JPH02210443A - 被覆能力を有するソルダーマスク被膜形成用紫外線硬化性組成物 - Google Patents

被覆能力を有するソルダーマスク被膜形成用紫外線硬化性組成物

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JPH02210443A
JPH02210443A JP1243260A JP24326089A JPH02210443A JP H02210443 A JPH02210443 A JP H02210443A JP 1243260 A JP1243260 A JP 1243260A JP 24326089 A JP24326089 A JP 24326089A JP H02210443 A JPH02210443 A JP H02210443A
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Paul L K Hung
ポール リング コング ハン
Kenneth K S Tseng
ケニス クオ シュー ツェン
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、改良された性能特性を有するソルダーマスク
被膜に関するものであり、より具体的には、被覆能力を
有する可撓性のあるソルダーマスク被膜を形成するため
の、アルカリ水現像可能な紫外線硬化性組成物に関する
ものである。
〔従来技術の説明〕
米国特許第3,660,088号、第3.753,72
0号、第3,883.352号、第3,887,450
号、第4,199,163号、第4..36]、、64
0号、第4.422.914号、第4,436,806
号、第4,458,007号、第4,481.281号
、第4 、506 、004号及び第4,508.91
6号をはじめとする多数の米国特許に、プリント回路板
にソルダーマスクとして使用される光重合性プレポリマ
ーや組成物が開示されている。
しかしながら、これらの紫外線硬化性化合物及び組成物
はいずれも、商業用光画像形成可能なソルダーマスクと
して使用するには全(不満足なものあった。好ましい光
画像形成可能なソルダーマスク被膜の特徴は、弱アルカ
リ性の水溶液で現像することが可能で、それ故、現像工
程において有機溶剤の使用が避けられることである。ま
た、ソルダーマスク被膜としては、可撓性、耐熱性、耐
薬品性、表面硬度、耐摩耗性、プリント回路板の下層の
金属との接着性、低い照射線量で高い硬化深度を示すこ
とが望まれる。特に、敏速な硬化速度と被覆能力を示す
ソルダーマスクが求められている。これらの厳しい要求
は、ソルダーマスクが商業的に許容されるものとなるた
めには、細心に配合されなければならないことを意味し
ている。
例えば、レントリック(Rendulic)の米国特許
第4.436,806号には、ロール塗布により板」二
に被覆された液体ポリマーを画像形成することにより、
プリント回路板を作製する方法及び装置が記述されてい
る。この工程において、ポリマーがぬれている間に、光
装置を塗布板に近接して配置した状態で、画像形成が行
われる。レンドリックにより開示された、この方法を使
用するだめの液体ポリマー組成物は、構成単位を拡張す
るボ1Jエーテル若しくはポリエステル鎖を有するウレ
タンアクリレートである。これらの組成物は、非常に低
い粘度を有し、ロールコータ−で被膜を形成するのに望
ましい。しかしながら、これらの組成物は、被覆能力を
示さない。
前記の特許における画像形成技術に対比して、ザリハン
(Sullivan)は、米国特許第4,506,00
4号において、プリント回路板上の液体ソルダーマスク
被膜を画像形成する、接触法を記載している。
この方法においては、紫外線硬化性のソルダーマスク被
膜がある厚さにスクリーン印刷され、適度な紫外線エネ
ルギーの露光により画像形成される。
良好な電気的性能、優秀な印刷解像度といった望ましい
特徴が、ザリハンシステムの特質である。
この方法を使用するのに適した液体光重合性組成物に要
求されるのは、ソルダーマスクに化学的及び熱的耐性を
与えることのできる、平滑で、可撓性のある被膜を形成
できることである。さらに、該被膜は、板に対する優秀
な接着性、最小限の紫外線エネルギーで望ましい深さま
で硬化され得ること、優秀な電気絶縁抵抗、被覆能力を
示なさりればならない。
被覆(tenting)とば、ソルダーマスクが加工さ
れた孔若しくはめっきしたスルーホール(PlaLed
through holes)のような、支()されて
いない領域を覆い、架橋し、若しくは横切る能力をいう
この性質は、ソルダーマスクを使用して、全11」製の
、めっきしたスルーホールを有するプリント回路板を製
造し、これをパネルめっきにより処理して、望ましい量
の銅を孔の内部とパネル表面に設けるのに、特に求めら
れる。次にこのパネルは、ソルダーマスク被膜により孔
と導線パターンを保護して、エツチングされる。ある種
の多層板も同様にして、被覆工程とエツチング工程によ
り作製される。
ソルダーマスク被膜の被覆能力を利用して、パターンの
めっき工程において、ある種のホールがさらにめっきさ
れないよう保護することもできる。
このソルダーマスク被覆は電気めっき材料が非めっきの
スルーホールに入らないようにする。
増加しつつあり、ドライフィルムソルダーマスクに取っ
