JPH02243680A - テトラヒドロフランの製造方法 - Google Patents
テトラヒドロフランの製造方法Info
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- JPH02243680A JPH02243680A JP1053738A JP5373889A JPH02243680A JP H02243680 A JPH02243680 A JP H02243680A JP 1053738 A JP1053738 A JP 1053738A JP 5373889 A JP5373889 A JP 5373889A JP H02243680 A JPH02243680 A JP H02243680A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はテトラヒドロフランの製造方法に関し、さらに
詳しくは、無水マレイン酸および/または無水コハク酸
を、触媒の存在下に気相で接触水素化してテトラヒドロ
フランを製造する方法に関する。
詳しくは、無水マレイン酸および/または無水コハク酸
を、触媒の存在下に気相で接触水素化してテトラヒドロ
フランを製造する方法に関する。
従来の技術
テトラヒドロフランはポリテトラメチレングリコールな
どの原料およびポリ塩化ビニルやポリウレタンなどの溶
剤として有用な化合物である。従って、テトラヒドロフ
ランの安価でかつ効率のよい製造方法の開発が強く望ま
れている。
どの原料およびポリ塩化ビニルやポリウレタンなどの溶
剤として有用な化合物である。従って、テトラヒドロフ
ランの安価でかつ効率のよい製造方法の開発が強く望ま
れている。
従来公知である、無水マレイン酸および/または無水コ
ハク酸などの接触水素化によるテトラヒドロフランの製
造方法としては、以下のようなものが開示されている。
ハク酸などの接触水素化によるテトラヒドロフランの製
造方法としては、以下のようなものが開示されている。
(イ)無水マレイン酸および/または無水コハク酸およ
び/またはT−ブチロラクトンなどを銅系触媒および脱
水触媒の混合触媒の存在下に、気相で、水添、脱水する
ことによるテトラヒドロフランの製造方法(特公昭48
−30272号公報)。
び/またはT−ブチロラクトンなどを銅系触媒および脱
水触媒の混合触媒の存在下に、気相で、水添、脱水する
ことによるテトラヒドロフランの製造方法(特公昭48
−30272号公報)。
(ロ)無水マレイン酸および/または無水コハク酸など
をパラジウム、コバルトおよびニオブからなる固体触媒
の存在下に、液相で水素化することによるT−ブチロラ
クトンおよび/またはテトラヒドロフランの製造方法(
特開昭62−111975号公報)などである。
をパラジウム、コバルトおよびニオブからなる固体触媒
の存在下に、液相で水素化することによるT−ブチロラ
クトンおよび/またはテトラヒドロフランの製造方法(
特開昭62−111975号公報)などである。
また、本発明者らも、無水マレイン酸および/または無
水コハク酸を、銅、クロムおよびマンガンを含む固体触
媒の存在下に、気相にて接融水素化を行うことによるテ
トラヒドロフランおよび1.4−ブタンジオールの製造
方法を提案している(特願昭63−313760号)。
水コハク酸を、銅、クロムおよびマンガンを含む固体触
媒の存在下に、気相にて接融水素化を行うことによるテ
トラヒドロフランおよび1.4−ブタンジオールの製造
方法を提案している(特願昭63−313760号)。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記に開示されたテトラヒドロフランの製
造方法では、以下のような問題点を有していた。すなわ
ち、無水マレイン酸などを銅系触媒および脱水触媒の混
合触媒の存在下で、テトラヒドロフランを製造する方法
においては、3つの反応帯域に分けて水添、脱水を行う
必要があるため、反応装置が複雑となるとともに、プロ
セスが複雑化するという問題点があった。
