JPH0525915B2 - - Google Patents

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JPH0525915B2
JPH0525915B2 JP23326783A JP23326783A JPH0525915B2 JP H0525915 B2 JPH0525915 B2 JP H0525915B2 JP 23326783 A JP23326783 A JP 23326783A JP 23326783 A JP23326783 A JP 23326783A JP H0525915 B2 JPH0525915 B2 JP H0525915B2
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JP
Japan
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vinyl acetate
weight
acetate copolymer
saponified ethylene
coating
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JP23326783A
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JPS60124663A (ja
Inventor
Teruo Iwanami
Kenji Hasegawa
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Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Priority to CA000446736A priority patent/CA1251103A/en
Priority to DE19843404425 priority patent/DE3404425A1/de
Priority to FR8401943A priority patent/FR2556357B1/fr
Priority to GB08403322A priority patent/GB2150934B/en
Publication of JPS60124663A publication Critical patent/JPS60124663A/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
エチレン含量25〜55モル%、酢酸ビニル成分の
ケン化度90モル%以上のエチレン−酢酸ビニル共
重合体ケン化物から得られる皮膜は透明性、酸素
遮断性等にすぐれ、食品、医療品、工業薬品等の
各種包装材としてあるいはプラスチツクフイル
ム、紙、金属箔等とラミネートした複合材料とし
て有用である。 しかして、該ケン化物の皮膜を形成させる場
合、任意の方法が実施可能であるが、比較的膜厚
の簿い皮膜が形成できる点、中空容器等の複雑な
形の基材に対しても容易に皮膜の形成ができる
点、及び比較的簡単な装置で塗工操作ができる点
で該ケン化物を溶剤に溶解した溶液を基材に塗布
する溶液コーテイング法が注目されている。かか
る方法において該ケン化物の溶剤としてこれまで
に多数のものが提案されているが、例えば特公昭
46−23911号公報や特公昭47−48489号公報に記載
される含水プロピルアルコールや含水ブチルアル
コールが透明な皮膜が得られるという点で有望視
されている。 しかしながら、本発明者等が検討したところ、
かかる含水アルコール系での塗膜形成の場合、塗
液を50℃という高温に保持して塗布操作を行なわ
なければ透明性の良い塗膜が得られない難点や塗
液の貯蔵安定性や放置安定性が悪く、使用時に高
温で再溶解する必要がある欠点があることが判明
した。かかる高温の保持は余分の熱エネルギーが
必要となる上、溶媒の蒸発に伴なう塗液の濃度変
化をもたらすので塗布操作を密閉系で実施せざる
を得ない等の工程管理面で解決すべき問題点とな
る。更に塗膜の透明性やガス遮断性等の塗膜物性
面においてもミクロ的に均質な塗膜を形成しがた
いという利用から近時の厳しい品質要求に必ずし
も充分対処できるとは言いがたく、更に一層塗膜
物性の向上が必要とされるのである。 しかるに本発明者等はかかる問題を解決すべく
鋭意研究を重ねた結果、エチレン含量25〜55モル
%、酢酸ビニル成分のケン化度90モル%以上のエ
チレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の溶液を基
材に塗布、乾燥して該ケン化物の塗膜を形成する
に当たり、溶剤として (A) 水 10〜60重量% (B) プロピルアルコール、ブチルアルコール又は
ベンジルアルコールの少なくとも1種
5〜70重量% (C) ジメチルスルホキシド又はN−メチル−2−
ピロリドンの少なくとも1種 2〜60重量% からなる混合物を使用する場合、目的が達成でき
ることを見出し本発明を完成するに到つた。 本発明ではかかる特定の混合溶媒を用いる場
合、常温で塗布操作を行なつても常に安定して透
明性やガス遮断性が著しく向上した塗膜が得られ
