JPH02246253A - 集積回路装置 - Google Patents

集積回路装置

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JPH02246253A
JPH02246253A JP6606289A JP6606289A JPH02246253A JP H02246253 A JPH02246253 A JP H02246253A JP 6606289 A JP6606289 A JP 6606289A JP 6606289 A JP6606289 A JP 6606289A JP H02246253 A JPH02246253 A JP H02246253A
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JP
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metal plate
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board
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JP6606289A
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English (en)
Inventor
Hiroyasu Nakada
中田 裕康
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
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    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
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    • H01L2924/191Disposition
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    • H01L2924/19107Disposition of discrete passive components off-chip wires

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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は集積回路装置、特に回路基板の裏に金属板を付
け、またリードを半田付けして放熱効果を改善した表面
実装対応型ハイブリッド集積回路装置に関する。
(従来の技術〕 集積回路装置として、第3図(a)に示されるDI P
 (Dual In1ine Package、デュア
ル・インライン・パッケージ)型のものと同図ら)に示
すSIP(Single In1ine Packag
e、  シングル・インライン・パッケージ)とが知ら
れたものであり、第3図(a)において、31は膜基板
、32は被覆されていないペアチップ半導体、33はセ
ラミックキャップ、34はエポキシシール、35は外部
リード、同図(b)において、41は膜基板、42はモ
ールド半導体、43はフェノール外装、44は外部リー
ドを示す、第3図に示される集積回路装置はいずれもハ
イブリッドIC(Hybrid Integrated
 C1rcuiL混成集積回路、HYB−I Cと略称
される。)のためのパッケージであり、HYB−I C
とは、種々の素子機能をまとめたコンパクトな電子部品
である。第3図に示される装置においては、膜基板31
.41上にペアチップ32、モールド半導体42の他に
容量、抵抗などが配置されているものである。最近はこ
の種のパッケージの高密化を目指す傾向にあり、DIP
、SIP型の装置のより一層の高密化と小型化が要請さ
れている。
本出願人は、上記の要求に答えるために半導体集積回路
(IC)や混成(ハイブリッド)集積回路のパッケージ
でプリント基板の表面に実装する表面実装対応型(Su
rface Mount Technology)の集
積回路装置(SMT−HYB−I C装置とも呼称され
る。)を開発した。
第4図(a)の断面図と(ロ)の平面図を参照すると、
リードフレーム50の中央に配置した方形状の支持板5
1の上にセラミック製の回路基板(回路チップとも呼称
される。)52を搭載し、この回路基板52とその周囲
に配置したリード53とワイヤ55のワイヤボンディン
グにより接続し、しかる後に支持板51、回路基板52
、リード53内端とをエポキシ樹脂よりなるパッケージ
56によって封止し、かかるパッケージ56をハンダ5
7を用いてプリント板58に実装する。なお、図中54
は回路基板52に接着(ダイ付け)された半導体チップ
を示し、半導体チップ°54の図示しない電極はワイヤ
55aによって図示しない配線などに接続される。
従来、かかる回路基板52を形成゛するには、それを熱
板(ヒータ)上に配置して400°C程度の加熱処理を
なし、しかる後にワイヤボンディングをなす。なお、こ
の加熱処理は、回路基板52上に半導体チップ54をグ
イ付けするだめにな−される工程である。
〔発明゛が解決しようとする課題〕
従来のSMT−HYB−IC装置において′は、第4図
(a)に示されるように、回路基板52とリード53の
間をワイヤ55のワイヤボンディングによる接続によっ
てつないtいる0回・膜基板52に発生する熱は、基本
的にはり一層53を通ってプリント板5日に放出される
構成となっている。このようにリードを通してのみ放熱
する構成では、装置の動作温度のマージンがとれなくな
るので放熱効果が十分でなくその結果回路基板上の素子
(トランジスタなど)が熱をもつことになり、特性が安
定しない問題がある。
そこで本発明は、回路基板の発生する熱を効率良く発生
させ、安定した特性を示すSMT−HYB−IC装置を
提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題は、素子からなるハイブリッド集積回路が形成
された回路基板がモールド樹脂によって封止され、該ハ
イブリッド集積回路□はリードによってプリント板に接