て代わりつつある液体光画像形成可能なソルダーマスク
を作製するための商業用の液体光重合性組成物に要求さ
れる前記及び他の事項が、ザーキソト・マニュファクチ
ャリング(circuitsManufacturin
g) 24〜33頁(i987年1月)のパリキッズ・
メイク・ア・スプラッシュ”(Liquids Mak
e a 5plash)なる題名の項に記述されている
。特に、この項では、液体システムでは被覆の問題が生
じ、その理由としては、非支持領域を覆う液体被覆が、
はんだが施されると破壊されるからであると述べられて
いる。
液体ソルダーマスクはまた以下の理由から不十分である
。即ち、ホール内部に存在する未硬化の液体が、焼付中
あるいは熱気レベリング、即ち、圧縮熱気下ではんだを
浸ず操作にさらされた際に生じるガス圧により、悪影響
を受けるからである。
これらの悪影響は、ホールの直径が10〜60ミル(0
,25〜1.52mm)の時、特に大きい。
〔発明が解決しようとする課題〕
それ故、本発明の目的は、有利な性能特性を有するソル
ダーマスクを作製するための紫外線硬化性組成物を与え
ることである。
本発明の別の目的は、紫外線硬化性化合物の混合物を含
有し、ソルダーマスクに使用される、紫外線硬化性組成
物、具体的には、弱アルカリ水溶液中で迅速に現像でき
る組成物を与えることである。
本発明の具体的な目的は、被覆能力を示ず可撓性のある
ソルダーマスク被膜壱与えるごとである。
さらに本発明の別の目的は、迅速に硬化する、好ましく
は0.5 J /c++T以下のエネルギーで硬化し、
少なくとも18ミル(0,46mm)の硬化深度を与え
ることができるソルダーマスク被膜を与えることである
本発明の別の目的は、被覆可能な、好ましくはスクリー
ン印刷技術で被覆できる、平滑で、均一・で、光沢があ
り、可撓性があり、厚さ3ミル(0,076mm)以下
の被膜を作製できる紫外線硬化性S1■成物を与えるこ
とである。
さらに、本発明の別の目的は、熱的に安定で、少なくと
も6か月間ゲル化しない、ソルダーマスク組成物を与え
ることである。
本発明のさらなる目的は、可撓性のあるソルダーマスク
被膜であって、プリント回路板の下層の金属、特に、銅
と錫−鉛に対し実質的に100%の接着性を有するもの
を与えることである。
本発明の別の目的は、良好な表面硬度、耐摩耗性、電気
抵抗、及び有機溶媒耐性を示すソルダーマスク製品を与
えることである。
尚別の目的は、285°Cで20秒後にふくれを生じな
いような優秀な耐熱性を有するソルダーマスク被膜を与
えることである。
本発明の特別な目的は、特に、米国特許第4.506,
004号に記述されているプリント回路板を作製する方
法及び装置の使用に採用されるソルダーマスク組成物を
与えることである。
本発明の前記及び他の目的及び特徴を本発明の以下の記
載により明らかにする。
〔課題を解決するための手段] 本発明は、有利な性能特性を有するツルターマスクを作
製する紫外線硬化性組成物を与える。本発明の組成物は
、(i)紫外線硬化性化合物、(2)そのための光開始
剤、(3)熱により活性化されうるフリーラジカル開始
剤、(4)フリーラジカルにより熱架橋されうるポリ不
飽和化合物を含み、この組成物から、アルカリ水現像可
能で、可撓性があり、被覆能力を有するソルダーマスク
被膜を作製することができる。
本発明のソルダーマスク被膜は、厚さ3ミル(0,07
6mm)以下で、平滑で、均一で光沢があり、プリント
回路板の下層の金属に対し実質的に100%の接着性を
有し、良好な表面硬度、耐摩耗性、耐熱性、電気抵抗及
び有機溶剤耐性を有する。
本発明の典型的な組成物は、酸官能基を有する脂肪族若
しくは脂環式ウレタンアクリレ−1〜、ウレタンジアク
リレート、不飽和ポリオレフィンジアクリレート、反応
性稀釈剤モノマー、光開始剤、及び熱フリーラジカル開
始剤を含有する。
前記した組成物は、以下の重量%で示した成分を含有し
てもよい。
(a)  以下の成分を含む、紫外線硬化性化合物。
(i)米国特許第4,717,740号に記載されてい
るような、酸官能基を有するウレタンアクリレ−l−1
,0〜15%、好ましくは15〜35%、(i1)芳香
族ウレタンジアクリレート5〜40%好ましくは10〜
25%、 (iii )脂肪族若しくは脂環式ウレタンアクリレ1
〜、若しくはその混合物2〜30%、好ましくは5〜1
5%、 (b)  熱架橋性のポリ不飽和化合物5〜30%好ま
しくは10〜25%、 (c)  少なくとも1種の反応性モノマー稀釈剤4〜
60%好ましくは10〜20%、 (d)  光開始剤0.5〜10%、好ましくは1〜3
%、及び (e)  フリーラジカル熱開始剤0.2〜5%、好ま
しくは0.5〜1%。
本発明の組成物は、また熱架橋剤、顔料若しくは染料、
難燃剤、レオロジー改質剤、熱安定化剤、顔料分散助剤
のうち1以上の成分を含有してもよい。
本明細書において、ある種の紫外線硬化性化合物、特に
、ウレタンアクリレートが開示されているが、他の既知
の紫外線硬化性化合物か、フリーラジカルにより熱的に
架橋されうるポリ飽和化合物と組み合わせても使用され
うろことが理解されるであろう。例えば、ソルダーマス
ク組成物に通常使用される紫外線硬化性化合物、例えば
前記米国特許に記載されているウレタンアクリレートや
エポキシアクリレ−1−も本発明に使用できる。
1987年7月10口及び1988年5月170に出願
