JPH02219267A - 光電変換装置 - Google Patents
光電変換装置Info
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- JPH02219267A JPH02219267A JP1039237A JP3923789A JPH02219267A JP H02219267 A JPH02219267 A JP H02219267A JP 1039237 A JP1039237 A JP 1039237A JP 3923789 A JP3923789 A JP 3923789A JP H02219267 A JPH02219267 A JP H02219267A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は光電変換装置に関し、特に耐環境特性を向上さ
せた光電変換装置に関する。
せた光電変換装置に関する。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]一般に
、ファクシミリ等の画像読取装置に用いられる光電変換
装置はセンサ基板上に光センサ部を配置してなり、そし
て該光電変換装置においてはセンサ部を保護するために
パッシベーションと呼ばれる構造が採用されている。
、ファクシミリ等の画像読取装置に用いられる光電変換
装置はセンサ基板上に光センサ部を配置してなり、そし
て該光電変換装置においてはセンサ部を保護するために
パッシベーションと呼ばれる構造が採用されている。
第5図は従来のパッシベーションの一例を示す図であり
、ガラスからなるセンサ基板1の表面上に光センサ部8
が配置されており、該光センサ部を覆ってポリイミド樹
脂層30、接着剤層29及び薄板ガラス32がこの順に
積層されている。この構造は、薄板ガラス32の幅りが
センサ基板1の幅立と同一であり、これら薄板ガラス及
びセンサ基板の幅方向端縁は揃えられており、接着剤層
29の幅方向端縁もこれらと揃えられている。
、ガラスからなるセンサ基板1の表面上に光センサ部8
が配置されており、該光センサ部を覆ってポリイミド樹
脂層30、接着剤層29及び薄板ガラス32がこの順に
積層されている。この構造は、薄板ガラス32の幅りが
センサ基板1の幅立と同一であり、これら薄板ガラス及
びセンサ基板の幅方向端縁は揃えられており、接着剤層
29の幅方向端縁もこれらと揃えられている。
ところで、上記センサ基板l及び薄板ガラス32は非透
湿性であり、これらを通って外気中の湿気が光センサ部
8へと侵入することはないが、これらと接着剤層29と
の界面及び接着剤層自体を通って外気中の湿気が光セン
サ部8へと侵入することがあり、このため長時間経過後
には光センサ部8の特性が湿気により劣化することがあ
る。
湿性であり、これらを通って外気中の湿気が光センサ部
8へと侵入することはないが、これらと接着剤層29と
の界面及び接着剤層自体を通って外気中の湿気が光セン
サ部8へと侵入することがあり、このため長時間経過後
には光センサ部8の特性が湿気により劣化することがあ
る。
これを防止するためには、上記薄板ガラス32の幅り及
びセンサ基板lの幅立をいずれも大きくすればよい。し
かし、該センサ基板は1枚の大きなガラス板の表面に多
数の光センサ部8を形成した後に該ガラス板を切断して
得られるが、センサ基板の幅を大きくすることは、1枚
のガラス板からの取り数が少なくなることを意味し、か
くしてコスト高になるという難点がある。
びセンサ基板lの幅立をいずれも大きくすればよい。し
かし、該センサ基板は1枚の大きなガラス板の表面に多
数の光センサ部8を形成した後に該ガラス板を切断して
得られるが、センサ基板の幅を大きくすることは、1枚
のガラス板からの取り数が少なくなることを意味し、か
くしてコスト高になるという難点がある。
第6図は従来のパッシベーションの他の一例を示す図で
ある。この例では、大きなセンサ基板1上に光センサ部
8が配置されており、該光センサ部を覆って接着剤層2
9及び薄板ガラス32がこの順に積層されている。ここ
で、センサ基板lの幅又は薄板ガラス32の幅りよりも
十分に大きく、接着剤層29の幅は該薄板ガラス32の
幅とほぼ同一である。本例では、またセンサ基板l上に
駆動回路部50も配置されている。
ある。この例では、大きなセンサ基板1上に光センサ部
8が配置されており、該光センサ部を覆って接着剤層2
