JPH02212359A - 磁器組成物 - Google Patents
磁器組成物Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は磁器コンデンサーに用いられる誘電特性を示す
磁器組成物に関するものである。
磁器組成物に関するものである。
従来の技術
従来チタン酸バリウムやチタン酸ストロンチウムは高誘
電率で温度特性等も非常に良いが、反面焼成温度が13
oO〜1500’Cと高く燃料費やPt 、Pd等の高
価な貴金属を使用するためにコスト的に必ず゛しも経済
的なものといえなかった。
電率で温度特性等も非常に良いが、反面焼成温度が13
oO〜1500’Cと高く燃料費やPt 、Pd等の高
価な貴金属を使用するためにコスト的に必ず゛しも経済
的なものといえなかった。
又低温焼結を行うとしても焼結性の問題が11100°
Cでは十分とは言えなかった。例えばチタン酸バリウム
では1360℃の焼成温度では見かけの誘電率は300
0程度のものを得ることは容易である。やむなく低温で
焼成を行、うには−旦1300〜1600℃で焼成した
後微粉砕してBi2O3やPbo等の低融点物質を添加
して焼成する等・の方法がある。しかしこの方法では燃
料費の節約に結びつかず、又誘電率が数十から数百程度
にダウンする等の問題があった。
Cでは十分とは言えなかった。例えばチタン酸バリウム
では1360℃の焼成温度では見かけの誘電率は300
0程度のものを得ることは容易である。やむなく低温で
焼成を行、うには−旦1300〜1600℃で焼成した
後微粉砕してBi2O3やPbo等の低融点物質を添加
して焼成する等・の方法がある。しかしこの方法では燃
料費の節約に結びつかず、又誘電率が数十から数百程度
にダウンする等の問題があった。
又半導体型チタン酸ストロンチウムコンデンサ−では上
記の方法では再酸化の問題があり十分使用に耐えるもの
ではなかった。チタン酸鉛系を主体としたものでは焼成
温度も900°Cと低く見かけの誘電率が数千程度と高
いものもあるが、温度特性や鉛が比較的飛びやすく管理
がむつかしい等の問題点があった。
記の方法では再酸化の問題があり十分使用に耐えるもの
ではなかった。チタン酸鉛系を主体としたものでは焼成
温度も900°Cと低く見かけの誘電率が数千程度と高
いものもあるが、温度特性や鉛が比較的飛びやすく管理
がむつかしい等の問題点があった。
又超伝導体であるB a P bo 、 ys B 1
0.2 s Osは抵抗値が低く常温では数+mΩ程度
であり、コンデンサーとはなり得ない。
0.2 s Osは抵抗値が低く常温では数+mΩ程度
であり、コンデンサーとはなり得ない。
発明が解決しようとする課題
従来のチタン酸バリウムやチタン酸ストロンチウムは焼
成温度が1300〜1600℃と高く燃料費や電極材料
として使用するPt、Pd等の高価な貴金属を使用する
ためにコスト的に割高なものとなっている。一方、焼成
温度を下げてやればAq等の低コストのものが電極材料
として使用できるために燃料費や材料費の点で大幅なコ
ストダウンとなるが、焼結性の問題があった。他のチタ
ン酸鉛系も焼成温度は900’Cと低いが温度特性で大
きな問題があった。
成温度が1300〜1600℃と高く燃料費や電極材料
として使用するPt、Pd等の高価な貴金属を使用する
ためにコスト的に割高なものとなっている。一方、焼成
温度を下げてやればAq等の低コストのものが電極材料
として使用できるために燃料費や材料費の点で大幅なコ
ストダウンとなるが、焼結性の問題があった。他のチタ
ン酸鉛系も焼成温度は900’Cと低いが温度特性で大
きな問題があった。
本発明は低温焼成が可能で、温度特性の良好な磁器組成
物を提供しようとするものである。
物を提供しようとするものである。
課題を解決するための手段
本発明はBt203−BaO−PbO−TiO2系を組
成とする磁器コンデンサーに用いられる磁器組成物にお
いて、Bi2O3を16.7〜33.3モルチ。
成とする磁器コンデンサーに用いられる磁器組成物にお
いて、Bi2O3を16.7〜33.3モルチ。
BaOを10〜35−E:/L/%、pboを10〜4
0モル% 、 T 102を16.7〜33.3モル%
、 SrOを5〜26モル%,トータルで100モル
チの配合としたものである。この際BaOとSrOは、
いずれか一方のみ、またはBaOとSrOを併用したも
のである。
0モル% 、 T 102を16.7〜33.3モル%
、 SrOを5〜26モル%,トータルで100モル
チの配合としたものである。この際BaOとSrOは、
いずれか一方のみ、またはBaOとSrOを併用したも
のである。
作 用
本発明はビスマス酸化物の層状構造を利用することによ
り、誘電特性を得ようとするもので、80°C〜11o
O°Cで焼成することができ、所望の磁器コンデンサー
を得ることが可能となる。
り、誘電特性を得ようとするもので、80°C〜11o
O°Cで焼成することができ、所望の磁器コンデンサー
を得ることが可能となる。
実施例
以下本発明の詳細な説明する。
実施例1
BiO25モルチ
BaO25モルチ
TiO225モルチ
PbO25モルチ
上記の配合で円形板状に成形し、1000′Cで2時間
焼成することにより誘電率60の焼成体を得た。収縮率
18.4チであった。tanδは1チであった。絶縁抵
抗値は20MΩ〉で、実用的な組成であった。第1図に
磁器組成物の構成を、第2図に温度−焼成曲線を示す。
焼成することにより誘電率60の焼成体を得た。収縮率
18.4チであった。tanδは1チであった。絶縁抵
抗値は20MΩ〉で、実用的な組成であった。第1図に
磁器組成物の構成を、第2図に温度−焼成曲線を示す。
なお、第1図において、1は誘電体本体、2はACJ−
Pd電極である。
Pd電極である。
実施例2
BiOO333,3+1ニル%
T 102 1 e −7モルチBaO
25モル% PbO25モルチ 上記の配合で1000’Cで2時間焼成することによシ
誘電率40の焼成体を得た。収縮率は16チであった。
25モル% PbO25モルチ 上記の配合で1000’Cで2時間焼成することによシ
誘電率40の焼成体を得た。収縮率は16チであった。
tanδは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であ
ったので、実用的な組成であった。
