JPH02207084A - N‐置換‐3‐(含窒素5員環)ベンゼンスルホンアミド誘導体、その製造方法及び除草剤 - Google Patents

N‐置換‐3‐(含窒素5員環)ベンゼンスルホンアミド誘導体、その製造方法及び除草剤

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JPH02207084A
JPH02207084A JP1027368A JP2736889A JPH02207084A JP H02207084 A JPH02207084 A JP H02207084A JP 1027368 A JP1027368 A JP 1027368A JP 2736889 A JP2736889 A JP 2736889A JP H02207084 A JPH02207084 A JP H02207084A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、N−置換−3−(含窒素5員環)ベンゼンス
ルポンアミド誘導体、その製造方法、及び該誘導体を有
効成分として含有する除草剤に関する。
従来の技術 従来、除草剤として多数の化合物が提案されており、N
−置換ペンセンスルホンアミド誘導体についても多種類
のものが除草剤として報告されている。そして、ベンゼ
ン環に5員環を結合させ、かつ、窒素原子にピリミジン
環又は1,3.5−トリアジン環を結合させたN−置換
ベンゼンスルポンアミドとして、例えば特開昭58−1
21283号公報及び特開昭58−131984号公報
に下記一般式で示される化合物が開示されている。
(e 特許請求の範囲第1項記載のト置換−3−(含窒
素5員環)ベンゼンスルホンアミド誘導体を有効(式中
、Qは5J4環を表わし、R3は、H,F、CI、Br
、CHi 、CFs又はOCHsを表わし、R4はH又
はCH,を表わし、Wは0又はS(ただしXはCH,、
OCH3又はCIを表わし、YはCH3、C2)(S 
、CH2OCH3、OCH,、QC2H,等を表わし、
ZはC)[又はNを表わす)等を表わす] 発明が解決しようとする課題 ところで、従来、環境中の存在量を少なくできる利点を
持つような低薬量で確実な除草効果を示す除草剤、環境
条件の変化にかかわらず、作物と雑草間に選択性を示す
除草剤、二期作で後作に薬害を生じない除草剤など、優
れた除草効果を示す除草剤に対する要望が高い0本発明
は、従来の上記のような要望に応えることを課題として
なされたものである。
したがって、本発明の目的は、優れた除草効果を示す新
規な化合物及びその製造方法、その製造中間体、及び該
化合物を有効成分とする新規な除草剤を提供することに
ある。
課題を解決するための手段 本発明者等は、前記特開昭58−121283号公報及
び特開昭58−131984号公報に開示された化合物
が、ベンゼンスルポンアミドの2位に5員環を有するの
に対し、3位に5#iI環を有する未だ報告されていな
い下記一般式(I)で示される化合物が優れた除草効果
を有することを見出だし、本発明を完成するに至った。
本発明は、次の構成上の特徴を有する。
第1の発明は、ト置換−3−(含窒素5員環)ベンゼン
スルホンアミド誘導体に関するものであって、下記一般
式(I)で示される。
I OXl R1は、H,CI 、CHs 、C00CHs又はCO
OC2Hらを表わし、2はCH又はNを表わし、Xlは
CHs 、0CHs又はCIを表わし、XtはCHs又
はOCHsを表わず) 第2の発明は、上記ト置換−3−(含窒素5員環)ベン
ゼンスルホンアミド誘導体の製造方法に関するものであ
って、下記一般式(II)で示される3−(含窒素5員
環)ベンゼンスルポンアミド誘導体×2 (式中、z、x’及びX2は、それぞれ前記と同じ意味
を有するン とを反応させることを特徴とする。
第3の発明は、上記ト置換−3−(含窒素5員環)ベン
ゼンスルポンアミド誘導体の製造中間体である3−(ビ
ロール−1−イル)ベンゼンスルホンアミド誘導体に関
するものであって、下記一般式(■−^)で示される。
R鵞 (式中、G−及びR+は、それぞれ前記と同じ意味を有
する) と下記一般式(II)で示されるフェニルカルバメート
誘導体 (式中、R1は、前記と同じ意味を有し、R2はト■又
