JPH02229826A - ブロック−グラフト共重合体組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
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Landscapes
- Secondary Cells (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Primary Cells (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は高分子固体電解質等の機能性高分子材料として
有用なブロツクーグラフト共重合体組成物に関する. (従来の技術) 最近、金属に匹敵する電子伝導性を持った有機導電体が
見出され、既に一部では具体的な利用も検討され始めて
いる。
有用なブロツクーグラフト共重合体組成物に関する. (従来の技術) 最近、金属に匹敵する電子伝導性を持った有機導電体が
見出され、既に一部では具体的な利用も検討され始めて
いる。
しかし、イオン伝導体については無機結晶、ガラス、セ
ラミックスなどを中心として展開が進んでいるものの、
有機の高分子固体については未だ実用化されるに至って
いない。高分子系のものは無機のイオン伝導体に比べて
,i)比重が軽い、ii )成形が容易である、iii
)柔軟で薄いフィルムが容易に得られる、iv)室温で
比較的高いイオン伝導性を備えている等の特徴を備えて
いる。
ラミックスなどを中心として展開が進んでいるものの、
有機の高分子固体については未だ実用化されるに至って
いない。高分子系のものは無機のイオン伝導体に比べて
,i)比重が軽い、ii )成形が容易である、iii
)柔軟で薄いフィルムが容易に得られる、iv)室温で
比較的高いイオン伝導性を備えている等の特徴を備えて
いる。
一方、高分子電解質を含めた一般的な固体電解質として
の要求特性は、i)成膜性、ii)高イオン伝導性、i
ii )イオン輪率、iv)低含水率等の制御であり、
とりわけii)が重要視されている。
の要求特性は、i)成膜性、ii)高イオン伝導性、i
ii )イオン輪率、iv)低含水率等の制御であり、
とりわけii)が重要視されている。
現在研究が進められている高分子系のものはポリエチレ
ンオキサイドを備えたマトリックス材料が主流を占めて
いる。
ンオキサイドを備えたマトリックス材料が主流を占めて
いる。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、ホモポリエチレンオキサイドは重合度20未満
では凝集力が弱いため成膜できず,20以上では結晶化
が始まって、固体電解質としての性能が低下する。した
がって現在ある高分子材料では固体電解質としての性能
を高めることができないという制約があった。
では凝集力が弱いため成膜できず,20以上では結晶化
が始まって、固体電解質としての性能が低下する。した
がって現在ある高分子材料では固体電解質としての性能
を高めることができないという制約があった。
本発明の目的はこの課題を解決した新たな高機能性の高
分子材料を提供することにある。
分子材料を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明による機能性高分子材料は、一般式(!)(ここ
に、R1は水素原子、メチル基,またはエチル基、R2
は水素原子またはメチル基、R3はアルキル基,アリー
ル基、アシル基,またはシリル基、nは1〜45の整数
であり,式中のp の数平均分子旦が45以上2,000未満である)で表
される繰返し単位からなる、少なくとも1種の重合体の
ブロック鎖Aと, 一般式(■) M (ここに R4は水素原子、メチル基,またはエチル基
、Mは式−CH=CH,、 −C(CH,)=CH,.−COOCH,、または−C
OOC2H,で表される基,フェニル基,あるいは置換
フェニル基である) で表される繰返し単位からなる,少なくとも1種の重合
体のブロック鎖Bとから構成されるブロックーグラフト
共重合体に、無機イオン塩を複合させた組成物である. ここで用いられるブロックーグラフト共重合体は、それ
ぞれ一般式(I)および(■)で表される同種または異
種の繰返しm位からなる、少なくとも1種の重合体のブ
ロック鎖A.Bが、例えばA113 ’、B”A1 B
’A”f3l B”A’B” B1A.”B”A L
+3 ’ というように、任意に配列されてなるもので
ある。
に、R1は水素原子、メチル基,またはエチル基、R2
は水素原子またはメチル基、R3はアルキル基,アリー
ル基、アシル基,またはシリル基、nは1〜45の整数
であり,式中のp の数平均分子旦が45以上2,000未満である)で表
される繰返し単位からなる、少なくとも1種の重合体の
ブロック鎖Aと, 一般式(■) M (ここに R4は水素原子、メチル基,またはエチル基
、Mは式−CH=CH,、 −C(CH,)=CH,.−COOCH,、または−C
OOC2H,で表される基,フェニル基,あるいは置換
フェニル基である) で表される繰返し単位からなる,少なくとも1種の重合
体のブロック鎖Bとから構成されるブロックーグラフト
共重合体に、無機イオン塩を複合させた組成物である. ここで用いられるブロックーグラフト共重合体は、それ
ぞれ一般式(I)および(■)で表される同種または異
種の繰返しm位からなる、少なくとも1種の重合体のブ
ロック鎖A.Bが、例えばA113 ’、B”A1 B
’A”f3l B”A’B” B1A.”B”A L
+3 ’ というように、任意に配列されてなるもので
ある。
重合体のブロック鎖八の重合度は10以上、同じくBの
重合度は300以上であることが好ましく,またこの両
ブロック鎖A.Bの成分比は1:30〜30:1である
ことが好ましい.これは1:30以下ではグラフト成分
が少なすぎて高分子電解質としての機能を保つことが難
しくなり、また30:1以上ではブロック鎖の幹分子と
しての機械的強度が保持しにくくなるからである。
重合度は300以上であることが好ましく,またこの両
ブロック鎖A.Bの成分比は1:30〜30:1である
ことが好ましい.これは1:30以下ではグラフト成分
が少なすぎて高分子電解質としての機能を保つことが難
しくなり、また30:1以上ではブロック鎖の幹分子と
しての機械的強度が保持しにくくなるからである。
本発明によるブロックーグラフト共重合体組成物は,上
記ブロックーグラフト共重合体に無機イオン塩を混合す
ることにより複合させたものである。
記ブロックーグラフト共重合体に無機イオン塩を混合す
ることにより複合させたものである。
ここに使用される無機イオン塩は、LL. Na、K.
