JPH02257408A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は薄膜磁気ヘッド、特に基板？、前記基板の表面
に薄膜形成される下部磁性層と、前記下部磁性層上に薄
膜形成されコイル部を形成する導電層と、前記下部磁性
層と磁気的に結合する上部磁性層と、前記各層間に形成
される複数の眉間絶縁層からなる薄膜磁気ヘッドに関す
るものである。

［従来の技術］ 従来より、各種電子機器において音声および画像などの
情報を記録再生するために、テープレコーダやフロッピ
ーディスクドライブ装置などの磁気記録装置が広く用い
られており、この種の装置では磁気記録再生に磁気ヘッ
ドが使用される。

なかでも、近年多用されている薄膜磁気ヘッドは小型軽
量であると共に、薄膜堆積工程およびフォトリソエツチ
ング工程などにより形成されるため大量生産が容易であ
るという特徴がある。

第５図および第６図を用いて、従来技術による３巻のコ
イルを有する薄膜磁気ヘッドについて説明する。

第５図において符号１で示すものはフェライト、ガラス
もしくはセラミオックス等からなる基板であり、水薄膜
磁気ヘツードの素子部を構成する部材は基板ｌ上に形成
されている。

基板１の上面には下部磁性層２が成膜されている。下部
磁性層２はパーマロイ、センダストなどの磁性体材料か
ら成り、蒸着あるいはスパッタリング法などにより基板
１の表面に成膜される。

下部磁性層２の上面には、不図示の第１の層間絶縁層を
介して多層コイルである導電部が形成されている。導電
部は銅あるいはアルミニウム等から２巻のコイル状に形
成された第１導電層３ａ、および同じ材料から１巻のコ
イル状に形成された第２導電層３ｂで構成されている。

第１導電層３ａと第２導電ｉはコイルコンタクト部４に
おいて電気的に結合しており、３巻のコイルを形成して
いる。

第１導電層３ａおよび第２導電層３ｂの構造を第６図（
第５図中の面Ｂにおける断面図）を用いて説明する。第
１導電層３ａは２巻のコイル状に形成されて諺つおり２
巻の間に巷間が生じる。第２導電層３ｂは、この第１導
電層３ａの巷間の凹部に形成されている。

第５図において、下部磁性層２の上面には不図示の絶縁
層を介して磁性体材料からなる上部磁性層７が成膜され
ている。上部磁性層７の一端は、前述の導電層３ａおよ
び３ｂにより構成されるコイルの中心部分に設けられた
コンタクトホール５を介して下部磁性層２に磁気的に結
合されている。また、上部磁性層の他端は−ｓ＝ｔ＝ｍ
下部磁性層２に非磁性体材料からなる磁気ギャップ層６
を介して対向している。

次にこのような構成の薄膜磁気ヘッドの製造工程につい
て説明する。

ここでは１枚の基板に複数の薄膜磁気ヘッドを同時に形
成し、形成後側々の薄膜磁気ヘッドに切断・分離する製
造工程について説明する。

まず基板１上にパーマロイあるいはセンダストからなる
軟磁性材をメツキ法、蒸着法、スパッタリング法などを
用いて堆積する。

次にフォトリソエツチング法により所定の形状に成形す
ることにより下部磁性層２を形成する。

また、下部磁性層２の上面に酸化ケイ素などで不図示の
第１の眉間絶縁層を成膜する。

その後アルミニウムあるいは銅からなる第１導電層３ａ
を堆積し、フォトリソエツチング法を用いて２巻のコイ
ル状に形成する。このとき第１導電層３ａの線幅をＷａ
とする。

第１導電層３ａ形成後、その上面に酸化ケイ素などから
なる第２の眉間絶縁層（不図示）を成膜する。その後コ
イルコンタクト部４を第１導電層３ａ上にフォ・トリソ
エッチング法を用いて形成する。

次に第２導電層３ｂを堆積しフォトリソエツチング法を
用いて形成する。このとき、第２導電層３ｂがコイルコ
ンタクト部４を介して第１導電層３ａと電気的に接続し
、第１導電層３ａと共にコイルを構成するように形成す
る。さらに第２導電層３ｂは、第１導電層３ａを２巻の
コイル状に形成したときにできる巷間の凹部に埋め込ま
れるように配置する。このとき第２導電層３ｂの線幅を
ｗｂとする。

この後第２導電層３ｂの上面に第３の層間絶縁層を堆積
し、磁気コンタクトホール５および磁気ギャップ６を形
成する。その後磁気コンタクトホール５を介して下部磁
性層２と磁気的に接合するように、また磁気ギャップ６
を挟んで下部磁性層２と対向するように上部磁性層７を
形成する。

最後に個々の薄膜磁気ヘッドに切断・分離し、磁気記録
媒体摺動面を研磨し成形する。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上述した従来技術による薄膜磁気ヘッド
には以下のような問題点がある。