された係属中の米国特許出願第071..849号及び
第195.059号のウレタンアクリレ−1へ化合物は
、本発明と同一の発明者によるものであり、同一の譲受
人に譲渡されたが、本発明において使用されるのに適切
な紫外線硬化性化合物の他の例であり、これらの出願の
開示も参照されたい。
典型的なウレタンアクリレート化合物は以下のものを反
応させることにより得られる。
(i)2モルのジイソシアネート、例えば、脂肪族、脂
環式、芳香族ジイソシアネート若しくは、芳香族−脂肪
族ジイソシアネート若しくはそれらの混合物、例えば、
シンクロヘキシルメチレンジイソシアネート、インホロ
ンジイソシアネト、ヘキサメチレンジイソシアネート、
トルエンジイソシアネート及びフェニル−ジアルキレン
ジイソシアネート。
(ii)1モルのヒドロキシアルキルアクリレート若し
くはヒドロキシ−長鎖アルキルアクリレート、例えば、
ヒドロキシプロピルアクリレート若しくはカプロラクト
ンアクリレートモノマー(iii)1モルのポリオール
、例えばエチレングリコール。
(iv)1モルの3〜6個の水酸基を有する炭素数3〜
6個の単純アルキレンポリオール化合物、例えばグリセ
ロール。
(v)少なくとも1モルの飽和若しくは不飽和のジカル
ボン酸若しくは酸無水物、例えば無水マレイン酸。
前記のウレタンアクリレートオリゴマーは以下の化学成
分により特徴づけられる。
(a)  末端のエチレン性不飽和基。
(b)  少なくとも1個の末端カルボン酸基。
(c)2個の中間ウレタン基。
(d)  ポリオールから2個の水素原子を除去して得
られるウレタン基と結合する法。
(e)  単純アルキレンポリオールから少なくとも2
個の水素原子を除去して得られるウレタン基及び末端カ
ルボン酸基の1方と結合する単純アルキレン基。
米国特許出願第159,059号のもう一つのウレタン
アクリレート化合物は以下に示される。
式中、nは1〜8であり、Xはカプロラクトン、カプロ
ラクトン若しくはエポキシドから誘導され、R+ は脂
肪族若しくは脂環族基であり、mは1〜3であり、R2
は炭素数1〜6個のアルキレン基であり、yばO〜3で
あり、R3は飽和若しくは不飽和の脂肪族若しくは脂環
族、若しくは芳香族基であり、Zは1〜3である。
好ましくは、nは2〜3であり、 Xは 十C(c++2)5−0÷a (a−1〜10)
、÷C(c112) 5−N11→、(b=1〜10)
または→CIICIIz o+ c(c= 2〜20)
であり、R5はジシクロベニ1−シルメチレン基であり
、mは1若しくは2であり、R2はグリセロールから誘
導されるものであり、yは0若しくは1であり、R3は
無水マレイン酸から誘導されるものであり、Zは1てあ
り、3<m+y+z<6であり、かつR4は水素原子若
しくはアルキル基である。
典型的な化合物は以下に示される。
すなわち上記式中、m=2、z=1及びy=。
の化合物である。
前記一般弐の他の好ましい化合物はm=1、z=1及び
y=iの化合物である。
他の適切な酸官詣基を有するウレタンアクリレート化合
物が米国特許第4.71.7.740号に記載されてい
るが、これは以下のものを反応させることにより得られ
る。(i)脂肪族又は脂環式ジイソシアネトから成る群
から選ばれた、少なくとも1種のジイソシアネ−1・化
合物、例えばシンクロヘキシルメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、及びヘキサメチレン
ジイソシアネート、(2)1モルのヒドロキシアルキル
アクリレ−1〜、例えばヒドロキシプロピルアクリレー
ト、(3)3〜6個の水酸基を有し、炭素数3〜6個の
アルキレンボリオール、例えばグリセロール、(4)少
なくとも1モルの飽和若しくは不飽和のジカルボン酸無
水物、例えば、無水マレイン酸。
前記した酸官能基を有するウレタンアクリレート化合物
は、(a)末端のエチレン性不飽和基、(b)少なくと
も1個の末端カルボン酸基、及び(c)好ましくは少な
(とも1個の水酸基で置換されている、前記末端基の中
間にある、アルキレン結合基によって特徴づけられる。
紫外線硬化性化合物の混合物の成分である前記の酸官能
基を有するウレタンアクリレートは、望ましい、可撓性
、アルカリ水現像性、接着性、表面硬度、及び低いエネ
ルギーレヘルでの高い硬化深度を与え;熱架橋性の硬化
性化合物は被覆能力を与える。
本発明の典型的な組成は以下の通りである。
本発明の組成物 適切な例 好ましい例 重量%  重量% 10〜5015〜35 5〜4010〜25 成分 (i)  ウレタンアクリレート (i1)  ウレタンジアクリレート (芳香族) (iii  )  ウレタンジアクリレート(脂肪族若
しくは脂環式) (iv )ポリ不飽和化合物  5〜30  10〜2
5(v)反応性稀釈剤モノマー  4〜6010〜2゜
(vi)光開始剤     0.5〜10  1〜3(
vi)熱開始剤     0.2〜5 0.5〜12〜
30   5〜15 反応性稀釈剤モノマーが本発明の組成物の中に含有され
ており、組成物の粘度を減少させ、硬化速度を増加させ
ている。本発明に使用される適切な反応性稀釈剤モノマ
ーには、エチレン性不飽和モノマーが含まれ、このモノ
マーは、本発明の置換されたウレタンアクリレート及び
ウレタンジアクリレートと相溶性で、共重合可能である
。前記エチレン性不飽和モノマーには、モノ、ジ、トリ
