JPH09143723A - 連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方法 - Google Patents
連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方法Info
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- JPH09143723A JPH09143723A JP29527995A JP29527995A JPH09143723A JP H09143723 A JPH09143723 A JP H09143723A JP 29527995 A JP29527995 A JP 29527995A JP 29527995 A JP29527995 A JP 29527995A JP H09143723 A JPH09143723 A JP H09143723A
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Abstract
蒸着を行なう場合に蒸着の品質の自由度が大きい連続真
空蒸着装置を提供する。 【解決手段】 本発明の連続真空蒸着装置は、真空チャ
ンバ内を連続走行する帯状の基板に基板の下方に配置さ
れたるつぼから蒸発した蒸発材料を連続的に蒸着させる
連続真空蒸着装置であって、略矩形状をしていて長手方
向が基板の走行方法と平行に、かつ基板の巾方向の両端
近傍に配置されたるつぼと、電子ビームの放射方向が基
板の走行方向と交叉するように、基板の両側に配置さ
れ、電子ビームの照射によりるつぼ内の蒸発材料を加熱
する電子銃と、るつぼの近傍に配置され、磁力線がるつ
ぼの長手方向に副って発生して電子ビームをるつぼ内の
蒸発材料に向けて偏向させる偏向磁石と、蒸発材料をる
つぼの長手方向の一端に供給する蒸発材料供給装置とか
らなる。
Description
び連続真空蒸着方法に係り、特に真空中で連続走行する
鋼板やフィルムなどの帯状の基板にるつぼから蒸発させ
た蒸発材料を蒸着させる連続真空蒸着装置および連続真
空蒸着方法に関する。
開昭62─70576号公報に開示されている。かかる
従来の装置は、図4の平面図(A)と側面図(B)に示
すように、真空チャンバa内に設けた長方形のるつぼc
に蒸発材料fを入れ、これに基板bの走行方向と直角方
向に伸びる壁面iに設けられた電子銃dより電子ビーム
eを照射して、蒸発材料を溶融・蒸発させ、連続的にガ
イドロールhを介して供給される鋼板などの帯状の基板
bに蒸発材料を蒸着するようになっている。真空チャン
バa内は真空排気装置(図示せず)により10-3〜10
-5Torrに維持されている。
ムeは、るつぼcの上方近傍に設けられ、磁力線をるつ
ぼの長手方向に沿って発生させる偏向磁石(図示せず)
により、ほぼ90°に曲げられ、るつぼに照射するよう
になっている。なお、蒸発材料fは図示しない蒸発材料
供給装置によりるつぼcの一端に供給される。またgは
蒸発材料fの蒸気である。
射位置がるつぼの長手方向に往復移動するように照射
し、蒸気材料fが一様に加熱されるようにする。そうす
ると蒸発がるつぼcの長手方向に一様に行われるが、そ
の場合基板bへの蒸着は巾方向の中央で厚く、両端部で
薄くなり品質的に問題となる。そのため電子ビームeの
照射位置の移動をるつぼcの長手方向の両端部で遅く、
中央部で速くするようにして、るつぼcの両端部の蒸発
材料fの溶湯の温度がるつぼ中央部の溶湯の温度より高
くなるようにする。このようにすることにより基板bの
巾方向に一様な蒸着が達成される。
に設けた例を示している。図5(A)は平面図、(B)
は(A)のB−B矢視図である。この場合には磁界の強
さの異なる複数の偏向磁石kがるつぼcを基板bの走行
方向に挟むようにるつぼcの長手方向に並んで設けられ
ている。
ついては次のような問題がある。先ず図4で説明した連
続真空蒸着装置の場合には電子銃が基板bの走行方向と
直角の方向に伸びる壁面iに、かつ、基板bの略中心下
方に設けられているので、るつぼcを2個近接して設
け、電子銃dを対向する壁面に設ける場合には偏向磁石
の磁力線の向きが互いに反対向きになり、るつぼcを接