はc Hsを表わす) 第4の発明は、上記N−置換−3−(含窒素5員環)ベ
ンゼンスルホンアミド誘導体の製造中間体である3−(
2,3−ジメチルマレイミド)ベンゼンスルポンアミド
誘導体に関するものであって、下記一般式(It−8)
で示される。
[IIA−3−(含窒素5員環)ベンゼンスルポンアミ
ド誘導体の具体例としては、第1表に示すものをあげる
ことができる。
C式中、R’は前記と同じ意味を有する)第5の発明は
、上記ト置換−3−(含窒素5員環)ベンゼンスルホン
アミド誘導体の製造中間体である3−(3,5−ジメチ
ルピラゾリン−1−イル)−6−(メトキシカルボニル
)ベンゼンスルホンアミドに関するものであって、下記
構造式(ll−C−2)で示される。
第6の発明は、除草剤に関するものであって、上記一般
式(I)で示されるト置換−3−(含窒素5員環)ベン
ゼンスルホンアミド誘導体を有効成分として含有するこ
とを特徴とする。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明における上記一般式(I)で示される−一第1表 第1表(続き) 上記一般式(I>で示されるN−置換−3−(含窒素5
員環)ベンゼンスルボンアミド誘導体は、下記反応式に
従い、上記一般式(n)で表わされる3−(含窒素5員
環)ベンゼンスルポンアミド誘導体と上記一般式(I[
>で示されるフェニルカルバメート誘導体とを、有機溶
媒中で塩基の存在下反応させることによって合成するこ
とができる。
(式中、C’N、R’ 、Z、X’ 及びX2C,t、
ツレぞれ前記と同じ意味を有する) 上記の反応において、有機溶蝶としては、ジメチルアセ
トアミド、トメチルピロリドン、アセトニトリル等を用
いることができる。また、塩基としては、ジアザビシク
ロオクタン、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウ
ンデセン等を用いることができる。
反応は、−20℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃
の範囲の反応温度で、0.5〜24時間の範囲の反応時
間で行われる。
反応終了後、希塩酸水溶液に反応混合物を加え、生じた
析出物をr取して、風乾した後、生成物を再沈澱法、カ
ラムクロマトグラフィーによる精製法や洗浄法によって
精製して、純度よく目的とする上記一般式(I)で示さ
れる84換−3−(含窒素5員環)ベンゼンスルホンア
ミド誘導体を得ることができる。
上記の反応において、原料となる製造中間体である上記
一般式(n)で示される3−(含窒素5@環)ベンゼン
スルホンアミド誘導体は、下記一般式(IV )で示さ
れる公知の3−アミノベンセンスルホンアミド誘導体を
出発物質として、下記反応式(A) 、(B)及び(C
)のいずれかに従って合成することができる。
(^) fc) (IV) x (II−A) (ff−B) (IF−C) (式中、R1及びR2は、それぞれ上記と同じ意味を有
する) 反応式(^)による一般式(■−^)で示される化合物
の合成は、次のようにして実施することができる。即ち
、一般式(IV)で示される化合物と25−ジアルコキ
シテトラしドロフランスはアセトニルアセトンとを、酢
酸又は10ピオン酸中、又は35%塩酸や95%硫酸を
触媒量含有するジオキサン中で、50〜120℃におい
て0.5〜10時間撹拌する。
反応終了後、溶媒を十分に留去し、釜残を水洗し、枦収
する0次いで、カラムクロマトグラフィーで精製して、
一般式(II−A)で示される化合物を純度良く得るこ
とができる。
反応式(B)による一般式(II−8)で示される化合
物の合成は、次のようにして実施することができる。即
ち、一般式(IV)で示される化合物と23−ジメチル
マレイン酸無水物を、ピリジン、#酸又はプロピオン酸
中で、50〜120’Cにおいて5〜60時間撹拌する
0次いで、溶媒を留去して得られる釜残に、氷水を加え
て、(ピリジンを用いた場合には酸性にして)よくかき
まぜ、得られた固体をP収し、風乾して、一般式(■−
8)で示される化合物を純度良く得ることができる。
反応式(C)による一般式(ff−C)で示される化合