Cs,Ag.Cu、およびMgの内の少なくとも1種の
元素を含むもので,具体的にはLiCIOいLiI.L
iSCN%LiBF..LiAsF..LiC−F,
S O3. LiP F.、NaI.NaSCN.Na
Br、NaPFいKI.KSCN.KPF,.KAsF
,,CsS C N. CsP Fs、AgNO.,C
uC..Mg−(Cl04)Z、R b C u. I
.,7 5 C 13.2 sなどが挙げられ、これ
らはその1種または2種以上の組合せで使用される。ま
た、これのブロックーグラフト共重合体に対する割合は
この共重合体のアルキレンオキサイドユニットに対して
0.05〜80モル%,好ましくは0.1〜50モル%
が適当である。
Cs,Ag.Cu、およびMgの内の少なくとも1種の
元素を含むもので,具体的にはLiCIOいLiI.L
iSCN%LiBF..LiAsF..LiC−F,
S O3. LiP F.、NaI.NaSCN.Na
Br、NaPFいKI.KSCN.KPF,.KAsF
,,CsS C N. CsP Fs、AgNO.,C
uC..Mg−(Cl04)Z、R b C u. I
.,7 5 C 13.2 sなどが挙げられ、これ
らはその1種または2種以上の組合せで使用される。ま
た、これのブロックーグラフト共重合体に対する割合は
この共重合体のアルキレンオキサイドユニットに対して
0.05〜80モル%,好ましくは0.1〜50モル%
が適当である。
このブロックーグラフト共重合体は、例えば一般式(I
II) (式中、R1は前記に同じ)で表される繰返し単位から
なる少なくとも1種の重合体のブロック鎖Cと、前記一
般式(■)で表される繰返し単位からなる少なくとも1
種の重合体のブロック鎖Bとから楕成されている、幹分
子鎖となるブロック共重合体Tを合成し、次にこのブロ
ック共重合体が持つ側鎖のヒドロキシル基に,一般式R
M e (ここにRはt−ブチルエーテル、ジフェニ
ルエチレン、ベンジル,ナフタレン、またはクミル基.
Meはナトリウム、カリウム、またはセシウム原子であ
る)で表される有機アルカリ金属を反応させてカルバニ
オン化し、これに一般式DV) り (ここに、R2は前記に同じ) で表されるアルキレンオキサイドを加えてグラフト鎖を
成長させることによって製造することができる。
II) (式中、R1は前記に同じ)で表される繰返し単位から
なる少なくとも1種の重合体のブロック鎖Cと、前記一
般式(■)で表される繰返し単位からなる少なくとも1
種の重合体のブロック鎖Bとから楕成されている、幹分
子鎖となるブロック共重合体Tを合成し、次にこのブロ
ック共重合体が持つ側鎖のヒドロキシル基に,一般式R
M e (ここにRはt−ブチルエーテル、ジフェニ
ルエチレン、ベンジル,ナフタレン、またはクミル基.
Meはナトリウム、カリウム、またはセシウム原子であ
る)で表される有機アルカリ金属を反応させてカルバニ
オン化し、これに一般式DV) り (ここに、R2は前記に同じ) で表されるアルキレンオキサイドを加えてグラフト鎖を
成長させることによって製造することができる。
この際、出発原料として用いられるブロック鎖C.Bか
らなる幹分子鎖としてのブロック共重合体Tは、まず4
−ヒドロキシスチレン、4−(I−メチルエテニル)フ
ェノールなどで例示される、一般式(In)で示される
残基を含有する七ノマー化合物について、そのフェノー
ル性水酸基をトリアルキル基やドリアルキルシリル基で
保護しておき、これと、スチレン、α−メチルスチレン
等のビニル化合物;ブタジエン、イソプレン等のジエン
化合物;メチルアクリレート、エチルアクリレート,メ
チルメタクリレート、エチルメタクリレート等のアクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル;等で例示される
モノマー化合物より合成された,一般式(I1)で表さ
れる繰返し単位を有するプロック重合体を,リビングア
ニオン重合法により重合し、次に酸などで加水分解する
ことによって得ることができる。
らなる幹分子鎖としてのブロック共重合体Tは、まず4
−ヒドロキシスチレン、4−(I−メチルエテニル)フ
ェノールなどで例示される、一般式(In)で示される
残基を含有する七ノマー化合物について、そのフェノー
ル性水酸基をトリアルキル基やドリアルキルシリル基で
保護しておき、これと、スチレン、α−メチルスチレン
等のビニル化合物;ブタジエン、イソプレン等のジエン
化合物;メチルアクリレート、エチルアクリレート,メ
チルメタクリレート、エチルメタクリレート等のアクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル;等で例示される
モノマー化合物より合成された,一般式(I1)で表さ
れる繰返し単位を有するプロック重合体を,リビングア
ニオン重合法により重合し、次に酸などで加水分解する
ことによって得ることができる。
この重合に用いられる開始剤には、n−ブチルリチウム
、sec−ブチルリチウム、tart−ブチルリチウム
、2−メチルブチルリチウム等の有機金属化合物系のも
のが例示されるが、これらの内では特にn−ブチルリチ
ウムが好ましい.この使用量は仕込み化合物量と共に、
得られる重合体の分f− itを決定するので,所望の
分子量に応じて選択される。得られたブロック共重合体
Tを構成するブロック鎖Cの重合度は10以上あるもの
が好ましいので、通常は反応溶液中で10−”10−’
mol/ Qのオーダーの濃度になるようにする。
、sec−ブチルリチウム、tart−ブチルリチウム
、2−メチルブチルリチウム等の有機金属化合物系のも
のが例示されるが、これらの内では特にn−ブチルリチ
ウムが好ましい.この使用量は仕込み化合物量と共に、
得られる重合体の分f− itを決定するので,所望の
分子量に応じて選択される。得られたブロック共重合体
Tを構成するブロック鎖Cの重合度は10以上あるもの
が好ましいので、通常は反応溶液中で10−”10−’
mol/ Qのオーダーの濃度になるようにする。
重合は一般に有機溶媒中で行なわれるが、これに使用で
きる有機溶媒の例としては、ベンゼン,トルエン、ri
−ヘキサン,テトラヒド口フラン等のア二オン重合用の
溶媒が好ましい。重合に供するモノマー化合物の反応溶
液中の濃度は1〜10重量%が適切であり、重合反応は
圧力10−’Torr以下の高真空下,または精製して
水分等の反応に対する有害物質を除去したアルゴン、窒
素等の不活性ガス雰囲気中で、室温において攪拌下に行
なうのが好ましい。
きる有機溶媒の例としては、ベンゼン,トルエン、ri
−ヘキサン,テトラヒド口フラン等のア二オン重合用の
溶媒が好ましい。重合に供するモノマー化合物の反応溶
液中の濃度は1〜10重量%が適切であり、重合反応は
圧力10−’Torr以下の高真空下,または精製して
水分等の反応に対する有害物質を除去したアルゴン、窒
素等の不活性ガス雰囲気中で、室温において攪拌下に行
なうのが好ましい。
保護基の脱離反応はジオキサン,アセトン,メチルエチ
ルケトン、アセトニトリル等の溶媒中で加熱下、塩酸ま
たはよう化水素酸等の酸を滴下することによって容易に
行なうことができる。
ルケトン、アセトニトリル等の溶媒中で加熱下、塩酸ま
たはよう化水素酸等の酸を滴下することによって容易に
行なうことができる。
このようにして得られたブロック共重合体Tのヒドロキ
シル基のカルバニオン化は,これを濃度1〜30重量%
、好ましくは1〜10重量%のテトラヒド口フラン等の
ア二オン重合用溶媒に溶解し、これに有機アルカリ金属
をテトラヒド口フラン等の適当な溶媒に溶かして加え、
0〜25℃で30分〜4時間攪拌することにより行われ