アクリレート、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート
のようなヒドロキシアルキルアクリレート、またアクリ
ル酸エステル、例えばメチルメタクリレート、エチルア
クリレート、2−エチルへキシルアクリレート、シクロ
ヘキシルアクリレート、イソブトキシメチルメタクリレ
ート、t−ブチルアクリレート、メチルアクリレート、
ブチルアクリレ−I・、2−(N=エチルカルバミル)
エチルメタクリレ−1〜、またアリロキシアルキルアク
リレート、例えばフェノキシエチルアクリレート、また
ビスフェノールAジアクリレ−1〜、グリセロールジア
クリレート、メタクリレート、テトラプロピレングリコ
ールジアクリレート等が含まれる。
適切なトリアクリレートには、グリセロールトリアクリ
レート、エトキシ化されたトリメチロールプロパントリ
アクリレート等が含まれる。
他の反応性化合物を本発明の組成物中に含有させて、被
膜の架橋密度を大きくすることもできる。
前記反応性化合物には、ペンタエリスリトール3−メル
カプトプロピオネート、14−ブチレンジメタクリレ−
1・若しくはアクリレート、1.1,6.−6−チトラ
ヒトロペルフロロヘキサンジオールジアクリレート、エ
チレンジメタクリレ−1〜、グリセロールジアクリレー
ト若しくはメタクリレート、グリセロールトリメタクリ
レート、ジアリルフタレートまた1  3 5−)す(
2−メタクリルオキシエチル)−3−1リアジンが含ま
れるが、これらに限定されるものではない。
本発明の紫外線硬化性組成物はまた、活性光線によりフ
リーラジカルを発生する光開始剤を含有する。このよう
な光開始剤の適切な例としては、置換された又は未置換
の多環式キノン、例えば、2−エチルアントラキノン、
2−t、−ブチルアントラキノン、オクタメチルアント
ラキノン、1.2−ヘンズアントラキノン、23−ジフ
ェニルアントラキノン、チオキサントン、例えばクロロ
又はイソプロピル誘導体環;α−ケトアルドニル化合物
、例えばジアセチル、ヘンシル等;2−ケトアルドニル
アルコールやエステル、例工ばヘンジイン、ビバロン等
;2−炭化水素置換の芳香族アシロイン、例えば2−フ
ェニルベンゾイン、2,2−ジエ1〜キシアセトフェノ
ン等;芳香族ケトン、例えばヘンシフエノン、4.4″
−ビスジアルキルアミノヘンシフエノン等が含まれる。
前記光開始剤は単独でも2種以上を組み合わせて用いて
もよい。組み合わせの例としては、2.4.5−)リア
リルイミダゾールニ量体、2メルカプトベンゾキナゾー
ル、ロイコクリスクルハイオレッI・、トリス(4−ジ
エチルアミノ2−メチルフェニル)メタン等と、単独で
は光開始性能を有しないが、前記の材料と組み合わせる
と良好な光開始系を構成する化合物が挙げられる。
前記化合物としては、例えば、第三アミン、例えばトリ
エタノールアミン等が挙げられ、ベンゾフェノンと組み
合わせて用いられる。
前記の光開始剤及び/若しくは光開始系は、本発明の組
成物中に、約0.5〜10重量%存在することが好まし
い。
本発明の組成物中のフリーラジカル熱開始剤成分は、加
熱によりフリーラジカルを発生しうる。
望ましいフリーラジカルを発生し、ポリ不飽和化合物の
熱架橋を起こす代表的な熱開始剤には、過酸化物、例え
ばジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジ
−t−ブチルペルオキシド、ジーt−プチルベルヘンゾ
エート;アゾ化合物、例えばルアシー96 (Luaz
o −96)  (ペンウォルト)、 ジスルフィド、ポリスルフィド、メルカプタン、例えば
、ビス−[(3−[)リエトキシシリル〕プロピル)−
テトラスルフィド(Si−69−デグサ)、ジフェニル
ジスルフィド、ジチオ−ビス(ステアリルピロビオネー
ト)、ジチオジプロピオン酸、チオ乳酸、T−メルカプ
トプロピオン酸、イソオクチルチオグリコレート、チオ
グリコール酸カルシウム、■−チオグリセロール、ヘン
シルメルカプタン、ジチオグリコール酸、メルカプトエ
チルアジペート、グリセロールジチオグリコレート、ト
リメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエ
リスリトールテトラ (メルカプトプロピオネート)が
含まれる。
熱開始剤により発生ずるフリーラジカルは、液体ソルダ
ーマスクのポリ不飽和成分をホールを横切り、またその
内部まで熱架橋することができ、それによって、この液
体を固化し、組成物の被覆能力を改良する。典型的なポ
リ飽和化合物は、ポリ飽和アルキレンジオールジアクリ
レートであり、これは前記のフリーラジカルにより熱硬
化される。
適切な化合物はポリブタジェンジオールとそのジアクリ
レートで、これらはサートマー社(Sart。
mer Co、)のC−5000から得られる、ブクジ
エンの共重合体も同様に使用することができる。例えば
、カルホ:トシル基を末端基とするブタシエンーアクリ
ロニ) IJル共重合体、例としてはハイカー(Hyc
ar)  (グツドリッチ(Goodrich))、反
応性液体ポリマーも使用することができる。前記のもの
には、例えばハイカー (Hycar) CT B T
とCTBNχの共重合体、例としては、 HOOC((cIlz−CH=Ctl−CI) y、 