物の合成は、次のようにして実施することができる。即
ち、一般式(IV )で示される化合物のアミノ基をジ
アゾ化した後、還元して合成した一般式(V)で示され
る化合物と、アセチルアセトンを、酢酸又はプロピオン
酸中、又は35%塩酸や95%硫PJを触媒量含有する
メタノール又はエタノール等のアルコール中で、40〜
120℃において3〜20時間撹拌する0反応終了後、
氷水を加えてかきまぜながら、p116にして析出物を
枦取し、風乾し、必要ならばカラムクロマトグラフィー
で精製して、一般式(II−C)で示される化合物を純
度良く得ることができる。
なお、上記反応式(A)〜(C)で使用した一般式(I
V ’)で示される化合物は、ニトロベンゼン誘導体か
ら、例えばBull、 Chell、 Soc、 Jp
n、、55.3824(1982)、に記載の方法を用
いたり、3−ニトロアニリン誘導体から、例えばChe
Il、 Ber、、 90,84.1 (1957)、
やJ、 Hacronol、 Sci、、Chen、、
1969,941.に記載の方法を用いて3−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド誘導体を合成し、次いで35%塩
酸を含んだメタノール又はエタノール中でS n CI
 2を用いてニトロ基をアミノ基に還元して得ることが
できる。
また、上記一般式(1)で示される化合物は、クロルギ
酸フェニルと2−アミノ−4,6−ジ置換ピリミジン(
又は1,3.5−トリアジン)とから、例えばヨーロッ
パ特許第238.070号明細書に記載の方法によって
得ることができる。
上記製造中間体として使用される一般式(■−^)(n
−8)及び(II−C)で示される化合物の具体例とし
ては、第2表乃至第4表に示すものをあげることができ
る。
また、一般式(V)で示される化合物の具体例としては
、 第5表に示すものをあげることができ る。
式(I)で示されるト置換−3−(含窒素5−環)ペン
センスルホンアミド誘導体は、低薬量で確実な除草効果
を示し、かつ、作物と雑草間に選択性を示す、したがっ
て、この化合物を有効成分として含有する本発明の除草
剤は、例えば、コムギ、イネ、トウモロコシ、ダイズ、
ワタ、テンサイ、ジャガイモ、トマト等の重要作物中の
双子葉雑草や単子葉雑草を発芽前或いは発芽後に防除す
るのに適している。
本発明の除草剤によって防除することができる双子葉雑
草としては、ヒュ属(Alaranthus) 、セl
ダングサ属(8idens)、ハコベ属(Stet 1
aria)、ナス属(Solanui) 、イチビ属(
Abut i ton)、セイヨウヒルガオ属(Con
volvulus) 、シカギク属(Hatriari
a)、ヤエムグラ属(Galium)、アゼトウガラシ
5 (Lindernia)等があげられる。
また、単子葉雑草としては、キビ属 Echinochloa) 、エノコログサ属(Set
aria) 、メ;シバ属(DiQitaria) 、
カラスムギ属(Avena)、カヤツリグサ属(Cyp
erus) 、ヘラオモダカ属(^Iisma)、ミズ
アオイ属(Honochoria)等があげられる。
本発明の除草剤は、水和剤、乳剤、粉末、粒剤なと、如
何なる剤型であってもよく、使用する担体(希釈刑)及
び助剤としては、周知のものが使用できる。
本発明の除草剤の施用範囲は、畑地、水田、果樹園等の
農耕地の他、グラウンド、工場敷地等の非農朝地があげ
られる。
実施例 以下、実施例によって本発明を説明する。
合成例1 2−((4,6−シメトキシビリミジンー2−イル)ア
ミンカルボニルアミノスルホニル)−4−(IH−ビロ
ール−1−イル)安息香酸メチルエステル(化合物番号
l−7)の合成 2−(アミノスルホニル)−4−(IN−ビロール−1
−イル)安息香酸メチルエステル141.5 rst 
(0,5■nol)と(4,6−シメトキシビリミジン
ー2−イル)カルバミン酸フェニルエステル137.5
 mg (0,5nnol)を室温においてN、N−ジ
メチルアセトアミド1.5  nJに溶解した1次いで
、1,8−ジアザビシクロ[5゜4.01ウンデク−7
−ニン82.1mgを加えて、5分間撹拌した後、15
時間靜1した。その後、氷水20 ljに35%塩#!