る. この反応に用いられる有機アルカリ金属としては、例え
ばt−ブトキシカリウム、ナフタレンカリウム,ジフェ
ニルエチレンカリウム,ベンジノレカリウム、クミノレ
カリウム、ナフタレンナトリウム、クミルセシウム等が
挙げられるが、これらの内ではとくにt−ブトキシカリ
ウムが好ましい。
シル基のカルバニオン化は,これを濃度1〜30重量%
、好ましくは1〜10重量%のテトラヒド口フラン等の
ア二オン重合用溶媒に溶解し、これに有機アルカリ金属
をテトラヒド口フラン等の適当な溶媒に溶かして加え、
0〜25℃で30分〜4時間攪拌することにより行われ
る. この反応に用いられる有機アルカリ金属としては、例え
ばt−ブトキシカリウム、ナフタレンカリウム,ジフェ
ニルエチレンカリウム,ベンジノレカリウム、クミノレ
カリウム、ナフタレンナトリウム、クミルセシウム等が
挙げられるが、これらの内ではとくにt−ブトキシカリ
ウムが好ましい。
この反応の確認は、生成物をトリメチルシリルクロライ
ドと反応させた後,メタノール中で沈殿、精製後、乾燥
して単雛して得られた試料を、I H −N M Rに
よってヒトロキシル基の消滅,トリメチルシリル基の増
加量を測定することにより行うことができ,有機アルカ
リ金属のヒドロキシル基への反応を定量的に把握できる
。またGPCによってブロック鎖が架橋や分解反応を受
けていないことも確認できる。
ドと反応させた後,メタノール中で沈殿、精製後、乾燥
して単雛して得られた試料を、I H −N M Rに
よってヒトロキシル基の消滅,トリメチルシリル基の増
加量を測定することにより行うことができ,有機アルカ
リ金属のヒドロキシル基への反応を定量的に把握できる
。またGPCによってブロック鎖が架橋や分解反応を受
けていないことも確認できる。
カルバニオン化したブロック共重合体Tは、次に一般式
(TV)で示されるアルキレンオキサイド、例えばエチ
レンオキサイド,プロピレンオキサイドなどを蒸気状あ
るいは液状で加え、量にもよるが0〜80℃で1〜48
時間攪拌すると、ブロックーグラフト共重合体にするこ
とができる。
(TV)で示されるアルキレンオキサイド、例えばエチ
レンオキサイド,プロピレンオキサイドなどを蒸気状あ
るいは液状で加え、量にもよるが0〜80℃で1〜48
時間攪拌すると、ブロックーグラフト共重合体にするこ
とができる。
アルキレンオキサイドを加えた重合溶液はn 一ヘキサ
ン中に注ぐと沈殿し、それをろ過して乾燥すると鵠離で
きる。キャラクタリゼーションは膜浸透圧計で数平均分
子量を測定し、赤外吸収スペクトル、1H − N M
Rで構造や組成を決定し,その結果からグラフト鎖の
長さ、数を決定できる.またGPCで目的物が単離でき
ているか否かの判断と分子量分布を推甜することができ
る。
ン中に注ぐと沈殿し、それをろ過して乾燥すると鵠離で
きる。キャラクタリゼーションは膜浸透圧計で数平均分
子量を測定し、赤外吸収スペクトル、1H − N M
Rで構造や組成を決定し,その結果からグラフト鎖の
長さ、数を決定できる.またGPCで目的物が単離でき
ているか否かの判断と分子量分布を推甜することができ
る。
この幹分子鎖となるブロック共重合体Tの重合およびこ
れの枝分子鎖成長のための反応は通常有機溶媒中で行わ
れるが,これに使用できる有機溶媒の例としては、テト
ラヒド口フラン、ジオキサン、テトラヒドロピラン、ベ
ンゼン等の、アニオン重合または開環重合用の溶媒が好
ましい.重合の停止に用いられる化合物には、例えば酢
酸等の酸類;メチルブロマイド,ペンジルクロライド等
のハロゲン化物;トリメチルシリルクロライド、t−ブ
チルジメチルシリルクロライド等のシリル化合物;等が
挙げられる。
れの枝分子鎖成長のための反応は通常有機溶媒中で行わ
れるが,これに使用できる有機溶媒の例としては、テト
ラヒド口フラン、ジオキサン、テトラヒドロピラン、ベ
ンゼン等の、アニオン重合または開環重合用の溶媒が好
ましい.重合の停止に用いられる化合物には、例えば酢
酸等の酸類;メチルブロマイド,ペンジルクロライド等
のハロゲン化物;トリメチルシリルクロライド、t−ブ
チルジメチルシリルクロライド等のシリル化合物;等が
挙げられる。
グラフト鎖の長さの制御は、ブロックーグラフト共重合
体に含まれるブロック鎖Cのモル数と、カルバニオン化
するときの有機アルカリ金属の量と、アルキレンオキサ
イドの量とで決定される.すなわち有機アルカリ金属の
量はブロック鎖Cのモル数を超えてはならず,またグラ
フト鎖の長さは で表される。
体に含まれるブロック鎖Cのモル数と、カルバニオン化
するときの有機アルカリ金属の量と、アルキレンオキサ
イドの量とで決定される.すなわち有機アルカリ金属の
量はブロック鎖Cのモル数を超えてはならず,またグラ
フト鎖の長さは で表される。
例えば、グラフト鎖の長さが数平均分子量で2,000
のブロックーグラフト共重合体を製造するには,ブロッ
ク鎖Cを7XlO−’モル含むブロックーグラフト共重
合体に、有機アルカリ金属を5×10″3モル加えてカ
ルバニオン化した後、アルキレンオキサイドLogを加
えればよい。また数平均分子量が45のブロックーグラ
フト共重合体を製造するには,上記の各成分をすへて等
モルにすればよい。さらに数平均分子量が45〜2,0
00のものでは,その中間のモル数を任意に選択するこ
とにより達成される。
のブロックーグラフト共重合体を製造するには,ブロッ
ク鎖Cを7XlO−’モル含むブロックーグラフト共重
合体に、有機アルカリ金属を5×10″3モル加えてカ
ルバニオン化した後、アルキレンオキサイドLogを加
えればよい。また数平均分子量が45のブロックーグラ
フト共重合体を製造するには,上記の各成分をすへて等
モルにすればよい。さらに数平均分子量が45〜2,0
00のものでは,その中間のモル数を任意に選択するこ
とにより達成される。
このようにして得られたブロックーグラフト共重合体は
,次に無機イオン塩を添加して本発明の組成物とするの
であるが、その方法には特に制限はなく,例えばブロッ
クーグラフト共重合体に無機イオン塩を必要に応じメチ
ルエチルケトンなどの溶媒に溶かして均一に混合する方
法、ブロックーグラフト共重合体に無機イオン塩を添加
して常温または加熱下に機械的に混練する方法、無機イ
オン塩を溶解したメタノールなどの溶媒に,ブロックー
グラフト共重合体の膜を含浸して膜を膨潤させ、これに
無機イオン塩を均一に複合させる方法など、任意に選択
することができる。
,次に無機イオン塩を添加して本発明の組成物とするの
であるが、その方法には特に制限はなく,例えばブロッ
クーグラフト共重合体に無機イオン塩を必要に応じメチ
ルエチルケトンなどの溶媒に溶かして均一に混合する方
法、ブロックーグラフト共重合体に無機イオン塩を添加
して常温または加熱下に機械的に混練する方法、無機イ
オン塩を溶解したメタノールなどの溶媒に,ブロックー
グラフト共重合体の膜を含浸して膜を膨潤させ、これに
無機イオン塩を均一に複合させる方法など、任意に選択
することができる。
(実施例)
以下、本発明の具体的実施態様を実施例および比較例に
基づいてさらに詳細に説明する。なお、例中のブロック
共重合体は各成分をr− b−]でつないで、例えばボ
リスチレン、ポリーp−ヒドロキシスチレン、ポリスチ
レンの三成分三元ブロック共重合体」を,[ボリ(スチ
レンーb−p−ヒドロキシスチレンーし−スチレン)」
と表記する。
基づいてさらに詳細に説明する。なお、例中のブロック
共重合体は各成分をr− b−]でつないで、例えばボ
リスチレン、ポリーp−ヒドロキシスチレン、ポリスチ
レンの三成分三元ブロック共重合体」を,[ボリ(スチ
レンーb−p−ヒドロキシスチレンーし−スチレン)」
と表記する。
実施例 1−1.
