反射されると予め定めておけば、検出
面0への到達点U、V、Wのそれぞれの座標値(X、’
 、 Y、)、(×2、Y2)、(x3、Y、)から、
をもとめると、α、βはそれぞれ第7図において角膜C
の頂点(光軸Oc)がxO軸方向にEH,YO軸方向E
v ずれて配置されたことに起因するズレ量を表現して
いるととKなシ、これよシ、α二β=0となるように光
軸0□ をX方向、Y方向に動かしてアライメント調整
すればよい。
光学系には一般に「光線逆進の原理」が適用で専る。そ
こで、上述した原理において、後述の本発明の第、25
第30濶定原理間の関係と同様の考え方により、光1s
の進行方向を反対にして、検出面Oの位置に、多数の発
光素子を配列した面発光体を置いて、光ll11.  
l、、  I、  の延長上に受光素子を配置し、この
受光素子が角膜からの反射光を検知したときの前記面発
光体の発光素子の発光位置情報から、同様に曲率測定が
できる。
jlEj図、第一図は本発明の第2の原理を説明する図
である。前述の第1の原理で説明したと同様の構成要素
には同一の符号を附して説明を省略する。
被検角膜Cの頂点から装置光軸o0  にそって前方に
距離tのところに原点0゜を光軸0□ にもつxo−Y
o直交座標系を想定し、このX。−Y0座像面に3つの
点開口冨(、(oX、 、 oYl) 、 Jo(oX
、 、 oY、)。
1(o(OX3. oY3)を有する1スフMが配置さ
れている。マスクMから光軸01  にそって、距離d
さらKMKは検出面りが配置されている。この検出面D
K原点0を光軸O4と一致させたX−Y直交座標系を想
宇する。今、被検角膜Cに光線1い12.13を含む光
軸O7に平行な平行光線束が照射されると、この平行光
線束は角膜Cで反射されマスクMに向う。そして、光@
I、、12.13 のそれぞれの反射光線11′、12
′、13′が点開口1o、Jo、に0 で選択通運され
、検出面0上の位f# +(x、 、 Y、)、j(×
2、Y2)、K(X5、Y3) kそねぞれ到達したと
すると、マスクMの点開口lo。
Jo、に0と検出面りの到達A1、j、にの6点につい
て、上述の第1の原理で定義した第(1)式、第(1)
2式を同様に定義すると、 〔C,D〕(8)2+(〔^、C1)−(:B、 C)
 )(−!−)十〔^、B〕=0 ・・・曲−(8)式 が成立する。この二次方程式の2根21、z2はそれぞ
れ、マスクMから角gcの第1主径線の焦点「γ1、第
2主径線の焦点FT2までの互着を示しているから、球
面反射光学系の焦点距離Iは、その曲率半径Rとの間に
f=Vコの定理があるので、この、ZSZ、、z2から
角gcの第1および婢コ主径線の曲率半径γ7、T2は
、それぞれでもとめることができる。
ここで、距離lは、公知の作動距離検出手段でもとめた
定数としても、また、リレー光学系を使ってl=oにな
るよ5にマスクMを設定してもよいO Fl主径線r、の軸角度θは、 として得られる。
またア゛チイメント調整に関しては、上述の第1の原理
と同様に考え、マスクMの点開口10% Jo、に0 
が前記(7)式の条件を満たすように形成してやれば、
このときの検出面0上への反射光線蓼、′、(、I、+
3′の到達点9、j、にの各座標値から、前記第(8)
式によりズレ量α、β、を検出することができ、これよ
りα=β=0となるように調整すればよい。
第3図、第6図は本発明のW3のi埋を説明する図であ
る。このtK3の原理は、上述の第コの原理に対して「
光線逆進の原理」を利用した測定原理である。すなわち
、上述の第2の原理の照射光線15.12.13  と
その反射光m l、# %  12’ 。
13′を逆に考え、マスクMの点開口を通過し、角膜C
で反射され、装置光軸0.と平行になる光線を射出した
発光光源位置から角膜の曲率半径を求める測定原理であ
る。以下説明にあたってはtJ、コの原理と同一の構成
要素に対しては同一の符号を附して説明を省略する。
装置光軸0.に原点0を一致させたX−Y座標系が作る
面内に多数の発光単位点S、、S2、S3・・・・・−
・・、Sを稠密的に配列して成る面光源Sを配置する。
この面光源Sの角膜C@に光軸0.  Kそって距離d
はなして点開口+。(ox5、oYt)、JO(OX2
、OY 2 )、Ko(oxs、OY!l)  を有す
るマスクMを配置する。面光源Sと反対側へマスクMか