i0.2 11jを加えて撹拌の下に、反応混合物を0
.2  njずつ加えた。20分間攪拌した後、析出物
を枦取し、風乾した。粗生成物をジクロロメタンと石油
エーテルを用いて再沈澱により精製した。
白色固体、骨量196■、収率85%、その物理化学的
性質を第6表に示す。
第1表に示すその他のト置換−3−(含窒素5員環)ベ
ンゼンスルホンアミド誘導体についても、合成例1と同
様にして合成した。すなわち、合成例1と同様の方法を
用いて粗生成物を得た後、各々カラムクロマトグラフィ
ー(シリカゲルを使用)又は再沈澱又は洗浄により精製
した。各N−置換−3−(含窒素5員環)ベンゼンスル
ホンアミド誘導体の物理化学的性質を第6表に示す、な
お第6表及び後記第10表中、NMRの項の略号は、次
の意味を表わす。
S(−重線)、d(二重線)、t(三重線)、q(四重
線)、m(多垂線)、dd(二重二重線)、br(ブロ
ード)。
また、各ト置換−3−(含窒素5員環)ベンゼンスルホ
ンアミド誘導体について、使用溶媒と収率は次の通りで
あった。
カラムクロマトグラフィーで精製したもの=化合物  
  使用溶媒     収率番号          
    (X)I−2CH2Cl *     48 II      CH2C1268 I−6CH2CI 2 I−18CHICI 2 再沈澱により精製したちの: 化合物    使用溶媒 番号 I −9CH,C1,と石油エーテル I −12Cl2CI□とヘキサン I −13CH2C12とヘキサン I −140H,CI2とヘキサン I −15CM、 CI2と石油エーテルI −20C
H2C12と石油エーテル洗浄により精製したちの: 化合物    使用溶媒 番号 C1. CI2と石油エーテル CH2CI2と石油エーテル 石油エーテル 石油エーテル CH2 C12と石油エーテル CM2CI2と石油エーテル ■−11 CI12 C)12 CH2 I2 I2 I2 CI。
とヘキサン と石油エーテル と石油エーテル と石油エーテル 合成例2 製造中間体=2−(アミンスルホニル)−4−(IH−
ビロール−1−イル)安息香酸メチルエステル(化合物
番号■−^−7)の合成 4−アミノ−2−(アミンスルホニル)安息香酸メチル
エステル300 q(1,311iol)と2,5−ジ
メトキシテトラヒドロフラン0.23 njを酢酸3 
njに溶解して110℃において1.5時間撹拌した0
次いで酢酸を留去して、氷水30Iljを加えて、20
時間撹拌した後、析出物を沢取し、風乾した。得られた
褐色の固体を、シリカゲル(ワコーゲルC−300、和
光純薬■製)とジクロロメタンを用いてカラムクロマト
グラフィーで精製した。 白色固体、骨量175.7 
ff1g、収率48%、その物理化学的性質を第7表に
示す。
第2表に示すその他の化合物についても、合成例2と同
様にして合成した。各化合物の収率及び物理化学的性質
を第7表に示す。
合成例3 製造中間体:2−クロロ−5−(2,5−ジヒドロ−3
,4−ジメチル−2,5−ジオキソ−1■−ビロール−
1−イル)ベンゼンスルポンアミド(化合物番号n−8
−2)の合成 5−アミノ−2−クロロベンゼンスルホンアミド11I
lo Iと2,3−ジメチルマレイン酸無水物1.05
uolをピリジンG  njl中で90〜100℃にお
いて9時間攪拌した6次いで反応混合物からピリジンを
留去し、固体の釜残に氷水20 IIJ!と35%塩酸
0.1  IIjlを加えて、20分間撹拌した後、枦
取して風乾した。収率93%、その物理化学的性質を第
8表に示す。
第3表に示すその他の化合物〔(化合物番号■−8−1
)と(化合物番号ll−8−3) )についても、合成
例3と同様にして合成した。各化合物の収率及び物理化
学的性質を第8表に示す。
合成例4 製造中間体:2−(アミノスルホニル)−4−(2,5
−ジヒドL7−3.4−ジメチル−2,5−ジオキソ−
111−ビロール−1−イル)安息香酸メチルエステル
(化合物番号[[−8−4)の合成 4−アミノ−2−(アミノスルボニル)安息香酸メチル
エステル1 m1olと2.3−ジメチルマレイン酸無
水物1.05nnolt酢#!1aIlj中テ80℃ニ
オイテ40時間撹拌した0次いで反応混合物から酢酸を
留去し、油状の釜残に氷水20 njを加えて、2時間
攪拌した後、生じた固体をPTiして風乾した。収率4
3%。
その物理化学的性質を第8表に示す。
合成例5 製造中間体=2−(アミンスルホニル)−4−(3,5
−ジメチル−1トビラゾール−1−イル)安息香酸メチ