〔ポリ(スチレンーb−p−ヒドロキシスチレンーb−
スチレン)・・・・・・幹分子鎖となるブロック共重合
体Tの合成〕 10”Torrの高真空下でテトラヒド口フラン540
lIl1中に開始剤としてI)一ブチルリチウムの1.
1×lO−4モルを仕込んだ。この混合溶液を−78゜
Cに保ち、テトラヒド口フラン80mlで希釈した5.
6gのスチレンを添加して,30分間攪拌しながら重合
させた。この反応溶液は赤色を呈した。次にテトラヒド
口フラン90mlで希釈したp−tart−ブトキシス
チレンを4.1g加えて15分間、攪拌下で重合させた
。この溶液も赤色を呈した。これにテトラヒド口フラン
80mlで希釈したスチレンを5.6g加え、さらに1
0分間、攪拌下で重合させた。この溶液も同様に赤色を
呈した.重合終了後,反応混合物をメタノール中に注ぎ
,得られた重合物を沈殿させた後、分離し,乾燥して1
5.3 gの白色重合体を得た。
スチレン)・・・・・・幹分子鎖となるブロック共重合
体Tの合成〕 10”Torrの高真空下でテトラヒド口フラン540
lIl1中に開始剤としてI)一ブチルリチウムの1.
1×lO−4モルを仕込んだ。この混合溶液を−78゜
Cに保ち、テトラヒド口フラン80mlで希釈した5.
6gのスチレンを添加して,30分間攪拌しながら重合
させた。この反応溶液は赤色を呈した。次にテトラヒド
口フラン90mlで希釈したp−tart−ブトキシス
チレンを4.1g加えて15分間、攪拌下で重合させた
。この溶液も赤色を呈した。これにテトラヒド口フラン
80mlで希釈したスチレンを5.6g加え、さらに1
0分間、攪拌下で重合させた。この溶液も同様に赤色を
呈した.重合終了後,反応混合物をメタノール中に注ぎ
,得られた重合物を沈殿させた後、分離し,乾燥して1
5.3 gの白色重合体を得た。
’H−NMRの結果より,これがスチレン73%,p−
tert−ブトキシスチレン27%からなるブロック共
重合体であることが判った。またGPC溶液曲線はシャ
ープなm−ピークを示し、単一重合体であることが確認
された。この重合体のMnは14X104であった。
tert−ブトキシスチレン27%からなるブロック共
重合体であることが判った。またGPC溶液曲線はシャ
ープなm−ピークを示し、単一重合体であることが確認
された。この重合体のMnは14X104であった。
次に,アセトンとベンゼンの混合溶媒にブロック共重合
体を溶解し,よう化水素を用いて30℃3時間で加水分
解し、スチレン40部/p−ヒドロキシスチレン20部
/スチレン40部の割合で含むポリ(スチレンーb−p
−ヒドロキシスチレンーb−スチレン)を合成した。
体を溶解し,よう化水素を用いて30℃3時間で加水分
解し、スチレン40部/p−ヒドロキシスチレン20部
/スチレン40部の割合で含むポリ(スチレンーb−p
−ヒドロキシスチレンーb−スチレン)を合成した。
なお、このポリ(スチレンーb−p−ヒドロキシスチレ
ンーb−スチレン)におけるスチレン/p−ヒドロキシ
スチレン/スチレンの割合と分子量は仕込み量と開始剤
の濃度とから任意に選択できる.実施例 1−2. 〔ポリ(スチレンーb−p−ヒドロキシスチレンーし−
スチレン)・・・・・・幹分子鎖となるブロック共重合
体Tの,有機アルカリ金属によるカルバニオン化〕 前例で得られたポリ(スチレン〜b−p−ヒドロキシス
チレンーb−スチレン)の10gを,高真空下で200
mlのテトラヒド口フランに溶解した。この溶液に25
℃で0.07モルのt−ブトキシカリウムを加えた。こ
の溶液を1時間攪拌後、さらに0.5モルのトリメチル
シリルクロライドを加えて反応させた後、この反応液を
メタノール中に注ぎ、得られた重合体を沈殿させて分離
した。
ンーb−スチレン)におけるスチレン/p−ヒドロキシ
スチレン/スチレンの割合と分子量は仕込み量と開始剤
の濃度とから任意に選択できる.実施例 1−2. 〔ポリ(スチレンーb−p−ヒドロキシスチレンーし−
スチレン)・・・・・・幹分子鎖となるブロック共重合
体Tの,有機アルカリ金属によるカルバニオン化〕 前例で得られたポリ(スチレン〜b−p−ヒドロキシス
チレンーb−スチレン)の10gを,高真空下で200
mlのテトラヒド口フランに溶解した。この溶液に25
℃で0.07モルのt−ブトキシカリウムを加えた。こ
の溶液を1時間攪拌後、さらに0.5モルのトリメチル
シリルクロライドを加えて反応させた後、この反応液を
メタノール中に注ぎ、得られた重合体を沈殿させて分離
した。
この重合体を1H−NMRで分析したところ,ヒドロキ
シル基にカリウムが反応して、ヒドロキシル基のピーク
が消失し、トリメチルシリル基のピークの増加している
ことが確認された。またGPCの溶出曲線から分子量分
布がカルバニオン化前と変わらず、架橋反応も分解反応
も起こっていないことが確認された。
シル基にカリウムが反応して、ヒドロキシル基のピーク
が消失し、トリメチルシリル基のピークの増加している
ことが確認された。またGPCの溶出曲線から分子量分
布がカルバニオン化前と変わらず、架橋反応も分解反応
も起こっていないことが確認された。
本例はブロック共重合体のヒドロシキル基のカルバニオ
ン化が完全に定量的に進行すると共に、主鎖の分解や架
橋などの副反応が伴わないことを示している。
ン化が完全に定量的に進行すると共に、主鎖の分解や架
橋などの副反応が伴わないことを示している。
実施例 1−3.