9及び薄板ガラス32がこの順に積層されている。ここ
で、センサ基板lの幅又は薄板ガラス32の幅りよりも
十分に大きく、接着剤層29の幅は該薄板ガラス32の
幅とほぼ同一である。本例では、またセンサ基板l上に
駆動回路部50も配置されている。
しかして、この構造では、もともとセンサ基板1の幅文
が大きいことによりコスト高であることに加えて、耐湿
性を改良しようとすれば薄板ガラス32の幅りを更に大
きくする必要があり、このためセンサ基板lの幅を更に
大きくする必要があり、ますますコスト高となる。
が大きいことによりコスト高であることに加えて、耐湿
性を改良しようとすれば薄板ガラス32の幅りを更に大
きくする必要があり、このためセンサ基板lの幅を更に
大きくする必要があり、ますますコスト高となる。
第7図は、上記パッシベーションとはその趣旨が異なる
が、関連した技術として従来の光センサアレイのパッケ
ージ構成の一例を示す図である。
が、関連した技術として従来の光センサアレイのパッケ
ージ構成の一例を示す図である。
この例では、セラミック等の基板lに四部が形成されて
おり、該凹部内にCCDチップ8aが配置されている。
おり、該凹部内にCCDチップ8aが配置されている。
そして基板1上にはパッケージ用のガラス32が接着剤
層29aにより接着されており、該薄板ガラス32によ
り上記凹部が密閉されている。ここでは接着剤層29a
として低融点ガラスを用いている。
層29aにより接着されており、該薄板ガラス32によ
り上記凹部が密閉されている。ここでは接着剤層29a
として低融点ガラスを用いている。
しかして、この構造では、CCDチップ8aとガラス3
2との間隔52が1mm程度あるため、封1Fはできて
も該ガラス32上を読取画像担持体たる原稿を接触走行
させる読取り形式(密着型)の光電変換装置の構成には
適用できない。
2との間隔52が1mm程度あるため、封1Fはできて
も該ガラス32上を読取画像担持体たる原稿を接触走行
させる読取り形式(密着型)の光電変換装置の構成には
適用できない。
以上の様に、従来の光電変換装置のパッジベージ冒ンで
は、密着型が可能で且つ低コストにて耐湿性を高めるこ
とは困難であった。
は、密着型が可能で且つ低コストにて耐湿性を高めるこ
とは困難であった。
そこで、本発明は、上記の様な従来技術の問題点に鑑み
、密着型が可能で且つ低コストにて耐湿性を高めること
のできるパッシベーションを有する光電変換装置を提供
することを目的とする。
、密着型が可能で且つ低コストにて耐湿性を高めること
のできるパッシベーションを有する光電変換装置を提供
することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
本発明によれば、以上の如き目的を達成するものとして
、 非透湿性センサ基体上に光センサ部が配置されており、
該センサ基体の上方には上記光センサ部を覆う様に非透
湿性保護部材が配置されており、該保護部材と上記セン
サ基体との間にはこれらを接着する接着剤層が設けられ
ている光電変換装置において、少なくとも1つの横方向
に関して上記保護部材の端縁が上記センサ基体の端縁よ
りも外方に突出しており且つ上記接着剤層の上記保護部
材との接触面の端縁が上記センサ基体の端縁よりも外方
に位置していることを特徴とする、光電変換装置、 が提供される。
、 非透湿性センサ基体上に光センサ部が配置されており、
該センサ基体の上方には上記光センサ部を覆う様に非透
湿性保護部材が配置されており、該保護部材と上記セン
サ基体との間にはこれらを接着する接着剤層が設けられ
ている光電変換装置において、少なくとも1つの横方向
に関して上記保護部材の端縁が上記センサ基体の端縁よ
りも外方に突出しており且つ上記接着剤層の上記保護部
材との接触面の端縁が上記センサ基体の端縁よりも外方
に位置していることを特徴とする、光電変換装置、 が提供される。
本発明においては、保護部材上を読取画像担持体が接触
走行せしめられるものとすることができる。
走行せしめられるものとすることができる。
また、本発明においては、保護部材及び接着剤層が透光
性を有するものとすることができる。
性を有するものとすることができる。
[実施例]
以下、図面を参照しながら本発明の具体的実施例を説明
する。
する。
実施例1:
第1図(A)は本発明光電変換装置の第1の実施例を示
す部分平面図であり、第1図(B)(C)はそれぞれそ
のB−B ’断面図、c−c ’断面図である。