(cH□−CIIL :l 、 C00I+C=N 式中、mは約7、 及びハイカー(llycar) RI−P 、 CT 
、 A T、V′F、HTの液体ポリマーが挙げられる
本発明を以下の実施例において、より詳細に説明する。
実施例 1 〔ウレタンアクリレートの製造) 水で現像可能なオリゴマーであるウレタンアクリレート
を、米国特許第4.717,470号(実施例1)に記
載の方法で得た。
実施例 2 〔芳香族ウレタンジアクリレ−1〜の製造〕l−ルエン
ジイソシアネート(iモル)とヒドロキシプロピルアク
リレート(2モル)を55°Cで6時間反応させ、生成
物を得た。これはブルックフィールド粘度が50°Cで
68,000cpsの粘稠な液体であった。
実施例 3 〔脂肪族ウレタンジアクリレート〕 脂肪族つレタンジアクリレートとじては、ダイヤモンド
シャムロンク社(Diamond  Shamrock
Corp、)のフォI〜マー6008 (Photom
er−6008)若しくは、′す′−1−7−社(Sa
rtomar Co、) の5R9503(i00%反
応性物質)を得た。
実施例 4 以下の組成物を調製し、これを用いてプリント回路板用
ソルダーマスク組成物を製造した。
組成物 成    分 実施例1のウレタンアクリレート 実施例2 の芳香族ウレタンジアクリレート実施例3 
の脂肪族ウレタンンアクリレート重量部 17.5 (i:AB−0−5ILチキソトロープ斉リリイメル3
01 (cymel  301)(アムチャン)−熱架
橋剤イルカキュア651 (Irgacure651)
(チバカイキー)光開始剤銅フタロシアニン−緑色顔料 コロイド640(コロイド ケム)−レヘリンク斉り門
TBHIII〜千へターシャリーブチ11ヒドロキノン
−安定弁リトリフェニルホスファイト−−硬化深度促進
剤テカフυモシフェニjトオキシトと三酸化アンチェン
−−Eri Jti ?J前記組成物は、ブルックフィ
ールド粘度が23°C1I OOrpmで15,000
cpsであり、安定で1年以上ゲル化しない。
実施例 5 〔硬化したソルダーマスク被膜の製造〕直径10〜60
ミル(0,25〜1.52mm)の多数のボールを有す
る、銅被着エポキシファイバーガラスプリント回FIR
+Fi、をスクラビングで洗浄して、腐蝕及び異物を除
き、実施例4の組成物で約3ミル(0,076m−の厚
さにスクリーン印刷で被覆した。その後、光装置上に、
米国特許筒4,506,004号実施例2に記載の方法
に従って、別の3ミル(0,076mm)の厚さの被膜
を施した。前記2種の被膜はその後、望まれるならば、
水銀灯を用いて約0.05〜0.IJ/−のエネルギー
でフラッシュ硬化を行ない、部分的に硬化させる。次に
前記2種の被膜を重ね合せて6ミル(0,15mm)厚
の複合被膜を形成し、裏返しにして0.2〜0.5J/
cfの主露光を与えた。次に未露光の被膜を1%炭酸す
トリウム溶液(pHll)で室温で除去する(負の作用
)ことにより現像し、1時間焼(=t L:]若しくは
赤外線加熱し、最終に2.5 J / cJの紫外線エ
ネルギーで硬化した。
硬化したソルダーマスク被膜は、平滑で、均一で、光沢
があり、可撓性があり、はんだを施す前後ともクロスハ
ツチテープテストで100%の接着性を有する被膜であ
った。また、浸漬試験においては、15分以上の有機溶
剤耐性を存し常用の熱気レヘリング装置により測定した
ところ優秀な耐熱性を示し、良好な被覆能力を丞した。
またI(より大きな表面鉛筆硬度、非常に良好な耐摩耗
性を有していた。またプリント回路板に対し優秀な接着
性を有し、25°〜60°C190%R,H楯環下70
後クラスIII(IPC)に要求される5X108Ω・
cmを越える電気絶縁抵抗を有していた。
本発明を特定の具体例を用いて説明したか、当分野の技
術常識の範囲内で変更や修正がなされてもよい。本発明
は、特許請求の範囲によってのみ制限されるものである

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、以下の成分を含む、アルカリ水現像可能な紫外線硬
    化性組成物。 (a)(i)実質的に当モル量の脂肪族若しくは脂環式
    ジイソシアネートとヒドロキシアルキ ルアクリレートを、3〜6個の水酸基を有 し、炭素数3〜6個のアルキレンポリオー ルと、このアルキレンポリオール1モルに 対し少なくとも1モルのジカルボン酸無水 物を用いて反応させることにより得られる ウレタンアクリレート化合物10〜50重 量%、 (ii)芳香族ウレタンジアクリレート5〜40重量%
    、 (iii)脂肪族若しくは脂環式ウレタンジアクリレー
    ト2〜30重量%、 (b)熱架橋性のポリ不飽和化合物5〜30重量%、 (c)少なくとも一種の反応性モノマー稀釈剤4〜60
    重量%、 (d)光開始剤0.5〜10重量%、及び (e)フリーラジカル熱開始剤0.2〜5重量%。 2、以下の成分を含む、アルカリ水現像可能な請求項1
    に記載の紫外線硬化性組成物。 (a)(i)15〜35重量%、 (ii)10〜25重量%、 (iii)5〜15重量%、 (b)10〜25重量%、 (c)10〜20重量%、 (d)1〜3重量%、及び (e)0.5〜1重量%。 3、成分(i)の脂肪族若しくは脂環式ジイソシアネー
    トが、シンクロヘキシルメチレンジイソシアネート、イ
    ソホロンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシ
    アネートから成る群より選ばれる、請求項1に記載の組
    成物。 4、成分(i)のウレタンアクリレートが、ヒドロキシ
    プロピルアクリレートであるヒドロキシアルキルアクリ
    レートから得られる、請求項1に記載の組成物。 5、成分(i)のアルキレンポリオールがグリセロール
    である、請求項1に記載の組成物。 6、ジカルボン酸無水物が不飽和ジカルボン酸無水物で
    ある、請求項1に記載の組成物。 7、ジカルボン酸無水物が無水マレイン酸である、請求
    項1に記載の組成物。 8、反応性モノマー稀釈剤がモノ若しくはジ若しくはト
    リアクリレートモノマーを含有する、請求項1に記載の
    組成物。 9、反応性モノマー稀釈剤がヒドロキシアルキルアクリ
    レートを含有する、請求項1に記載の組成物。 10、成分(b)がポリ不飽和アルキレンジオール若し
    くはジアクリレートである、請求項1に記載の組成物。 11、成分(b)がポリブタジエンジオール若しくはジ
    アクリレートである、請求項10に記載の組成物。 12、ウレタンアクリレートが、以下の一般式で示され
    る、請求項1に記載の組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1は、脂肪族炭化水素若しくは脂環式炭化水
    素であり、 R_2及びR_3は、炭素数3〜6個のアルキレンであ
    り、 R_4は、飽和若しくは不飽和の、脂肪族炭化水素若し
    くは脂環式炭化水素であり、 yは0〜4、nは1〜5であり、yが0のときnは少な
    くとも2である。 13、yが1でnが1である、請求項12に記載の組成
    物。 14、yが0でnが2である、請求項12に記載の組成
    物。 15、ウレタンアクリレート化合物が、末端のエチレン
    性不飽和基、少なくとも1個の末端カルボン酸基、及び
    前記の末端基の中間にあり、水酸基で置換されたアルキ
    レン基を有していることを特徴とする、請求項1に記載
    の組成物。 16、ウレタンアクリレート化合物が、末端のエチレン
    性不飽和基、少なくとも2個の末端カルボン酸基及び前
    記の末端基の中間にあり、水酸基で置換されていてもよ
    いアルキレン基を有している請求項1に記載の組成物。 17、成分(ii)の芳香族ジイソシアネートがトルエ
    ンジイソシアネートである、請求項1に記載の組成物。 18、ウレタンアクリレート化合物が、以下の一般式を
    有する、請求項1に記載の、アルカリ水現像可能な紫外
    線硬化性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 19、顔料若しくは染料、難燃剤、レオロジー改質剤、
    熱安定化剤、顔料分散助剤のうち1以上の成分を各々0
    .1〜15重量%含有する、請求項1に記載の組成物。 20、可撓性があり、アルカリ水現像が可能で、被覆能
    力を有するソルダーマスクを形成する、以下の工程を含
    む方法。 a)請求項1の組成物をプリント回路板に塗布する工程
    、 b)前記被膜を硬化させる工程、及び c)前記露光被膜をアルカリ水溶液で現像する工程。 21、以下の成分を含有することを特徴とする、紫外線
    硬化性化合物と反応性モノマー稀釈剤を含有するソルダ
    ーマスク組成物。 (a)熱によりフリーラジカルを発生する熱フリーラジ
    カル開始剤、及び (b)前記フリーラジカルにより熱架橋され、プリント
    回路板のホールを横切り、またその内部にも、改良され
    た被覆能力を有する実質的に完全に硬化したソルダーマ
    スク被膜を与える、ポリ不飽和化合物。 22、熱開始剤が過酸化物、ペルベンゾエート、ジスル
    フィド、ポリスルフィド及びメルカプタンから成る群か
    ら選ばれる請求項21に記載のソルダーマスク組成物。 23、熱開始剤が過酸化物、ベンゾイルペルオキシド、
    ジ−t−ブチルペルオキシド、ジ−t−ブチルペルベン
    ゾエート; ▲数式、化学式、表等があります▼ なる化学式を有するアゾ化合物;ビス−〔(3−(トリ
    エトキシシリル)−プロピル〕−テトラスルフィド(S
    i69−デグサ(Degussa))、ジフェニルジス
    ルフィド、ジチオ−ビス(ステアリルプロピオネート)
    、ジチオジプロピオン酸、チオ乳酸、メルカプトピロピ
    オン酸、イソ−オクチルチオグリコレート、チオグリコ
    ール酸カルシウム、1−チオグリセロール、ベンジルメ
    ルカプタン、ジチオグリコール酸、メルカプトエチルア
    ジペート、グリセロールトリチオグリコレート、トリメ
    チロールプロパントリチオグリコレート及びペンタエリ
    スリトールテトラ(3−メルカプトプロピオネート)か
    ら成る群から選ばれるジスルフィド、ポリスルフィドま
    たはメルカプタンから選ばれる請求項22に記載のソル
    ダーマスク組成物。 24、ポリ不飽和化合物が、ポリブタジエンジオール若
    しくはジアクリレート、ブタジエンの共重合体、カルボ
    キシ基を末端基に有するブタジエンアクリロニトリル共
    重合体のようなポリ不飽和アルキレンジオール若しくは