〔エチレンオキサイドによるポリ(スチレン−b一p−
ヒト口キシスチレンーb−スチレン)からのブロックー
グラフト共重合体の合成と,これにNaSCNを取り込
んだ本発明の組成物の製造〕実施例1−1で得られたポ
リ(スチレン−b−p−ヒドロキシスチレンーし−スチ
レン)の10gを510”’Torrの高真空下で25
0mlのテトラヒド口フランに溶解した。この溶液に2
5℃で8.3 X 10−’モルのt−ブトキシカリウ
ムを加えた。この溶液を1時間攪拌後,エチレンオキサ
イド1.66 gを添加した。これを65℃に保ち、2
4時間攪拌した。その後、酢酸を加えて重合を停止させ
てから、反応混合物をn−ヘキサン中に注ぎ、重合体を
沈殿させて分離し、乾燥した。得られた重合体はll.
6gであった。このGPC溶出曲線を第1図に. 1H
−NMRによる分析結果を第2図に示した。GPC溶出
曲線がシャープで単一ピークであることから,これが憤
一重合体であることが確認された。またこの重合体のM
nは16X10’であった。このJ{−NMRとMnと
から、グラフト鎖の長さが200で.ポリエチレンオキ
サイドの組成が14%であることが判った。また、この
IRスペクトルを第3図に示した。
ヒト口キシスチレンーb−スチレン)からのブロックー
グラフト共重合体の合成と,これにNaSCNを取り込
んだ本発明の組成物の製造〕実施例1−1で得られたポ
リ(スチレン−b−p−ヒドロキシスチレンーし−スチ
レン)の10gを510”’Torrの高真空下で25
0mlのテトラヒド口フランに溶解した。この溶液に2
5℃で8.3 X 10−’モルのt−ブトキシカリウ
ムを加えた。この溶液を1時間攪拌後,エチレンオキサ
イド1.66 gを添加した。これを65℃に保ち、2
4時間攪拌した。その後、酢酸を加えて重合を停止させ
てから、反応混合物をn−ヘキサン中に注ぎ、重合体を
沈殿させて分離し、乾燥した。得られた重合体はll.
6gであった。このGPC溶出曲線を第1図に. 1H
−NMRによる分析結果を第2図に示した。GPC溶出
曲線がシャープで単一ピークであることから,これが憤
一重合体であることが確認された。またこの重合体のM
nは16X10’であった。このJ{−NMRとMnと
から、グラフト鎖の長さが200で.ポリエチレンオキ
サイドの組成が14%であることが判った。また、この
IRスペクトルを第3図に示した。
このブロックーグラフト共重合体をメチルエチルケトン
に溶解して製膜したフィルムの電子顕微鏡写真を第4図
に示す。これより幹分子鎖の相(白い細目の筋)と枝分
子鎖の相(黒っぽい筋)とがミクロに分離していること
が判る。
に溶解して製膜したフィルムの電子顕微鏡写真を第4図
に示す。これより幹分子鎖の相(白い細目の筋)と枝分
子鎖の相(黒っぽい筋)とがミクロに分離していること
が判る。
このグラフト鎖のIR、1H−NMRにおける吸収位置
は、IR(aa−″): C−0−C : 1115a
n−”1H−NMR (δ. ppm) : O C
H, C H, : 3.6ppmである。
は、IR(aa−″): C−0−C : 1115a
n−”1H−NMR (δ. ppm) : O C
H, C H, : 3.6ppmである。
このようにして得られたブロックーグラフト共重合体1
gを25mlのメチルエチルケトンに溶解した.この溶
液に0.07 gのNaSCNを溶解した5ml1のメ
チルエチルケトンを加え、均一に混合した.この溶液を
テフロン板上に流延した.試料を室温で24時間静置し
て過剰の溶媒を除去した後,さらに60℃で24時間減
圧乾燥して製膜した.この膜はNaSCNを均一に複合
していた.これを直径15mの円盤状にして両面に導電
性銀ペーストを塗布して電極を形成し、周波数5Hz〜
13MHzの交流インピーダンス測定装置(横河−1{
ewlett PackardマルチフリクエンシーL
CRメーターmodel 4192A)を用いて、複素
インピーダンス表示をコンピューター処理してイオン伝
導度を算出した.その結果、23℃で9 X 10−’
S/cmの値を得た.実施例 2〜3.および比較例
1. 〔前例と同じ〕 前例において、エチレンオキサイドと無機イオン塩の添
加量と重合条件を第1表に示すように変えたほかは同様
にしたところ、表に併記した通りの結果が得られた。
gを25mlのメチルエチルケトンに溶解した.この溶
液に0.07 gのNaSCNを溶解した5ml1のメ
チルエチルケトンを加え、均一に混合した.この溶液を
テフロン板上に流延した.試料を室温で24時間静置し
て過剰の溶媒を除去した後,さらに60℃で24時間減
圧乾燥して製膜した.この膜はNaSCNを均一に複合
していた.これを直径15mの円盤状にして両面に導電
性銀ペーストを塗布して電極を形成し、周波数5Hz〜
13MHzの交流インピーダンス測定装置(横河−1{
ewlett PackardマルチフリクエンシーL
CRメーターmodel 4192A)を用いて、複素
インピーダンス表示をコンピューター処理してイオン伝
導度を算出した.その結果、23℃で9 X 10−’
S/cmの値を得た.実施例 2〜3.および比較例
1. 〔前例と同じ〕 前例において、エチレンオキサイドと無機イオン塩の添
加量と重合条件を第1表に示すように変えたほかは同様
にしたところ、表に併記した通りの結果が得られた。
なお、比較例1ではグラフト鎖の長さがs,oooのブ
ロックーグラフト共重合体となり,ポリエチレンオキサ
イド鎖が結晶していたため、過剰量のNaSCNが上層
に析出し,NaSCNを均一に複合したものが得られな
かった。
ロックーグラフト共重合体となり,ポリエチレンオキサ
イド鎖が結晶していたため、過剰量のNaSCNが上層
に析出し,NaSCNを均一に複合したものが得られな
かった。
第1表
実施例 4.