造方法では、以下のような問題点を有していた。すなわ
ち、無水マレイン酸などを銅系触媒および脱水触媒の混
合触媒の存在下で、テトラヒドロフランを製造する方法
においては、3つの反応帯域に分けて水添、脱水を行う
必要があるため、反応装置が複雑となるとともに、プロ
セスが複雑化するという問題点があった。
また、パラジウム、コバルトおよびニオブからなる触媒
を用いる方法では、液相で水素化反応を行うため高圧を
必要とし設備費$よび運転費が高いうえに、T−ブチロ
ラクトンを多量に副生ずるという問題点があった。
を用いる方法では、液相で水素化反応を行うため高圧を
必要とし設備費$よび運転費が高いうえに、T−ブチロ
ラクトンを多量に副生ずるという問題点があった。
本発明は無水マレイン酸および/または無水コハク酸か
らテトラヒドロフランを製造するに際し、設備費および
運転費が高い、プロセスが複雑化するという従来技術に
伴う問題点を解決しようとするものであり、テトラヒド
ロフランの安価でかつ効率のよい製造方法を提供するこ
とを目的としている。
らテトラヒドロフランを製造するに際し、設備費および
運転費が高い、プロセスが複雑化するという従来技術に
伴う問題点を解決しようとするものであり、テトラヒド
ロフランの安価でかつ効率のよい製造方法を提供するこ
とを目的としている。
課題を解決するための手段
発明の要旨
本発明者らは、無水マレイン酸および/または無水コハ
ク酸の直接水添を低圧下で行って、テトラヒドロフラン
が製造できうればそのメリットは大きいと考え、その気
相水添法を種々検討した。
ク酸の直接水添を低圧下で行って、テトラヒドロフラン
が製造できうればそのメリットは大きいと考え、その気
相水添法を種々検討した。
また、従来、無水マレイン酸および/または無水コハク
酸の気相水添においてT−ブチロラクトンしか得られて
いないのは、いずれも低い水素/原料比かつ常圧近辺で
反応を行っているためであると考え、従来より高い水素
/原料比および気相を保てる範囲内の加圧下で水素化反
応を行ったところ高収率でテトラヒドロフランを製造し
うろことを見出し、本発明を完成するに至った。
酸の気相水添においてT−ブチロラクトンしか得られて
いないのは、いずれも低い水素/原料比かつ常圧近辺で
反応を行っているためであると考え、従来より高い水素
/原料比および気相を保てる範囲内の加圧下で水素化反
応を行ったところ高収率でテトラヒドロフランを製造し
うろことを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は無水マレイン酸および/または無水
コハク酸を接触水素化してテトラヒドロフランを製造す
る方法において、銅および硅素を含む固体触媒の存在下
に、気相で反応を行うことを特徴とするテトラヒドロフ
ランの製造方法に関するものである。
コハク酸を接触水素化してテトラヒドロフランを製造す
る方法において、銅および硅素を含む固体触媒の存在下
に、気相で反応を行うことを特徴とするテトラヒドロフ
ランの製造方法に関するものである。
触 媒
本発明で用いられる触媒は、通常は予め酸化銅−酸化硅
素触媒を還元したものである。このような触媒は、たと
えば硝酸銅などの銅化合物水溶液に、粉砕したシリカ、
シリカゲル、シリカゾルなどの酸化硅素を混合し、混合
液を加温攪拌下に炭酸ナトリウム水溶液を混合液が中性
になるまで滴下し、得られた固体を濾過により回収して
混練後、乾燥、焼成工程を経て成形機を用いて所定の形
状に成形することにより調製する。この調製法では酸化
銅−酸化硅素触媒が得られる。
素触媒を還元したものである。このような触媒は、たと
えば硝酸銅などの銅化合物水溶液に、粉砕したシリカ、
シリカゲル、シリカゾルなどの酸化硅素を混合し、混合
液を加温攪拌下に炭酸ナトリウム水溶液を混合液が中性
になるまで滴下し、得られた固体を濾過により回収して
混練後、乾燥、焼成工程を経て成形機を用いて所定の形
状に成形することにより調製する。この調製法では酸化