す部分平面図であり、第1図(B)(C)はそれぞれそ
のB−B ’断面図、c−c ’断面図である。
これらの図において、1はガラスからなるセンサ基板で
ある。
ある。
また、lOはマトリクス配線部、8は光センサ部、12
は電荷蓄積部、13は転送用スイッチ13a及び電荷蓄
積部12の電荷をリセットする放電用スイッチ13bを
含むスイッチ部、14は転送用スイッチの信号出力を信
号処理部に接続する配線、23は転送用スイッチ13a
によって転送される電荷を蓄積し、読み出すための負荷
コンデンサである。
は電荷蓄積部、13は転送用スイッチ13a及び電荷蓄
積部12の電荷をリセットする放電用スイッチ13bを
含むスイッチ部、14は転送用スイッチの信号出力を信
号処理部に接続する配線、23は転送用スイッチ13a
によって転送される電荷を蓄積し、読み出すための負荷
コンデンサである。
本実施例では、光センサ部8、転送用スイッチ13a及
び放電用スイッチ13bを構成する光導電性半導体層4
としてA−3i:H膜が用いられ、絶縁層3としてグロ
ー放電による窒化シリコン膜(S t NH)が用いら
れている。
び放電用スイッチ13bを構成する光導電性半導体層4
としてA−3i:H膜が用いられ、絶縁層3としてグロ
ー放電による窒化シリコン膜(S t NH)が用いら
れている。
尚、第1図(A)においては、煩雑さを避けるために、
光導電性半導体層4及び絶縁層3、ならびに保護層29
.30及び32は図示していない。また、光導電性半導
体層4及び絶縁層3は光センサ部8、電荷蓄積部12、
転送用スイッチ13a及び放電用スイッチ13bに形成
されているほか、上層電極配線とセンサ基板1との間に
も形成されている。更に、上層電極配線と光導電性半導
体層との界面にはn にドープされたA−5i:8層5
が形成され、オーミック接合がとられている。
光導電性半導体層4及び絶縁層3、ならびに保護層29
.30及び32は図示していない。また、光導電性半導
体層4及び絶縁層3は光センサ部8、電荷蓄積部12、
転送用スイッチ13a及び放電用スイッチ13bに形成
されているほか、上層電極配線とセンサ基板1との間に
も形成されている。更に、上層電極配線と光導電性半導
体層との界面にはn にドープされたA−5i:8層5
が形成され、オーミック接合がとられている。
また、本実施例の配線パターンでは、各センサ部から出
力される信号経路は全て他の配線と交差しない様に配線
されており、各信号成分間のクロストークならびにゲー
ト電極配線からの誘導ノイズの発生を防止している。
力される信号経路は全て他の配線と交差しない様に配線
されており、各信号成分間のクロストークならびにゲー
ト電極配線からの誘導ノイズの発生を防止している。
光センサ部8において、16及び17は上層電極配線で
ある。入射窓19から入射され、保護層32上に接触配
置されている原稿面(図示されていない)で反射された
照明光はA−5i:Hたる光導電性半導体層4の導電率
を変化させ、くし状に対向する上層電極配線16.17
間に流れる電流を変化させる。尚、2は適宜の駆動部に
接続された金属の遮光層であり、光源から直接光がセン
サ部に入射するのを防いでいる。
ある。入射窓19から入射され、保護層32上に接触配
置されている原稿面(図示されていない)で反射された
照明光はA−5i:Hたる光導電性半導体層4の導電率
を変化させ、くし状に対向する上層電極配線16.17
間に流れる電流を変化させる。尚、2は適宜の駆動部に
接続された金属の遮光層であり、光源から直接光がセン
サ部に入射するのを防いでいる。
電荷蓄積部12は、下層電極配線14と、該下層電極配
線に形成された絶縁層3と光導電性半導体層4との誘電
体と、光導電性半導体層4上に形成され光センサ部の、
に1層電極配線17に連続した配線とから構成される。
線に形成された絶縁層3と光導電性半導体層4との誘電
体と、光導電性半導体層4上に形成され光センサ部の、
に1層電極配線17に連続した配線とから構成される。
この電荷蓄積部12の構造はいわゆるMIS (Met
al−Insulator−Semiconducto
r)コンデンサと同じ構造である。バイアス条件は正負
いずれでも用いることができるが、下層電極配線14を
常に負にバイアスする状態で用いることにより、安定な
容量と周波数特性を得ることができる。
al−Insulator−Semiconducto
r)コンデンサと同じ構造である。バイアス条件は正負