近して設けると磁界が互に干渉する。従ってるつぼcを
あまり接近して設けることができず、2元蒸着の場合の
蒸着膜の品質のコントロールの自由度が損なわれる。
合にはるつぼcの長手方向に沿って磁界の強さの異なる
複数の偏向磁石kを設けねばならず、設備費が高く付
く。
として、 (1)基板bの巾が広い場合には、長いるつぼcを用意
せねばならず、また蒸発がほとんど行われないるつぼc
の中央部分も加熱せねばならないのでエネルギーの無駄
になる。 (2)蒸発材料fはるつぼcの長手方向の端部に供給さ
れるが、この部分は蒸発材料fの溶湯の温度が高いの
で、新しく供給される蒸発材料fに付着している空気等
により溶湯が飛び跳ねるスプラッシュ現象を起しやす
い。スプラッシュを少くするために溶湯の温度の低いる
つぼcの中央部付近に蒸発材料fを供給すればよいが、
そうすると蒸発材料供給装置が複雑になる。
たもので異種の複数の蒸発材料をそれぞれ収容するるつ
ぼを基板の走行方向に複数並べることが容易であり、ス
プラッシュの発生が少く、基板が巾広の場合でもるつぼ
の長さを短くできると共に電子ビームの加熱エネルギー
の節約ができる連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方
法を提供することを目的とする。
本願第1発明の連続真空蒸着装置は、真空チャンバ内を
連続走行する帯状の基板に基板の下方に配置されたるつ
ぼから蒸発した蒸発材料を連続的に蒸着させる連続真空
蒸着装置であって、略矩形状をしていて長手方向が基板
の走行方法と平行に、かつ基板の巾方向の両端近傍に配
置されたるつぼと、電子ビームの放射方向が基板の走行
方向と交叉するように、基板の両側に配置され、電子ビ
ームの照射によりるつぼ内の蒸発材料を加熱する電子銃
と、るつぼの近傍に配置され、磁力線がるつぼの長手方
向に副って発生して電子ビームをるつぼ内の蒸発材料に
向けて偏向させる偏向磁石と、蒸発材料をるつぼの長手
方向の一端に供給する蒸発材料供給装置とからなる。
るつぼは長手方向が基板の走行方向と平行になっている
のに代えて、走行方向に対して斜めにハの字状に配置す
るのがよい。
子銃と、偏向磁石と、蒸発材料供給装置の組が、基板の
走行方向に2組以上並んで配置されていてもよい。
願第1発明の連続真空蒸着装置を用いて基板に蒸発材料
を蒸着させる連続真空蒸着方法であって、電子ビームの
蒸発材料への照射位置をるつぼの長手方向に往復移動さ
せるとともに、往復移動の仕方を蒸発材料を投入するる
つぼの一端側を早く、るつぼの他端側を遅く移動させる
ことにより、るつぼ内の蒸発材料の溶湯の温度を一端側
を低く他端側を高くする温度勾配を持たせるようにした
ものである。
向の両端近傍に設けられ、両端近傍で蒸発が活発に行わ
れるので基板への蒸着の厚さは巾方向に均一になる。し
かもるつぼ内の溶湯の温度は蒸発材料が供給されるるつ
ぼの一端側で低く、蒸発が活発に行われるるつぼの他端
側で高いので、蒸発材料を投入したときに蒸発材料に吸
着した空気などは徐々に放出され、スプラッシュが起る
ことがない。また基板の巾が広い場合、るつぼの巾を広
くしたり、るつぼを斜めに、ハの字状に配置することに
より、蒸発の領域を基板の巾方向に広げることができ、
巾広い基板に対応することができる。
面を参照しつつ説明する。図1は本発明の連続真空蒸着
装置の平面図であり、るつぼと、電子銃と、偏向磁石
と、蒸発材料供給装置の組みが基板の走行方向に2組並
んで配置され、例えば上流側の組でアルミニウムを、下
流側の組でアルミマンガンを蒸着させる連続真空蒸着装
置を示している。図2は図1のA−A矢視図である。以
下2組の内の1組分につき詳細に説明する。
気装置により10-3〜10-5Torrに維持された真空
チャンバである。該真空チャンバ1内を鋼板などの帯状
の基板2が走行している。3はるつぼで、アルミニウム
やアルミマンガンなどの蒸発材料を収容しており、るつ
ぼ3から蒸発した蒸発材料8が基板2に蒸着することに
より連続真空蒸着が行われる。るつぼ3は略矩形状をし
ており、るつぼ3の長手方向は基板2の走行方向9と平
行になっている。るつぼ3は基板2の巾方向の両端近傍
にそれぞれ設けられている。4は電子銃で電子ビーム5