銅−酸化硅素触媒が得られる。
本発明の触媒の還元は、たとえば、2容量%の水素を含
む窒素ガスを触媒に対して、常温・常圧換算でのガス空
間速度(G、 H,S、 V、、以下、G、HoS、
V、は、すべて常温・常圧換算値で示す。)2400時
間−1程度で数十kg / cj Gの加圧下に170
℃にて1昼夜流通後、さらに水素濃度を徐々に上げ10
0容量%として、触媒床温度′200℃にて数時間流通
することにより処理を行う。
む窒素ガスを触媒に対して、常温・常圧換算でのガス空
間速度(G、 H,S、 V、、以下、G、HoS、
V、は、すべて常温・常圧換算値で示す。)2400時
間−1程度で数十kg / cj Gの加圧下に170
℃にて1昼夜流通後、さらに水素濃度を徐々に上げ10
0容量%として、触媒床温度′200℃にて数時間流通
することにより処理を行う。
溶 媒
本発明で用いられる溶媒は特に限定しないが、たとえば
、T−ブチロラクトン、テトラヒドロフラン、ジメチル
エーテル、ジエチルエーテル、1.4−ジオイサンなど
が用いられる。このうちT−ブチロラクトンは、無水マ
レイン酸および無水コハク酸の良溶媒であるとともに水
添生成物の一つであり、かつ1.4−ブタンジオールの
中間体と考えられるので特に好ましい。また溶媒は用い
なくともよい。
、T−ブチロラクトン、テトラヒドロフラン、ジメチル
エーテル、ジエチルエーテル、1.4−ジオイサンなど
が用いられる。このうちT−ブチロラクトンは、無水マ
レイン酸および無水コハク酸の良溶媒であるとともに水
添生成物の一つであり、かつ1.4−ブタンジオールの
中間体と考えられるので特に好ましい。また溶媒は用い
なくともよい。
接触条件
無水マレイン酸および/または無水コハク酸と水素ガス
との混合気体と触媒との接触は、従来から知られている
方法の中から適宜選択できる。たとえば、混合気体と接
触とを固定床方式で接触させる方法、移動床方式で接触
させる方法、流動床方式で接触させる方法などを採用す
ることができる。また場合によっては、混合気体と触媒
を回分方式で接触させることもできる。
との混合気体と触媒との接触は、従来から知られている
方法の中から適宜選択できる。たとえば、混合気体と接
触とを固定床方式で接触させる方法、移動床方式で接触
させる方法、流動床方式で接触させる方法などを採用す
ることができる。また場合によっては、混合気体と触媒
を回分方式で接触させることもできる。
無水マレイン酸および/または無水コハク酸と水素ガス
との混合気体と触媒との接触時間は、G、 H,S、
V、で1000〜100000時間−1、好ましくは1
500〜20000時間−1程度である。
との混合気体と触媒との接触時間は、G、 H,S、
V、で1000〜100000時間−1、好ましくは1
500〜20000時間−1程度である。
本発明における反応温度は170〜280℃程度であり
、反応圧力は10〜100 kg/cdG程度であり、
無水マレイン酸および/または無水コハク酸に対する水
素ガスのモル比は50〜1500程度である。反応温度
、反応圧力および水素ガス/原料1モル比は系を気相に
保ちうる範囲から適宜選択される。
、反応圧力は10〜100 kg/cdG程度であり、
無水マレイン酸および/または無水コハク酸に対する水
素ガスのモル比は50〜1500程度である。反応温度
、反応圧力および水素ガス/原料1モル比は系を気相に
保ちうる範囲から適宜選択される。
但し、水素ガス/原料モル比が50未満であると、反応
速度の低下みよび炭素状物質の生成による触媒劣化を引
起し易(、一方1500を超えると大量の水素をリサイ
クルしなければならないので経済的に不利となりいずれ
も好ましくない。
速度の低下みよび炭素状物質の生成による触媒劣化を引
起し易(、一方1500を超えると大量の水素をリサイ
クルしなければならないので経済的に不利となりいずれ
も好ましくない。
発明の効果
本発明の方法により、無水マレイン酸および/または無
水コハク酸からテトラヒドロフランを1段階反応にて高