ったので、実用的な組成であった。
比較例1
Bi O33,3モル%
TiO21e −7モルチ
BaO50モルチ
pbo ooモルチ
上記の配合で850’Cで2時間焼成することにより誘
電率3ooの焼成体を得た。収縮率は17チであシ、t
anδは60%であった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であ
ったが実用的な組成でなかった。
電率3ooの焼成体を得た。収縮率は17チであシ、t
anδは60%であった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であ
ったが実用的な組成でなかった。
比較例2
B iO1o 、 O−1: tv %BaO50モル
チ TiO40,0モル% PbOooモルチ 上記の配合でBaO°Cで2時間焼成することにより誘
電率350の焼成体を得た。収縮率は18チであシ、t
anδは60チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であ
ったが、実用的な組成ではなかった。
チ TiO40,0モル% PbOooモルチ 上記の配合でBaO°Cで2時間焼成することにより誘
電率350の焼成体を得た。収縮率は18チであシ、t
anδは60チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であ
ったが、実用的な組成ではなかった。
実施例3
Bi O16,7モルチ
TiO3s、3モtv%
PbO25モルチ
BaO25モルチ
上記の配合で950°Cで2時間焼成することにより誘
電率4oの焼成体を得た。収縮率は16%であった。t
anδは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であっ
たので、実用的な組成であった。
電率4oの焼成体を得た。収縮率は16%であった。t
anδは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であっ
たので、実用的な組成であった。
実施例4
BiO16,7モルチ
T z O233−3モル%
Pbo 40モルチ
BaO10モルチ
上記の配合で950°Cで2時間焼成することによシ誘
電率70の焼成体を得た。収縮率は17チであった。t
anδは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であっ
たので、実用的な組成であった。
電率70の焼成体を得た。収縮率は17チであった。t
anδは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であっ
たので、実用的な組成であった。
比較例3
Bi O16,7モル%
7102 33.3モルチ
PbO10モルチ
BaO40モルチ
上記の配合で850°Cで2時間焼成することによシ誘
電率450の焼成体を得た。収縮率は2゜チであった。
電率450の焼成体を得た。収縮率は2゜チであった。
tanδは4oチであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉で
あったが、実用的な組成でなかった。
あったが、実用的な組成でなかった。
比較例4
B120326.0モルチ
TiO225,0モルチ
′Pb0 1oモルチ
Ba0 4oモ/L/%
上記の配合で8.50’Cで2時間焼成することにより
誘電率300の焼成体を得た。収縮率は17チであった
。tanδは36チであった。絶縁抵抗値は20.MΩ
〉であったが、実用的な組成でなかった。
誘電率300の焼成体を得た。収縮率は17チであった
。tanδは36チであった。絶縁抵抗値は20.MΩ
〉であったが、実用的な組成でなかった。
実施例6
Bi O2s、oモ1vqb
’l’io 25.0モルチ
PbO40モルチ
Bao 1o−E:lv%
上記の配合で860°Cで2時間焼成することによシ誘
電率70の焼成体を得た。収縮率は15%であった。t
an Jは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であ
ったので実用的な組成であった。
電率70の焼成体を得た。収縮率は15%であった。t
an Jは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であ
ったので実用的な組成であった。
実施例6
Bt20325モルチ
PbO35モルチ
BaO15モルチ
TiO25モルチ
上記の配合で860°Cで2時間焼成することによシ誘
電率90の焼成体を得た。収縮率は20%であり、ta
nδは2チであった。絶縁抵抗値は20MQ)であった
ので実用的な組成であった。
電率90の焼成体を得た。収縮率は20%であり、ta
nδは2チであった。絶縁抵抗値は20MQ)であった
ので実用的な組成であった。
実施例7
PbO
BaO
TiO3
26モlし%
16モルチ
36モルチ
26モルチ
上記の配合で900℃で2時間焼成することにより誘電
率9oの焼成体を得た。収縮率は12%であり、tan
δは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であったの
で実用的な組成であった。
率9oの焼成体を得た。収縮率は12%であり、tan
δは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であったの
で実用的な組成であった。
実施例8
B120325モルチ
Sr0 25モルチ
Tto2 2s モw%
PbO25モル%
上記の配合で900’Cで2時間焼成することによシ誘
電率70の焼成体を得た。収縮率は16チであシ、ta
nδは2%であった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であった
ので、実用的な組成であった。
電率70の焼成体を得た。収縮率は16チであシ、ta
nδは2%であった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であった
ので、実用的な組成であった。
実施例9
12o3
rO
BaO
26モルチ
5モルチ
2oモルチ
26モルチ
26モル%
Pb。
上記の配合で1000’Cで2時間焼成することによシ