    ジアクリレートから選ばれる請求項22に記載のソルダ
    ーマスク組成物。 25、プリント回路板のホールを横切り、またその内部
    にも、被覆能力を有し、かつフリーラジカルにより熱架
    橋されたポリ不飽和化合物を含有する、硬化したソルダ
    ーマスク被膜。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995023998A1 (fr) * 1994-03-04 1995-09-08 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Resine liquide photosensible pour structures en relief
JP2005242344A (ja) * 2004-01-29 2005-09-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd ポジ型感光性樹脂組成物、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いた半導体装置及び表示素子、並びに半導体装置及び表示素子の製造方法
JP2007010785A (ja) * 2005-06-28 2007-01-18 Fujifilm Holdings Corp 永久パターン形成方法
JP2018120044A (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性組成物及びその製造方法

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5420171A (en) * 1991-12-31 1995-05-30 Tech Spray, Inc. UV curable temporary solder mask
JPH06295060A (ja) * 1992-10-29 1994-10-21 Ajinomoto Co Inc 感光性樹脂組成物又は感光性熱硬化性樹脂組成物及びそれらを使用したフォトソルダ−レジスト組成物
US5607813A (en) * 1993-01-20 1997-03-04 Agfa-Gevaert, N.V. Photopolymerizable composition of high sensitivity and method for obtaining images therewith
JP2000502463A (ja) 1995-12-21 2000-02-29 ザ ダウ ケミカル カンパニー はんだマスク組成物
US5707782A (en) * 1996-03-01 1998-01-13 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Photoimageable, dielectric, crosslinkable copolyesters
DE69800652T2 (de) * 1997-02-25 2001-08-23 Du Pont Flexible, flammhemmende fotopolymerisierbare Zusammensetzung zur Beschichtung von Leiterplatten
US5874197A (en) * 1997-09-18 1999-02-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thermal assisted photosensitive composition and method thereof
WO1999024512A1 (en) 1997-11-06 1999-05-20 The Edgington Company Coating composition
ES2260825T3 (es) 1997-12-02 2006-11-01 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Materiales poliolefinicos que tienen durabilidad superficial mejorada y metodos para su obtencion mediante exposicion a radiacion.
US6331317B1 (en) * 1999-11-12 2001-12-18 Alkermes Controlled Therapeutics Ii Inc. Apparatus and method for preparing microparticles
KR100515218B1 (ko) * 2000-09-11 2005-09-16 쇼와 덴코 가부시키가이샤 감광성 조성물, 그것의 경화물, 및 그것을 사용한프린트회로기판
US6667357B2 (en) 2000-12-15 2003-12-23 The College Of William And Mary Organic thiol metal-free stabilizers and plasticizers for halogen-containing polymers
