JPH0673543A - 連続真空蒸着装置 - Google Patents
連続真空蒸着装置Info
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- JPH0673543A JPH0673543A JP22955692A JP22955692A JPH0673543A JP H0673543 A JPH0673543 A JP H0673543A JP 22955692 A JP22955692 A JP 22955692A JP 22955692 A JP22955692 A JP 22955692A JP H0673543 A JPH0673543 A JP H0673543A
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- Japan
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- metal
- vapor deposition
- crucible
- continuous vacuum
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 蒸発金属の広がりによるロスを低減し、かつ
蒸着金属を回収することにより、蒸着金属の利用率の高
い連続真空蒸着装置を提供する。 【構成】 連続して走行する薄板状の走行基板２と、電
子ビーム１を放射する電子銃３と、溶解した金属を収容
するルツボ４と、走行基板及びルツボを内蔵し真空に排
気されたチャンバー５とを備え、電子銃により電子ビー
ムを放射してルツボ内の金属を加熱して蒸発させ、蒸発
した金属を走行基板の表面に凝固させる連続真空蒸着装
置において、走行基板以外の部分へ拡散する蒸発金属を
さえぎる遮蔽板６をルツボのまわりに備える。また、遮
蔽板を蒸着金属の溶融温度以上に加熱する加熱器７を更
に有する。
蒸着金属を回収することにより、蒸着金属の利用率の高
い連続真空蒸着装置を提供する。 【構成】 連続して走行する薄板状の走行基板２と、電
子ビーム１を放射する電子銃３と、溶解した金属を収容
するルツボ４と、走行基板及びルツボを内蔵し真空に排
気されたチャンバー５とを備え、電子銃により電子ビー
ムを放射してルツボ内の金属を加熱して蒸発させ、蒸発
した金属を走行基板の表面に凝固させる連続真空蒸着装
置において、走行基板以外の部分へ拡散する蒸発金属を
さえぎる遮蔽板６をルツボのまわりに備える。また、遮
蔽板を蒸着金属の溶融温度以上に加熱する加熱器７を更
に有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、連続真空蒸着装置に係
わり、更に詳しくは、連続真空処理設備において電子ビ
ームにより蒸着材料を蒸発させて被処理材に蒸着させる
装置に関するものである。
わり、更に詳しくは、連続真空処理設備において電子ビ
ームにより蒸着材料を蒸発させて被処理材に蒸着させる
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】真空蒸着(vacuum deposition) は、真空
中で金属を加熱して蒸発させ、蒸発金属を基板（被処理
材）の表面に凝固させて皮膜を作る成膜プロセスであ
る。かかる成膜プロセスにおいて蒸着金属を加熱するた
めに電子ビームを用い薄板状の連続した走行基板に金属
を蒸着させる連続真空蒸着装置が従来から知られてい
る。この連続真空蒸着装置は、通常の湿式めっきでは扱
えない窒化物、炭化物、酸化物などの蒸着が可能であ
り、２種以上の金属の合金皮膜も容易にでき、かつ付着
速度が大きい等の多くの長所を有する。
中で金属を加熱して蒸発させ、蒸発金属を基板（被処理
材）の表面に凝固させて皮膜を作る成膜プロセスであ
る。かかる成膜プロセスにおいて蒸着金属を加熱するた
めに電子ビームを用い薄板状の連続した走行基板に金属
を蒸着させる連続真空蒸着装置が従来から知られてい
る。この連続真空蒸着装置は、通常の湿式めっきでは扱
えない窒化物、炭化物、酸化物などの蒸着が可能であ
り、２種以上の金属の合金皮膜も容易にでき、かつ付着
速度が大きい等の多くの長所を有する。
