JPH02227174A - エチレン―酢酸ビニル共重合体ケン化物の塗膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 り産業上の利用分野］ 本発明は各種プラスチック等の表面にエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体ケン化物の塗膜を施して、酸素遮断性を高
度に付与する方法を提供する。

［従来の技術］ エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物から得られる皮
膜は透明性、酸素遮断性等にすぐれ、食品、医療品、工
業薬品等の各種包装材としであるいはプラスチックフィ
ルム、紙、金属箔等とラミネートした複合材料として有
用である。

しかして、該ケン化物の皮膜を形成させる場合、任意の
方法が実施可能であるが、比較的膜厚の薄い皮膜が形成
できる点、中空容器等の複雑な形の基材に対しても容易
に皮膜の形成ができる点、及び比較的簡単な装置で塗工
操作ができる点で該ケン化物を溶剤に溶解した溶液を基
材に塗布する溶液コーティング法が注目されている。

かかる方法において該ケン化物の溶剤としてこれまでに
多数のものが提案されているが例えば特公昭４６−２３
９１１号公報や特公昭４７−４８４８９号公報に記載さ
れる含水プロピルアルコールや含水ブチルアルコールが
透明な皮膜が得られるという点で有望視されている。

［本発明が解決しようとする課題］ しかしながら、本発明者等が検討したところ、かかる含
水アルコール系での塗膜形成の場合、塗液を５０℃とい
う高温に保持して塗布操作を行なわなければ透明性の良
い塗膜が得られない難点や塗液の貯蔵安定性や放置安定
性が悪く、単に塗布を行い塗膜を形成させ、これを乾燥
するだけでは塗膜の透明性やガス遮断性等の塗膜物性面
においてミクロ的に均質な塗膜を形成しがたいという理
由から近時の厳しい品質要求に必ずしも充分対処できる
とは言いがたく、更に一層塗膜物性の向上が必要とされ
るのである。

かかる対策として含水アルコール系溶媒に蟻酸等を少量
添加した溶媒を用いることが提案されているが、今時の
技術本道はより高度な性能を要求し、例えばエチレン−
酢酸ビニル共重合体ケン化物層の塗膜厚を薄くしても酸
素遮断性をそのまま保持出来る様、より一層その塗膜の
酸素遮断性の向上が要望されるところであり、更なる改
良が望まれているのである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者等はかかる問題を解決するため鋭意研究を重ね
た結果、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の溶液
を基材に塗布、乾燥、熱処理して該ケン化物の塗膜を形
成するに当たり、該塗膜の赤外線吸収スペクトルの１０
９０ｃｍ”に対するｌ　１４０ｃ＋＋＋−’の吸光度比
が０．６５以上となる様に塗膜を形成させることにより
目的が達成出来ること、更にかかる塗膜はエチレン−酢
酸ビニル共重合体ケン化物を基材に塗布した後、６０〜
！５０℃で乾燥を行い、続いて乾燥温度より２０℃以上
の温度で熱処理を施こすことにより容易に形成し得ると
いう事実を見出し本発明を完成した。

以下、本発明の方法について具体的に説明する。

本発明で用いるエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物
は、エチレン含量２５〜５５モル％、好ましくは２８〜
４８モル％、酢酸ビニル成分のケン化度が９０モル％以
上、好ましくは９５モル％以上でなければならない。

エチレン含量が２５モル％以下では高湿時のガス遮断性
が低下し、一方５５モル％以上では充分なガス遮断性や
印刷適性等の塗膜物性等が劣化する。又、ケン化度が９
０モル％以下ではガス遮断性や耐湿性が低下する。

又該共重合体ケン化物は更に少量のプロピレン、イソブ
チン、α−オクテン、α−ドデセン、α−オクタデセン
等のα−オレフィン、不飽和カルボン酸又はその塩・部
分アルキルエステル・完全アルキルエステル・ニトリル
・アミド・無水物、不飽和スルホン酸又はその塩等のコ
モノマーを含んでいても差支えない。