〔プロピレンオキサイドによるポリ(スチレンーb−p
−ヒドロキシスチレンーb−スチレン)からのブロック
ーグラフト共重合体の合成と、これにL iC 10
4を取り込んだ組成物の製造〕実施例1−1で得られた
ポリ(スチレンーb−P−ヒドロキシスチレン−b−ス
チレン)の10gを、10−’Torrの高真空下で2
50mlのテトラヒド口フランに溶解した。この溶液に
0.02モルのクミルカリウムを加え、25℃で1時間
攪拌後,プロピレンオキサイド6.3gを添加した。こ
れを65℃に保って24時間攪拌し、トリメチルシリル
クロライドを加えて重合を停止した.重合終了後、反応
混合物をn−ヘキサン中に注ぎ、重合体を沈殿させて分
離し乾燥した。
−ヒドロキシスチレンーb−スチレン)からのブロック
ーグラフト共重合体の合成と、これにL iC 10
4を取り込んだ組成物の製造〕実施例1−1で得られた
ポリ(スチレンーb−P−ヒドロキシスチレン−b−ス
チレン)の10gを、10−’Torrの高真空下で2
50mlのテトラヒド口フランに溶解した。この溶液に
0.02モルのクミルカリウムを加え、25℃で1時間
攪拌後,プロピレンオキサイド6.3gを添加した。こ
れを65℃に保って24時間攪拌し、トリメチルシリル
クロライドを加えて重合を停止した.重合終了後、反応
混合物をn−ヘキサン中に注ぎ、重合体を沈殿させて分
離し乾燥した。
得られた重合体は白色を呈し.16.3gあった。
この重合体のMnは23 X 10’であり、GPC溶
出曲線が第1図のものと同様、シャープで単一のピーク
からなることから、これが単一重合体であることが確認
され、理想的なグラフト化の行われたことが判った。こ
のもののグラフト鎖のIR、Jl−NMRにおける吸収
位置は、IR(Ql1−’):C−0−C : 111
5ロー1、1H−NMR(δ. ppe+) :O C
Hz C H (C Hz ) : 3−6ppmで
あった.なお,」二記のnと’H−NMRとから、グラ
フト鎖の長さが315で、ポリプロピレンオキサイドの
組成が39%であることが判った。
出曲線が第1図のものと同様、シャープで単一のピーク
からなることから、これが単一重合体であることが確認
され、理想的なグラフト化の行われたことが判った。こ
のもののグラフト鎖のIR、Jl−NMRにおける吸収
位置は、IR(Ql1−’):C−0−C : 111
5ロー1、1H−NMR(δ. ppe+) :O C
Hz C H (C Hz ) : 3−6ppmで
あった.なお,」二記のnと’H−NMRとから、グラ
フト鎖の長さが315で、ポリプロピレンオキサイドの
組成が39%であることが判った。
得られた上記共重合体1gを25mlのテトラヒドロフ
ランに溶解した。この溶液に0.03 gのL i C
10,を溶解した5mlのテトラヒド口フランを加え
て均一に混合し,テフロン板上に流延した。この膜を室
温で24時間静置して過剰の溶媒を除去した後5さらに
60℃で24時間減圧乾燥して製膜した.この膜はLi
C10.を均一に複合していた.これについて実施例1
−3と同様の方法で比導電率を測定したところ、2 X
10−35/■(25℃)の値が得られた。
ランに溶解した。この溶液に0.03 gのL i C
10,を溶解した5mlのテトラヒド口フランを加え
て均一に混合し,テフロン板上に流延した。この膜を室
温で24時間静置して過剰の溶媒を除去した後5さらに
60℃で24時間減圧乾燥して製膜した.この膜はLi
C10.を均一に複合していた.これについて実施例1
−3と同様の方法で比導電率を測定したところ、2 X
10−35/■(25℃)の値が得られた。
実施例 5.
〔ブロック共重合体:ポリ(スチレンーb−p−ヒドロ
キシスチレンーb−メチルメタアクリレート)とエチレ
ンオキサイドとからのブロックーグラフト共重合体の合
成と、これにKPF,を取り込んだ組成物の製造〕 IQのテロラヒド口フラン中に、開始剤として3.6
X 10−’モルのn−ブチルリチウムを仕込み,これ
を−78℃に保ってさらにスチレン5.2g,p−te
rt−ブトキシスチレン14.7g,メチルアクリレー
ト5.2gを順次添加し,重合時間3時間でポリ(スチ
レンーb − p−tert−ブトキシスチレンーb−
メチルメタアクリレート)を得た。
キシスチレンーb−メチルメタアクリレート)とエチレ
ンオキサイドとからのブロックーグラフト共重合体の合
成と、これにKPF,を取り込んだ組成物の製造〕 IQのテロラヒド口フラン中に、開始剤として3.6
X 10−’モルのn−ブチルリチウムを仕込み,これ
を−78℃に保ってさらにスチレン5.2g,p−te
rt−ブトキシスチレン14.7g,メチルアクリレー
ト5.2gを順次添加し,重合時間3時間でポリ(スチ
レンーb − p−tert−ブトキシスチレンーb−
メチルメタアクリレート)を得た。
次に、アセトンとベンゼンの混合溶媒にこのブロック共
重合体を溶解し、よう化水素を用いて加水分解し、スチ
レン30部/p−ヒドロキシスチレン40部/メチルメ
タアクリレート30部の割合で含むポリ(スチレンーb
−p−ヒドロキシスチレンーb−メチルメタアクリレー
ト)を合成した.’H−NMR.GPC、膜浸透圧の結
果から,これがヒドロキシスチレン40%で,Mnが2
0 X 10’であることが確認された。
重合体を溶解し、よう化水素を用いて加水分解し、スチ
レン30部/p−ヒドロキシスチレン40部/メチルメ
タアクリレート30部の割合で含むポリ(スチレンーb
−p−ヒドロキシスチレンーb−メチルメタアクリレー
ト)を合成した.’H−NMR.GPC、膜浸透圧の結
果から,これがヒドロキシスチレン40%で,Mnが2
0 X 10’であることが確認された。
このブロック共重合体のtogを、10−’m/Hgの
高真空下で250社のテトラヒド口フランに溶解した。
高真空下で250社のテトラヒド口フランに溶解した。
この溶液に25℃で0.03モルのナフタレンカリウム
を加えた.この溶液を1時間攪拌後,エチレンオキサイ
ド6.7gを添加した。これを65℃で24時間攪拌し
,メチルブロマイドを加えて重合を停止した。重合終了
後、反応混合物をn−ヘキサン中に注ぎ、重合体を沈殿
させて分離し乾燥した。
を加えた.この溶液を1時間攪拌後,エチレンオキサイ
ド6.7gを添加した。これを65℃で24時間攪拌し
,メチルブロマイドを加えて重合を停止した。重合終了
後、反応混合物をn−ヘキサン中に注ぎ、重合体を沈殿
させて分離し乾燥した。
得られた重合体は白色を呈し16.7 gあった.この
重合体のMnは33.4 X 10’であり、GPC溶
出曲線は第1図のものと同様,シャープで単一のピーク
からなることから、これが単一重合体であることが確認
され、理想的なグラフト化の行われたことが判った.こ
のIRスペクトルを第5図に示した。このもののグラフ
ト鎖のIR.”H−NMRにおける吸収位置は,I R
(am−’) : C−0−C :1 1 1 5 C
21 − ”、C = O : 1730aa−’、C
− C H, : 1390,1480a++−1.