コイルを形成する導電部の第２導電層は、第１導電層を
２巻のコイル状に形成したときにできる巷間の凹部に埋
め込まれるように配置形成されている。従って電気的特
性を考えて導電層の断面積な太き（するために第１導電
層の線幅Ｗａを大きくすると２巻の巷間が狭くなる。す
ると第２導電層の線幅ｗｂが狭（なる。導電層の厚さを
一定とした場合、導電層の線幅が狭くなると導電層の断
面積が小さ（なる。そのため記録時の通電による断線不
良および再生時のインピーダンスノイズの増加が起きる
ことがあった。

本発明の課題は、上述した問題点を解決することである
。

［課題を解決するための手段］ 以上の課題を解決するために本発明においては、基板と
、前記基板の表面に薄膜形成される下部磁性層と、前記
下部磁性層上に薄膜形成されコイル部を形成する導電層
と、前記下部磁性層と磁気的に結合する上部磁性層と、
前記各層間に形成される複数の層間絶縁層からなる薄膜
磁気ヘッドにおいて、前記導電層のコイル部を第１導電
層と第２導電層から構成するとともに、前記第２導電層
を第１導電層１巻の上部に２巻以上層間絶縁層を介して
重ねて形成し、さらに第１導電層と第２導電層を電気的
に接続した構成を採用した。

［作用］ 以上の構成によれば、第１導電層１巻の上部に眉間絶縁
層を介して第２導電層を２巻以上形成しているので、第
２導電層の線幅は第１導電層の線幅により規制を受ける
ことな（、導電層の断面積を十分に確保することができ
、且つ、巻数を増加させることができる。これによって
、記録再生効率の高い薄膜磁気ヘッドが得られる。

［実施例］ 以下、図面に示す実施例に基づき、本発明の詳細な説明
する。以下に示す実施例においては、２層３巻の薄膜磁
気ヘッドを例示し、従来装置と同一ないし相当する部分
には同一符号を用いその詳細な説明は省略する。

１１！呈１ 第１図に示す薄膜磁気ヘッドは、第１導電層１巻の上面
に第２導電層２巻を形成し、合計３巻のコイルを有する
薄膜磁気ヘッドである。図中符号ｌで示すものはフェラ
イト、ガラスもしくはセラミクス等からなる基板である
。基板１の上面には磁性体材料からなる下部磁性層２が
成膜されている。

下部磁性層２の上面には、不図示の第１の層間絶縁層を
介して多層コイルである導電部が形成されている。導電
部は銅あるいはアルミニウム等で形成され、１巻の第１
導電層３ａおよび２巻の第２導電層３ｂで構成されてい
る。第１導電層３ａと第２導電層３ｂはコイルコンタク
ト部４において電気的に結合しており、コイルを形成し
ている。

第１導電層３ａおよび第２導電層３ｂの構造を第２図（
第１図中の面Ａにおける断面図）を用いて説明する。第
１導電層３ａは１巻のコイル状の導電層であり、下部磁
性層２の表面に眉間絶縁層を介して成膜されている。第
２導電層３ｂは２巻のコイル状の導電層であり、第１導
電層３ａの上面に成膜されている。

また、第２導電層３ｂの線幅Ｗ２は第１導電層３ａの線
幅Ｗ１の１／２以下であり、第２導電層３ｂの２巻は第
１導電層３ａの線幅Ｗｌからはみ出すことなく成膜され
ている。　更に、第２導電層の膜厚は第１導電層の膜圧
に比し、厚く設定されでいる。

第１図において、下部磁性層２の上面には不図示の絶縁
層を介して磁性体材料からなる上部磁性層７が成膜され
ている。上部磁性層７の一端は、前述の導電層３ａおよ
び３ｂにより構成されるコイルの中心部分に設けられた
コンタクトホール５を介して下部磁性層２に結合されて
いる。また、上部磁性層の他端は卿情囃下部磁性層２に
非磁性体材料からなる磁気ギャップ層６を介して対向し
ている。

次にこのような構成の薄膜磁気ヘッドの製造工程につい
て説明する。

まず基板ｌ上にパーマロイあるいはセンダストからなる
軟磁性材をメツキ法、蒸着法、スパッタリング法などを
用いて堆積する。

次にフォトリソエツチング法により所定の形状に成形す
ることにより下部磁性層２を形成する。

また、下部磁性層２の上面に酸化ケイ素などで不図示の
第１の眉間絶縁層を成膜する。

その後アルミニウムあるいは銅からなる第１導電層３ａ
を堆積し、フォトリソエツチング法を用いて１巻のコイ
ル状に形成する。

第１導電層３ａ形成後、その上面に酸化ケイ素などから
なる第２層間絶縁層（不図示）を第１の導電層より厚（
成膜する。その後コイルコンタクト部４を第１導電層３
ａ上にフォトリソエツチング法を用いて形成する。