ら距離lはなして被検角膜Cが配量されている。今、面
光源Sの各発光単位Sn  を順次発光走査すると、あ
る発光単位からの発光発散光束中のある光線はマスクM
の点開口10、」へKOのいずれかを通過し、角膜Cを
照射し、角膜Cで反射される。これら角膜Cで反射され
た光線の内の、さらに少数のある光線は装置光軸0.と
平行な光線である。との平行光線は光軸0.に配置した
集光レンズしによってその焦AF  に集光され、この
焦点FL  にピンし ホールPHをおき、このピンホールの点開口を通運した
光線を検知器DM で検知する。この検知器DM が光
線を検知したときの、その光線を照射した発光単位点の
位置をもとめることにより、マスクMの点開口との対応
関係から角膜の曲率半“径を測定することができる。
今、面光源Sの各発光単位Sn  を順次発光走査して
おき、マxりMの点開口10(OX、、OY、)、JO
(OX2.0Y2)、にo(oX5.0Y3)のそれぞ
れからノ射出光i 1..12、I、 カ角w!L(、
C−反射され、光軸0.ト平行な反射光[1,’、12
′、13′トナリ、集光レンズLでその焦点FL  に
集光され、検知器DM で検知されたとすると、この検
知情報から、射出光線15.12.13のそれぞれを含
む発散光束//I、fll、flhを発光したそれぞれ
の発光単位点5l(X、Y、)、5l(X2 、 第2
)、5k(X3、第3)の位置を知ることができる。こ
の発光単位点S1、Sl、SkとマスクMの点開口IO
,Jo、KOから上記第コの原理と同様に第(8)〜第
(11式が成立するのでこれら各式から被検角膜Cの曲
率半径γ4、第2 及び第1主径線の軸角度θをもとめ
ることかで鎗る。
アライメント調整は上記第1、第2の原理と同様の条件
のもとに発光単位点の座標値から前記第(8)式により
α、βを検出でき、α=β二〇とするように調整すれば
よい0 以上説明した本発明の原理に基づ〈実施例を以下説明す
る。
第7図は、上述の第1の原理を利用したオフサルモメー
タの光学配置図である。と・のオフサルモメータは、大
きく一つの部分、すなわち、照明光学系1と測定光学系
2からなり、両者の光軸0゜と02 はハーフミラ−4
0を介して一部共通となっている。
開−光学系2には、点光源としての赤外発光ダイオード
が最低3つ、本実施例においてはqつの発光ダイオード
3,4.5及び6を第8図に示すように、照明系光11
+02  に垂直な同一平面内に光軸02 を中心に互
いに等しい間隔ηを隔てて、相対する2つの発光ダイオ
ード3と4及び5と6を結ぶ−の交点が光軸02  と
一致するように1置されている。ここで発光ダイオード
3.4.5及び6を赤外発光ダイオードとしたのは被検
角膜の曲率半径測定中に誉検者がまぶしくないようにす
るため、不可視光を使用したいためである。
また、より多数の点光源を使って各光源からの光を検出
してその検出結果を平均化して測定精度を上げたいので
あれば第9図に示すように、白色光源20から光を赤外
光のみを通す赤外フィルタ21及び拡散板22に通した
のち、第1O図に示すように相直交するxo軸上及びY
O軸上に検数の点開口23 a 、 23 b −23
1,23に1231−・・・・・23tを有する開口板
23にコンデンサーレンズ24で平行照射し、この開口
板23の点開口23a、23b・・・・・・23tをそ
れぞれ点光源として使用してもよい。
発光ダイオード3.4.5及び6からの光はピンホール
7を通って、結像レンズ8に向う。この結像レンズ8は
、発光ダイオード3〜6を被検角pcの頂演^Cに接し
、かつ光軸0.(及び02)に垂直な接平面Pc  に
結像するように作用する。結像レンズ8は、その前側焦
点をビンホーfiv7の位置に持っているので、発光ダ
イオード3〜6を射出した光束の主光線は照明光軸と平
行になって被検角膜CK照明される。
一方、測定光学系2には、被検角膜からの反射光を検出
する例えばCCOからなる平面型f!ジシャンセンサ9
が光軸0.に垂直な平面内に配置されている。この平面
型ポジションセンサ9は、リレーレンズ10によって接
平面Pc から距離lのに形成される光学的共役像であ
る第1仮想検出面DK形成される像と同一の儂を検出す
る。さらに、本実施例においては、前述の第1の原理で
述べた第コの仮想検出面D′ を得るために、ポジショ
ンセンサ9を光軸方向に動かしてもよいのであるが、よ