収率で得ることができ、かつその製造プロセスを著しく
簡略化できつる。
水コハク酸からテトラヒドロフランを1段階反応にて高
収率で得ることができ、かつその製造プロセスを著しく
簡略化できつる。
さらに、液相水添技術と比較して、はるかに低圧下でテ
トラヒドロフランを製造することができるので、設備費
および運転費を低減できるという効果が得られる。
トラヒドロフランを製造することができるので、設備費
および運転費を低減できるという効果が得られる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
実施例1
銅、硅素を金属として、それぞれ50.6重量%、およ
び12.4重量%含有する市販の銅−硅素系酸化物触媒
(日量ガードラー■製商品名T336)15ccを固定
床反応器(15I1wφX600mm)に充填し、窒素
気流中で49kg/cjGに加圧するとともに170℃
に加熱した。その後、窒素気流中に水素を徐々に添加し
て、2容量%の水素を含む窒素ガスを40kg/cjG
。
び12.4重量%含有する市販の銅−硅素系酸化物触媒
(日量ガードラー■製商品名T336)15ccを固定
床反応器(15I1wφX600mm)に充填し、窒素
気流中で49kg/cjGに加圧するとともに170℃
に加熱した。その後、窒素気流中に水素を徐々に添加し
て、2容量%の水素を含む窒素ガスを40kg/cjG
。
170℃、G、HoS、V、 2400時間−’1.1
:で1晩流通した。さらに触媒床温度が200℃を超え
ないように注意しながら、水素濃度を徐々に上げ100
容量%の水素とし、40 kg/ cd G 、 20
0℃、G、H,S、V、 2400時間−1ニテ2時間
還元処理を行った。
:で1晩流通した。さらに触媒床温度が200℃を超え
ないように注意しながら、水素濃度を徐々に上げ100
容量%の水素とし、40 kg/ cd G 、 20
0℃、G、H,S、V、 2400時間−1ニテ2時間
還元処理を行った。
上記の固定床反応器を230℃に加熱した後、無水マレ
イン酸のT−ブチロラクトン溶液(無水マレイン酸/r
−フチロラクトン=1/1モル比)および水素を無水マ
レイン酸およびT−ブチロラクトンの和1モルに対し2
00モルの割合テ40 kg/cdG(7)加圧下G、
H,S、V、 9600時間−直の条件下で流通した。
イン酸のT−ブチロラクトン溶液(無水マレイン酸/r
−フチロラクトン=1/1モル比)および水素を無水マ
レイン酸およびT−ブチロラクトンの和1モルに対し2
00モルの割合テ40 kg/cdG(7)加圧下G、
H,S、V、 9600時間−直の条件下で流通した。
生成物はガスクロマトグラフィーにより分析し、生成物
の同定はGC−113によって行った。
の同定はGC−113によって行った。
その結果、無水マレイン酸の転化率は100モル%であ
り、供給した無水マレイン酸に対し、1.4−ブタンジ
オールが1.0モル%、テトラヒドロフランが92.8
モル%およびn−ブタノールが4.7モル%生成した。
り、供給した無水マレイン酸に対し、1.4−ブタンジ
オールが1.0モル%、テトラヒドロフランが92.8
モル%およびn−ブタノールが4.7モル%生成した。
その他にn−プロパツールが微量生成した。尚、無水コ
ハク酸は生成物中より検出されなかった。
ハク酸は生成物中より検出されなかった。
実施例2
触媒の還元処理時の圧力および反応圧力を15kg/c
jG、反応温度を210℃、無水マレイン酸とT−ブチ
ロラクトンのモル比を1/3、G、 H,S、V、を3
200時間−1とした以外は、実施例1と同様にして触
媒の還元処理および反応を行った。
jG、反応温度を210℃、無水マレイン酸とT−ブチ
ロラクトンのモル比を1/3、G、 H,S、V、を3
200時間−1とした以外は、実施例1と同様にして触
媒の還元処理および反応を行った。
その結果、無水マレイン酸の転化率は10(1モル%で
あり、供給した無水マレイン酸に対し、1.4−ブタン
ジオールが1.1モル%、テトラヒドロフランが91.