【０００３】かかる従来の連続真空蒸着装置は、例えば
図３及び図４に示すように、連続して走行する薄板状の
走行基板１２と、電子ビームを放射する電子銃１３ａ、
１３ｂと、溶解した皮膜用金属を収容するルツボ１４
ａ、１４ｂと、走行基板およびルツボを内蔵し１０-3〜
１０-5Ｔｏｒｒに真空排気された（排気装置は示さず）
真空チャンバー１５とを備え、電子銃１３ａ、１３ｂに
より電子ビームをそれぞれ放射し、図示しない磁界によ
り電子ビームの方向を曲げてルツボ１４ａ、１４ｂ内の
金属を加熱して蒸発させ、蒸発金属を走行基板１２の表
面に凝固させて皮膜を作るようになっている。かかる蒸
着装置により例えば２種金属の合金皮膜を走行基板上に
形成することができる。
図３及び図４に示すように、連続して走行する薄板状の
走行基板１２と、電子ビームを放射する電子銃１３ａ、
１３ｂと、溶解した皮膜用金属を収容するルツボ１４
ａ、１４ｂと、走行基板およびルツボを内蔵し１０-3〜
１０-5Ｔｏｒｒに真空排気された（排気装置は示さず）
真空チャンバー１５とを備え、電子銃１３ａ、１３ｂに
より電子ビームをそれぞれ放射し、図示しない磁界によ
り電子ビームの方向を曲げてルツボ１４ａ、１４ｂ内の
金属を加熱して蒸発させ、蒸発金属を走行基板１２の表
面に凝固させて皮膜を作るようになっている。かかる蒸
着装置により例えば２種金属の合金皮膜を走行基板上に
形成することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の連続真空蒸着装
置では、図３及び図４に角度Ｂ1 、Ｂ2 で示す広い範囲
に蒸発した金属が広がり、従って走行基板に蒸着せずに
ロスとなるものが多い問題点があった。従って、蒸着金
属の利用率の高い蒸着装置が従来から要望されていた。
置では、図３及び図４に角度Ｂ1 、Ｂ2 で示す広い範囲
に蒸発した金属が広がり、従って走行基板に蒸着せずに
ロスとなるものが多い問題点があった。従って、蒸着金
属の利用率の高い蒸着装置が従来から要望されていた。
【０００５】かかる要望を満たすために、ルツボの上方
に蒸発穴を有する蒸着防止板をかぶせることにより、蒸
発金属が広がる範囲を制限した電子ビーム蒸着装置が提
案された（実開平４−２５８５８号）。しかし、かかる
電子ビーム蒸着装置では、蒸着速度が速く蒸発量が多い
場合に大量の蒸着物が蒸着防止板の下面に堆積し、長時
間の運転ができない問題点があった。例えば、連続した
走行基板に蒸着させる場合には、１日当たりの堆積厚は
数ｃｍ〜数十ｃｍにもなるため、蒸着防止板をかぶせて
も、連続使用ができず、かつ蒸発穴が閉塞されて蒸発量
が変化する問題点があった。また、堆積した蒸着物は蒸
着防止板の下面に付着したままで回収できないため蒸着
金属の利用率が依然として低い問題点があった。
に蒸発穴を有する蒸着防止板をかぶせることにより、蒸
発金属が広がる範囲を制限した電子ビーム蒸着装置が提
案された（実開平４−２５８５８号）。しかし、かかる
電子ビーム蒸着装置では、蒸着速度が速く蒸発量が多い
場合に大量の蒸着物が蒸着防止板の下面に堆積し、長時
間の運転ができない問題点があった。例えば、連続した
走行基板に蒸着させる場合には、１日当たりの堆積厚は
数ｃｍ〜数十ｃｍにもなるため、蒸着防止板をかぶせて
も、連続使用ができず、かつ蒸発穴が閉塞されて蒸発量
が変化する問題点があった。また、堆積した蒸着物は蒸
着防止板の下面に付着したままで回収できないため蒸着
金属の利用率が依然として低い問題点があった。
【０００６】本発明は、かかる問題点を解決するために
創案されたものである。すなわち、本発明は、蒸発金属
の広がりによるロスを低減し、かつ蒸着金属を回収する
ことにより、蒸着金属の利用率の高い連続真空蒸着装置
を提供することを目的とするものである。
創案されたものである。すなわち、本発明は、蒸発金属
の広がりによるロスを低減し、かつ蒸着金属を回収する
ことにより、蒸着金属の利用率の高い連続真空蒸着装置
を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、連続し
て走行する薄板状の走行基板と、電子ビームを放射する
電子銃と、溶解した金属を収容するルツボと、前記走行