いずれでも用いることができるが、下層電極配線14を
常に負にバイアスする状態で用いることにより、安定な
容量と周波数特性を得ることができる。
第1図(C)は転送用スイッチ13a及び放電用スイッ
チ13bを含むTFT構造のスイッチ13を示し、転送
用スイッチ13aはゲート電極たる下層電極配線24と
ゲート絶縁層をなす絶縁層3と光導電性半導体層4とソ
ース電極たる上層電極配線25とドレイン電極たる上層
電極配線17等とから構成される。放電用スイッチ13
bのゲート絶縁層及び光導電性半導体層は絶縁層3及び
光導電性半導体層4と同一層であり、ソース電極は上層
電極配線17、ゲート電極は下層電極配線27、ドレイ
ン電極は上層電極配線26である。また、33は転送用
スイッチ13aのゲート電極に接続される下層配線であ
る。
チ13bを含むTFT構造のスイッチ13を示し、転送
用スイッチ13aはゲート電極たる下層電極配線24と
ゲート絶縁層をなす絶縁層3と光導電性半導体層4とソ
ース電極たる上層電極配線25とドレイン電極たる上層
電極配線17等とから構成される。放電用スイッチ13
bのゲート絶縁層及び光導電性半導体層は絶縁層3及び
光導電性半導体層4と同一層であり、ソース電極は上層
電極配線17、ゲート電極は下層電極配線27、ドレイ
ン電極は上層電極配線26である。また、33は転送用
スイッチ13aのゲート電極に接続される下層配線であ
る。
更に、第1図(B)、(C)に示される様に、光センサ
部8上に3層構造の保護層30 、29 。
部8上に3層構造の保護層30 、29 。
32が形成されている。第1の保護層30としては、光
センサ部8等に直接液するものであるので、光センサ部
8等の表面を安定化させることが可能な高純度の材料と
してS i 02膜や5iNH膜等の無機膜あるいは容
易に膜形成ができることからポリイミド樹脂等の有機膜
が用いられる。第2の保護層29としては、耐湿性を向
上させるために密着性の良いエポキシ樹脂等を用いる。
センサ部8等に直接液するものであるので、光センサ部
8等の表面を安定化させることが可能な高純度の材料と
してS i 02膜や5iNH膜等の無機膜あるいは容
易に膜形成ができることからポリイミド樹脂等の有機膜
が用いられる。第2の保護層29としては、耐湿性を向
上させるために密着性の良いエポキシ樹脂等を用いる。
そして、第3の保護層32としては、非透湿性であり、
耐摩耗性及び光透過率が高い材料としてホウケイ酸ガラ
ス等の薄板ガラスを用いる。尚、第2の保護層29は本
発明における接着剤層としての機能を有し、第3の保護
層32は本発明における保護部材としての機能を有して
いる。
耐摩耗性及び光透過率が高い材料としてホウケイ酸ガラ
ス等の薄板ガラスを用いる。尚、第2の保護層29は本
発明における接着剤層としての機能を有し、第3の保護
層32は本発明における保護部材としての機能を有して
いる。
第1図CB)に示される様に、薄板ガラス32の幅りは
センサ基板1の幅見よりも大きく、更に該薄板ガラスの
双方の端縁はセンサ基板1の各端縁よりもΔ見だけ外方
に突出している。そして、接着剤層29は両端縁におい
て上部はど外方へと突出していて、薄板ガラス32との
接触面では該薄板ガラスの端縁部まで延びており、また
センサ基板lとの接触面では該センサ基板の側面まで延
びている。
センサ基板1の幅見よりも大きく、更に該薄板ガラスの
双方の端縁はセンサ基板1の各端縁よりもΔ見だけ外方
に突出している。そして、接着剤層29は両端縁におい
て上部はど外方へと突出していて、薄板ガラス32との
接触面では該薄板ガラスの端縁部まで延びており、また
センサ基板lとの接触面では該センサ基板の側面まで延
びている。
従って、本実施例では、上記第5図の従来例に比べて、
接着剤層29と薄板ガラス32との界面が幅方向に6文
だけ長くなり、また接着剤層29とセンサ基板1との界
面も長くなり、更に該接着剤層29自体の幅も長くなる
。このため、外気中の湿気が光センサ部8へと侵入する
のを抑制することができる。
接着剤層29と薄板ガラス32との界面が幅方向に6文
だけ長くなり、また接着剤層29とセンサ基板1との界
面も長くなり、更に該接着剤層29自体の幅も長くなる
。このため、外気中の湿気が光センサ部8へと侵入する
のを抑制することができる。
第2図は本実施例と上記第5図の従来例との経時特性変
化の比較を示す図である。
化の比較を示す図である。
即ち、上記幅方向端縁部の形態のみL記実施例と異なり