ルエステル(化合物番号ff−C−2)の合成■2−(
アミノスルホニル)−4−ヒドラジノ安息香酸メチルエ
ステル(化合物番号v−4)の合成4−アミノ−2−(
アミノスルホニルン安息香酸メチルエステル3gを35
%塩酸6 Iljと水8 IIJの混合物に加えて室温
で5分間撹拌した0次いで氷水冷却し、撹拌して、亜硝
酸ナトリウム0.95 Kを水3 wNに溶解したもの
を2分間で加えてジアゾ化した。
塩化第1$6.78.を35%tIA116.52 I
j 4,1:溶解し、氷水冷却し、撹拌したものに、先
に調製しなジアゾ化物を加えた。
20分間撹拌した後、冷蔵庫で15時間靜1しな。
次いで、反応混合物を31のビーカーに移し、炭酸水素
ナトリウム粉末3g、を加えて撹拌してpH6にし、3
00 Illの酢酸メチルエステルで2回抽出した。抽
出液を硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸メチルエステ
ルを留去して、淡黄色固体を得た。
得t2.7Lr、収率86%、融点168〜170℃、
その物理化学的性質は第10表に示す通りであった。
■2−(アミノスルホニル)−4−(3,5−ジメチル
−111−ピラゾール−1−イル)安息香酸メチルエス
テル(化合物番号U−C−2)の合成 メタノール3 rrj 、95%硫′#!i0.36+
1Jlと上記■で合成された化合物(化合物番号V−4
) 1.2ninolを氷水冷却し、撹拌したところに
アセチルアセトン1.211101を酢酸0.36 l
jに溶かしたものを、2分間で加え、20分間撹拌した
。さらに80℃において8時間攪拌した0次いで、反応
混合物を室温まで冷却し、炭酸水素ナトリウム粉末2.
5gと水51を加えて撹拌した。酢酸でp116にして
から水1511を加え、析出物を枦取し、風乾した。収
率71%、その物理化学的性質を第9表に示す、なお、
第9表に、上記と同様にして合成した化合物番号U−C
−1の化合物の物理化学的性質も示す。
なお、上記■と同様にして合成した他の製造中間体の物
理化学的性質を第10表に示す。
第9表 第 表 次に、製剤例と試験例を示すが、担体(希釈剤)及び助
剤、その混合比及び有効成分は広い範囲で変更し得るも
のである。
製剤例1:水和剤 化合物(化合物番号l−7)       50部リグ
ニンスルポン酸塩         5部アルキルスル
ホン酸塩         3部けいそう土     
         42部上記成分を混合粉砕し、水和
剤とし、水で希釈して使用する。
製剤例2:乳剤 化合物(化合物番号l−9)       25部キシ
レン              65部ポリオキシエ
チレンアルキル アリルエーテル         10部上記成分を均
一に混合して乳剤とし、水で希釈して使用する。
製剤例3部粒剤 化合物(化合物番号l−14)       8部ベン
トナイト            40部クレー   
             45部リグニンスルホン酸
塩         7部上記成分を均一に混合し、さ
らに水を加えて練り合わせ、押出式造粒機で粒状に加工
乾燥して粒剤とした。
試験例1部茎葉処理による殺草効果試験ポットで生育さ
せたアオビユ、コセンダングサ、野生カラシナ、ハコベ
、エビスグサ、イヌホウズキ、イチと、セイヨウヒルガ
オ、カミツレ、エノコログサ、食用ビニ、エンバク、メ
しシバ(各供試植物共2葉〜4葉の時)の茎葉部に、上
記製剤例に示すような水和剤を所定濃度に調整した供試
化合物の薬液を10及び100g/ha相当量散布した
散布14日後に、次の基準で除草効果を調査した。
それらの結果を第11表に示す。
調査基準 0:効果なし 1:31%未満の除草効果 2:31〜50%の除草効果 3:51〜70%の除草効果 =71〜90%の除草効果 291〜100%の除草効果 試験例2:種子発芽試験 直径90mのシャーレ内に、r紙2枚を重ねて敷き、供
試化合物の水懸濁液(有効成分1 ppII及び50D
I)11)を5  njずつ注ぎ、アオビユ、コセンダ
ングサ、カミツレ、イヌホウズキ、ノビエ、コゴメカヤ
ツリ、エノコログサの種子を10粒ずつ置床した。その
後28℃の恒温室内にて発芽させ、置床10日後に発芽
及び生育阻害程度を肉眼a察により、次の6段階の基準
で判定した。結果を第12表に示す。
調査基準 O:阻害なし 1:31%未満の阻害 2:31〜50%の阻害 3:51〜70%の阻害 4ニア1〜90%の阻害 5:91〜100%の阻害 11E  12  !!!(&lき) 発明の効果 本発明の上記一般式(I)で示されるト置換−3−(含