るので、塗布操作時に特別な管理が不必要とな
り、従来法の欠点が解消できる点でその産業上の
有用性は極めて大である。 本発明で用いるエチレン−酢酸ビニル共重合体
ケン化物は、エチレン含量25〜55モル%好ましく
は28〜48モル%、酢酸ビニル成分のケン化度が90
モル%以上、好ましくは95モル%以上でなければ
ならない。エチレン含量が25モル%以下では高湿
時のガス遮断性が低下し、一方55モル%以上では
充分なガス遮断性や印刷適性等の塗膜物性等が劣
化する。又、ケン化度が90モル%以下ではガス遮
断性や耐湿性が低下する。 又該共重合体ケン化物は更に少量のプロピレ
ン、イソブテン、α−オクテン、α−ドデセン、
α−オクタデセン等のα−オレフイン、不飽和カ
ルボン酸又はその塩・部分アルキルエステル・完
全アルキルエステル・ニトリル・アミド・無水
物、不飽和スルホン酸又はその塩等のコモノマー
を含んでいても差支えない。 本発明においては、上記ケン化物の溶媒として
(A)水10〜60重量%、(B)プロピルアルコール、ブチ
ルアルコール又はベンジルアルコールの少なくと
も1種5〜70重量%、(C)ジメチルスルホキシド又
はN−メチル−2−ピロリドン2〜85重量%から
なる混合物を使用するもので、従来用いられてい
る水/プロピルアルコールあるいは水/ブチルア
ルコール溶媒の前記欠点を特定量のジメチルスル
ホキシド又はN−メチル−2−ピロリドンを配合
することによつて解決するものである。 前記混合溶媒において(A)水の含量は10〜60重量
%、好ましくは30〜50重量%でなければならな
い。10重量%以下では均一な溶液が得難く、60重
量%以上ではケン化物の溶解性が著しく低下する
という問題点が生じる。又、(B)のプロピルアルコ
ール、ブチルアルコール、ベンジルアルコールは
5〜70重量%、好ましくは40〜60重量%の含有量
でなければならない。5重量%以下ではかなり多
量のジメチルスルホキシド又はN−メチル−2−
ピロリドンを使用しなければ溶解性が低下すると
いう難点があり、70重量%以上では均一な溶液が
得難く、実用性に乏しい。更に(C)ジメチルスルホ
キシド又はN−メチル−2−ピロリドンの含有量
は2〜60重量%、好ましくは5〜40重量%、特に
好ましくは10〜30重量%でなければならない。2
重量%以下では本発明の効果に乏しく、その添加
効果が認めがたい。60重量%以上のジメチルスル
ホキシド、N−メチル−2−ピロリドンの使用は
高温かつ長時間の乾燥工程を必要とするので好ま
しくない。(B)成分のプロピルアルコールとしては
n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコ
ールが、又ブチルアルコールとしてはn−ブチル
アルコール、iso−ブチルアルコール、sec−ブチ
ルアルコール、tert−ブチルアルコール等が挙げ
られるが、iso−プロピルアルコールが好適に使
用される。(B)以外のアルコールにジメチルスルホ
キシド又はN−メチル−2−ピロリドンを添加し
ても透明性の良好な塗膜を得ることは出来ない。 エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物溶液の
濃度は特に制限はなく任意の範囲で塗工可能であ
るが、通常は0.5〜15重量%程度が好ましい。本
発明では濃度が低い塗液の場合であつても、塗膜
の白濁がおこらないことも特徴点の一つであり、
含水アルコールを溶媒とする従来法における塗液
塗布の場合比較的高濃度の溶液が使用され、その
結果塗膜厚の調整に煩わしさが避けられないこと
を考慮するとかかる点でも本発明の優位性は大で
ある。本発明の効果が特に顕著に発揮されるのは
低濃度即ち3〜10重量%程度の塗液を用いる場合
である。しかも上記塗液は安定性にすぐれるた
め、特に加熱等の特別な操作をしなくてもケン化
物の沈澱が析出したりする心配は全くない上、低
温での溶液の貯蔵安定性もすぐれているので、塗
膜形成は常温程度の温度で任意に実施可能であ
る。本発明においてエチレン−酢酸ビニル共重合
体ケン化物が塗布される基材としては特に制限は
なく、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエス
テル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等の各種プ
ラスチツクスのフイルム、シート中空容器あるい
は紙、セロフアン、セルローズアセテート、天然
ゴム、合成ゴム、金属等が挙げられる。かかる基
材の膜厚は10〜1000μ程度が適当である。本発明
ではかかる基材にエチレン−酢酸ビニル共重合体
ケン化物を塗布して得られる積層物の形状でその
まま包装部材として実用化されるのが普通である
が、必要であればかかる基材からエチレン−酢酸
ビニル共重合体ケン化物の塗膜を剥離して単層フ
イルム、シート等としても使用可能である。 塗布の方法としてはローラーコーテイング法、
スプレーコーテイング法、デイツプコーテイング
法その他任意の公知方法が適用できる。 又、基材の種類によつてはエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体ケン化物層との接着力を向上させるた
め、表面酸化処理、火炎処理、アンカーコート処
理、ブライマー処理等が適宜実施可能である。 アンカー処理剤としてはポリウレタン系化合物
やポリエステル・イソシアネート系化合物が好適
に利用され得る。アンカーコート層の膜厚は0.05
〜3μ程度が実用的である。 エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の溶液
を基材に塗布した後、乾燥が行なわれる。乾燥温
度は30〜200℃好ましくは60〜150℃程度の温度で
3秒〜5分程度加熱すれば良い。かかる乾燥にお
いて塗膜中の揮発分、即ち水、アルコール及びジ
メチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリド
ンが除去されるのであるが、水やジメチルスルホ
キシド又はN−メチル−2−ピロリドンはかなり
高いにもかかわらず、共存するアルコール類がジ
メチルスルホキシド又はN−メチル−2−ピロリ
ドンや水の蒸発を促進するものと思われ、上記程
度の乾燥温度で充分である。塗膜の乾燥は揮発分
がほとんどなくなるまで行なうことも出来るが、
塗膜にクラツキングが発生するのを防止したり、
塗膜の透明性や層間接着力を長期間にわたつて維
持することが出来月る様に揮発分を塗膜中に0.5
〜10重量%残存させるのが有利である。揮発分の
うちでも水を0.3〜9重量%、アルコールを0〜
0.5重量%、ジメチルスルホキシド又はN−メチ
ル−2−ピロリドンを0.1〜2.5重量%の割合とな
る様、塗液の組成や乾燥条件を設定するのが望ま
しい かくしてエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化
物の透明な塗膜が形成されるわけであるが、その
膜厚は0.5〜10μ程度が実用的である。0.5μ以下で
は充分なガス遮断性が発揮し難く、一方10μ以上
の膜厚ではそのコントロールに困難を生じる。又
必要に応じて該塗膜上に更に塩化ビニリデン樹脂
コート、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体コート
等によつて防湿層を形成させることも勿論可能で
ある。得られる塗膜はエチレン−酢酸ビニル共重
合体ケン化物の単一層フイルム、シートはもとよ
りポリエステル、ポリオレフイン等にラミネート
した複合材料として食品、飲料、薬品、医薬等の
包装材料あるいは容器として有用である。実用性
が高い包装材料、容器の層構成としては代表的に
は膜厚10〜1000μの基材(ポリエステル、ポリエ
チレン等)/膜厚0.05〜3μのアンカーコート層/
膜厚0.5〜10μのエチレン−酢酸ビニル共重合体ケ
ン化物(揮発分含量0.5〜5重量%)あるいは上
記の構造のエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化
物層の上に更に膜厚0.5〜3μ程度の塩化ビニリデ
ン樹脂層、あるいは塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体層を設けたものである。その形状はフイルム
状、シート状、中空ビン、チユーブ等任意のもの
であつて良い。 以下、実例を挙げて本発明の方法を更に詳しく
説明する。%、部とあるのは特にことわりのない
限り、いずれも重量基準である。 実例 1 水30%、iso−プロピルアルコール60%、N−
メチル−2−ピロリドン10%を含む混合溶媒95部
とエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物(エチ
レン含量36モル%、ケン化度99.5モル%)5部を
加え40〜50℃にて1時間撹拌し透明な溶液を調製
した。一方膜厚50μのポリエチレンテレフタレー
ト製のフイルムにポリウレタン系接着剤主剤100
部、硬化剤6.5部、酢酸エチル1100部からなるポ
リウレタン系化合物溶液を用いて膜厚2μのアン
カーコート処理を施した。この様に処理したフイ
ルムを液温25℃の前後塗液に浸漬し、直ちに90℃
にて3分乾燥を行ない、水分含量1.5%、iso−プ
ロピルアルコール含量0.1%、N−メチル−2−
ピロリドン含量0.3%のエチレン−酢酸ビニル共
重合体ケン化物(膜厚6μ)の塗膜を形成させた。 該積層物の透明性をASTM D1003−52に従つ
て測定したところ、ヘイズ値は15%で極めて良好
な透明性を示した。 (基材のヘイズ値は14%) 又、酸素遮断性をASTM D1434−58に従つて
測定したところ、酸素透過率は8c.c.(NTP)/
m2・24hr・atmであり、良好なガス遮断性を示し
た。 更に層間接着強度を測定したところ、いずれの
層間接着力も極めて良好であつた。 又、上記積層物を65%RH、20℃の雰囲気下に
10日間放置してもクラツキング等の発生や透明性
の低下は認められず、外観、層間接着力はほとん
ど不変であつた。 対照例 1 実例1においてN−メチル−2−ピロリドンの
使用を省略した以外は同例と同一の実験を行なつ
たところ、ヘイズ値は82%、酸素透過率は42c.c.
(NTP)/m2・24hr・atmにいずれも低下した。
塗工時の液温を60℃まで上昇させたところ、上記
ヘイズ値は50%、酸素透過率は37c.c.(NTP)/
m2・24hr・atmであつた。 対照例 2、3 N−メチル−2−ピロリドンに代えてエチレン
ジアミンを用いた(対照例2)、及びiso−プロピ
ルアルコールに代えてエチルアルコールを用いた
(対照例3)以外は同例に準じて実験を行なつた。
ヘイズ値は対照例2が75%、対照例3が38%であ
り、酸素透過率は対照例2が42c.c.(NTP)/
m2・24hr・atm、対照例3が43c.c.(NTP)/
m2・24hr・atmに過ぎなかつた。 実例 2〜6、対照例 4〜9 第1表及び第2表に示す如き条件下で実例1に
準じて塗膜形成を行なつた。その結果を第1表、
第2表に示す。 但し、実例6においてはエチレン−酢酸ビニル
共重合体ケン化物層上に更に膜厚2μの塩化ビニ
リデン樹脂層を設けたものである。 尚、各基材の酸素透過率〔c.c.(NTP)/m2
24hr・atm〕は次の通りである。 OPP(二軸延伸ポリプロピレン)フイルム(60μ)
;800 LDPE(低密度ポリエチレン)フイルム(35μ)
;2100 PET(ポリエチレンテレフタレート)ビン
(300μ) ;5.5 PVC(ポリ塩化ビニル)ビン(400μ) ;8.6 PP(ポリプロピレン)ビン(500μ) ;205
【表】
【表】
【表】 略号の説明
* n−PrOH;n−プロピルアルコール D
;ジメチルスルホキシド
* iso−PrOH;iso−プロピルアルコール N
;N−メチル−2−ピロリドン
* tert−BuOH;tert−ブチルアルコール
【表】
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 エチレン含量25〜55モル%、酢酸ビニル成分
    のケン化度90モル%以上のエチレン−酢酸ビニル
    共重合体ケン化物の溶液を基材に塗布、乾燥して
    該ケン化物の塗膜を形成するに当たり、溶剤とし
    て (A) 水 10〜60重量% (B) プロピルアルコール、ブチルアルコール又は
    ベンジルアルコールの少なくとも1種
    5〜70重量% (C) ジメチルスルホキシドまたはN−メチル−2
    −ピロリドンの少なくとも1種 2〜60重量% からなる混合物を使用することを特徴とするエチ
    レン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の塗膜を形成
    する方法。 2 ポリウレタン系化合物でアンカーコートされ
    た基材を使用することを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の方法。 3 膜厚10〜1000μの基材/膜厚0.05〜3μのアン
    カーコート層からなる積層物に膜厚0.5〜10μのエ
    チレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物塗膜を形成
    させることを特徴とする特許請求の範囲第2項記
    載の方法。 4 エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の塗
    膜中の揮発分を0.5〜10重量%とすることを特徴
    とする特許請求の範囲第3項記載の方法。 5 エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の溶
    液として樹脂濃度0.5〜15重量%の溶液を使用す
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1〜4項の
    いずれか1項記載の方法。 6 エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の溶
    液を基材に塗布した後、30〜200℃、3秒〜5分
    の条件下に乾燥を行なうことを特徴とする特許請
    求の範囲第1〜4項のいずれか1項記載の方法。
JP23326783A 1983-12-09 1983-12-09 エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物の塗膜を形成する方法 Granted JPS60124663A (ja)

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