り好ましい態様として、平行平面ガラスからなる光路長
変換部材11を測定光学系1内に挿紛可柿に配置してい
る。この光路長変換部材11を光路内に挿入することに
より、ポジションセンサ9のリレーレンズ10による光
学的共役像は接平面Pc  から距離l′ の位置に出
来、そこに第りの検出面D′ を作る。
次に、本実施例による被検角膜の曲率半径の測定方法を
説明する。まず、光路変換部材11を光路外に退避させ
ておき、リレーレンズ9によりポジションセンサ9の共
役像がDの位置にくるようにする。つぎに、発光ダイオ
ード3〜6を発光し、その射出光を被検角膜に照射する
。角膜Cからの反射光はポジションセンサ9に入射され
る。ここでポジションセンサ9の各受光素子を走査して
反射光の入射点を検出する。このときの検出点が、第1
/図に示すように、Ua(aX、、aYl)、va(a
X2、a Y 2 )、W8(a X 5、aY3)、
Qa(aX4、aY4)であったとすると、Ua  点
とWe点を結ぶ直線とVa点とQa  点を結ぶ直線の
交点(至)が予め設計上定められていた原点0からずれ
ていれば被検角膜Cの頂点ACと測定光学系の光軸0.
とのアライメントがずれていることを意味しているので
上述の(7)2式を使ってズレ量α、βを算出し、α=
β=0となるように装置を図示しない手段で左、右上下
に動かしアライメント調整をする。
なお、基準w点0は予め設計上定めておくかわりに、例
えば第73図に示すように、照明光軸02に垂直な平面
内に反射面をもつぐラー12を挿入し、とのξジー12
により照明光軸02  に平行にすなわち発光ダイオー
ド3〜6からの照射光の照射光路と同一光路を逆進させ
ポジションセンサでその反射光を検出し、この検出点U
O(OXl、oYl)、Vo(oX2、o Y 2 )
、Wo (o X 5、oY3)、0o(oX4、o 
Ya )(第1O図参照)をもとに原点0を決定しても
よいO アライメント評整が完了したら、再度ポジションセンサ
を走□査し、第7a図に示すように、検出面Oでの検出
値U(×4、Y、)、v(×2、Y2)、W(×5、Y
3)、Q(×4、Y4)をもとめ、これをメモリーして
おく。
次に、光路変換部材11を測定光学系内に挿入し、検出
面りでの検出をおこない、その検出値υ# (X、$、
Y、′)、yF(×2/、Y2′)、wt (X31 
、Y、/ )、0(x4′、Y4t )  をもとめる
。このコ回の検出による検出点り、■、W、Q、及びU
′、v′、w′、Q′ のg演の情報から上述の#(1
)〜第(6)式をつかって被検角膜の曲率半径r1、r
2及び主径線の軸角度0を算出する。
第1q図は以上の検出及び演算処理をするための検出駆
動及び演算処理回路を示すブロック図である。
マイクロプロセッサ100のクロックツ量ルス発振器1
01からのクロックパルス201の制御のもとに走査駆
動回路102は、平面型ポジションセンサ9を走査する
。ポジションセンサ9の各受光単位素子からの出力信号
202は、入力変換器103で予め宇めた分解能、例え
ばgビット(//P)l、)の分解能でデジタル信号に
変換されたのち、マイクロプロセッサ100に入力され
る。マイクロプロセッサ100は、その入力信号から検
出点Us、 Va、 We、 Qaの座標値を算出し、
予め定められた原点0゜と比較し、(7)′弐によりα
、βを計算する。この値をもとにインターフェース回路
105を介してCRTディスプレイ106上にアライメ
ントズレ量を図形表示し、測定者にズレ方向及びその量
を知らせる。または算出されたa及びβ値から装置本体
を公知の電気機械駆動系107で左右上下に駆動し、自
動的にアライメント調整してもよい。
アライメント調整完了後、ポジションセンサ9の走査出
力202はA/b変換器103、マイクロプロセッサ1
00を介して、ランダム−アクセスメモIJ (RA 
M )等で構成されるメモリ回路104のポジションセ
ンサの各受光素子に対応したメモリ番地に順次記憶され
る。次に、iイクロプロセッサ100の制御のもとに、
光路変換部材駆動回路108を駆動して光路変換部材1
1を測定光路内に挿入し、検出面り一 での検出をポジ
ションセンサ9を再度走査し、その検出値と、前述のメ
モIJ 00路104に格納されていた検出面りでの検
出値とをもとにマイクロプロセッサ100内の演震回路
109で演算し、その演春結果をインターフェース回路