基板及びルツボを内蔵し真空に排気されたチャンバーと
を備え、電子銃により電子ビームを放射してルツボ内の
金属を加熱して蒸発させ、蒸発した金属を走行基板の表
面に凝固させる連続真空蒸着装置において、走行基板以
外の部分へ拡散する蒸発金属をさえぎる遮蔽板をルツボ
のまわりに備える、ことを特徴とする連続真空蒸着装置
が提供される。
て走行する薄板状の走行基板と、電子ビームを放射する
電子銃と、溶解した金属を収容するルツボと、前記走行
基板及びルツボを内蔵し真空に排気されたチャンバーと
を備え、電子銃により電子ビームを放射してルツボ内の
金属を加熱して蒸発させ、蒸発した金属を走行基板の表
面に凝固させる連続真空蒸着装置において、走行基板以
外の部分へ拡散する蒸発金属をさえぎる遮蔽板をルツボ
のまわりに備える、ことを特徴とする連続真空蒸着装置
が提供される。
【０００８】本発明の好ましい実施例によれば、前記遮
蔽板を蒸着金属の溶融温度以上に加熱する加熱器を更に
備え、かつ前記遮蔽板の下端は前記ルツボの内側に位置
する。更に、前記遮蔽板は、モリブデン、タンタル、タ
ングステンのいずれかを少なくとも主成分とする高融点
材料、又は、炭化物、窒化物、酸化物セラミックなどの
耐熱材料からなる、ことが好ましい。
蔽板を蒸着金属の溶融温度以上に加熱する加熱器を更に
備え、かつ前記遮蔽板の下端は前記ルツボの内側に位置
する。更に、前記遮蔽板は、モリブデン、タンタル、タ
ングステンのいずれかを少なくとも主成分とする高融点
材料、又は、炭化物、窒化物、酸化物セラミックなどの
耐熱材料からなる、ことが好ましい。
【０００９】
【作用】上記本発明の構成によれば、走行基板以外の部
分へ拡散する蒸発金属をさえぎる遮蔽板をルツボのまわ
りに備えるので、蒸着範囲以外への蒸発金属の拡散量を
低減することができる。又、前記遮蔽板を蒸着金属の溶
融温度以上に加熱する加熱器を更に備え、かつ遮蔽板の
下端がルツボの内側に位置するので、遮蔽板に付着した
蒸着金属を溶解し再度ルツボ内に回収することができ
る。
分へ拡散する蒸発金属をさえぎる遮蔽板をルツボのまわ
りに備えるので、蒸着範囲以外への蒸発金属の拡散量を
低減することができる。又、前記遮蔽板を蒸着金属の溶
融温度以上に加熱する加熱器を更に備え、かつ遮蔽板の
下端がルツボの内側に位置するので、遮蔽板に付着した
蒸着金属を溶解し再度ルツボ内に回収することができ
る。
【００１０】従って、蒸発金属の広がりによるロスを低
減し、かつ蒸着金属を回収することにより、蒸着金属の
利用率を高めることができる。
減し、かつ蒸着金属を回収することにより、蒸着金属の
利用率を高めることができる。
【００１１】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図面を参照して説
明する。図１は本発明による連続真空蒸着装置の全体構
成図であり、図２は同装置の横断面図である。図１及び
図２において、本発明による連続真空蒸着装置は、連続
して走行する薄板状の走行基板２と、電子ビーム１を放
射する電子銃３ａ、３ｂと、溶解した金属を収容するル
ツボ４ａ、４ｂと、走行基板及びルツボを内蔵し真空に
排気されたチャンバー５とを備える。走行基板２は、金
属を真空蒸着させる帯状の鋼板、ステンレス板、フィル
ム等である。電子ビーム１は水平方向に放射され、次い
でチャンバー内に付加された図示しない磁界により曲げ
られてルツボ４ａ、４ｂ内の蒸着用金属を照射し、ルツ
ボ内の蒸着用金属を加熱して蒸発させるようになってい
る。チャンバー５の内部は、真空ポンプ（図示せず）に
より通常１０-3〜１０-5Ｔｏｒｒ（トール）の真空に維
持されている。
明する。図１は本発明による連続真空蒸着装置の全体構
成図であり、図２は同装置の横断面図である。図１及び
図２において、本発明による連続真空蒸着装置は、連続
して走行する薄板状の走行基板２と、電子ビーム１を放
射する電子銃３ａ、３ｂと、溶解した金属を収容するル
ツボ４ａ、４ｂと、走行基板及びルツボを内蔵し真空に
排気されたチャンバー５とを備える。走行基板２は、金
属を真空蒸着させる帯状の鋼板、ステンレス板、フィル
ム等である。電子ビーム１は水平方向に放射され、次い