を放射する。電子ビーム5の放射方向は基板9の走行方
向と交叉する方向であり、真空チャンバ1の側壁1aに
設けられ、走行する基板2の両側に配置されている。6
は傾向磁石であり、るつぼ3の外側近傍に配置されてお
り、図1,図2に示すように磁力線6aをるつぼ3の外
側斜め上方でるつぼ3の長手方向に副って発生させるよ
うになっている。
は線状、ペレット状または粉状で供給される。ペレット
状の蒸発材料8の場合には例えば本願出願人の出願にか
かる特願平5─295818号や特願平6─21446
1号に開示されたような装置を用いればよい。蒸発材料
8はるつぼ3の長手方向の一端部8b(図1で三角形で
示す)に供給される。
続真空蒸着方法について説明する。電子銃4からの電子
ビーム5は図1で実線と破線で示すように左右に振れて
放射され、偏向磁石6による磁界により下方に曲げられ
て、るつぼ3内の蒸発材料8の溶湯の表面に略直角に照
射される。従って電子ビーム5の照射位置はるつぼ3の
長手方向に往復移動する。往復移動の仕方は蒸発材料8
が投入されるるつぼ3の一端3b側で速く移動させ(す
なわち滞在時間を短くする)、他端3a側で遅く移動さ
せる(すなわち滞在時間を長くする)。
料8の溶湯の温度が高く、蒸発材料8の投入されるるつ
ぼの一端側3eでは溶湯の温度が低くなり、一端3b側
から他端3a側に温度匂配ができる。温度の高い他端3
a側で活発な蒸発がなされ(蒸発ゾーンとしてハッチン
グで示す)、温度の低い一端3b側ではほとんど蒸発が
行われない。例えば蒸発材料8としてアルミニウムを使
用する場合には一端3b側で1200°C,他端3a側
で1500°C程度とし、温度差を300°C程度に保
たせるのが好ましい。
おり、蒸発材料8は温度の低いるつぼの一端3b側に供
給されるので、例え蒸発材料に気体が吸着されていて
も、るつぼ3内で徐々に放出されスプラッシュを起すこ
とはない。気体が放出された後蒸発材料8はるつぼ3の
他端3a側に流れ、ここで蒸発する。
広くして対応すればよいが、さらに巾が広い場合には図
3に他の実施形態として示すようにするのがよい。すな
わちるつぼ3の長手方向を図1では基板2の走行方向9
と平行に設けているが図3の場合には走行方向9に対し
て斜めになっていて、蒸発が行われる他端3aを内側と
し、蒸発材料の投入が行われる一端3bを外側とし、ハ
の字形状に配置されている。このようにるつぼ3を斜め
に配置し蒸発ゾーン3aを長くすることにより巾の広い
基板2に対応することができる。なお、その他の部分に
ついては図1と図3は同じなので説明を省略する。
るものではなく、特許請求の範囲内で種々変更が可能で
ある。
着装置および方法は帯状の基板の両側にるつぼを置き、
るつぼ内の溶湯の温度に勾配を持たせ、温度の低い側に
蒸発材料を供給し、高い側を蒸発ゾーンとしたので次の
ような効果がある。 (1)基板の巾に応じてるつぼを置く位置を変えてやれ
ばよいので巾の変化に対する対応が容易である。 (2)磁界の干渉がないのでるつぼを基板の走行方向に
近接して設け、かつ蒸発ゾーン同志が隣接するように配
置すれば2元蒸着の混合ゾーンの厚さを厚くすることが
できるし、またるつぼを互に離してやれば混合ゾーンの
厚さを薄くすることができるなど蒸着膜の品質の自由度
が大きい。 (3)電子銃を真空チャンバの側壁に設けることができ
るので2元以上の蒸着の場合に真空チャンバをコンパク
トにすることができる。
(A)は平面図、(B)は側面図である。
であり、図5(A)は平面図、図5(B)は図5(A)
のB−B矢視図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 真空チャンバ内を連続走行する帯状の基
板に基板の下方に配置されたるつぼから蒸発した蒸発材
料を連続的に蒸着させる連続真空蒸着装置であって、略
矩形状をしていて長手方向が基板の走行方法と平行に、
かつ基板の巾方向の両端近傍に配置されたるつぼと、電
子ビームの放射方向が基板の走行方向と交叉するよう
に、基板の両側に配置され、電子ビームの照射によりる
つぼ内の蒸発材料を加熱する電子銃と、るつぼの近傍に
配置され、磁力線がるつぼの長手方向に副って発生して
電子ビームをるつぼ内の蒸発材料に向けて偏向させる偏
