JPH0222454B2 - - Google Patents

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JPH0222454B2
JPH0222454B2 JP57215708A JP21570882A JPH0222454B2 JP H0222454 B2 JPH0222454 B2 JP H0222454B2 JP 57215708 A JP57215708 A JP 57215708A JP 21570882 A JP21570882 A JP 21570882A JP H0222454 B2 JPH0222454 B2 JP H0222454B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical disk
adhesive
spacer
substrate
substrates
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP57215708A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59107433A (ja
Inventor
Toshiharu Nakagawa
Yoshinori Fujimori
Nagao Kaneko
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP57215708A priority Critical patent/JPS59107433A/ja
Publication of JPS59107433A publication Critical patent/JPS59107433A/ja
Publication of JPH0222454B2 publication Critical patent/JPH0222454B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material

Landscapes

  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、集光したレーザ光により記録層に対
して情報を記録する光デイスクに関する。
〔発明の技術的背景〕
第1図は、光により情報を記録する光デイスク
の基本構造を示すものである。
すなわち光デイスクは、一面に光反射性材料
よりなる記録層2a,2bを有する2枚の合成樹
脂製光デイスク基板3a,3bを、記録層2a,
2bを内側にして相対向させ、それらの中心部間
および外周部間にそれぞれスペーサ4,5を介在
させ、これらのスペーサ4,5と各光デイスク基
板3a,3bとの間を接着して構成されている。
各光デイスク基板3a,3bは円板状をなす透明
のもので、中心孔6a,6bを有している。また
中心部のスペーサ4は中心孔を有する円板状をな
し、外周部のスペーサ5は円環状をなしている。
そして両光デイスク基板3a,3bと両スペーサ
4,5との間に平担な円環状空洞部7が形成され
ている。
〔背景技術の問題点〕
第1図に示すデイスクを製造する際、光デイ
スク基板3a,3bとスペーサ4a,4bとを強
固に接着するためには接着剤を接着面全面にわた
つてむらなく塗布することが望まれる。しかしな
がら接着面全面にわたつて接着剤をむらなく塗布
することはきわめて困難であり、かつ長時間を要
し、その結果、製造費が著しく高くなる欠点があ
つた。
〔発明の目的〕 本発明は前記事情にもとづいてなされたもの
で、その目的は、光デイスク基板とスペーサとを
強固にかつ短時間で容易に接着することを可能に
し、製造貴の安価な光デイスクを提供することに
ある。
〔発明の概要〕
本発明は、光デイスク基板とスペーサとの接着
面に接着剤を浸透させる接着剤浸透溝を形成する
とともに、光デイスク基板には上記接着剤浸透溝
に連通する接着剤注入孔を設け、注入孔より接着
剤を注入することにより光デイスク基板とスペー
サとを強固に、しかも短時間で容易に接着できる
ようにしたものである。
〔発明の実施例〕
本発明を第2図ないし第8図に示す実施例にも
とづいて説明する。
まず第2図および第3図に示す本発明の一実施
例について説明する。
光デイスク11は、一面に光反射性材料よりな
る記録層12a,12bを有する2枚の合成樹脂
製光デイスク基板13a,13bを、記録層12
a,12bを内側にして相対向させ、それらの中
心部間および外周部間にそれぞれスペーサ14,
15を介在させ、これらのスペーサ14,15と
各光デイスク基板13a,13bとの間を接着剤
16で接着して構成されている。各光デイスク基
板13a,13bは円板状をなす透明のもので、
中心孔17a,17bを有している。また中心部
のスペーサ14は中心孔を有する円板状をなし、
外周部のスペーサ15は円環状をなしている。そ
して両光デイスク基板13a,13bと両スペー
サ14,15との間に平坦な円環状空洞部18が
形成されている。
各スペーサ14,15の両面には第3図のよう
なうず巻状の接着剤浸透溝19,20が全面にわ
たつて形成されている(第3図には一方の面のみ
示す)。また各光デイスク基板13a,13bに
は、第2図に示すように複数の小孔すなわち接着
剤注入孔21a…,21b…が、接着剤浸透溝1
9,20に連通するように形成されている。
このような光デイスク11は、次のように製造
することができる。
一対の光デイスク基板13a,13bを、各記
録層12a,12bを内側にして相対向させ、そ
の間にスペーサ14,15を介挿する。この状態
で各光デイスク基板13a〜13bの各接着剤注
入孔21a…,21b…より、注射器等を使用し
て接着剤16を少量ずつ注入していくと、接着剤
16は接着剤浸透溝19,20を通してスペーサ
14,15の両面全域に行き渡る。そこで、接着
剤16の注入を止め、接着剤16を硬化させると
光デイスク11が完成する。
このような構成であれば、接着剤注入孔21a
…,21b…より注入された接着剤16はうず巻
状の接着剤浸透溝19,20を通して接着面の全
域に行き渡るので、光デイスク基板13a,13
bとスペーサ14,15とは強固に接着されるこ
とになる。また、接着剤16は単に接着剤注入孔
21a…,21b…を通して注入するだけでよい
ので短時間で容易に製造でき、その結果、製造費
の低減をはかることができる。
なお、上記実施例では接着剤浸透溝19,20
をスペーサ14,15側に設けるものとしたが、
第4図のように同様の浸透溝22,23を基板1
3a,13b側に設けても同様の作用効果を得る
ことができる。また接着剤浸透溝をうず巻状とせ
ず、同心円状に設けられた複数の円形溝としても
よい。ただし、この場合はすべての円形溝を連通
させておくか、または各円形溝ごとに接着剤注入
孔を連通させておく必要がある。また、一方の基
板13aのみに記録層12aを設け、他方の基板
13bは記録層のない単なる補強用の基板として
もよい。
さらに、第5図に示すように、スペーサ14,
15の両面にうず巻状または複数の円形状の凸部
24…,25…を設けてこれら凸部24…,25
…を光デイスク基板13a,13bに当接させ、
凸部24…間および凸部25…間が接着剤浸透溝
26…,27…となるようにしてもよい。
第6図は、第5図の変形例であつて、光デイス
ク基板13a,13b側に凸部28…,29…を
設け、凸部28…間および凸部29…間を接着剤
浸透溝30…,31…としているものである。
また第7図のように、スペーサ14,15の内
周部および外周部にのみ第5図と同様の凸部2
4,24および凸部25,25を設け、その凸部
24,24間および凸部25,25間を幅の広い
接着剤浸透溝32,33としたものである。
さらに第8図は第7図の変形例であつて、第7
図の凸部の代りに環状部材34,35,36,3
7を用い、これらを光デイスク基板13a,13
bとスペーサ14,15との間に介挿して還状部
材34,35間および36,37間を第7図と同
様の接着剤浸透溝32,33としたものである。
以上第4図ないし第8図の変形例においても第
2図および第3図の実施例と同様の作用効果が得
られる。
〔発明の効果〕
以上、本発明によれば、光デイスク基板とスペ
ーサとの接着面に接着剤を浸透させる接着剤浸透
溝を形成するとともに、光デイスク基板には上記
接着剤浸透溝に連通する接着剤注入孔を設けるこ
とにより、接着剤注入孔より注入された接着剤が
浸透溝に沿つて接着面にむらなく広がることにな
る。したがつて、光デイスク基板とスペーサとを
強固にかつ短時間で容易に接着することができ、
製造費の安価な光デイスクを提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光デイスクを一部断面にして示
す斜視図、第2図および第3図は本発明の一実施
例を示すもので、第2図は光デイスクを一部断面
にして示す斜視図、第3図はスペーサの平面図、
第4図ないし第8図はそれぞれ別の変形例を示す
部分断面図である。 11…光デイスク、12a,12b…記録層、
13a,13b…合成樹脂製光デイスク基板、1
4,15…スペーサ、16…接着剤、22,2
3,26,27,30,31,32,33…接着
剤浸透溝、21a,21b…接着剤注入孔。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 少なくとも一方が一面に記録層を有しその記
    録層を内側にして相対向する一対の光デイスク基
    板と、両光デイスク基板の内側に接着されて両光
    デイスク基板を一体化するスペーサと、各光デイ
    スク基板およびスペーサ相互の接着面に周方向に
    形成された接着剤浸透溝と、この接着剤浸透溝に
    連通して各光デイスク基板に形成された接着剤注
    入孔とを具備したことを特徴とする光デイスク。 2 前記接着剤浸透溝はうず巻状溝または複数の
    同心円状溝である特許請求の範囲第1項記載の光
    デイスク。 3 前記一対の光デイスク基板の一方は記録層を
    有し、他方は記録層を有しない補強用の基板であ
    る特許請求の範囲第1項記載の光デイスク。
JP57215708A 1982-12-09 1982-12-09 光デイスク Granted JPS59107433A (ja)

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JP57215708A JPS59107433A (ja) 1982-12-09 1982-12-09 光デイスク

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JP57215708A JPS59107433A (ja) 1982-12-09 1982-12-09 光デイスク

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JPS59107433A JPS59107433A (ja) 1984-06-21
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS639044A (ja) * 1986-06-30 1988-01-14 Pioneer Electronic Corp 光学式情報記録担体
JPS639043A (ja) * 1986-06-30 1988-01-14 Pioneer Electronic Corp 光学式情報記録担体
JPH01267857A (ja) * 1988-04-20 1989-10-25 Hitachi Maxell Ltd 光情報記録媒体およびその製造方法
KR0165297B1 (ko) * 1994-11-09 1999-03-20 김광호 다층 정보디스크 및 그 제조방법
JP4951435B2 (ja) * 2007-07-26 2012-06-13 ペンタックスリコーイメージング株式会社 操作装置

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