次に第２導電層３ｂを第２層間絶縁層の上部に堆積し、
フォトリソエツチング法を用いて形成する。このとき、
第２導電層３ｂがコイルコンタクト部４を介して第１導
電層３ａと電気的に接続し、第１導電層３ａと共にコイ
ルを構成するように形成する。

この後第２導電層３ｂの上面に第３の眉間絶縁層を堆積
し、磁気コンタクトホール５および磁気ギャップ６を形
成する。その後磁気コンタクトホール５を介して下部磁
性層２と磁気的に接合するように、また磁気ギャップ６
を挟んで下部磁性層２と対向するように上部磁性層７を
形成する。

最後に個々の薄膜磁気ヘッドに切断・分離し、磁気記録
媒体摺動面を研磨し成形する。

以上の実施例装置によれば、第１導電層１巻の上面に層
間絶縁層を介して第２導電層２巻を形成したため、第２
導電層の線幅は第１導電層の線幅に規制されない。した
がって、第１および第２導電層ともに断面積を十分確保
することができ、記録時におけるコイルの断線、および
再生時におけるインピーダンスノイズを低減できる。

また、第２の導電層の厚さを第１の導電層の厚さより厚
くとったため、狭幅の第２の導電層の断面積も充分確保
でき、高い記録再生効率の薄膜磁気ヘッドが得られる。

１２！亘１ 第３図に本発明の第２の実施例を示す。

第３図の薄膜磁気ヘッドでは、１巻の第１導電層３ａの
上面に３巻の第２導電層３ｂを形成し、合計４巻のコイ
ル形成している他は第１実施例の薄膜磁気ヘッドと同じ
である。

第３図の構成では、第１の実施例の効果に加え、コイル
の巻数の増加により、より高い記録再生効率を得ること
ができる。第２導電層によるコイルの巻数は、スペース
の許す限り増加させてよく、これによりさらに高い記録
再生効率を得ることができるのはいうまでもない。

１ＪＪｉ胴 第４図に本発明の第３の実施例を示す。

第４図では、２巻の第１導電層の上面に第１導電層３ａ
の１巻につき、その上にそれぞれ°２巻の。

第２導電層３ｂ形成し、合計６巻のコイルを形成してい
る。他の構成は第１の実施例の薄膜磁気ヘッドと同様で
ある。

このような構成においても第２実施例同様にコイルの巻
数の増加により高い記録再生効率を得ることができる。

また、本実施例の薄膜磁気ヘッドるいは３巻以上の第２
導電層を形成することによってより高い記録再生効率を
期待できる。

［発明の効果］ 以上から明らかなように、本発明によれば、基板と、前
記基板の表面に薄膜形成される下部磁性層と、前記下部
磁性層上に薄膜形成されコイル部を形成する導電層と、
前記下部磁性層と磁気的に結合する上部磁性層と、前記
各層間に形成される複数の眉間絶縁層からなる薄膜磁気
ヘッドにおいて、前記導電層のコイル部を第１導電層と
第２導電層から構成するとともに、前記第２導電層を第
１導電層１巻の上部に２巻以上層間絶縁層を介して重ね
て形成し、さらに第１導電層と第２導電層を電気的に接
続した構成を採用しているので、コイルを形成する導電
層の断−面積を十分に確保することができ、記録時にお
けるコイルの断線、および再生時におけるインピーダン
スノイズを低減できるとともに、従来と同一のスペース
内に容易にコイルの巻数を確保でき、高効率の記録再生
が可能となるなどの優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施した薄膜磁気ヘッドの斜視図、第
２図は第１図の薄膜磁気ヘッドの断面図、第３図は本発
明を実施した第２の実施例の薄膿磁気ヘッドの断面図、
第４図は本発明を実施した第３の実施例の薄膜磁気ヘッ
ドの断面図、第５図は従来の薄膜磁気ヘッドの斜視図、
第６図は第５図の薄膜磁気ヘッドの断面図である。 １・・・基板　　　　　　２・・・下部磁性層３ａ・・
・第１導電層　　３ｂ・・・第２導電層５・・・磁気コ
ンタクトホール ６・・・磁気ギャップ ７・・・上部磁性層 第４図 第６図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）基板と、前記基板の表面に薄膜形成される下部磁性
   層と、前記下部磁性層上に薄膜形成されコイル部を形成
   する導電層と、前記下部磁性層と磁気的に結合する上部
   磁性層と、前記各層間に形成される複数の層間絶縁層か
   らなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記導電層のコイル部
   を第１導電層と第２導電層から構成するとともに、前記
   第２導電層を第１導電層１巻の上部に２巻以上層間絶縁
   層を介して重ねて形成し、さらに第１導電層と第２導電
   層を電気的に接続したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド
   。 ２）前記第２の導電層の厚さを前記第１の導電層の厚さ
   より厚くすることを特徴とする請求項第１項記載の薄膜
   磁気ヘッド。