105を介してCRTディスプレイ106上に被検角膜
の曲事半径γい γ2及び軸角度0として表示する。ま
た必要に応じプリンタ回路110で打出してもよい。こ
れら一連の検出演算処理はプログラムメモリ111に予
め入れられている処理プログラムによって実行される。
以上の第1実施例において、ポジションセンサ9として
平面型のポジションセンサを利用したが、そのかわりに
第1り図に示すように、直線状のポジションセンサ32
をマイクロプロセッサ1o。
kより制御される制御回路!12に接続されたパルスモ
ーク113により回転して角膜cからの反射光の到達点
を検出してもよい。
以上述べた第1の原理に基づくオ7サルモメータを、前
述した「光線逆進の原理」を適して、発光体と受光体と
の関係を逆転させても、同様に曲率を測定できる。即ち
、平面m−ジションセンサ9の位置に1多数の発光素子
即ち発光単位を配列した平面型発光素子アレイを置き、
そして、発光ダイオード3.4.5.6の位置に受光素
子を配置する。そしR,は、平面瑠発光素子アレイの発
光単位を順次発光させて、その光を受光素子のいずれか
が受けたとき、その光を発した発光単位の座標位置とそ
の光を受けた受光素子の位置とを記憶すること以外、上
述した実施例と同じである。
また、発光体と受光体との関係を逆転させれば、上述し
た実施例と同様な変更もまた同様にすることができる。
すなわち、同一平面内に予め定められた間隔をへだてて
配置された少なくとも3つの光検出器と、光軸上に配置
されたピンホールを通して被検曲面からの平行光束の主
光線を光検出器に入射させるレンズとを有する検出光°
学系と、被検曲面に光を照射するために光検出器と光学
的に非共役な二つの面内から発光する多数の発光単位が
同一面内に配置されてなる発光源と、光検出器が検出し
たときの発光源の発光単位の位置情報から被検曲面の曲
率半径を演算する演算手段とから構成されるオ7サルモ
メータにおいて、光検出器は受光素子でもよいし、また
受光素子への光を透過する点間口でもよい、そして、こ
のオ7サルモメータは、更に、発光源を前記非共役面に
位置づけるリレー光学手段を有してもよく、マた、被検
曲面と発光源の間に光路長変換部材を配してもよい・更
に1被検曲面と発光源の間に光軸と垂直な反射面をもつ
反射部材゛を挿入可能に配してもよく、そして、発光源
の発する照明光束は赤外光であることが好ましい、また
、リレー光学手段の光軸と検出光学系の光軸とを第7図
の如く少くとも一部共通にできる。そして、発光源は多
数の発光素子を平面状に配置した平面型発光素子アレイ
でも、また、多数の発光素子が直線状に配列されて非共
役面内で回転するりエア発光素子アレイでもよい。
第75図は、前述の本発明の第一の測定原理にもとず〈
実施例をオ7サルモメータに応用した例を示す光学配置
図である・なか、前述の第1実施例と同一もしくは均等
な構成要素には同一の符号を附して説明は省略する。
照明光学系1においては、光源2Gからの光束は、フィ
ルタ21及び拡散板22を通り、コンデンサレンズ24
によシビンホール7を通過し、ピンホール7の位置に焦
点をもつコリメータレンズ30により平行光束となって
、被検角膜CK照明される。
一方、測定光学系2の4ジシ買ン竜ンナ9とリレーレン
ズ10の間には少なくとも3つの点間口が形成されたマ
スク31が配置されている。そして、リレーレンズ10
によシ形成されるそれらの光学的共役像は、被検角膜C
から距離口、ポジションセンサ9の光学的共役像である
仮想検出面りから距1ijldの位置に作られる。この
マスク310A1口としては笛10図に示し九開口板2
3と同じように多数の点間口を交差すゐ直線状に配列す
ると、測定精度の向上につながりより好ましいが、本実
施例では、説明を簡単にするために第76図に示すよう
1cXo 軸上に点110Jo、Noヲ、YO軸に点間
口1o 、KOをその原点00 を中心に対称に配した
マスクを例に説明する。角faCに照明された平行光束
は、角膜で反射されマスク31の点間口 1o、 Jo
、にo、 No で選択透過され、ポジションセンサ9
に反射する。このポジションセンサ9の走査による検出
点を第1A図に示すように1(Xl、Yl)、 J(X
2. Y2)、 K(XS、 Y3)、 N(X4. 
Y4)とすれば、マスクの点間口の座標Io(oXl、
 oYl)+Jo(oX2.0Y2)、にo(oX3.