9モル%およびn−ブタノールが5.3モル%生成した
。尚、無水コハク酸は生成物中より検出されなかった。
あり、供給した無水マレイン酸に対し、1.4−ブタン
ジオールが1.1モル%、テトラヒドロフランが91.
9モル%およびn−ブタノールが5.3モル%生成した
。尚、無水コハク酸は生成物中より検出されなかった。
実施例3
硝酸銅(Cu(NO5)−・3820) 48.32
gを水600rnlに溶解し、この溶液にコロイダルシ
リカ(富士デビソン■製商品名シリカゲルD Type
40 mesh upを乳鉢ですりつぶしたもの)35
gを加えた。この混合液を70〜75℃に保ちながら攪
拌下に1モル/1の濃度の炭酸ナトリウム水溶液を、溶
液のplが7.1になるまで滴下し、その後約80℃に
保って90分間攪拌を続けた。放冷後、得られた固体を
濾別し、60℃の温水的101を用いて通水洗浄した。
gを水600rnlに溶解し、この溶液にコロイダルシ
リカ(富士デビソン■製商品名シリカゲルD Type
40 mesh upを乳鉢ですりつぶしたもの)35
gを加えた。この混合液を70〜75℃に保ちながら攪
拌下に1モル/1の濃度の炭酸ナトリウム水溶液を、溶
液のplが7.1になるまで滴下し、その後約80℃に
保って90分間攪拌を続けた。放冷後、得られた固体を
濾別し、60℃の温水的101を用いて通水洗浄した。
洗浄後の固体をよく混練後、120℃にて空気を送気し
ながら12時間乾燥し、さらに400℃にて3時間焼成
して46gの固体を得た。この固体を成形、粉砕後6〜
lOメッシコをふるいとり、酸化銅および酸化硅素から
なる固体触媒を得た。
ながら12時間乾燥し、さらに400℃にて3時間焼成
して46gの固体を得た。この固体を成形、粉砕後6〜
lOメッシコをふるいとり、酸化銅および酸化硅素から
なる固体触媒を得た。
得られた触媒の銅、硅素の金属としての含有量はそれぞ
れ23.6重量%および29.4重量%であった。
れ23.6重量%および29.4重量%であった。
上記で調製した触媒15ccを用いて、反応温度を25
0℃、G、 HoS、 V、を2800時間−1とした
こと以外は、実施例2と同様にして触媒の還元処理およ
び反応を行った。
0℃、G、 HoS、 V、を2800時間−1とした
こと以外は、実施例2と同様にして触媒の還元処理およ
び反応を行った。
その結果、無水マレイン酸の転化率は100モル%であ
り、供給した無水マレイン酸に対し、1.4−ブタンジ
オールが2.1モル%、テトラヒドロフランが70.6
モル%およびn−ブタノールが6.5モル%生成した。
り、供給した無水マレイン酸に対し、1.4−ブタンジ
オールが2.1モル%、テトラヒドロフランが70.6
モル%およびn−ブタノールが6.5モル%生成した。
尚、無水コハク酸は生成物中より検出されなかった。
実施例4
無水マレイン酸を無水コハク酸に代えた以外は、実施例
2と同様にして触媒の還元処理および反応を行ったとこ
ろ、実施例2とほぼ同様の反応生成物が得られた。
2と同様にして触媒の還元処理および反応を行ったとこ
ろ、実施例2とほぼ同様の反応生成物が得られた。
実施例5
実施例1で使用した還元触媒を用い、無水マレイン酸の
1.4−ジオキサン溶液(無水マレイン酸/l、4−ジ
オキサン=1/3モル比)右よび水素を無水マレイン酸
1モルに対し800モルの割合で、210℃、15kg
/cdGの加圧下、G、HoS、V、 3500時間″
′の条件下で流通した。
1.4−ジオキサン溶液(無水マレイン酸/l、4−ジ
オキサン=1/3モル比)右よび水素を無水マレイン酸
1モルに対し800モルの割合で、210℃、15kg
/cdGの加圧下、G、HoS、V、 3500時間″
′の条件下で流通した。
その結果、無水マレイン酸の転化率は100モル%であ
り、供給した無水マレイン酸に対してn−ブタノールが
4゜4モル%およびテトラヒドロフランが92.3モル
%生成した。尚、無水コハク酸、1,4−ブタンジオー
ルおよびT−プチロラクトンは生成物中より検出されな
かった。
り、供給した無水マレイン酸に対してn−ブタノールが
4゜4モル%およびテトラヒドロフランが92.3モル
%生成した。尚、無水コハク酸、1,4−ブタンジオー
ルおよびT−プチロラクトンは生成物中より検出されな
かった。
実施例6
実施例3で使用した還元触媒を用い、溶媒を使用せずに
、無水マレイン酸と水素の混合気体(1:600モル比
)を220℃、60kg/cafG(7)加圧下、G、
H,S、V、 4800時間−1の条件下で流通した。
、無水マレイン酸と水素の混合気体(1:600モル比
)を220℃、60kg/cafG(7)加圧下、G、
H,S、V、 4800時間−1の条件下で流通した。
その結果、無水マレイン酸の転化率は100モル%であ