でチャンバー内に付加された図示しない磁界により曲げ
られてルツボ４ａ、４ｂ内の蒸着用金属を照射し、ルツ
ボ内の蒸着用金属を加熱して蒸発させるようになってい
る。チャンバー５の内部は、真空ポンプ（図示せず）に
より通常１０-3〜１０-5Ｔｏｒｒ（トール）の真空に維
持されている。
【００１２】かかる構成により、図示の連続真空蒸着装
置は、電子銃３ａ、３ｂにより電子ビーム１を放射して
ルツボ４ａ、４ｂ内の蒸着用金属をそれぞれ加熱して蒸
発させ、蒸発した金属を走行基板２の表面に凝固させる
ことができる。ルツボ４ａ、４ｂ内には異なる金属、例
えばアルミニウム（Ａｌ）と亜鉛（Ｚｎ）を収容する。
これにより、合金、例えばＡｌ−Ｚｎ合金を走行基板２
に蒸着させることができる。なお、ルツボの数は、１つ
でもよく、或いは３つ以上でも良い。また、各ルツボに
同一の金属を収容してもよく、異なる金属を収容しても
良い。
置は、電子銃３ａ、３ｂにより電子ビーム１を放射して
ルツボ４ａ、４ｂ内の蒸着用金属をそれぞれ加熱して蒸
発させ、蒸発した金属を走行基板２の表面に凝固させる
ことができる。ルツボ４ａ、４ｂ内には異なる金属、例
えばアルミニウム（Ａｌ）と亜鉛（Ｚｎ）を収容する。
これにより、合金、例えばＡｌ−Ｚｎ合金を走行基板２
に蒸着させることができる。なお、ルツボの数は、１つ
でもよく、或いは３つ以上でも良い。また、各ルツボに
同一の金属を収容してもよく、異なる金属を収容しても
良い。
【００１３】本発明の連続真空蒸着装置は、更に走行基
板２の範囲外へ拡散する蒸発金属をさえぎる遮蔽板６
ａ、６ｂをルツボのまわりに備える。図１において、遮
蔽板６ａの下端はルツボ４ａ、４ｂの内側に位置し、遮
蔽板６ａの上端は電子ビーム１の流れを遮らないように
電子銃３ａ、３ｂの高さよりも低く、かつ下端から外方
に僅かに広がっている。一方、図２において、遮蔽板６
ｂの上端が電子銃３ａ、３ｂの高さよりも高い点で相違
するが、上端が外方に広がり、下端がルツボ４ａ、４ｂ
の内側に位置する点は図１の遮蔽板６ａと同じである。
これにより、図１及び図２に示す角度Ａ1 、Ａ2 の範囲
に、蒸発金属の拡散を制限し、蒸発金属の広がる範囲を
制限することができる。
板２の範囲外へ拡散する蒸発金属をさえぎる遮蔽板６
ａ、６ｂをルツボのまわりに備える。図１において、遮
蔽板６ａの下端はルツボ４ａ、４ｂの内側に位置し、遮
蔽板６ａの上端は電子ビーム１の流れを遮らないように
電子銃３ａ、３ｂの高さよりも低く、かつ下端から外方
に僅かに広がっている。一方、図２において、遮蔽板６
ｂの上端が電子銃３ａ、３ｂの高さよりも高い点で相違
するが、上端が外方に広がり、下端がルツボ４ａ、４ｂ
の内側に位置する点は図１の遮蔽板６ａと同じである。
これにより、図１及び図２に示す角度Ａ1 、Ａ2 の範囲
に、蒸発金属の拡散を制限し、蒸発金属の広がる範囲を
制限することができる。
【００１４】更に、遮蔽板６ａ、６ｂの外面には、遮蔽
板を蒸着金属の溶融温度以上に加熱することができる加
熱器７、例えば電気抵抗加熱器を備えている。また、遮
蔽板６ａ、６ｂは、例えばモリブデン（ＭO 、原子番号
４２、融点２６１０°Ｃ）、タンタル（Ｔa 、同７３、
２９９６°Ｃ）、タングステン（Ｗ、同７４、３４１０
°Ｃ）等の高融点元素を少なくとも主成分とする高融点
材料、又は、炭化物、窒化物、酸化物セラミックなどの
耐熱材料から製作するのが良い。これにより、遮蔽板の
温度を、蒸着金属の融点よりも高温に加熱し、遮蔽板の
内面に付着した金属を溶解することによりルツボ内に回
収することができる。
板を蒸着金属の溶融温度以上に加熱することができる加
熱器７、例えば電気抵抗加熱器を備えている。また、遮
蔽板６ａ、６ｂは、例えばモリブデン（ＭO 、原子番号
４２、融点２６１０°Ｃ）、タンタル（Ｔa 、同７３、
２９９６°Ｃ）、タングステン（Ｗ、同７４、３４１０
°Ｃ）等の高融点元素を少なくとも主成分とする高融点
材料、又は、炭化物、窒化物、酸化物セラミックなどの
耐熱材料から製作するのが良い。これにより、遮蔽板の
温度を、蒸着金属の融点よりも高温に加熱し、遮蔽板の
内面に付着した金属を溶解することによりルツボ内に回
収することができる。