Jlj=6mmでΔ文−〇の従来例と文=6mmでΔJ
1=1mmの上記本発明実施例とで暗電流特性の経時変
化を調べたところ、第2図の様になった。本発明実施例
が耐環境特性の高いことが分る。
Jlj=6mmでΔ文−〇の従来例と文=6mmでΔJ
1=1mmの上記本発明実施例とで暗電流特性の経時変
化を調べたところ、第2図の様になった。本発明実施例
が耐環境特性の高いことが分る。
また、本実施例では、センサ基板lの幅を大きくしない
ので、該センサ基板上に光センサ部8等の機能要素を形
成する際にガラス板からの多数個取りの個数を少なくす
る必要がなく、高コスト化にはならない。
ので、該センサ基板上に光センサ部8等の機能要素を形
成する際にガラス板からの多数個取りの個数を少なくす
る必要がなく、高コスト化にはならない。
実施例2:
第3図は本発明光電変換装どの第2の実施例を示す部分
断面図であり、上記第1図(B)と同様の部分を示す。
断面図であり、上記第1図(B)と同様の部分を示す。
第3図において、第1図におけると同様の部材には同一
の符号が付されている。
の符号が付されている。
本実施例では薄板ガラス32の幅方向端縁が下方へと曲
げられており、該端縁部とセンサ基板lの側面との間に
も接着剤層29が介在せしめられている。
げられており、該端縁部とセンサ基板lの側面との間に
も接着剤層29が介在せしめられている。
本実施例によれば、上記実施例1と同様に、接着剤層2
9と薄板ガラス32との界面が長くなり、また接着剤層
29とセンサ基板lとの界面も長くなり、更に該接着剤
層29自体の幅も長くなる。このため、外気中の湿気が
光センサ部8へと侵入するのを抑制することができる。
9と薄板ガラス32との界面が長くなり、また接着剤層
29とセンサ基板lとの界面も長くなり、更に該接着剤
層29自体の幅も長くなる。このため、外気中の湿気が
光センサ部8へと侵入するのを抑制することができる。
加えて、本実施例では、接着剤層29と外気との接触面
積が小さいので、該接着剤層自体を通って侵入する湿気
を一層少なくすることができる。
積が小さいので、該接着剤層自体を通って侵入する湿気
を一層少なくすることができる。
裏惠舅3:
第4図は本発明光電変換装置の第3の実施例を示す部分
断面図であり、−上記第1図(B)と同様の部分を示す
。第4図において、第1図におけると同様の部材には同
一の符号が付されている。
断面図であり、−上記第1図(B)と同様の部分を示す
。第4図において、第1図におけると同様の部材には同
一の符号が付されている。
本実施例では、センサ基板lの下に該センサ基板の幅よ
り大きな幅の支持基板40を配置し、該支持基板の両端
縁をセンサ基板の両端縁よりも外方へと突出させておき
、接着剤29層を薄板ガラス29からセンサ基板1の側
面を経て支持基板上まで形成している。上記支持基板と
しては青板ガラス等のガラスを用いることができる。
り大きな幅の支持基板40を配置し、該支持基板の両端
縁をセンサ基板の両端縁よりも外方へと突出させておき
、接着剤29層を薄板ガラス29からセンサ基板1の側
面を経て支持基板上まで形成している。上記支持基板と
しては青板ガラス等のガラスを用いることができる。
本実施例によれば、上記実施例1と同様に、接着剤層2
9と薄板ガラス32との界面が長くなり、また接着剤層
29とセンサ基板1との界面に接着剤層29と支持基板
40との界面も追加されて湿気の侵入経路が一層長くな
り、更に該接着剤層29自体の幅も長くなる。このため
、外気中の湿気が光センサ部8へと侵入するのを抑制す
ることができる。
9と薄板ガラス32との界面が長くなり、また接着剤層
29とセンサ基板1との界面に接着剤層29と支持基板
40との界面も追加されて湿気の侵入経路が一層長くな
り、更に該接着剤層29自体の幅も長くなる。このため
、外気中の湿気が光センサ部8へと侵入するのを抑制す
ることができる。
[発明の効果]
以上、詳細に説明した様に、本発明によれば、密着型が
可能で且つ低コストにて耐湿性を高めることのできる光
電変換装置を提供することができる。
可能で且つ低コストにて耐湿性を高めることのできる光
電変換装置を提供することができる。
第1図(A)は本発明光電変換装置の第1の実施例を示
す部分平面図であり、第1図(B)(C)はそれぞれそ
のB−B ”断面図、C−C’断面図である。 第2図は本発明実施例と従来例との経時特性変化の比較
を示す図である。 第3図は本発明光電変換装置の第2の実施例を示す部分