窒素5員環)ベンゼンスルホンアミド誘導体は、低薬量
で確実な除草効果を示し、かつ、作物と雑草間に選択性
を示す、したがって、この化合物を有効性分として含有
する本発明の除草剤は、例えば、コムギ、イネ、トウモ
ロコシ、ダイズ、ワタ、テンサイ、ジャガイモ、トマト
等の重要作物中の双子葉雑草や単子葉雑草を発芽前或い
は発芽後に防除するのに特に適1〜ており、また、畑地
、水田、果樹園等の農耕地の他、グラウンド、工場敷地
等の非農耕地の雑草の防除にも使用できる。
特許出願人 呉羽化学工業株式会社 代理人   弁理士  液部 剛 手続補正書(自発) 平成 1年 8月16日 特許庁長官  吉 1)文 毅 殿 1、事件の表示 平成 1年 特許願 第27368号 2、発明の名称 N−1tllk −8−(含窒素5員環)ベンゼンスル
ホンアミド誘導体、その製造方法及び除草剤 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所  東京都中央区日本橋堀留町1丁目9番11号
名 称  呉羽化学工業株式会社 代表者  先玉 俊一部 4、代理人 住所 〒101 東京都千代田区神田錦町1丁目8番5号6゜ 補正の内容 手続補・正置 (自発) (′I) 明細書第24頁第10行目の「S (−重線) 」 の前に「δ (ppm) 、」を挿入する。
平成 1年11月20日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)下記一般式( I )で示されるN−置換−3−(
    含窒素5員環)ベンゼンスルホンアミド誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、▲数式、化学式、表等があります▼は▲数式、
    化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
    ります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
    、表等があります▼ R^1は、H、Cl、CH_3、COOCH_3又はC
    OOC_2H_5を表わし、ZはCH又はNを表わし、
    X^1はCH_3、OCH_3又はClを表わし、X^
    2はCH_3又はOCH_3を表わす)(2)下記一般
    式(II)で示される3−(含窒素5員環)ベンゼンスル
    ホンアミド誘導体 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、N及びR^1は、それぞれ前記と同じ意味を有
    する) と下記一般式(III)で示されるフェニルカルバメート
    誘導体 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Z、X^1及びX^2は、それぞれ前記と同じ
    意味を有する) とを反応させることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載のN−置換−3−(含窒素5員環)ベンゼンスルホ
    ンアミド誘導体の製造方法。 (3)下記一般式(II−A)で示されれる3−(ピロー
    ル−1−イル)ベンゼンスルホンアミド誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II−A) (式中、R^1は前記と同じ意味を有し、R^2はH又
    はCH_3を表わす) (4)下記一般式(II−B)で示される3−(2,3−
    ジメチルマレイミド)ベンゼンスルホンアミド誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II−B) (式中、R^1は前記と同じ意味を有する)(5)下記
    構造式(II−C−2)で示される3−(3,5−ジメチ
    ル−1−ピラゾリル)−6−(メトキシカルボニル)ベ
    ンゼンスルホンアミド。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II−C−2) (6)特許請求の範囲第1項記載のN−置換−3−(含
    窒素5員環)ベンゼンスルホンアミド誘導体を有効成分
    として含有することを特徴とする除草剤。
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