 on)e No(OX4e oY4)とから、上述の
第(8)〜0G式によシ被検角膜Cの曲率半径11J2
及び軸角度θが演算でもとめられる。な訃、検出演算回
路は第11図に示した第7実施例の回路とほぼ同様であ
るので説明を省略する。ただマスクMO点開口の座標上
の位置情報が予じめメモリ回路104の対応するメモリ
番地に記憶させておく点が異なる。
以上の第一の実施例において、第1実施例と同様に、ポ
ジションセンサ9として平面型のポジションセンサを利
用したが、このかわpに第77図に示すように、直線状
のIジャロン4ンサ32をマイクロプロセッサ100に
よシ制御される制御回路112に接続されたパルスモー
タ113によ多回転して角膜Cからの反射光の到達点を
検出してもよい。
第1fFXIは、本発明の第3の測定原理をオ7サルモ
メータに応用した実施例を示す光学配置図である。
なお、前述の第2の実施例と同様の構成要素には同一の
符号を附して説明は省略する。
照明光学系2には、多数の微少な赤外発光ダイオードを
稠密的に配列してなる。平面型発光素子アレイ50があ
シ、この発光素子アレイ50の前E1m1mスフが配置
されている。これら発光素子アレイ50とマ累り31は
リレーレンズIOKより、それぞれの光学的共役像M、
Sが角@Cの前方に作られる。一方、測定光学系2は、
リレーレンズ10がその後方焦点をピンホール7の位置
にもつ集光レンズとして作用し、このリレーレンズによ
り角膜Cからの反射光のうち測定光軸01と平行な光線
のみがピンホー〃7を通過し、リレーレンズ51によシ
受光素子52に反射される。この受光素子52としては
高感度のアノ千ランシェフオドダイオードを使用し、さ
らに感度を上げるには電子冷却手段をほどこしてもよい
、あるいは公知の光電子倍増管を利用してもよい、なお
、本実施例では照明光学系のリレーレンズ10が測定光
学系の集光レンズを兼ねる構成としているが、これは装
置の構成を簡単にするためであシ、それぞれリレーレン
ズと集光レンズを別々にもうけてもよいことは言うまで
もない。
平面型発光素子アレイを構成する発光ダイオード素子(
以下発光単位という)を順次発光走査すると、各発光単
位からの発散光束のうちあるものはマスク31の点間口
1o、 Jo、にo、 No のいずれかを通過し、被
検角膜Cに入射される。そして、角膜Cに上って反射さ
れた照明光のうちある一部のものは、光軸01  に平
行な光線となシ、この平行光線はリレーレンズ10.八
−7ミラー40を介してピンホール7を通シ受光素子5
2で検出さ5l(x2.y2)、 5k(X5sYs)
−5n(X4eY4)が第19図に示す位置にあったと
すると、マスク310点間口の座標1o(oXl、oY
l )、Jo(oXz、oY2)、Ko(oXs、oY
s)。
No(oX4 、oY4 )とから前述の第(8)〜a
υ式を適用して被検角膜の曲率半径71172及び軸角
度0が算出できる。
なお、この場合の検出演算回路も第11図と同様に構成
できる。その例を第一0図に示す、しかし、第1ダ図の
回路と量分の部分については、同一の参層番号を付して
説明を省略し、異なる部分のみ説明する。
マイクロプロセッサ100のり四ツクパルス発振器10
1からのクロックパルス201(iり制御のもとに走査
駆動回路102は、発光素子アレイ50を走査する。一
方、受光素子52からの出力信号202は、^/口変換
器103でデジタル信号に変換されたのち、マイクロプ
ロセッサ100に入力される。そして、マイクロプロセ
ッサ100は、その人力信号が所定レベル以上にあると
きその光゛を出した発光単位の位置座標Sl、 Sj、
 Sk、Sn。
を算出する。また、第75図の実施例の場合と同様に、
マスク310点間口の座標上の位置情報は、予じめメモ
リ回路104の対応するメモリ番地に記憶させておく。
なお、第7g図の平面型発光素子アレイ50のかわりに
、第21図に示すように赤外光を射出する例えばG5A
s  半導体レーデ60からのレーザ光を、公知の回転
多面鏡若しくはガル/童ノメータ反射鏡又は音響光学素
子からなるビーム走査光学系61を駆動して、光学素子
アレイ62に反射して、平面型の発光源として使っても
よい、ここで光学素子アレイ62はコリメータレンズ6
3と多数のファイバーレッド64mを平面状に配列した
ファイバーロッドアレイ64から構成されている。各フ
ァイバーロッド641は開口板が大きいので入射された
レーデ光65は発散光束65I、となって射出する。ま
え、この光学素子アレイを直線状アレイとして構成し、
第77図と同様K 14ルスモータ113で回転しても
よい。
第2コ図は、本発明の第7の原理をコンタクトレンズの
ベースカーブを測定するラジアスメータに応用した実施
例である。照明光学系と測定光学系及び演算処理系は前