’I{−NMR(δ. ppm) : OCH,CH
, :3.6ppm. a−メチル基: 1.2 p
pmであった。
重合体のMnは33.4 X 10’であり、GPC溶
出曲線は第1図のものと同様,シャープで単一のピーク
からなることから、これが単一重合体であることが確認
され、理想的なグラフト化の行われたことが判った.こ
のIRスペクトルを第5図に示した。このもののグラフ
ト鎖のIR.”H−NMRにおける吸収位置は,I R
(am−’) : C−0−C :1 1 1 5 C
21 − ”、C = O : 1730aa−’、C
− C H, : 1390,1480a++−1.
’I{−NMR(δ. ppm) : OCH,CH
, :3.6ppm. a−メチル基: 1.2 p
pmであった。
なお、上記のMnと’H−NMRとから,グラフト鎖の
長さが220で,ポリエチレンオキサイドの組成が40
%であることが判った。
長さが220で,ポリエチレンオキサイドの組成が40
%であることが判った。
得られた」二記共重合体1gと0.06 gのKPF,
とをテトラヒド口フランに溶解し、テフロン板上に流延
した.この膜を室温で24時間静置して過剰の溶媒を除
去した後,さらに60℃で24時間減圧乾燥して製膜し
た。この膜はKPF,を均一に複合していた。これにつ
いて実施例1−3と同様の方法で比導電率を測定したと
ころ. 7X10−33/■(25℃)の値が得られた
。
とをテトラヒド口フランに溶解し、テフロン板上に流延
した.この膜を室温で24時間静置して過剰の溶媒を除
去した後,さらに60℃で24時間減圧乾燥して製膜し
た。この膜はKPF,を均一に複合していた。これにつ
いて実施例1−3と同様の方法で比導電率を測定したと
ころ. 7X10−33/■(25℃)の値が得られた
。
実施例 6.
〔ブロック共重合体:ポリ(スチレンーb−p−ヒドロ
キシスチレンーし−ブタジエンとエチレンオキサイドと
からのブロックーグラフト共重合体の合成と、これにC
sBF4を取り込んだ組成物の製造) 500mlのテロラヒドロフラン中に,開始剤として1
,O X 10−”モルのn−ブチルリチウムを仕込み
、これを−78℃に保ってさらにスチレン5.6g+p
−ブトキシスチレン7.0 g .ブタジエン5.2g
を順次添加し,スチレンとp−tart−ブトキシスチ
レンとの重合時間はそれぞれ1時間で,ブタジエンは3
時間で重合を行い、ポリ(スチレンーb−p−tert
−ブ1−キシスチレンーb−ブタジエン)を得た。
キシスチレンーし−ブタジエンとエチレンオキサイドと
からのブロックーグラフト共重合体の合成と、これにC
sBF4を取り込んだ組成物の製造) 500mlのテロラヒドロフラン中に,開始剤として1
,O X 10−”モルのn−ブチルリチウムを仕込み
、これを−78℃に保ってさらにスチレン5.6g+p
−ブトキシスチレン7.0 g .ブタジエン5.2g
を順次添加し,スチレンとp−tart−ブトキシスチ
レンとの重合時間はそれぞれ1時間で,ブタジエンは3
時間で重合を行い、ポリ(スチレンーb−p−tert
−ブ1−キシスチレンーb−ブタジエン)を得た。
次に,アセトンとベンゼンの混合溶媒にこのブロック共
重合体を溶解し,よう化水素を用いて加水分解し、スチ
レン35部/p−ヒドロキシスチレン30部/ブタジエ
ン35部の割合で含むポリ(スチレンーb−p−ヒドロ
キシスチレンーし−ブタジエン)を合成した。
重合体を溶解し,よう化水素を用いて加水分解し、スチ
レン35部/p−ヒドロキシスチレン30部/ブタジエ
ン35部の割合で含むポリ(スチレンーb−p−ヒドロ
キシスチレンーし−ブタジエン)を合成した。
1H−NMR.GPC.膜浸透圧の結果から,このp−
ヒドロキシスチレンの組成が30重景%で,Mnが15
X 10’であることが確認された。
ヒドロキシスチレンの組成が30重景%で,Mnが15
X 10’であることが確認された。
このブロック共重合体の10gを、10−″m/}Ig
の高真空下で250mlのテトラヒド口フランに溶解し
た。この溶液に0.02モルのクミルセシウムを加えた
。この溶液を25℃で2時間攪拌後、エチレンオキサイ
ド4gを添加した.これを65℃で24時間攪拌し、酢
酸を加えて重合を停止した.重合終了後、反応混合物を
n−ヘキサン中に注ぎ、重合体を沈殿させて分離し乾燥
した。得られた重合体は白色を呈し14gあった。
の高真空下で250mlのテトラヒド口フランに溶解し
た。この溶液に0.02モルのクミルセシウムを加えた
。この溶液を25℃で2時間攪拌後、エチレンオキサイ
ド4gを添加した.これを65℃で24時間攪拌し、酢
酸を加えて重合を停止した.重合終了後、反応混合物を
n−ヘキサン中に注ぎ、重合体を沈殿させて分離し乾燥
した。得られた重合体は白色を呈し14gあった。
この重合体のMnは21 X 10’であり.G})C
溶出曲線は第、1図のものと同様、シャープで単一のピ
ークからなることから、これが単一重合体であることが
確認され、理想的なグラフト化の行われたことが判った
.このIRスペクトルを第6図に示した。このもののグ
ラフト鎖のIR、”H−NMRにおける吸収位置は、I
R(a++−1) : C−0−C :l115■−
1、 C H” C H2 : !JO5 ,990
cn−”、C;○: 1640cm−”,”H−NMR
(δ,ppm): OCR2CH2: 3.6ppn+
. −CH=CH2: 5.4, 5.0 pp踵で
あった・ なお,上記のMnと!{−NMRとから、グラフト鎖の
長さが200で、ポリエチレンオキサイドの組成が29
%であることが判った。
溶出曲線は第、1図のものと同様、シャープで単一のピ
ークからなることから、これが単一重合体であることが
確認され、理想的なグラフト化の行われたことが判った
.このIRスペクトルを第6図に示した。このもののグ
ラフト鎖のIR、”H−NMRにおける吸収位置は、I
R(a++−1) : C−0−C :l115■−
1、 C H” C H2 : !JO5 ,990
cn−”、C;○: 1640cm−”,”H−NMR
(δ,ppm): OCR2CH2: 3.6ppn+
. −CH=CH2: 5.4, 5.0 pp踵で
あった・ なお,上記のMnと!{−NMRとから、グラフト鎖の
長さが200で、ポリエチレンオキサイドの組成が29
%であることが判った。
得られた上記共重合体1gと0.08 gのCsB F
.とをテトラヒド口フランに溶解し、テフロン板上に流
延した。この膜を室温で24時間静置して過剰の溶媒を
除去した後、さらに60℃で24時間減圧乾燥して製膜
した。この膜はCsBF4を均一に複合していた。これ
について実施例1−3と同様の方法で比伝導率を測定し
たところ、5 X 10−’S/■(25℃)の値が得
られた。
.とをテトラヒド口フランに溶解し、テフロン板上に流
延した。この膜を室温で24時間静置して過剰の溶媒を
除去した後、さらに60℃で24時間減圧乾燥して製膜
した。この膜はCsBF4を均一に複合していた。これ
について実施例1−3と同様の方法で比伝導率を測定し
たところ、5 X 10−’S/■(25℃)の値が得
られた。
(発明の効果)
本発明によるブロックーグラフト共重合体組成物は、l
)ブロック共重合体を幹分子として、その特定の場所に
非品性のポリアルキレンオキサイドが集中的に配列され
、また2)分子構造が特定されているために、精密なミ
クロ相分離構造を示す.このため、幹分子鎖と枝分子鎖
とで機能分担を図ることができる.とくにブロック鎖(
幹分子)には機械的強度、またグラフト鎖には非品性の
ポリアルキレンオキサイドを選択することによって金属
塩との錯体形成性,金属イオンの高い移動性等の機能を
持たせることができるので、従来のポリアルキレンオキ
サイドを有するボリマーに比べて高性能の機能性高分子
材料となる。通常、ポリアルキレンオキサイドの数平均
分子量が2000以上になると結晶化が始まり、金属イ
オンの高い移動性と金属イオンの含有量を増加させるこ
とができないため,このような長さのグラフト鎖を持つ
ブロックーグラフト共重合体では高分子固体電解質には
なり得ないが、本発明の数平均分子量が2000未満の
ものでは,ポリアルキレンオキサイドが液状となるため
、金属イオンの高い移動性と金属イオンの含有量の増加
を可能とし、高いイオン伝導率を確保し、固体電解質と
しての特性が与えられる。
)ブロック共重合体を幹分子として、その特定の場所に
非品性のポリアルキレンオキサイドが集中的に配列され
、また2)分子構造が特定されているために、精密なミ
クロ相分離構造を示す.このため、幹分子鎖と枝分子鎖
とで機能分担を図ることができる.とくにブロック鎖(
幹分子)には機械的強度、またグラフト鎖には非品性の
ポリアルキレンオキサイドを選択することによって金属
塩との錯体形成性,金属イオンの高い移動性等の機能を
持たせることができるので、従来のポリアルキレンオキ
サイドを有するボリマーに比べて高性能の機能性高分子
材料となる。通常、ポリアルキレンオキサイドの数平均
分子量が2000以上になると結晶化が始まり、金属イ
オンの高い移動性と金属イオンの含有量を増加させるこ
とができないため,このような長さのグラフト鎖を持つ
ブロックーグラフト共重合体では高分子固体電解質には
なり得ないが、本発明の数平均分子量が2000未満の
ものでは,ポリアルキレンオキサイドが液状となるため
、金属イオンの高い移動性と金属イオンの含有量の増加
を可能とし、高いイオン伝導率を確保し、固体電解質と
しての特性が与えられる。
第1図〜第4図は、それぞれ実施例1で得られたブロソ
クーグラフト共重合体についての.GPC溶出曲線,1
H−NMRによるスペクトル、およびIRスペクトルを
示すグラフ,並びに電子顕微鏡写真であり、第5図およ
び第6図は、それぞれ実施例5および6で得られたブロ
ックーグラフト共重合体についてのIRスペクトルを示
すグラフである.
クーグラフト共重合体についての.GPC溶出曲線,1
H−NMRによるスペクトル、およびIRスペクトルを
示すグラフ,並びに電子顕微鏡写真であり、第5図およ
び第6図は、それぞれ実施例5および6で得られたブロ
ックーグラフト共重合体についてのIRスペクトルを示
すグラフである.
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼……( I ) (ここに、R^1は水素原子、メチル基、またはエチル
基、R^2は水素原子またはメチル基、R^3はアルキ
ル基、アリール基、アシル基、またはシリル基、nは1
〜45の整数であり、式中の▲数式、化学式、表等があ
ります▼で示されるグラフト鎖の 数平均分子量が45以上2,000未満である)で表さ
れる繰返し単位からなる少なくとも1種の重合体のブロ
ック鎖Aと、 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼……(II) (ここに、R^4は水素原子、メチル基、またはエチル
基、Mは式−CH=CH_2、 −C(CH_3)=CH_2、−COOCH_3、また
は−COOC_2H_5で表される基、フェニル基、あ
るいは置換フェニル基である) で表される繰返し単位からなる少なくとも1種の重合体
のブロック鎖Bとから構成されるブロック−グラフト共
重合体に、無機イオン塩を複合させたブロック−グラフ
ト共重合体組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63211673A JPH02229826A (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | ブロック−グラフト共重合体組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63211673A JPH02229826A (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | ブロック−グラフト共重合体組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02229826A true JPH02229826A (ja) | 1990-09-12 |
JPH0551632B2 JPH0551632B2 (ja) | 1993-08-03 |
Family
ID=16609699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63211673A Granted JPH02229826A (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | ブロック−グラフト共重合体組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02229826A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5523180A (en) * | 1992-06-16 | 1996-06-04 | Centre National De La Recherche Scientifique | Ionically conductive material having a block copolymer as the solvent |
US6025437A (en) * | 1997-03-04 | 2000-02-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Block-graft copolymer, self-crosslinked polymer solid electrolyte and composite solid electrolyte manufactured through use of the block-graft copolymer, and solid cell employing the composite solid electrolyte |
US6096234A (en) * | 1997-01-23 | 2000-08-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Cross-linked polymer solid electrolyte, method of manufacturing cross-linked solid polymer electrolyte, composite solid electrolyte, and thin solid cell employing composite solid electrolyte |
JP2006092792A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-04-06 | Nippon Soda Co Ltd | 高分子固体電解質電池 |
JP2012517687A (ja) * | 2009-02-11 | 2012-08-02 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 高電導性ポリマー電解質およびそれを含む二次電池 |
CN103087306A (zh) * | 2012-12-20 | 2013-05-08 | 广东众和化塑有限公司 | 一种两亲性高支化sibs弹性体、制备方法及其用途 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0711334U (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-21 | 株式会社河合楽器製作所 | 表面化粧材 |
US6322924B1 (en) | 1999-01-29 | 2001-11-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Preparation of crosslinked solid polymer electrolyte |
-
1988
- 1988-08-26 JP JP63211673A patent/JPH02229826A/ja active Granted
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5523180A (en) * | 1992-06-16 | 1996-06-04 | Centre National De La Recherche Scientifique | Ionically conductive material having a block copolymer as the solvent |
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US6025437A (en) * | 1997-03-04 | 2000-02-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Block-graft copolymer, self-crosslinked polymer solid electrolyte and composite solid electrolyte manufactured through use of the block-graft copolymer, and solid cell employing the composite solid electrolyte |
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JP2012517687A (ja) * | 2009-02-11 | 2012-08-02 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 高電導性ポリマー電解質およびそれを含む二次電池 |
CN103087306A (zh) * | 2012-12-20 | 2013-05-08 | 广东众和化塑有限公司 | 一种两亲性高支化sibs弹性体、制备方法及其用途 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0551632B2 (ja) | 1993-08-03 |
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