JPH02209475A - シートプラズマ式イオンプレーティング装置 - Google Patents
シートプラズマ式イオンプレーティング装置Info
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- JPH02209475A JPH02209475A JP3169589A JP3169589A JPH02209475A JP H02209475 A JPH02209475 A JP H02209475A JP 3169589 A JP3169589 A JP 3169589A JP 3169589 A JP3169589 A JP 3169589A JP H02209475 A JPH02209475 A JP H02209475A
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- 238000007733 ion plating Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 8
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 abstract description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 abstract description 2
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 36
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はシートプラズマ式イオンプレーティング装置に
関するものである。
関するものである。
（従来の技術）
従来、連続的に走行する帯状材に蒸着膜を形成する装置
として、例えば、特開昭６３−５７７６７号公報に示す
ようなシートプラズマを利用したイオンプレーティング
装置がある。本装置は、帯状材の下方にシートプラズマ
ガンを配置し、シートプラズマを帯状材の下方に設けた
蒸着源物質収納ルツボに収束して、該蒸着源物質の蒸発
及びイオン化を行い、帯状材表面に薄膜を形成するもの
である。
として、例えば、特開昭６３−５７７６７号公報に示す
ようなシートプラズマを利用したイオンプレーティング
装置がある。本装置は、帯状材の下方にシートプラズマ
ガンを配置し、シートプラズマを帯状材の下方に設けた
蒸着源物質収納ルツボに収束して、該蒸着源物質の蒸発
及びイオン化を行い、帯状材表面に薄膜を形成するもの
である。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、前記従来のイオンプレーティング装置で
は、シートプラズマガンが帯状材の長平方向でシートプ
ラズマを形成するように配置されているため、帯状材の
幅が前記シートプラズマの幅よりも大きくなる場合、複
数のシートプラズマガンが必要となる。
は、シートプラズマガンが帯状材の長平方向でシートプ
ラズマを形成するように配置されているため、帯状材の
幅が前記シートプラズマの幅よりも大きくなる場合、複
数のシートプラズマガンが必要となる。
また、前述のように複数のシートプラズマガンを使用す
ると、シートプラズマが部分的に重なる部分においては
、プラズマ密度が変わるため、帯状材表面に均一な薄膜
を生成することが困難となる。
ると、シートプラズマが部分的に重なる部分においては
、プラズマ密度が変わるため、帯状材表面に均一な薄膜
を生成することが困難となる。
さらに、電磁コイルで磁力を発生させて、シートプラズ
マを蒸着源物質収納ルツボに向けて曲げるため、均一な
プラズマ分布が得にくい、等の問題点がある。
マを蒸着源物質収納ルツボに向けて曲げるため、均一な
プラズマ分布が得にくい、等の問題点がある。
本発明は前記問題点に鑑みてなされたもので、走行する
帯状材に対し、連続的にその表面に均一な薄膜をコーテ
ィングすることのできるシートプラズマ式イオンプレー
ティング装置を提供することを目的とする。
帯状材に対し、連続的にその表面に均一な薄膜をコーテ
ィングすることのできるシートプラズマ式イオンプレー
ティング装置を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
本発明は前記目的を達成するために、シートプラズマ式
イオンプレーティング装置におけるシートプラズマガン
を、帯状材の下方側部に配置し、前記帯状材の幅方向に
シートプラズマを形成すると共に、前記シートプラズマ
の下方に配設した長方形状の蒸着源物質収納ルツボを配
置するものである。
イオンプレーティング装置におけるシートプラズマガン
を、帯状材の下方側部に配置し、前記帯状材の幅方向に
シートプラズマを形成すると共に、前記シートプラズマ
の下方に配設した長方形状の蒸着源物質収納ルツボを配
置するものである。
（作用）
前記構成からなるため、シートプラズマが走行する帯状
材を横断するように形成され、蒸着源物質が帯状材のほ
ぼ全幅域に蒸発することになり、前記帯状材表面に均一
な薄膜を生成することがで＝３ さらに、前記シートプラズマ６．７の下方には、それぞ
れ蒸着源物質（例えば、酸化インジウム、酸化スズ等）
を収納した長方形状のルツボ８，９が設けてあり、この
ルツボ８，９は、例えば、電子ビーム照射又は高周波誘
導加熱、抵抗加熱等により前記蒸着源物質を蒸発させる
ようになっている。
材を横断するように形成され、蒸着源物質が帯状材のほ
ぼ全幅域に蒸発することになり、前記帯状材表面に均一
な薄膜を生成することがで＝３ さらに、前記シートプラズマ６．７の下方には、それぞ
れ蒸着源物質（例えば、酸化インジウム、酸化スズ等）
を収納した長方形状のルツボ８，９が設けてあり、この
ルツボ８，９は、例えば、電子ビーム照射又は高周波誘
導加熱、抵抗加熱等により前記蒸着源物質を蒸発させる
ようになっている。
前記構成からなるため、長方形状のルツボ８９内から蒸
発した蒸着源物質は、走行す、る帯状材１の幅方向に形
成されるシートプラズマ６．７によってイオン化され、
連続的に走行する帯状材ｌの下面に付着して均一な薄膜
を形成する。