述の第7実施例と同様であるので同一の符号を附して説
明は省略する。
コンタクトレンズCLはそのベースカーブの曲率半径を
測定するときはコンタクトレンズの凸面を下にして、コ
ンタクトレンズ保持手段3000円管状突出部301に
保持taる。
この円管状突出部の底面には、第13図で説明し來原点
決定用の反射鏡12が取付けられておじ、コンタクトレ
ンズを保持手段300にセットする前に、この反射鏡を
使って原点設定ができるようになっている。なお、本実
施においては、Iジションセンサ9の第1及び第a仮想
検出面り、0/はそれぞれ測定しようとするコンタクト
レンズの後面の焦点距離よシ内偏に位置するようにリレ
ーレンズ10の屈折力を設計するとよい。
なお、上述の全ての原理及び実施例の説明において開口
板23、マスク31を光を透過する点間口の側で説明し
たが、本発明はこれに限定されるものでなく、開口板や
マスクは光を反射する点状反射面を有するものでもよい
【図面の簡単な説明】
第1図及び第4図は本発明の第1の測定原理を説明する
ための図、第3図及び第1I図は本発明の第一の測定原
理を説明するための図、第5図及び第6図は本発明の第
3の測定原理を説明するための図、第7図は本発明の第
1の実施例を示す光学配置図、第3図は第1実施例の発
光ダイオードの配置関係を示す平面図、第9図は第1実
施例における点光源の別の実施例を示す図、第1OFI
Aは第9図における開口板の平面図、第11図はアライ
メント調整時の照射点と検出点の関係を示す図、第1コ
図は第1実施例の検出点の関係を示す図、第73図は基
準原点を決定するだめの一部省略した光学配置図、第1
4を図は第1の実施例の、検出、演算処理回路のf0ツ
ク図、第75図は本発明の第一の実施例を示す光学配置
図、第76図は第一実施例の検出点の関係を示す図、第
17mは第1及び第一実施例における検出手段の別の実
施例を示す図、第1g図は本発明、の第3の実施例を示
す光学配置図、第19図は第3実施例の発光単位点の関
係を示す図、第20図は第3実施例の検出演算処理回路
のノロツク図、第一/li!Ifは、第3実施例の発光
素子アレイの別の実施例を示す図、そして、第22図は
本発明の第ダの実施例を示す光源配置図である。 1 、、、、、照明光源、200.・測定光学系、3.
4.5.6 @ 6 @ m 6発光ダイオード、L*
*eaピンホール、8 、、、、、結像レンズ、9.3
2mm@@@−ジシロンセンサ、i o 、、、、、リ
レーレンズ、1 i @*@@@光路長変換部材、12
0.・00反射ミラー、235ees開目板、30 、
、、、集光レンズ、31111+6@マスク、52 、
、、。 受光素子、60.、・、レーデ、61・01.走査光学
系、62 、、、、光学素子アレイ− 191 第8図 −194−’ 第18図 を 処20図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  同一平面内に予め定められた間隔をへたてて
    配置され九少なくとも3つの点光源と、光軸上に配置さ
    れたピンホールを通して該点光源を射出した照明光束の
    主光線な該光軸と平行にして被検曲面に向ける結像レン
    ズとを有する照明光学系と、 前記照明光の前記被検曲面からの反射光を前記光源と光
    学的に非共役な一つの面内で検出する検出手段と、 該検出手段が検出した前記反射光の主光線の到達位置情
    報から前記被検曲面の曲率半径を演算する演算手段と 
     − から構成されたことを特徴とする曲率測定装置。 (2)  前記点光源は、発光〆イオードであることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載O曲率測定装置。 (3)  前記点光源は発光光源からの光を透過する点
    開口であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の曲、率測定装置。 (4)  前記検出手段を前記非共役面に結像させるリ
    レー光学手段を有してなることを特徴とする特許請求の
    範囲第1IJないし第3項のいずれかに記載の曲率測定
    装置。 (5)  前記被検曲面と前記検出手段の間に光路長変
    換手段を配したことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    ないし第1項のいずれかに記載の曲率測定装置。 (6)前記被検曲面と前記検出手段の間に前記光軸と垂
    直な反射面をもつ反射部材を挿入可能に配して成ること
    をIjI!IWkとする特許請求の範囲第1項ないし第
    5項のいずれかに記載の曲率測定装置− (7) 前記照明光束は赤外光であることを特徴とする