本発明において、上記ケン化物の溶媒としては（Ａ）水
３０〜７０重量％、（Ｂ）アルコール特にプロピルアル
コール又はブチルアルコール、メチルアルコール、エチ
ルアルコールの少なくとも１種　７０〜３０重量％の混
合物を使用する。

（Ａ）成分の水の量は３０〜７０重量％、好ましくは４
０〜６０重量％であり、３０重量％以下又は７０重量％
以上では均一な溶液が得難く塗膜が不透明となるという
問題点が生じる。

（Ｂ）成分のプロピルアルコールとしてはｎ−プロピル
アルコール、１ｓｏ−プロピルアルコールが、又ブチル
アルコールとしてはｎ−ブチルアルコール、１ｓｏ−ブ
チルアルコール、５ｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ
−ブチルアルコール等が挙げられるが、１ｓｏ−プロビ
ルアルコ−シカ５好適に使用される。

エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物溶液の濃度は特
に制限はなく任意の範囲で塗工可能であるが、通常は０
．５〜２５重量％程度が好ましい。

本発明においてエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物
が塗布される基材としては特に制限はなく、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル等の各種プラスチックスのフィルム、シー
ト、中空容器あるいは紙、セロファン、セルローズアセ
テート、天然ゴム、合成ゴム、金属等が挙げられる。

かかる基材の膜厚はｌＯ〜１０００μ程度が適当である
。

本発明ではかかる基材にエチレン−酢酸ビニル共重合体
ケン化物を塗布して得られる積層物の形状でそのまま包
装材料として実用化されるのが普通であるが、必要であ
ればかかる基材からエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン
化物の塗膜を剥離して単層フィルム、シート等としても
使用可能である。

塗布の方法としてはローラーコーティング法、スプレー
コーティング法、デイツプコーティング法その他任意の
公知方法が適用できる。

又、基材の種類によってはエチレン−酢酸ビニル共重合
体ケン化物層との接着力を向上させるため、表面酸化処
理、火炎処理、アンカーコート処理、プライマー処理等
が適宜実施可能である。

アンカー処理剤としてはポリウレタン系化合物やポリエ
ステル・イソシアネート系化合物が好適に利用され得る
。アンカーコート層の膜厚は０．０５〜３μ程度が実用
的である。

エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の溶液を基材に
塗布した後、乾燥が行なわれる。乾燥温度は６０〜！５
０℃好ましくは７０〜１２０℃程度の温度で３秒〜５分
程度加熱すれば良い。かかる乾燥において塗膜中の揮発
分、即ち水、アルコールが除去されるのであるが、揮発
分が２重量％以下となるまで行なわれる。

続いて本発明では乾燥を実施した温度より２０℃以上高
い温度、通常は１００℃以上から１７０℃程度の温度で
熱処理を施こす。かかる処理によって、目的とする塗膜
が形成出来るのである。熱処理時間は通常１〜６０秒程
度である。

該塗膜は赤外線吸収スペクトルにおける１　０９０ｃａ
＋−’１９対する１　１４０ｃ＋ａ−’の吸光度比が０
．６５以上、好ましくは０．７０〜１．３０となる様に
コントロールされる。

１１４０ｃｍ−’にはエチレン−酢酸ビニル共重合体ケ
ン化物フィルムの結晶性バンドが現れる点であり、一方
１０９１０９Ｏ’はＣ−０の伸縮運動に基づく吸収が現
れる点である。本発明では吸光度比を上記の如く特定す
る、換言すれば本発明では結晶性が向上した塗膜を得よ
うとするものであり、かかる塗膜は酸素遮断性が著しく
向上するのである。