発した蒸着源物質は、走行す、る帯状材１の幅方向に形
成されるシートプラズマ６．７によってイオン化され、
連続的に走行する帯状材ｌの下面に付着して均一な薄膜
を形成する。
なお、前記実施例においては、２個のシートプラズマガ
ンを互いに向きが反対になるように配置したが、１個の
シートプラズマガンであってもよい。
ンを互いに向きが反対になるように配置したが、１個の
シートプラズマガンであってもよい。
しかし、実施例のようにすれば、第３図に示すように、
プラズマ密度が全体的に均等となり、均一なイオンプレ
ーティングを行うことができる。
プラズマ密度が全体的に均等となり、均一なイオンプレ
ーティングを行うことができる。
（発明の効果）
以上の説明で明らかなように、本発明に係るイきる。
（実施例）
次に、本発明の一実施例を添付図面にしたがって説明す
る。
る。
第１図及び第２図は本発明に係るイオンプレーティング
装置の要部を示し、各構成部を真空室（図示せず）内に
設けるものである。
装置の要部を示し、各構成部を真空室（図示せず）内に
設けるものである。
図において、例えば、アルミニウム、銅、鉄等からなる
ストリップ又はプラスチックフィルム等の帯状材１は、
図示しない搬送手段により一方向に走行するものである
。
ストリップ又はプラスチックフィルム等の帯状材１は、
図示しない搬送手段により一方向に走行するものである
。
そして、帯状材１の下方一方側部に第１シートプラズマ
ガン２が設けてあり、他方側部には第１シートプラズマ
ガン２に対向して収束用陽極４が設けてあり、帯状材１
の幅方向にシートプラズマ６を形成させるようになって
いる。また、前記第１シートプラズマガン２の対向側の
下流部に第２シートプラズマガン３が設けてあり、対向
する第２収束用陽極５へ前記同様シートプラズマ７を形
成させるようになっている。
ガン２が設けてあり、他方側部には第１シートプラズマ
ガン２に対向して収束用陽極４が設けてあり、帯状材１
の幅方向にシートプラズマ６を形成させるようになって
いる。また、前記第１シートプラズマガン２の対向側の
下流部に第２シートプラズマガン３が設けてあり、対向
する第２収束用陽極５へ前記同様シートプラズマ７を形
成させるようになっている。
オンブレーティング装置においては、走行する帯状材の
幅方向にシートプラズマを形成させたので、従来に比べ
てさらに幅の広い帯状材に連続的に均一な薄膜を形成す
ることができる。
幅方向にシートプラズマを形成させたので、従来に比べ
てさらに幅の広い帯状材に連続的に均一な薄膜を形成す
ることができる。
第１図は本発明に係るイオンプレーティング装置の要部
斜視図、第２図は第１図の側面図、第３図は帯状材の幅
方向におけるプラズマの密度の関係を示すグラフである
。 ■・・・帯状材、２．３・・・シートプラズマガン、６
，７・・・シートプラズマ、８，９・・・ルツボ。
斜視図、第２図は第１図の側面図、第３図は帯状材の幅
方向におけるプラズマの密度の関係を示すグラフである
。 ■・・・帯状材、２．３・・・シートプラズマガン、６
，７・・・シートプラズマ、８，９・・・ルツボ。
Claims (1)
- （１）走行する帯状材表面に蒸着膜を形成するシートプ
ラズマ式イオンプレーティング装置において、前記帯状
材の下方側部にシートプラズマガンを配置し、前記帯状
材の幅方向にシートプラズマを形成すると共に、前記シ
ートプラズマの下方に長方形状の蒸着源物質収納ルツボ
を配置したことを特徴とするシートプラズマ式イオンプ
レーティング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1031695A JPH0730444B2 (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | シートプラズマ式イオンプレーティング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1031695A JPH0730444B2 (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | シートプラズマ式イオンプレーティング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02209475A true JPH02209475A (ja) | 1990-08-20 |
| JPH0730444B2 JPH0730444B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=12338211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1031695A Expired - Lifetime JPH0730444B2 (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | シートプラズマ式イオンプレーティング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0730444B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6350463A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-03 | Toobi:Kk | イオンプレ−テイング方法とその装置 |
-
1989
- 1989-02-09 JP JP1031695A patent/JPH0730444B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6350463A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-03 | Toobi:Kk | イオンプレ−テイング方法とその装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0730444B2 (ja) | 1995-04-05 |
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