    特許請求の範1[I/項ないし第6項のいずれかに記載
    の曲率測定装置。 (8ン  前記リレー光学手段の光軸と、前記照明光学
    系の光軸とを小さくとも一部共通にしたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第ダ項ないし第7項のいずれかに記載
    の曲率測定装置。 (9)前記検出手段は多数の受光素子を平面状に配置し
    た平面型ポジションセンサであることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項ないし第を項のいずれかに記載の曲率
    測定装置。 OI  前記検出手段は多数の受光素子を直線状に配列
    して成)、かつ前記非共役面内で回転するりテアポジシ
    ョンセンサであることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項ないし第を項のいずれかに記載の曲率測定装置。 αυ 同一平面内に予め定められた間隔をへだてて配置
    され九少なくとも3つの光検出器と、光軸上に!II!
    置されたピンホールを通して被検曲面からの平行光束の
    主光線を該光検出器に入射させるレンズとを有する検出
    光学系と、 前記被検曲面に光を照射するために前記光検出器と光学
    的に非共役なaつの面内から発光する多数の発光単位が
    同一面内に配置されてなる発光源と、 前記光検出器が検出したときの前記発光源の発光単位の
    位置情報から前記被検曲面の曲率半径を演算する演算手
    段とから#4成されたことを特徴とする曲率測定装置。 αり 前記光検出器は受光素子であることを特徴とする
    特許請求の範囲第1/項記載の曲率測定装置峙 前記光
    検出器は受光素子へ光を透過する点開口であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1/項記載の曲率測定装置。 I 前記発光源を前記非共役面に位置づけるリレー光学
    手段を有してなることを特徴とする特許請求の範囲第1
    /項ないし第13項のいずれかに記載の曲率測定装置。 aS tm記被検曲面と前記発光源の間に光路長変換手
    段を配したことを特徴とする特許請求の範囲第1/項な
    いし第1ダ項のいずれかに記載の曲率測定装置。 αe 前記被検曲面と前記発光源の間に前記光軸と垂直
    な反射面をもつ反射部材を挿入可能に配して成ることを
    特徴とする特1ff−請求の範囲第1/項ないし第1S
    項のいずれかに記載の曲率測定装置。 (1?)  前記照明光束は赤外光であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1/項ないし第16項のいずれか
    に記載の曲率測定装置。 α均 前記リレー光学手段の光軸と、前記検出光学系の
    光軸とを小さくとも一部共通圧したことを特徴とする特
    許請求の範囲第1ダ項ないし第17項のいずれかに記載
    の曲率測定装置。 (11前記発光源は多数の発光素子を平面状に配置した
    平面型発光素子アレイであることをIt!I微とする特
    許請求の範囲第11項ないし第11項のいずれかに記載
    の曲率測定装置。 (4)前記発光源は多数の発光素子を直線状に配列して
    成シ、かつ前記非共役面内で回転するリニア発光素子ア
    レイであることを特徴とする特許請求の範囲第11項な
    いし第1を項のいずれかに記載の曲率測定装置。 Cυ 光源と、該光源からの光を平行光束とするコリメ
    ータ手段とを有する。照明光学系と、該照明光学系から
    の光束で被検曲面によって反射された光束を選択する少
    なくとも3つの点パターンを有するマスク手段ト、 該マスク手段で選択された該反射光を検出する検出手段
    と、 該検出手段で検出した前記点パターンに対応した検出点
    情報から前記被検曲面の曲率半径を演算する演算手段と
    を有し、 前記マスク手段と前記検出手段のいずれもが前記光源と
    光学的に互いに異なる非共役な面内にそれぞれ配置され
    ている ことを特徴とする曲率測定装置、。 (2) 前記コリメータ手段の前側焦点位置には、前記
    光源からの光束を通すピンホールが配置されていること
    を特徴とする特許請求の範囲第27項記載の曲率測定装
    置。 (ハ) 前記照明光束は赤外光であることを特徴とする
    特許請求の範囲第21項または第一一項記載の曲率測定
    装置。 (至) 前記点パターンFi開口から成ることを%微と
    する特許請求の範囲第11項ないし第23項のいずれか