か＜シてエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の透明
な塗膜が形成されるわけであるが、その膜厚は０．５〜
１５μ程度が実用的である。０．５以下では充分なガス
遮断性が発揮し難く、一方１５μ以上の膜厚ではそのコ
ントロールに困難を生じる。又必要に応じて該塗膜上に
更に塩化ビニリデン樹脂コート、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体コート等によって防湿層を形成させることも
勿論可能である。得られる塗膜はエチレン−酢酸ビニル
共重合体ケン化物の単一層フィルム、シートはもとより
ポリエステル、ポリオレフィン等にラミネートした複合
材料として食品、飲料、薬品、医薬等の包装材料あるい
は８姦として有用である。その形状はフィルム状、シー
ト状、中空ビン、チューブ等任意のものであって良い。

［作　　用］ 本発明においては著しく酸素遮断性の向上したエチレン
−酢酸ビニル共重合体ケン化物の塗膜が製造可能である
。

［実施例］ 以下、実例を挙げて本発明の方法を更に詳しく説明する
。％、部とあるのは特にことわりのない限り、いずれも
重量基準である。

実例！ 水５０％、１ｓｏ−プロピルアルコール５０％を含む混
合溶媒８２部とエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物
（エチレン含量３０モル％、ケン化度９９．５モル％）
１８部を加え６０〜７０℃にて約２時間撹拌し透明な溶
液を調製した。一方膜厚５０μのポリエチレンテレフタ
レート製のフィルムにポリウレタン系接着剤主剤１００
部、硬化剤６．５部、酢酸エチル９００部からなるポリ
ウレタン系化合物溶液を用いて膜厚１．５μのアンカー
コート処理を施した。

この様に処理したフィルムを液温３０℃の前記塗液に浸
漬し、直ちに１００℃で５分間乾燥後、１４０℃で２０
秒熱処理を行ない、４μの厚みのエチレン−酢酸ビニル
共重合体ケン化物塗膜を得た。

得られた塗膜の物性値として、赤外線吸収スペクトルの
吸光度比（Ｄ　ｌ　１４０／　Ｄ　＋ｏｅｏと略記）を
ＪＩＳＫ−０１１７に基づいて測定した。

又、該積層物の透明性をＡＳＴＭ　ＤＩＯ０３−５２に
従い、ヘイズ値を求めた。

更に酸素遮断性をＡＳＴＭ　Ｄ１４３４−５８に従って
測定した。

これらの結果を表に示す。

実例２〜８、対照例 表に示す如き条件下で塗膜を形成した。

これらの結果を表に示す。

尚、各基材の酸素遮断性（ｃｃ（ＮＴＰ）／ｍ’　・２
４　ｈｒ−ａｔａ＋）は次の通りである。

０ＰＰ（二軸延伸ポリプロピレン）フィルム（６０μ）
；８０００−Ｎｙ（二輪延伸ポリアミド−６）フィルム
（２０μ）；２６ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート
）ビン（３００μ＞　　：　　５．５Ｏ−ＰＥＴ（二輪
延伸ポリエチレンテレフタレート）フィルム（１００μ
）　　； ｌ　２．０ ＰＰ（ポリプロピレン）ビン（５００μ）　；（以下余
白） ［効　　果］ 本発明においてはエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化
物の塗膜を形成するに当たり、該ケン化物の溶液を基材
に塗布、乾燥後、熱処理を行うことによって、酸素遮断
性のすぐれた塗膜が得られる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の溶液を基
   材に塗布、乾燥、熱処理して該ケン化物の塗膜を形成す
   るに当たり、該塗膜の赤外線吸収スペクトルの１０９０
   ｃｍ＾−＾１に対する１１４０ｃｍ＾−＾１の吸光度比
   が０．６５以上となる様に塗膜を形成させることを特徴
   とする、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の塗膜
   形成方法。 ２、乾燥をまず６０〜１５０℃で行い、次いで乾燥時の
   温度より２０℃以上高い温度で熱処理を行うことを特徴
   とする請求項１記載の塗膜形成方法。 ３、溶媒としてプロピルアルコール／水溶媒を用いる請
   求項１記載の塗膜形成方法。