【００１５】なお、上記実施例では、電子銃を用いて加
熱しているが、本発明はこれに限定されるものではな
く、例えば、抵抗加熱、高周波誘導加熱、直接通電加熱
等を用いることができる。また、ルツボの開口部形状が
矩形である場合を例示したが、その他の形状、例えば楕
円形でも良い。なお楕円形の場合、遮蔽板の形状も、平
板ではなく円弧状になることはいうまでもない。
熱しているが、本発明はこれに限定されるものではな
く、例えば、抵抗加熱、高周波誘導加熱、直接通電加熱
等を用いることができる。また、ルツボの開口部形状が
矩形である場合を例示したが、その他の形状、例えば楕
円形でも良い。なお楕円形の場合、遮蔽板の形状も、平
板ではなく円弧状になることはいうまでもない。
【００１６】上述したように、本発明の構成によれば、
走行基板以外の部分へ拡散する蒸発金属をさえぎる遮蔽
板をルツボのまわりに備えるので、蒸着範囲以外への蒸
発金属の拡散量を低減することができる。又、前記遮蔽
板を蒸着金属の溶融温度以上に加熱する加熱器を更に備
え、かつ前記遮蔽板の下端は前記ルツボの内側に位置す
るので、遮蔽板に付着した蒸着金属を溶解し再度ルツボ
内に回収することができる。
走行基板以外の部分へ拡散する蒸発金属をさえぎる遮蔽
板をルツボのまわりに備えるので、蒸着範囲以外への蒸
発金属の拡散量を低減することができる。又、前記遮蔽
板を蒸着金属の溶融温度以上に加熱する加熱器を更に備
え、かつ前記遮蔽板の下端は前記ルツボの内側に位置す
るので、遮蔽板に付着した蒸着金属を溶解し再度ルツボ
内に回収することができる。
【００１７】
【発明の効果】従って、本発明によれば、（１）蒸着範
囲以外への蒸着金属が少なくなり、チャンバー内のメン
テナンスの頻度が少なくなる、（２）遮蔽板に付着した
金属を回収し再使用できるため蒸着金属を有効に使用で
きる、（３）無駄になる蒸着金属が少なくなり、連続式
の真空蒸着設備の長時間運転が可能になる、等の多くの
効果を有する。
囲以外への蒸着金属が少なくなり、チャンバー内のメン
テナンスの頻度が少なくなる、（２）遮蔽板に付着した
金属を回収し再使用できるため蒸着金属を有効に使用で
きる、（３）無駄になる蒸着金属が少なくなり、連続式
の真空蒸着設備の長時間運転が可能になる、等の多くの
効果を有する。
【００１８】要約すれば、本発明により、蒸発金属の広
がりによるロスを低減し、かつ蒸着金属を回収すること
により、蒸着金属の利用率を高めることができる。
がりによるロスを低減し、かつ蒸着金属を回収すること
により、蒸着金属の利用率を高めることができる。
【図１】本発明による連続真空蒸着装置の全体構成図で
ある。
ある。
【図２】図１の横断面図である。
【図３】従来の連続真空蒸着装置の全体構成図である。
【図４】図３の横断面図である。
１ 電子ビーム ２ 走行基板 ３ａ、３ｂ 電子銃 ４ａ、４ｂ ルツボ ５ チャンバー ６ａ、６ｂ 遮蔽板 ７ 加熱器 １２ 走行基板 １３ａ、１３ｂ 電子銃 １４ａ、１４ｂ ルツボ １５ チャンバー
Claims (3)
- 【請求項１】 連続して走行する薄板状の走行基板と、
電子ビームを放射する電子銃と、溶解した金属を収容す
るルツボと、前記走行基板及びルツボを内蔵し真空に排
気されたチャンバーとを備え、電子銃により電子ビーム
を放射してルツボ内の金属を加熱して蒸発させ、蒸発し
た金属を走行基板の表面に凝固させる連続真空蒸着装置
において、 走行基板以外の部分へ拡散する蒸発金属をさえぎる遮蔽
板をルツボのまわりに備える、ことを特徴とする連続真
空蒸着装置。 - 【請求項２】 前記遮蔽板を蒸着金属の溶融温度以上に
加熱する加熱器を更に備え、かつ前記遮蔽板の下端は前
記ルツボの内側に位置する、ことを特徴とする請求項１
に記載の連続真空蒸着装置。 - 【請求項３】 前記遮蔽板は、モリブデン、タンタル、
タングステンのいずれかを少なくとも主成分とする高融
点材料、又は、炭化物、窒化物、酸化物セラミックなど
の耐熱材料からなる、ことを特徴とする請求項２に記載