向磁石と、蒸発材料をるつぼの長手方向の一端に供給す
る蒸発材料供給装置とからなることを特徴とする連続真
空蒸着装置。 - 【請求項2】 基板の巾が大きい場合において、るつぼ
は長手方向が基板の走行方向と平行になっているのに代
えて、走行方向に対して斜めにハの字状に配置されてい
る請求項1記載の連続真空蒸着装置。 - 【請求項3】 真空チャンバ内に、るつぼと、電子銃と
偏向磁石と蒸発材料供給装置の組が、基板の走行方向に
2組以上並んで配置されている請求項1または請求項2
記載の連続真空蒸着装置。 - 【請求項4】 請求項1ないし請求項3に記載した連続
真空蒸着装置を用いて基板に蒸発材料を蒸着させる連続
真空蒸着方法であって、電子ビームの蒸発材料への照射
位置をるつぼの長手方向に往復移動させるとともに、往
復移動の仕方を蒸発材料を投入するるつぼの一端側を早
く、るつぼの他端側を遅く移動させることにより、るつ
ぼ内の蒸発材料の溶湯の温度を一端側を低く他端側を高
くする温度勾配を持たせるようにしたことを特徴とする
連続真空蒸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29527995A JP3741160B2 (ja) | 1995-11-14 | 1995-11-14 | 連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29527995A JP3741160B2 (ja) | 1995-11-14 | 1995-11-14 | 連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09143723A true JPH09143723A (ja) | 1997-06-03 |
JP3741160B2 JP3741160B2 (ja) | 2006-02-01 |
Family
ID=17818550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29527995A Expired - Fee Related JP3741160B2 (ja) | 1995-11-14 | 1995-11-14 | 連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方法 |
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JP (1) | JP3741160B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080245300A1 (en) * | 2006-12-04 | 2008-10-09 | Leybold Optics Gmbh | Apparatus and method for continuously coating strip substrates |
JP2011503344A (ja) * | 2006-11-30 | 2011-01-27 | ライボルト オプティクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 連続式のコーティング |
-
1995
- 1995-11-14 JP JP29527995A patent/JP3741160B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2011503344A (ja) * | 2006-11-30 | 2011-01-27 | ライボルト オプティクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 連続式のコーティング |
US20080245300A1 (en) * | 2006-12-04 | 2008-10-09 | Leybold Optics Gmbh | Apparatus and method for continuously coating strip substrates |
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