り、供給した無水マレイン酸に対し、1.4−ブタンジ
オールが1.2モル%およびテトラヒドロフランが94
.3モル%生成した。尚、無水コハク酸は生成物中より
検出されなかった。
り、供給した無水マレイン酸に対し、1.4−ブタンジ
オールが1.2モル%およびテトラヒドロフランが94
.3モル%生成した。尚、無水コハク酸は生成物中より
検出されなかった。
実施例7
無水マレイン酸のT−ブチロラクトン溶液の代わりに、
無水マレイン酸と無水コハク酸をTブチロラクトンに溶
解した溶液(無水マレイン酸/無水コハク酸/T−ブチ
ロラクトン−3/1/4モル比)を用い、水素を無水マ
レイン酸、無水コハク酸およびT−ブチロラクトンの和
1モルに対し200モルの割合で流通した以外は実施例
1と同様にして触媒の還元処理および反応を行った。
無水マレイン酸と無水コハク酸をTブチロラクトンに溶
解した溶液(無水マレイン酸/無水コハク酸/T−ブチ
ロラクトン−3/1/4モル比)を用い、水素を無水マ
レイン酸、無水コハク酸およびT−ブチロラクトンの和
1モルに対し200モルの割合で流通した以外は実施例
1と同様にして触媒の還元処理および反応を行った。
その結果、無水マレイン酸の転化率は100モル%であ
り、供給した無水マレイン酸と無水コハク酸の和に対し
て、l、4−ブタンジオールが0.5モル%、テトラヒ
ドロフランが93.5モル%およびn−ブタノールが4
.0モル%生成した。
り、供給した無水マレイン酸と無水コハク酸の和に対し
て、l、4−ブタンジオールが0.5モル%、テトラヒ
ドロフランが93.5モル%およびn−ブタノールが4
.0モル%生成した。
Claims (1)
- (1)銅および硅素を含む固体触媒の存在下で、無水マ
レイン酸および/または無水コハク酸を、気相で接触水
素化することを特徴とするテトラヒドロフランの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1053738A JP2719953B2 (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | テトラヒドロフランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1053738A JP2719953B2 (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | テトラヒドロフランの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02243680A true JPH02243680A (ja) | 1990-09-27 |
JP2719953B2 JP2719953B2 (ja) | 1998-02-25 |
Family
ID=12951166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1053738A Expired - Lifetime JP2719953B2 (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | テトラヒドロフランの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2719953B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005530755A (ja) * | 2002-04-30 | 2005-10-13 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | γ−ブチロラクトンの製造方法 |
JP2011147935A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-08-04 | Tosoh Corp | 水素化触媒とその製造方法、およびその用途 |
-
1989
- 1989-03-08 JP JP1053738A patent/JP2719953B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005530755A (ja) * | 2002-04-30 | 2005-10-13 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | γ−ブチロラクトンの製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2719953B2 (ja) | 1998-02-25 |
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