の連続真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22955692A JPH0673543A (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 連続真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22955692A JPH0673543A (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 連続真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673543A true JPH0673543A (ja) | 1994-03-15 |
Family
ID=16894024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22955692A Pending JPH0673543A (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 連続真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0673543A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100959213B1 (ko) * | 2007-12-20 | 2010-05-19 | 주식회사 동부하이텍 | 백 메탈 공정챔버 |
| US7806412B2 (en) | 2004-07-09 | 2010-10-05 | Nok Corporation | Lip type end face sealing device |
| KR101017170B1 (ko) * | 2008-08-13 | 2011-02-25 | 주식회사 동부하이텍 | 백 메탈 공정챔버 |
| JP2012041604A (ja) * | 2010-08-19 | 2012-03-01 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 真空蒸着装置 |
| CN114574815A (zh) * | 2020-11-30 | 2022-06-03 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置 |
-
1992
- 1992-08-28 JP JP22955692A patent/JPH0673543A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7806412B2 (en) | 2004-07-09 | 2010-10-05 | Nok Corporation | Lip type end face sealing device |
| US8714562B2 (en) | 2004-07-09 | 2014-05-06 | Nok Corporation | Lip type end face sealing device |
| KR100959213B1 (ko) * | 2007-12-20 | 2010-05-19 | 주식회사 동부하이텍 | 백 메탈 공정챔버 |
| KR101017170B1 (ko) * | 2008-08-13 | 2011-02-25 | 주식회사 동부하이텍 | 백 메탈 공정챔버 |
| JP2012041604A (ja) * | 2010-08-19 | 2012-03-01 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 真空蒸着装置 |
| CN114574815A (zh) * | 2020-11-30 | 2022-06-03 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置 |
| CN114574815B (zh) * | 2020-11-30 | 2023-11-28 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置 |
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