続可能な集積回路装置において、該回路基板の素子の形
成されない裏側には金属板が接続され、該金属板の内方
の大部分はモールド樹脂によって覆われない状態にあり
、予備的なリードは一方端がワイヤによって回路基板に
接着され、他方端はプリント板に固着されうる構成とし
たことを特徴とする集積回路装置によって解決される。
(作用〕 すなわち本発明は、回路基板の裏側に回路基板に接して
金属板を取付け、この金属板から直接的に放熱すること
によって放熱効果を改゛善するものであり、さらには回
路基板に接続された予備的リードをプリント板に半田付
けすることによって実効放熱面積をさらに大にするもの
である。
〔実施例〕
以下、本発明を図示の実施例によって具体的に説明する
第1図(a)と(ハ)は本発明実施例の斜視図と断面図
で、斜視図においてモールド樹脂は省略しである。
図中、11は回路基板、12は回路基板11上に設けら
れた素子の1づである被覆されないチップ(ペアチップ
)、13は配線、14はリード、15は回路基板11と
リード14とを接続するワイヤ、16は回路基板11の
裏側に接着された金属板、18はプリント板である。
本発明実施例においては、回路基板11に従来例と同様
に、ペアチップ12のような集積回路が形成された素子
に加え、容量、抵抗などの素子が設けられてハイブリッ
ドICが形成されているが、図゛には簡略化のため素子
の1つとしてペアチップ12のみを示した。そして、こ
れらの素子は配線13によって接続されている。さらに
、回路基板11の裏側、すなわち前記した素子が設けら
れていない面上には金属板16が接着されている。金属
板16の材料には例えば伝熱性が良くコストの安い銅な
どを用い、接着は市販の接着剤を用いてなす。
次に、金属板16の取付けを第2図を参照して説明する
。再び第4図を参照すると、回路基板52はリードフレ
ーム60の支持板51上に接着された。本発明では、リ
ードフレーム20を第2図の平面図に示される如くに形
成した。この構造のリードフレーム20においては、従
来例のリードに加えてサポートパー22を設け、このサ
ポートパーの先端部を拡張した小さい方形のステージ2
3を、破線で示される支持板21の4隅の部分でそれよ
りも低い位置に設けた。なお第2図においては、図の簡
明化のためにリードは省略したが、リードは第4図中)
の従来例と同様にサポートパー22のそれぞれの間に第
4図(ロ)に示される如くに設ける。そして、回路基板
11の裏側に接着された金属板をステージ23に接着す
ることによって、回路基板11はステージ23上にのる
ことになる。さらに、回路基板11をモールド樹脂17
で封止するときには、第1図(ロ)にみられるように、
モールド樹脂は金属板16の周縁部のみに残し、金属板
16の内部の大部分はモールド樹脂で覆われないように
して、放熱効率を向上させる。
第1図に示されるハイブリッド集積回路装置においては
、通常の場合当該集積回路に接続されない複数のリード
が予備的に設けられる6本発明ではこれらの、予備的り
−¥ 14aをも放熱用に利用する。すなわち、二゛れ
らの予備的リード14aの一方端をワイヤ15のワイヤ
ボンディングによって回路基板に接続し、他方端は半田
19で半田付けして固着することによってプリント板1
8に接続すると、回路基板11の発生する熱は、ワイヤ
15→リード14→プリント板18の経路でプリント板
18に伝えられ、プリント板18から放熱する。第1図
(a)には、これらの予備的リード14aを回路基板1
1の図に見て右側に配置した状態が示される。
第1図の装置は、回路基板11上にペアチップ12およ
び図示しないその他の素子を配置し、前記した如くに回
路基板11の裏、側に金属板16を接着し、回路基板1
1と予備的なり一層14aとをワイヤ15を用いて接続
し、次いで第1図(ロ)に示される如くモールド工程に
よりモールド樹脂17、で回路基板11を樹脂封止し、
このようにして形成されたSMT−HYB−I C装置
は、従来例の場合と同様にプリント板18の表面に実装
される。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、SMT−HYB−IC装
置において、素子を搭載した回路基板の発生する熱が金
属板と予備的リードを用いて効率良く放散され、該装置
の特性維持に有効である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例の図で、その(a)は斜視図、そ
の(ロ)は断面図、 第2図は第1図の装置のリードフレームの平面図、 第3図は従来の集積回路装置の図で、その(a)はDI
P型品の一部切欠斜視図、その(b)はSIP型品の一
部切欠斜視図、 第4図は改良された従来例の図で、その(a)は断面図
、その(ロ)はリードフレームの平面図である。 図中、 11は回路基板、 12はペアチップ、 13は配線、 14はリード、 14aは予備的リード、 15はワイヤ、 16は金属板、 17はモールド樹脂、 18はプリント板、 19は半田、 20はリードフレーム、 21は支持板、 22はサポートパー 23はステージ を示す。 特許出願人   富士通株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  素子(12)からなるハイブリッド集積回路が形成さ
    れた回路基板(11)がモールド樹脂(17)によって
    封止され、該ハイブリッド集積回路はリード(14)に
    よってプリント板(18)に接続可能な集積回路装置に
    おいて、 該回路基板(11)の素子(12)の形成されない裏側
    には金属板(16)が接着され、 該金属板(16)の内方の大部分はモールド樹脂(17
    )によって覆われない状態にあり、 予備的なリード(14a)は一方端がワイヤ(15)に
    よって回路基板(11)に接続され、他方端はプリント
    板(18)に固着されうる構成としたことを特徴とする
    集積回路装置。
JP6606289A 1989-03-20 1989-03-20 集積回路装置 Pending JPH02246253A (ja)

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