US6927247B2 (en) * 2000-12-15 2005-08-09 The College Of William And Mary Organic thiol metal-free stabilizers and plasticizers for halogen-containing polymers
US7312266B2 (en) * 2000-12-15 2007-12-25 The College Of William And Mary Organic thiol metal-free stabilizers and plasticizers for halogen-containing polymers
US6762231B2 (en) * 2000-12-15 2004-07-13 The College Of William And Mary Organic thiol metal-free stabilizers and plasticizers for halogen-containing polymers
JP4587865B2 (ja) * 2004-04-22 2010-11-24 昭和電工株式会社 感光性樹脂組成物及びその硬化物並びにそれらを使用するプリント配線基板の製造方法
TWI426351B (zh) * 2006-11-15 2014-02-11 Taiyo Holdings Co Ltd Photolithography (Phototool) and the formation of resistance to resistance pattern

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3048502A1 (de) * 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4422914A (en) * 1981-01-16 1983-12-27 W. R. Grace & Co. Polymer composition having terminal alkene and terminal carboxyl groups
JPS5986045A (ja) * 1982-11-05 1984-05-18 Nippon Soda Co Ltd 永久レジスト用光硬化性樹脂組成物
US4572890A (en) * 1983-05-11 1986-02-25 Ciba-Geigy Corporation Process for the production of images
DE3412992A1 (de) * 1984-04-06 1985-10-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und verfahren zum aufbringen von markierungen auf eine loetstopresistschicht
US4849320A (en) * 1986-05-10 1989-07-18 Ciba-Geigy Corporation Method of forming images

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995023998A1 (fr) * 1994-03-04 1995-09-08 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Resine liquide photosensible pour structures en relief
AU684151B2 (en) * 1994-03-04 1997-12-04 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Liquid photosensitive resin composition for forming relief structures
JP2005242344A (ja) * 2004-01-29 2005-09-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd ポジ型感光性樹脂組成物、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いた半導体装置及び表示素子、並びに半導体装置及び表示素子の製造方法
JP4581706B2 (ja) * 2004-01-29 2010-11-17 住友ベークライト株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いた半導体装置及び表示素子、並びに半導体装置及び表示素子の製造方法
JP2007010785A (ja) * 2005-06-28 2007-01-18 Fujifilm Holdings Corp 永久パターン形成方法
JP2018120044A (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性組成物及びその製造方法

Also Published As

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FI894430A (fi) 1990-03-21

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