    に記載の曲率m電装置。 (ハ)前記マスタ手段と、前記検出手段の両方をそれぞ
    れの前記非共役面に結像するリレー光学手段を有してな
    ることを特徴とする特許請求の範囲第一7項ないし第a
    ダ項のいずれかに記載の曲率m定装置。 aI#記被検曲面と前記マスク手段との間に@記M明光
    学系の光軸と垂直な反射面を有する反射部材を挿入可能
    に有してなることを特徴とする特許請求の範囲第11項
    ないし第25項のいずれかに記載0曲率測定装置。 (2) 前記リレー光学手段の光軸と前記照明光学系Q
    光軸とを少なくとも一部共通に有したことを特徴とする
    特許請求の範囲第25項ま九は第一6項記載の曲率測定
    装置。 (至)前記検出手段は多数の受光素子を平面状に配置し
    九平面1m−ジシ璽ン七ンサであることを特徴とする特
    許請求o’arswt−/項ないし第27項のもずれ、
    かに記載の曲率測定装置。 (29)前記検出手段は多数の受光素子を直線状に配列
    してなシかつ前記非共役面内で回転するリニアポジショ
    ンセンサであることを特徴とする特許請求の範囲第一7
    項ないし第27項のいずれかに記載の曲率測定装置。 (3Ql多敵の発光単位が同一面内に配置されてなる発
    光源と、 該発光源からの光束を選択する少なくとも3つの点パタ
    ーンを有するマスク手段ト、該マスク手段により選択さ
    れ被検曲面により反射されて、装置光軸と平行な光線を
    該光軸上に配置されたピンホール手段に専び〈集光手段
    と− 該ピンホール手段を通過した光線を検知する検知手段と
    、 該検知手段が該光線を検知したときの前記発光源の発光
    位置から前記被検曲面の曲率半径を演算する演算手段と
    から構成され、 前記マスク手段と前記発光源のいずれもが前記ピンホー
    ル手段と光学的に非共役な互いに異なる面内に位置して
    いる ことを**とする曲率測定装置。 (31)前記発光源は多数の発光素子を平面状に配列し
    て成る平面型発光素子アレイであることを特徴とする特
    許請求の範囲第30項記載の曲率測定装置。 (32)前記発光源は多数の発光素子を直線状に配列し
    て成シ、かつ前記非共役面内を回転する9コア発光素子
    アレイであることを特徴とする特許請求の範囲第3θ項
    記載の曲率測定装置。 (33)前記発光素子は発光ダイオードであることを特
    徴とする特許請求の範囲第31項または!I32項記載
    の曲率測定装置。 (−前記発光素子はレーデ光を拡散する拡散光学部材か
    ら構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第3
    7項または第3コ項記載の曲率測定装置。 (35)前記発光素子は赤外光を発光することを特徴と
    する特許請求の範囲第一〇JJjないし第23項のいず
    れかに記載の曲率測定装置。 (旙前記レーデは赤外光を発光することを特徴とする特
    許請求の範囲第3q項記載の曲率測定装置・ (3T)前記点・ぐターンは開口であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第30項ないし第36項のいずれかに
    記載の曲率測定装置。 (3B前記発光源と前記マスク手段の両方をそれぞれの
    前記非共役面に結像するリレー光学手段を有して成るこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第30項ないし第37項
    のいずれかに記載の曲率測定装置。 (39)前鷺集光手段と前記被検曲面との間に該第・光
    手段の光軸と垂直な反射面を有する反射部材を挿入可能
    に配してなることを特徴とする特許請求の範囲第36項
    ないし第3g項のいずれかに記載の曲率測定装置。 (40) #記すレー光学手段の光軸と前記集光手段の
    光軸とを少なくも一部共通にして成ることを特徴とする
    特許請求0範囲第3g項または第39項記載の曲率測定
    装置。 (41)前記検知手段はフォトマルチシライヤー受光管
    であることを特徴とする特許請求の範g#I3θ項ない
    し第tIO項のいずれかに記載の曲率測定装置。 (42)前記検知手段はアバランシェ7オFダイオード
    であることを特徴とする特許請求の範匠第30項ないし
    第11O項のいずれかに記載の曲率測定装置。
JP56173527A 1981-10-28 1981-10-28 曲率測定装置 Granted JPS5873336A (ja)

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