誘電率7oの焼成体を得た。収縮率は12チであシ、t
anδは2%であった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であっ
たので実用的6な組成であった。
誘電率7oの焼成体を得た。収縮率は12チであシ、t
anδは2%であった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であっ
たので実用的6な組成であった。
実施例1゜
”203 25モル俤
Sr0 25モルチ
Ba0 10モルチ
T z 02 2 5 モw %Pbo
16モルチ 上記の配合で850’Cで2時間焼成することによシ誘
電率96の焼成体を得た。収縮率は15チであシ、ta
nδは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であった
ので実用的な組成であった。
16モルチ 上記の配合で850’Cで2時間焼成することによシ誘
電率96の焼成体を得た。収縮率は15チであシ、ta
nδは2チであった。絶縁抵抗値は20MΩ〉であった
ので実用的な組成であった。
発明の効果
以上のように本発明は従来品に比して、Bi2O3系を
中心とした層状構造をとる誘電体で低温焼成することが
可能となった。このため電極材料費及び焼成費等で大幅
なコストダウンが可能となった。
中心とした層状構造をとる誘電体で低温焼成することが
可能となった。このため電極材料費及び焼成費等で大幅
なコストダウンが可能となった。
又温度特性の良好なものを得ることが可能となった。
第1図は本発明の磁器組成物の構成図、第2図は焼成温
度−容量曲線を示す図である。
度−容量曲線を示す図である。
Claims (3)
- (1) Bi_2O_3を16.7〜33.3モル%,
BaOを10〜35モル%,PbOを10〜40モル%
,TiO_2を16.7〜33.3モル%,トータルで
100モル%の配合とすることを特徴とする磁器組成物
。 - (2) Bi_2O_3を16.7〜33.3モル%,
SrOを5〜25モル%,PbOを10〜40モル%,
TiO_2を16.7〜33.3モル%,トータルで1
00モル%の配合とすることを特徴とする磁器組成物。 - (3) Bi_2O_3を16.7〜33.3モル%,
SrOを6〜26モル%,BaOを10〜35モル%
,PbOを10〜40モル%,TiO_2を16.7〜
33.3モル%,トータルで100モル%の配合とする
ことを特徴とする磁器組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1031763A JP2502726B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 磁器組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1031763A JP2502726B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 磁器組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02212359A true JPH02212359A (ja) | 1990-08-23 |
JP2502726B2 JP2502726B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=12340073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1031763A Expired - Lifetime JP2502726B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 磁器組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2502726B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4930900A (ja) * | 1972-07-11 | 1974-03-19 | ||
JPS5545516A (en) * | 1978-09-22 | 1980-03-31 | Mitsubishi Electric Corp | Brazing method |
JPS5556066A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-24 | Thomson Csf | Ceramic material for low sintering temperature dielectric body |
JPS61242953A (ja) * | 1985-04-20 | 1986-10-29 | 株式会社豊田中央研究所 | チタン酸バリウム系焼結体の製造方法 |
-
1989
- 1989-02-10 JP JP1031763A patent/JP2502726B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4930900A (ja) * | 1972-07-11 | 1974-03-19 | ||
JPS5545516A (en) * | 1978-09-22 | 1980-03-31 | Mitsubishi Electric Corp | Brazing method |
JPS5556066A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-24 | Thomson Csf | Ceramic material for low sintering temperature dielectric body |
JPS61242953A (ja) * | 1985-04-20 | 1986-10-29 | 株式会社豊田中央研究所 | チタン酸バリウム系焼結体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2502726B2 (ja) | 1996-05-29 |
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