断面図である。 第4図は本発明光電変換装置の第3の実施例を示す部分
断面図である。 第5図及び第6図は従来のパッシベーションの例を示す
図である。 第7図は従来の光センサアレイのパッケージ構成の一例
を示す図である。 1:センサ基板、 8:光センサ部、29:接着剤
層、 32 :@板ガラス、40:支持基板。
す部分平面図であり、第1図(B)(C)はそれぞれそ
のB−B ”断面図、C−C’断面図である。 第2図は本発明実施例と従来例との経時特性変化の比較
を示す図である。 第3図は本発明光電変換装置の第2の実施例を示す部分
断面図である。 第4図は本発明光電変換装置の第3の実施例を示す部分
断面図である。 第5図及び第6図は従来のパッシベーションの例を示す
図である。 第7図は従来の光センサアレイのパッケージ構成の一例
を示す図である。 1:センサ基板、 8:光センサ部、29:接着剤
層、 32 :@板ガラス、40:支持基板。
Claims (3)
- (1)非透湿性センサ基体上に光センサ部が配置されて
おり、該センサ基体の上方には上記光センサ部を覆う様
に非透湿性保護部材が配置されており、該保護部材と上
記センサ基体との間にはこれらを接着する接着剤層が設
けられている光電変換装置において、少なくとも1つの
横方向に関して上記保護部材の端縁が上記センサ基体の
端縁よりも外方に突出しており且つ上記接着剤層の上記
保護部材との接触面の端縁が上記センサ基体の端縁より
も外方に位置していることを特徴とする、光電変換装置
。 - (2)保護部材上を読取画像担持体が接触走行せしめら
れる、請求項1に記載の光電変換装置。 - (3)センサ基体、保護部材及び接着剤層が透光性を有
する、請求項1または2に記載の光電変換装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1039237A JP2554159B2 (ja) | 1989-02-21 | 1989-02-21 | 光電変換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1039237A JP2554159B2 (ja) | 1989-02-21 | 1989-02-21 | 光電変換装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02219267A true JPH02219267A (ja) | 1990-08-31 |
JP2554159B2 JP2554159B2 (ja) | 1996-11-13 |
Family
ID=12547526
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1039237A Expired - Fee Related JP2554159B2 (ja) | 1989-02-21 | 1989-02-21 | 光電変換装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2554159B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020148381A1 (en) | 2019-01-18 | 2020-07-23 | Trinamix Gmbh | Optical sensor and detector for an optical detection |
-
1989
- 1989-02-21 JP JP1039237A patent/JP2554159B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020148381A1 (en) | 2019-01-18 | 2020-07-23 | Trinamix Gmbh | Optical sensor and detector for an optical detection |
CN113302750A (zh) * | 2019-01-18 | 2021-08-24 | 特里纳米克斯股份有限公司 | 光学传感器和用于光学检测的检测器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2554159B2 (ja) | 1996-11-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |