JPH02207068A - チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 - Google Patents
チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法Info
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- -1 Thiocarboxylic acid ester compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 12
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 38
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 29
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 22
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 3
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNWNNQTUZYVQRK-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-1h-pyrrolo[2,3-c]pyridine-2-carboxylic acid Chemical compound BrC1=NC=C2NC(C(=O)O)=CC2=C1 NNWNNQTUZYVQRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002574 CR-39 Polymers 0.000 description 2
- 102100034744 Cell division cycle 7-related protein kinase Human genes 0.000 description 2
- 101000945740 Homo sapiens Cell division cycle 7-related protein kinase Proteins 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- 229920006268 silicone film Polymers 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N (4-chlorobenzoyl) 4-chlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLKQHBOKULLWDQ-UHFFFAOYSA-N 1-bromonaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Br)=CC=CC2=C1 DLKQHBOKULLWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCJNYCWJKAWZKZ-UHFFFAOYSA-N 1-prop-1-en-2-ylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C(=C)C)=CC=CC2=C1 LCJNYCWJKAWZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=CC1=CC=CC=C1 CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGXIMOHTBATHCU-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(propan-2-yl)benzenecarboperoxoic acid Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(=O)OO)=C1C(C)C LGXIMOHTBATHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoxycarbonyloxyethoxy)ethyl prop-2-enyl carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCCOCCOC(=O)OCC=C JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZOBIVDRMAPQDS-UHFFFAOYSA-N 2-[2,6-dibromo-4-[2-[3,5-dibromo-4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=C(Br)C(OCCOC(=O)C(=C)C)=C(Br)C=C1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C(Br)=C1 JZOBIVDRMAPQDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C=C1 VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZZCKJDOUKMGBM-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyldibenzofuran Chemical compound C1=CC=C2C3=CC(C=C)=CC=C3OC2=C1 RZZCKJDOUKMGBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- AHWAAQOJHMFNIV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)(C(O)=O)OOC(C)(C)C AHWAAQOJHMFNIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYHZGWMWTDMVEL-UHFFFAOYSA-N 3-(butylperoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCOOCC(CC)CCCC MYHZGWMWTDMVEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-3,3-difluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(Br)C=C GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCMITHMNVLRGJU-CMDGGOBGSA-N Allyl cinnamate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 KCMITHMNVLRGJU-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N allyl isocyanate Chemical compound C=CCN=C=O HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001743 benzylic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- FLTFEYJWADLDPM-UHFFFAOYSA-N bis(3-triethoxysilylpropyl) carbonate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FLTFEYJWADLDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N bis(prop-2-enyl) (z)-but-2-enedioate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC=C ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- CJKWEXMFQPNNTL-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) 1,2,3,4,7,7-hexachlorobicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5,6-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1C(C(=O)OCC=C)C2(Cl)C(Cl)=C(Cl)C1(Cl)C2(Cl)Cl CJKWEXMFQPNNTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPPSHXIFIAJKMX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) 2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound C=CCOC(=O)C(O)C(O)C(=O)OCC=C VPPSHXIFIAJKMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C=C1 ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000009841 combustion method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N decanoyl decaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCC XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- WTIFDVLCDRBEJK-VAWYXSNFSA-N diphenyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)/C=C/C(=O)OC1=CC=CC=C1 WTIFDVLCDRBEJK-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monomethyl ester Natural products COC(=O)C=CC(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- JGWIFNWSTZBXQD-UHFFFAOYSA-N methylsulfanylmethane;2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound CSC.SCCSCCS JGWIFNWSTZBXQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004372 methylthioethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-NSCUHMNNSA-N monomethyl fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C\C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229940005650 monomethyl fumarate Drugs 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)C(=C)C)=CC=CC2=C1 HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- UFOIDTDZODXNSS-UHFFFAOYSA-N o-(2-benzylsulfanylethyl) 2-methylprop-2-enethioate Chemical compound CC(=C)C(=S)OCCSCC1=CC=CC=C1 UFOIDTDZODXNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QETHLIIAKONLBP-UHFFFAOYSA-N o-(2-methylsulfanylethyl) 2-methylprop-2-enethioate Chemical compound CSCCOC(=S)C(C)=C QETHLIIAKONLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012673 precipitation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- UMPURJFXAMLMPW-UHFFFAOYSA-N s-[2-(2-methylsulfanylethylsulfanyl)ethyl] prop-2-enethioate Chemical compound CSCCSCCSC(=O)C=C UMPURJFXAMLMPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- AFFZTFNQQHNSEG-UHFFFAOYSA-N trifluoromethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)F AFFZTFNQQHNSEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08F28/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a bond to sulfur or by a heterocyclic ring containing sulfur
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
R”
〔産業上の利用分野〕
本発明は、
特に光学材料として有用であり、
そ
の他塗料、インク、接着剤及び感光性樹脂等に有用な重
合性のチオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法
に関するものである。
合性のチオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法
に関するものである。
従来、無機ガラスに代る合成樹脂については種々研究さ
れているが、欠点も多く、まだ十分に満足し得る性状の
ものは得られていない。例えば、メチルメタクリレート
やジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)を
主成分とする単量体を重合した重合体は、光学用樹脂や
レンズとして使用されているが、その屈折率は約1.5
0と低い。
れているが、欠点も多く、まだ十分に満足し得る性状の
ものは得られていない。例えば、メチルメタクリレート
やジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)を
主成分とする単量体を重合した重合体は、光学用樹脂や
レンズとして使用されているが、その屈折率は約1.5
0と低い。
この欠点を改良した高屈折率樹脂も種々提案されている
。例えば、ポリカーボネート、ポリスルホン系の高屈折
率樹脂が提案されている。これらの樹脂は、屈折率が約
1.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性
に欠け、また着色するなどの問題がある。
。例えば、ポリカーボネート、ポリスルホン系の高屈折
率樹脂が提案されている。これらの樹脂は、屈折率が約
1.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性
に欠け、また着色するなどの問題がある。
このため架橋性の高屈折率樹脂用単量体が種々提案され
ている。例えば、特開昭61−28901号公報などに
フェニル基をハロゲン原子で置換したフェニルメタクリ
レートなどハロゲン原子を多数含んだ樹脂が提案されて
いる。また、特開昭60−197711号公報などにα
−ナフチルメタクリレートを主成分とする高屈折率樹脂
用組成物が提案されている。これらの高屈折率樹脂用単
量体は、ハロゲン原子や縮合芳香環を含むためその大部
分が常温で固体である。このため、これらの単量体は常
温で液状の単量体に溶解して重合される。
ている。例えば、特開昭61−28901号公報などに
フェニル基をハロゲン原子で置換したフェニルメタクリ
レートなどハロゲン原子を多数含んだ樹脂が提案されて
いる。また、特開昭60−197711号公報などにα
−ナフチルメタクリレートを主成分とする高屈折率樹脂
用組成物が提案されている。これらの高屈折率樹脂用単
量体は、ハロゲン原子や縮合芳香環を含むためその大部
分が常温で固体である。このため、これらの単量体は常
温で液状の単量体に溶解して重合される。
上記の液状の単量体として、下記式
%式%
(R’は、アルキル基を示す。)
で示されるメタクリル酸エステルが知られている。
しかしながら、この単量体を重合して成る樹脂は、屈折
率がそれほど高くないうえ、一般の樹脂と同様に表面の
耐擦傷性が不十分であるため、レンズ等の光学材料に供
する場合には、有機シリコーン被膜から成るハードコー
ト膜をその表面に形成させることか必要である。しかし
この樹脂はメタクリル酸エステルから成る樹脂のため、
通常、アリルジグリコールカーボネート樹脂に施されて
いる方法、即ちアルカリ液による表面処理後に有機シリ
コーン被膜を形成させる方法を適用しても、樹脂と被膜
との密着性が不十分で実用に供することが困難であった
。
率がそれほど高くないうえ、一般の樹脂と同様に表面の
耐擦傷性が不十分であるため、レンズ等の光学材料に供
する場合には、有機シリコーン被膜から成るハードコー
ト膜をその表面に形成させることか必要である。しかし
この樹脂はメタクリル酸エステルから成る樹脂のため、
通常、アリルジグリコールカーボネート樹脂に施されて
いる方法、即ちアルカリ液による表面処理後に有機シリ
コーン被膜を形成させる方法を適用しても、樹脂と被膜
との密着性が不十分で実用に供することが困難であった
。
本発明が解決しようとする課題は、高屈折率樹脂用の常
温で固体の単量体の溶解に適した常温で液状の単量体で
あって、高屈折率且つ低分散であり、透明性、耐衝撃性
、耐候性及び軽量性などに優れた樹脂を与える単量体を
提供することにある。
温で固体の単量体の溶解に適した常温で液状の単量体で
あって、高屈折率且つ低分散であり、透明性、耐衝撃性
、耐候性及び軽量性などに優れた樹脂を与える単量体を
提供することにある。
本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意研究
を重ねた結果、特定の構造を有するチオカルボン酸エス
テル化合物が、前記の諸性質を具備した優れたものであ
ることを見い出し、本発明を完成するに至った。
を重ねた結果、特定の構造を有するチオカルボン酸エス
テル化合物が、前記の諸性質を具備した優れたものであ
ることを見い出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、一般式(1)
で示されるチオカルボン酸エステル化合物である。
前記一般式(1)中、Rt及びR3は、夫々同種又は異
種の水素原子又はアルキル基であればよいが、重合によ
り得られる重合体の光学材料への利用の観点からは、水
素原子又はメチル基であることが好ましい。
種の水素原子又はアルキル基であればよいが、重合によ
り得られる重合体の光学材料への利用の観点からは、水
素原子又はメチル基であることが好ましい。
前記一般式CI)中、R4は、水素原子、置換若しくは
非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換の了り−
ル基である。上記のアルキル基としては、その炭素数に
特に制限されるものではないが、チオカルボン酸エステ
ル化合物の粘度及び重合して得られる重合体の屈折率の
観点から、炭素数1〜5であることが好ましい。例えば
、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、S−ブチル基、t−ブチル基、n−
ペンチル基等が挙げられる。また、上記の了り−ル基と
しては、その炭素数に特に制限されるものではないが、
上記と同様の理由により炭素数6〜10であることが好
ましい。例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、
ナフチル基等が挙げられる。
非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換の了り−
ル基である。上記のアルキル基としては、その炭素数に
特に制限されるものではないが、チオカルボン酸エステ
ル化合物の粘度及び重合して得られる重合体の屈折率の
観点から、炭素数1〜5であることが好ましい。例えば
、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、S−ブチル基、t−ブチル基、n−
ペンチル基等が挙げられる。また、上記の了り−ル基と
しては、その炭素数に特に制限されるものではないが、
上記と同様の理由により炭素数6〜10であることが好
ましい。例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、
ナフチル基等が挙げられる。
上記R4で示されるアルキル基や了り−ル基の置換基と
しては、特に制限されず、ハロゲン原子、アルコキシ基
、アルキルチオ基、フェニル基、フェニルチオ基等を挙
げることができる。これらの置換アルキル基及び置換ア
リール基の代表的なものを例示すると、例えば、ベンジ
ル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニ
ルブチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、ブロモ
メチル基、トリクロロメチル基等のハロゲノアルキル基
;クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェ
ニル基、ジブロモフェニル基、トリブロモフェニル基等
のハロゲノアリール基:メチルチオフェニル基、ジ(メ
チルチオ)フェニル基、フェニルチオフェニル基、ビフ
ェニル基等を挙げることができる。
しては、特に制限されず、ハロゲン原子、アルコキシ基
、アルキルチオ基、フェニル基、フェニルチオ基等を挙
げることができる。これらの置換アルキル基及び置換ア
リール基の代表的なものを例示すると、例えば、ベンジ
ル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニ
ルブチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、ブロモ
メチル基、トリクロロメチル基等のハロゲノアルキル基
;クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェ
ニル基、ジブロモフェニル基、トリブロモフェニル基等
のハロゲノアリール基:メチルチオフェニル基、ジ(メ
チルチオ)フェニル基、フェニルチオフェニル基、ビフ
ェニル基等を挙げることができる。
また、上記一般式(1)中、mは1以上の整数であれば
よい。一般にはmの値が大きいほど一分子当りのイオウ
の含有率が増加するため、重合して得られる樹脂の屈折
率は増大するとともに耐衝撃性も向上する。しかしなが
ら、mを大きくしすぎると一般式(1)で示される化合
物の粘度が急激に増加し、その取扱いが困難になるとと
もに、重合して得られる樹脂の耐熱性がそこなわれると
いった問題が生じてくる。このため、得られる樹脂の屈
折率、耐衝撃性及び耐熱性を勘案すると、mは1〜5の
範囲で、特に1〜3の範囲で選択することが好ましい。
よい。一般にはmの値が大きいほど一分子当りのイオウ
の含有率が増加するため、重合して得られる樹脂の屈折
率は増大するとともに耐衝撃性も向上する。しかしなが
ら、mを大きくしすぎると一般式(1)で示される化合
物の粘度が急激に増加し、その取扱いが困難になるとと
もに、重合して得られる樹脂の耐熱性がそこなわれると
いった問題が生じてくる。このため、得られる樹脂の屈
折率、耐衝撃性及び耐熱性を勘案すると、mは1〜5の
範囲で、特に1〜3の範囲で選択することが好ましい。
本発明のチオカルボン酸エステル化合物中、重合性の点
から、R4は置換若しくは非置換のアルキル基、又は置
換若しくは非置換のアリール基であることが好ましい。
から、R4は置換若しくは非置換のアルキル基、又は置
換若しくは非置換のアリール基であることが好ましい。
本発明の前記一般式(1)で示されるチオカルボン酸エ
ステル化合物は、次の手段によって同定、確認すること
ができる。
ステル化合物は、次の手段によって同定、確認すること
ができる。
(ア)赤外吸収スペクトル(fR)を測定することによ
り、3150〜2800ca+−’にCH結合に基づ、
く吸収、1650〜1620(J−’に末端2重結合に
基づく吸収、更に1660〜1690(J −’付近に
千オニステル結合に基づくカルボニル基の強い吸収が観
測される。
り、3150〜2800ca+−’にCH結合に基づ、
く吸収、1650〜1620(J−’に末端2重結合に
基づく吸収、更に1660〜1690(J −’付近に
千オニステル結合に基づくカルボニル基の強い吸収が観
測される。
(イ)lH−核磁気共鳴スペクトル(’H−NMR)を
測定することにより化合物を容易に同定することができ
る。特に一般式(1)においてR1がメチル基の場合は
61.9 ppm付近にメチル基に基づくピーク、及び
65.7と66、1 ppm付近に末端のビニリデンプ
ロトンに基づくピークがそれぞれ3:1:1の割合でメ
タクリル酸エステルに特有なパターンで認められる。ま
たR1が水素原子の場合は、65.6〜7 ppmにア
クリル酸エステルに特有なパターンで3個分の水素が認
められる。さらにチオエーテル鎖においてはイオウ原子
に結合した炭素原子上の水素が62、9 ppm付近に
それぞれ結合状態に応じたパターンのピークを示す。さ
らにR2、R3及びR4のいずれかがメチル基の場合、
61.1 ppm付近に2重線が認められる。また、芳
香族水素が存在する場合は、δ7〜δ8.5 ppn+
にピークが認められ、脂肪族水素が存在すればδl〜δ
2 ppmにピークが認められる。その他の水素原子が
存在すれば、その結合様式に応じたスペクトルパターン
を示す。以上のような情報より容易に化合物の同定が可
能である。
測定することにより化合物を容易に同定することができ
る。特に一般式(1)においてR1がメチル基の場合は
61.9 ppm付近にメチル基に基づくピーク、及び
65.7と66、1 ppm付近に末端のビニリデンプ
ロトンに基づくピークがそれぞれ3:1:1の割合でメ
タクリル酸エステルに特有なパターンで認められる。ま
たR1が水素原子の場合は、65.6〜7 ppmにア
クリル酸エステルに特有なパターンで3個分の水素が認
められる。さらにチオエーテル鎖においてはイオウ原子
に結合した炭素原子上の水素が62、9 ppm付近に
それぞれ結合状態に応じたパターンのピークを示す。さ
らにR2、R3及びR4のいずれかがメチル基の場合、
61.1 ppm付近に2重線が認められる。また、芳
香族水素が存在する場合は、δ7〜δ8.5 ppn+
にピークが認められ、脂肪族水素が存在すればδl〜δ
2 ppmにピークが認められる。その他の水素原子が
存在すれば、その結合様式に応じたスペクトルパターン
を示す。以上のような情報より容易に化合物の同定が可
能である。
(つ)元素分析によって炭素、水素、イオウの各重量%
を求め、さらに認知された各元素の重量%の和を100
から減じることによって酸素の重量%を算出することが
でき、該化合物の組成式を決定することができる。
を求め、さらに認知された各元素の重量%の和を100
から減じることによって酸素の重量%を算出することが
でき、該化合物の組成式を決定することができる。
一般式(1)で示されるチオカルボン酸エステル化合物
は、どのような方法により得ても良いが、一般には次に
述べる方法により製造される。
は、どのような方法により得ても良いが、一般には次に
述べる方法により製造される。
下記式(n)
で示される化合物と、下記式(III)で示される化合
物とを反応させる方法である。
物とを反応させる方法である。
(ア)カルボン酸を用いる方法
一般式(II)で示される化合物と一般式(III)で
示される化合物のうち、RSが水酸基であるカルボン酸
とを酸触媒の存在下脱水縮合させることにより、一般式
(1)のチオカルボン酸エステル化合物を製造すること
ができる。両原料の仕込みモル比は必要に応じて適宜決
定すればよいが、通常、どちらか一方の化合物を過剰に
使用するのが一般的である。該反応において、触媒とし
て使用される酸は、塩酸、硫酸等の鉱酸、芳香族スルホ
ン酸等あるいは、フッ化ホウ素エーテラート等のルイス
酸が挙げられる。
示される化合物のうち、RSが水酸基であるカルボン酸
とを酸触媒の存在下脱水縮合させることにより、一般式
(1)のチオカルボン酸エステル化合物を製造すること
ができる。両原料の仕込みモル比は必要に応じて適宜決
定すればよいが、通常、どちらか一方の化合物を過剰に
使用するのが一般的である。該反応において、触媒とし
て使用される酸は、塩酸、硫酸等の鉱酸、芳香族スルホ
ン酸等あるいは、フッ化ホウ素エーテラート等のルイス
酸が挙げられる。
本反応においては、水が副生ずるが、その反応は平衡反
応である為、−aにディーンースターク水分離器等を用
いたり、ソックスレーの抽出器に無水硫酸ナトリウム又
はモレキュラーシーブ等の脱水剤を入れて溶媒を還流さ
せたり、反応系内にN、N−ジシクロへキシルカルボジ
イミド等の脱水剤を共存させるなどして系内から水を取
除くことが好ましい。該溶媒としては、ベンゼン、トル
エン等の芳香族炭化水素やクロロホルム、ジクロロメタ
ン等分ハロゲン化脂肪族炭化水素が好ましい。
応である為、−aにディーンースターク水分離器等を用
いたり、ソックスレーの抽出器に無水硫酸ナトリウム又
はモレキュラーシーブ等の脱水剤を入れて溶媒を還流さ
せたり、反応系内にN、N−ジシクロへキシルカルボジ
イミド等の脱水剤を共存させるなどして系内から水を取
除くことが好ましい。該溶媒としては、ベンゼン、トル
エン等の芳香族炭化水素やクロロホルム、ジクロロメタ
ン等分ハロゲン化脂肪族炭化水素が好ましい。
反応温度は、溶媒の種類によって異なるが、一般には、
O℃〜120℃が好ましい。反応時間は、原料の種類に
より一概に限定できないが、30分〜20時間、さらに
1時間から6時間の範囲から選択することが特に好まし
い。反応系から目的生成物、即ち前記一般式(1)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
O℃〜120℃が好ましい。反応時間は、原料の種類に
より一概に限定できないが、30分〜20時間、さらに
1時間から6時間の範囲から選択することが特に好まし
い。反応系から目的生成物、即ち前記一般式(1)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
(イ)カルボン酸塩化物を用いる方法
一般式(n)で示される化合物と一般式(III)で示
される化合物のうち、R5が塩素原子であるカルボン酸
塩化物とを塩基の存在下、脱塩化水素させることにより
一般式CI)のチオカルボン酸エステル化合物を製造す
ることができる。
される化合物のうち、R5が塩素原子であるカルボン酸
塩化物とを塩基の存在下、脱塩化水素させることにより
一般式CI)のチオカルボン酸エステル化合物を製造す
ることができる。
両原料の仕込みモル比は、通常(一般式(n)で示され
る化合物)/(一般式(I[[)で示される化合物)=
0.8〜1.5の範囲から選択すればよいが、等量用い
ることが特に好ましい。
る化合物)/(一般式(I[[)で示される化合物)=
0.8〜1.5の範囲から選択すればよいが、等量用い
ることが特に好ましい。
本反応においては塩化水素が副生する。一般にはこの塩
化水素を反応系から除く為、反応系内に塩化水素捕捉剤
として塩基を共存させたり、窒素ガス等の不活性ガスを
反応系に通じたりすることが好ましい。
化水素を反応系から除く為、反応系内に塩化水素捕捉剤
として塩基を共存させたり、窒素ガス等の不活性ガスを
反応系に通じたりすることが好ましい。
該塩化水素捕捉剤としての塩基は特に限定されず公知の
ものを使用することができる。一般に好適に使用される
塩基としてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テ
トラメチル尿素、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等
が挙げられる。塩基の量はカルボン酸塩化物1モルに対
して1モル以上用いることが好ましい。
ものを使用することができる。一般に好適に使用される
塩基としてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テ
トラメチル尿素、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等
が挙げられる。塩基の量はカルボン酸塩化物1モルに対
して1モル以上用いることが好ましい。
本発明における前記反応に際しては、一般に有機溶媒を
用いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用ささるも
のを例示すれば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、石油エーテル、クロロホルム、塩化メ
チレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素類
あるいはハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、N、N
−ジメチルホルムアミド、N。
用いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用ささるも
のを例示すれば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、石油エーテル、クロロホルム、塩化メ
チレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素類
あるいはハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、N、N
−ジメチルホルムアミド、N。
N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
前記反応における温度は広い範囲から選択出来、一般に
は一20℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃の範囲
から選べばよい。反応時間は原料の種類によっても違う
が、通常5分〜24時間、好ましくは10分〜4時間の
範囲から選べはよい。また反応中においては攪拌を行う
のが好ましい。
は一20℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃の範囲
から選べばよい。反応時間は原料の種類によっても違う
が、通常5分〜24時間、好ましくは10分〜4時間の
範囲から選べはよい。また反応中においては攪拌を行う
のが好ましい。
反応系から目的生成物、即ち前記一般式(1)で示され
る化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知の方
法が採用できる。
る化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知の方
法が採用できる。
(つ)カルボン酸エステルを用いる方法一般式(n)で
示される化合物と一般式(DI)で示される化合物のう
ち、R5がアルコキシ基であるカルボン酸エステルとを
用いてエステル交換させる方法で、一般式(1)のチオ
カルボン酸エステル化合物を製造することが出来る。本
反応においては、酸又は塩基を触媒として用いるのが好
まし、触媒として好適に使用される酸を例示すれば、硫
酸、塩酸、P−)ルエンスルホン酸等が挙げられ、塩基
としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基やナトリウ
ムメトキシド又はカリウム−t−ブトキシド等のアルコ
キシド等が挙げられる。
示される化合物と一般式(DI)で示される化合物のう
ち、R5がアルコキシ基であるカルボン酸エステルとを
用いてエステル交換させる方法で、一般式(1)のチオ
カルボン酸エステル化合物を製造することが出来る。本
反応においては、酸又は塩基を触媒として用いるのが好
まし、触媒として好適に使用される酸を例示すれば、硫
酸、塩酸、P−)ルエンスルホン酸等が挙げられ、塩基
としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基やナトリウ
ムメトキシド又はカリウム−t−ブトキシド等のアルコ
キシド等が挙げられる。
本反応においてはアルコール(R’ OH)が生成する
。該反応は平衡反応である為、このアルコールを蒸留又
は共沸等の方法で反応系外に取り除くことが好ましい。
。該反応は平衡反応である為、このアルコールを蒸留又
は共沸等の方法で反応系外に取り除くことが好ましい。
このため、原料の一般式(III)で示されるカルボン
酸エステルとしてR5が炭素数1〜5、特に炭素数1〜
3のアルキル基を有するものを用いることが好ましい。
酸エステルとしてR5が炭素数1〜5、特に炭素数1〜
3のアルキル基を有するものを用いることが好ましい。
本反応は一般には無溶媒で行なわれるが、原料が固体で
ある場合には、剛性するアルコールよりも沸点の高い溶
媒を用いるのが好ましい。
ある場合には、剛性するアルコールよりも沸点の高い溶
媒を用いるのが好ましい。
該溶媒として好適に使用されるものを例示すれば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等の芳香族炭化水素類あるいはハロゲン置換芳
香族炭化水素類;N、N−ジメチルホルムアミド、N、
N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等の芳香族炭化水素類あるいはハロゲン置換芳
香族炭化水素類;N、N−ジメチルホルムアミド、N、
N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
前記反応における温度は、副生ずるアルコールの種類に
よってちがうが、一般には副生ずるアルコールが留出す
る温度が好ましい。反応時間は原料の種類によってもち
がうが、通常、30分〜24時間、好ましくは2時間〜
8時間の範囲から選べばよい。また反応中においては攪
拌を行うのが好ましい。
よってちがうが、一般には副生ずるアルコールが留出す
る温度が好ましい。反応時間は原料の種類によってもち
がうが、通常、30分〜24時間、好ましくは2時間〜
8時間の範囲から選べばよい。また反応中においては攪
拌を行うのが好ましい。
反応系から目的生成物、すなわち前記一般式(T)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
本発明の前記一般式(1)で示されるチオカルボン酸エ
ステル化合物は、液状の単量体であり、屈折率が高く、
低分散で無色透明で、比重が小さく、耐衝撃性に優れた
重合体を与える。
ステル化合物は、液状の単量体であり、屈折率が高く、
低分散で無色透明で、比重が小さく、耐衝撃性に優れた
重合体を与える。
該化合物は単独で重合することも可能であり、また、他
の単量体と共重合することもできる。
の単量体と共重合することもできる。
チオカルボン酸エステル化合物と共重合可能な単量体は
、目的に応じて選択され、特に制限されず使用できる。
、目的に応じて選択され、特に制限されず使用できる。
特に本発明のチオカルボン酸エステル化合物は液状であ
るため、該単量体は固体であってもかまわない。該単量
体を例示すれば、アクリフ酸、メタクリル酸、無水マレ
イン酸、フマル酸などの不飽和カルボン酸1アクリク酸
メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ヘンシル、
メタクリル酸フェニル、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジメタクリレート、エチレングリコールビ
スグリシジルメタクリレート、ビスフェノールAジメタ
クリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキ
シフェニル)プロパン、2.2−ビス(3,5−ジブロ
モ−4−メタクリロキシエトキシフェニル)プロパン、
トリフルオロメチルメタクリレート等のアクリル酸及び
メタクリル酸エステル化合物;フマル酸モノメチル、フ
マル酸ジエチル、フマル酸ジフェニル等のフマル酸エス
テル化合物;ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレ
ート、ジアリルイソフタレート、酒石酸ジアリル、エポ
キシコハク酸ジアリル、ジアリルマレート、アリルシン
ナメート、アリルイソシアネート、クロレンド酸ジアリ
ル、ヘキサフタル酸ジアリル、ジアリル カーボネート
、アリルジグリコールカーボネート等のアリル化合物;
スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ビニルナ
フタレン、イソプロペニルナフタレン、ブロモスチレン
、ジプロモスチレン等の芳香族ビニル化合物等である。
るため、該単量体は固体であってもかまわない。該単量
体を例示すれば、アクリフ酸、メタクリル酸、無水マレ
イン酸、フマル酸などの不飽和カルボン酸1アクリク酸
メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ヘンシル、
メタクリル酸フェニル、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジメタクリレート、エチレングリコールビ
スグリシジルメタクリレート、ビスフェノールAジメタ
クリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキ
シフェニル)プロパン、2.2−ビス(3,5−ジブロ
モ−4−メタクリロキシエトキシフェニル)プロパン、
トリフルオロメチルメタクリレート等のアクリル酸及び
メタクリル酸エステル化合物;フマル酸モノメチル、フ
マル酸ジエチル、フマル酸ジフェニル等のフマル酸エス
テル化合物;ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレ
ート、ジアリルイソフタレート、酒石酸ジアリル、エポ
キシコハク酸ジアリル、ジアリルマレート、アリルシン
ナメート、アリルイソシアネート、クロレンド酸ジアリ
ル、ヘキサフタル酸ジアリル、ジアリル カーボネート
、アリルジグリコールカーボネート等のアリル化合物;
スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ビニルナ
フタレン、イソプロペニルナフタレン、ブロモスチレン
、ジプロモスチレン等の芳香族ビニル化合物等である。
これらの単量体は一種又は二種以上を混合して使用でき
る。
る。
これらの共重合可能な単量体の一般式CI)で示される
チオカルボン酸エステル化合物に対する混合割合は、そ
れぞれの化合物により一種に限定できないが、チオカル
ボン酸エステル化合物100重合部に対して共重合可能
な単量体を0〜500重量部、より好ましくは0〜20
0重量部用いることが好ましい。
チオカルボン酸エステル化合物に対する混合割合は、そ
れぞれの化合物により一種に限定できないが、チオカル
ボン酸エステル化合物100重合部に対して共重合可能
な単量体を0〜500重量部、より好ましくは0〜20
0重量部用いることが好ましい。
なお、本発明のチオカルボン酸エステルの単独重合又は
上記した共重合可能な単量体のうち重合性基が1つであ
る単量体との共重合により得られる高屈折率樹脂は熱可
塑性樹脂である。
上記した共重合可能な単量体のうち重合性基が1つであ
る単量体との共重合により得られる高屈折率樹脂は熱可
塑性樹脂である。
このため特に樹脂が玉摺り加工などを必要とする用途に
用いる場合には、共重合可能な単量体として重合性基を
2つ以上有する単量体を用いて共重合させることが好ま
しい。
用いる場合には、共重合可能な単量体として重合性基を
2つ以上有する単量体を用いて共重合させることが好ま
しい。
一般式(I)のチオカルボン酸エステル化合物単独又は
共重合可能な他の単量体を含む単量体組成物から重合体
を得る重合方法は特に限定的でなく、公知のラジカル重
合方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物
やアゾ化合物等のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外
線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用によっ
て行うことができる。代表的な重合方法を例示すると、
エラストマーガスケントまたはスペーサーで保持されて
いるモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単
量体又は単量体組成物を注入し、空気炉中で硬化させた
後、取出す注型重合が採用される。
共重合可能な他の単量体を含む単量体組成物から重合体
を得る重合方法は特に限定的でなく、公知のラジカル重
合方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物
やアゾ化合物等のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外
線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用によっ
て行うことができる。代表的な重合方法を例示すると、
エラストマーガスケントまたはスペーサーで保持されて
いるモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単
量体又は単量体組成物を注入し、空気炉中で硬化させた
後、取出す注型重合が採用される。
ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知の
せのが使用できるが、代表的なものを例示すると、ベン
ゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオ
キサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネ
ート、t−ブチルパーオキシネオデカネート、クミルパ
ーオキシネオデカネート、tブチルパーオキシベンゾエ
ート等のパーオキシエステル;ジイソプロピルパーオキ
シジカーボネート、ジー2−エチルヘキシルパーオキシ
ジカーボネート、ジー5ec−ブチルパーオキシジカー
ボネート等のバーカーボネート;アゾビスイソブチロニ
トリル等のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始剤の
使用量は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体の組
成によって異なり、−概に限定できないが、一般には、
全単量体100重量部に対して0.01〜10重量部、
好ましくは0.01〜5重量部の範囲で用いるのが好適
である。
せのが使用できるが、代表的なものを例示すると、ベン
ゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオ
キサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネ
ート、t−ブチルパーオキシネオデカネート、クミルパ
ーオキシネオデカネート、tブチルパーオキシベンゾエ
ート等のパーオキシエステル;ジイソプロピルパーオキ
シジカーボネート、ジー2−エチルヘキシルパーオキシ
ジカーボネート、ジー5ec−ブチルパーオキシジカー
ボネート等のバーカーボネート;アゾビスイソブチロニ
トリル等のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始剤の
使用量は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体の組
成によって異なり、−概に限定できないが、一般には、
全単量体100重量部に対して0.01〜10重量部、
好ましくは0.01〜5重量部の範囲で用いるのが好適
である。
重合条件のうち、特に温度は得られる高屈折率樹脂の性
状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と量
や単量体の種類によって影響を受けるので、−概に限定
はできないが、−C的に比較的低温下で重合を開始し、
ゆっ(りと温度をあげて行き、重合終了時に高温下に硬
化させる所謂テーバ型の2段重合を行うのが好適である
。重合時間も温度と同様に各種の要因によって異なるの
で、予めこれらの条件に応じた最適の時間を決定するの
が好適であるが、一般に2〜40時間で重合が完結する
ように条件を選ぶのが好ましい。
状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と量
や単量体の種類によって影響を受けるので、−概に限定
はできないが、−C的に比較的低温下で重合を開始し、
ゆっ(りと温度をあげて行き、重合終了時に高温下に硬
化させる所謂テーバ型の2段重合を行うのが好適である
。重合時間も温度と同様に各種の要因によって異なるの
で、予めこれらの条件に応じた最適の時間を決定するの
が好適であるが、一般に2〜40時間で重合が完結する
ように条件を選ぶのが好ましい。
勿論、前記重合に際し、離型剤、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料、染料、顔
料等の各種安定剤、添加剤は必要に応じて選択して使用
することが出来る。
止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料、染料、顔
料等の各種安定剤、添加剤は必要に応じて選択して使用
することが出来る。
また、本発明のチオカルボン酸エステル化合物は、分子
中の重合性基が1つであるので、予備重合を行ないプレ
ポリマーを得た後、重合成型を行うことや、ペレットに
重合した後、射出成型や押出成型等の方法を用いて所望
の光学材料に成型加工することも可能である。
中の重合性基が1つであるので、予備重合を行ないプレ
ポリマーを得た後、重合成型を行うことや、ペレットに
重合した後、射出成型や押出成型等の方法を用いて所望
の光学材料に成型加工することも可能である。
前記のプレポリマーやペレットを得る方法は、公知の重
合方法が採用できる。即ち、塊状重合、重合、溶液重合
、乳化重合、懸濁重合、沈澱重合等の方法を適用するこ
とができる。
合方法が採用できる。即ち、塊状重合、重合、溶液重合
、乳化重合、懸濁重合、沈澱重合等の方法を適用するこ
とができる。
さらに、上記の方法で得られる光屈折率樹脂は、その用
途に応じて以下のような処理を施すことも出来る。即ち
、分散染料などの染料を用いる染色、シランカップリン
グ剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニウ
ム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコート剤や、
有機高分子体を主成分とするハードコート剤によるハー
ドコーティング処理や、5ift、 Ti(h。
途に応じて以下のような処理を施すことも出来る。即ち
、分散染料などの染料を用いる染色、シランカップリン
グ剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニウ
ム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコート剤や、
有機高分子体を主成分とするハードコート剤によるハー
ドコーティング処理や、5ift、 Ti(h。
ZrO等の金属酸化物の薄膜の蒸着や有機高分子体の薄
膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等の加工
及び2次処理を施すことも可能である。
膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等の加工
及び2次処理を施すことも可能である。
本発明のチオカルボン酸エステル化合物は、常温で液体
であり、常温で固体の高屈折率樹脂用単量体を溶解する
単量体として好適に使用し得る。
であり、常温で固体の高屈折率樹脂用単量体を溶解する
単量体として好適に使用し得る。
また、本発明のチオカルボン酸エステル化合物を重合し
て得られる重合体は耐衝撃性及び耐候性に優れ、さらに
、屈折率が1.57以上で、低分散であり、透明性、軽
量性に優れている。このため、本発明のチオカルボン酸
エステル化合物の単独重合体又は該化合物と共重合可能
な単量体との共重合により得られる高屈折率樹脂は、有
機ガラスとして有用であり、例えば、メガネレンズ、光
学機器レンズ等の光学レンズとして最適であり、さらに
プリズム、光デイスク基板、光ファイバー等の用途に好
適に使用することができる。
て得られる重合体は耐衝撃性及び耐候性に優れ、さらに
、屈折率が1.57以上で、低分散であり、透明性、軽
量性に優れている。このため、本発明のチオカルボン酸
エステル化合物の単独重合体又は該化合物と共重合可能
な単量体との共重合により得られる高屈折率樹脂は、有
機ガラスとして有用であり、例えば、メガネレンズ、光
学機器レンズ等の光学レンズとして最適であり、さらに
プリズム、光デイスク基板、光ファイバー等の用途に好
適に使用することができる。
以下、本発明を具体的に説明するために、実施例を挙げ
て説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
て説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
なお、本発明で得られたチオカルボン酸エステル化合物
の同定は下記の分析方法によって実施した。
の同定は下記の分析方法によって実施した。
(LAIRスペクトル
島津製作所■製 IR−440型を用い、試料をKBr
板にはさみ、薄膜の状態で測定した。
板にはさみ、薄膜の状態で測定した。
+21’H−NMRスペクトル
日本電子■製 PMX−60SI型(60Mllz)を
用い、試料をCDC7!ffに希釈し、テトラメチルシ
ランを内部標準として測定した。
用い、試料をCDC7!ffに希釈し、テトラメチルシ
ランを内部標準として測定した。
(3)元素分析
■柳本製作所製 CHNコーダ MT−2型を用い、炭
素及び水素の分析を、イオウについてはフラスコ燃焼法
を用いて測定を行った。
素及び水素の分析を、イオウについてはフラスコ燃焼法
を用いて測定を行った。
(4) 屈折率(η、zo)
アタゴー製 アツベ屈折計(3T型)を用い、20℃の
屈折率を測定した。
屈折率を測定した。
また、実施例において得られた光屈折率樹脂は、下記の
試験法によって諸物性を測定した。
試験法によって諸物性を測定した。
(1)屈折率(ηozo)、アツベ数(ν)アタゴ■製
アツベ屈折計(3T型)を用いて20℃における屈折
率及びアツベ数を測定した。接触液には、ブロモナフタ
リンを使用した。
アツベ屈折計(3T型)を用いて20℃における屈折
率及びアツベ数を測定した。接触液には、ブロモナフタ
リンを使用した。
(2)外観
目視により判定した。
(3)耐候性
スガ試験機■製 ロングライフキセノンフェードメータ
ー(FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、1
00時間キセノン光を露光した後、試料の着色の程度を
目視で観察し、ポリスチレンに比べ着色の程度の低いも
のを○、同等のものを△、高いものを×で評価した。
ー(FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、1
00時間キセノン光を露光した後、試料の着色の程度を
目視で観察し、ポリスチレンに比べ着色の程度の低いも
のを○、同等のものを△、高いものを×で評価した。
(4) 耐衝撃性
厚さ21■、直径6511の円板状の試料仮に127C
1lの高さから所定重量の鋼球を自然落下させ、該試料
板が破損しない限界の鋼球の重さを測定した。その結果
を第1表に示す基準に従って、A−Eの評価を行った。
1lの高さから所定重量の鋼球を自然落下させ、該試料
板が破損しない限界の鋼球の重さを測定した。その結果
を第1表に示す基準に従って、A−Eの評価を行った。
第1表
(5)ハードコート膜の密着性
試料となる板状の樹脂をメタノールで十分に洗浄して風
乾し清澄な状態にした後、10%の水酸化ナトリウム水
溶液に10分間浸漬した。
乾し清澄な状態にした後、10%の水酸化ナトリウム水
溶液に10分間浸漬した。
次いで水洗乾燥させて試料の前処理を行った。
一方、予めビス(γ−トリエトキシシリルプロピル)カ
ーボネート20重量部、γ−グリシドキシプロビルトリ
メトキシシラン10重量部、コロイドシリカ(口座化学
社製メタノールゾル)30重量部、メチルセロソルブ3
0重量部、0.05規定塩酸10重量部及び過塩素酸ア
ンモニウム0.25重量部を十分混合しうてハードコー
ト液を調製した。このハードコート液に前処理を行った
試料を浸漬し、これを室温で十分風乾燥した後、80℃
で3時間加熱して被膜を硬化させた。得られた被膜の密
着性を以下の試験法で評価した。先端が鋭利なカッター
ナイフで試料の表面にlmmX1mのマス目を100個
つけた後、市販の七ロテープヲ貼り付けて、次いで素早
く剥した時の被膜の剥れ状態を目視で観察し、100個
のマス目の肉剥れずに残ったマス目の数で評価した。
ーボネート20重量部、γ−グリシドキシプロビルトリ
メトキシシラン10重量部、コロイドシリカ(口座化学
社製メタノールゾル)30重量部、メチルセロソルブ3
0重量部、0.05規定塩酸10重量部及び過塩素酸ア
ンモニウム0.25重量部を十分混合しうてハードコー
ト液を調製した。このハードコート液に前処理を行った
試料を浸漬し、これを室温で十分風乾燥した後、80℃
で3時間加熱して被膜を硬化させた。得られた被膜の密
着性を以下の試験法で評価した。先端が鋭利なカッター
ナイフで試料の表面にlmmX1mのマス目を100個
つけた後、市販の七ロテープヲ貼り付けて、次いで素早
く剥した時の被膜の剥れ状態を目視で観察し、100個
のマス目の肉剥れずに残ったマス目の数で評価した。
尚、以下の実施例で使用した単量体は、一部下記の記号
で表わした。但し、〔〕内は単独重合体の屈折率である
。
で表わした。但し、〔〕内は単独重合体の屈折率である
。
BrxPMA: 2.4.6 )リブロモフェニメ
タクリレート(1,625) BDMA : 2,2,6.6−チトラブロモビス
フエノールAジメタクリレ ト [1,604) CISt : クロロスチレン(0体、m体の混
合物)(1,610) VDF:2−ビニルジベンゾフラン (1,679) Br、St : ジブロムスチレン(1,65
7)実施例1 温度計、撹拌機及び滴下ロートを付けた3つロフラスコ
に、2−ベンジルチオエチルチオール20.2 g
(0,11mo#)とトリエチルアミン13.3 g
(0,13mo7りと無水クロロホルム100m1を仕
込み、0℃に冷却した。攪拌しながらメタクリル酸クロ
ライド12.6 g (0,12moj2)を徐々に滴
下した。この際、反応温度を0〜5℃に保ち、滴下終了
後さらに20℃で1時間攪拌した。
タクリレート(1,625) BDMA : 2,2,6.6−チトラブロモビス
フエノールAジメタクリレ ト [1,604) CISt : クロロスチレン(0体、m体の混
合物)(1,610) VDF:2−ビニルジベンゾフラン (1,679) Br、St : ジブロムスチレン(1,65
7)実施例1 温度計、撹拌機及び滴下ロートを付けた3つロフラスコ
に、2−ベンジルチオエチルチオール20.2 g
(0,11mo#)とトリエチルアミン13.3 g
(0,13mo7りと無水クロロホルム100m1を仕
込み、0℃に冷却した。攪拌しながらメタクリル酸クロ
ライド12.6 g (0,12moj2)を徐々に滴
下した。この際、反応温度を0〜5℃に保ち、滴下終了
後さらに20℃で1時間攪拌した。
その後、反応混合物を水にあけ、希炭酸ナトリウム水溶
液で有機層を洗浄した後、水洗を行なった。
液で有機層を洗浄した後、水洗を行なった。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧上
留去した。得られた油状物を減圧蒸留することにより、
目的のチオメタクリル酸2−ベンジルチオエチルを沸点
132〜135℃(0,05s+ml1g)の無色透明
液体として16.3gを得た。このものの屈折率は1.
584であった。このもののIRチャートを第1図に示
す。1670aa−’に強いカルボニル基、1640c
a+−’に末端二重結合に基づく吸収が認められた。ま
た’H−NMR(CDC7!3溶媒中、テトラメチルシ
ラン基準、ppa+ )のチャートを第2図に示した。
留去した。得られた油状物を減圧蒸留することにより、
目的のチオメタクリル酸2−ベンジルチオエチルを沸点
132〜135℃(0,05s+ml1g)の無色透明
液体として16.3gを得た。このものの屈折率は1.
584であった。このもののIRチャートを第1図に示
す。1670aa−’に強いカルボニル基、1640c
a+−’に末端二重結合に基づく吸収が認められた。ま
た’H−NMR(CDC7!3溶媒中、テトラメチルシ
ラン基準、ppa+ )のチャートを第2図に示した。
61.93にメチル基の水素(C)に由来する3個分の
ピークが結合定数2Hzの二重線として、δ2.4〜6
3.3にメチレン基の水素(d)、(e)に由来する4
個分のピークが多重線として、63.76にベンジル位
の水素(f)に由来する2個分のピークが単一線として
、δ5,56付近にビニル基の水素(a)に由来する1
個分のピークが多重線として、δ6.06付近にビニル
基の水素(b)に由来する1個分のピークが多重線とし
て、67.1付近にフェニル基の水素(g)に由来する
5個分のピークが多重線としてそれぞれ観測された。
ピークが結合定数2Hzの二重線として、δ2.4〜6
3.3にメチレン基の水素(d)、(e)に由来する4
個分のピークが多重線として、63.76にベンジル位
の水素(f)に由来する2個分のピークが単一線として
、δ5,56付近にビニル基の水素(a)に由来する1
個分のピークが多重線として、δ6.06付近にビニル
基の水素(b)に由来する1個分のピークが多重線とし
て、67.1付近にフェニル基の水素(g)に由来する
5個分のピークが多重線としてそれぞれ観測された。
また、元素分析値(()内は計算値である。)は、C:
61.81%(61,86χ)、H:6.09%(6,
392)、S : 25.33% (25,41りテア
リ計算値とよく一致した。
61.81%(61,86χ)、H:6.09%(6,
392)、S : 25.33% (25,41りテア
リ計算値とよく一致した。
実施例2
温度計、攪拌機及び滴下ロートを付けた3つロフラスコ
に、2−メチルチオエチルチオール21.6 g (0
,20mof)とピリジン17.4 g(0,22o+
oJ)を無水ベンゼン200m1を仕込み0℃に冷却し
た。攪拌しながらメタクリル酸クロライド21.9 g
(0,21mol)を徐々に滴下した。この際、反応
温度を0〜5℃に保ち、滴下終了後さらに20℃で1時
間撹拌した。その後、反応混合物を水にあけ、希炭酸ナ
トリウム水溶液で有機層を洗浄した後、水洗を行った。
に、2−メチルチオエチルチオール21.6 g (0
,20mof)とピリジン17.4 g(0,22o+
oJ)を無水ベンゼン200m1を仕込み0℃に冷却し
た。攪拌しながらメタクリル酸クロライド21.9 g
(0,21mol)を徐々に滴下した。この際、反応
温度を0〜5℃に保ち、滴下終了後さらに20℃で1時
間撹拌した。その後、反応混合物を水にあけ、希炭酸ナ
トリウム水溶液で有機層を洗浄した後、水洗を行った。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧上
留去した。得られた油状物を減圧蒸留することにより目
的のチオメタクリル酸2−メチルチオエチルを沸点10
0〜105℃(8nv+l1g)の無色透明液体として
26.4 g得た。このものの屈折率は1.540であ
った。また、元素分析値(()内は計算値である。)は
、C:47.38%(47,69%)、H: 7.04
%(6,86%)、S11.39%(31,57%)で
あり、計算値とよく一致した。
留去した。得られた油状物を減圧蒸留することにより目
的のチオメタクリル酸2−メチルチオエチルを沸点10
0〜105℃(8nv+l1g)の無色透明液体として
26.4 g得た。このものの屈折率は1.540であ
った。また、元素分析値(()内は計算値である。)は
、C:47.38%(47,69%)、H: 7.04
%(6,86%)、S11.39%(31,57%)で
あり、計算値とよく一致した。
実施例3
温度針、攪拌機及び滴下ロートを付けた3つロフラスコ
にジ(2−メルカプトエチル)スルフィドモノメチルチ
オエーテル16.8 g (0,10moj2)とトリ
エチルアミン11.1 g (0,11wojりを無
水クロロホルム100mNを仕込み、0℃に冷却した。
にジ(2−メルカプトエチル)スルフィドモノメチルチ
オエーテル16.8 g (0,10moj2)とトリ
エチルアミン11.1 g (0,11wojりを無
水クロロホルム100mNを仕込み、0℃に冷却した。
攪拌しながらアクリル酸クロライド10.0g (0,
11mojりを徐々に滴下した。この際反応温度を0〜
5℃に保ち、滴下終了後さらに20℃で1時間攪拌した
。その後、反応混合物を水にあけ、希炭酸ナトリウム水
溶液で有機層を洗浄した後、水洗を行った。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られ
た油状物をカラムクロマトグラフィー(充填剤ニジリカ
ゲル、展開剤:クロロホルム)で精製し、目的のアクリ
ロイルチオエチル 2−メチルチオエチルスルフィドを
無色透明の油状物として23.1 g得た。このもの屈
折率は1.585であった。また、IRスペクトルにお
いて1765c1m−’に強いカルボニル基に基づく吸
収、1640cm−’に末端二重結合に基づく吸収が認
められた。また、元素分析値(()内は計算値である。
11mojりを徐々に滴下した。この際反応温度を0〜
5℃に保ち、滴下終了後さらに20℃で1時間攪拌した
。その後、反応混合物を水にあけ、希炭酸ナトリウム水
溶液で有機層を洗浄した後、水洗を行った。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られ
た油状物をカラムクロマトグラフィー(充填剤ニジリカ
ゲル、展開剤:クロロホルム)で精製し、目的のアクリ
ロイルチオエチル 2−メチルチオエチルスルフィドを
無色透明の油状物として23.1 g得た。このもの屈
折率は1.585であった。また、IRスペクトルにお
いて1765c1m−’に強いカルボニル基に基づく吸
収、1640cm−’に末端二重結合に基づく吸収が認
められた。また、元素分析値(()内は計算値である。
)は、C:43.26%(43,21%)、[6゜58
%(6,36%)、S:42.98%(43,26%)
であり、計算値とよ(一致した。
%(6,36%)、S:42.98%(43,26%)
であり、計算値とよ(一致した。
実施例4〜11
種々の原料を用いて実施例3と全く同様にして第2表に
示したチオカルボン酸エステル化合物を得た。得られた
チオカルボン酸エステル化合物の性質を第2表に併記し
た。
示したチオカルボン酸エステル化合物を得た。得られた
チオカルボン酸エステル化合物の性質を第2表に併記し
た。
実施例12
実施例1〜11で製造したチオカルボン酸エステル化合
物100重量部に対してラジカル重合開始剤としても一
ブチルパーオキシー2−エチルヘキサネ−1・1重量部
を添加してよく混合した。この混合液をガラス板とエチ
レン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケットで構成
された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重合は、
空気炉を用い、30℃から90℃で18時間かけ、徐々
に温度を上げて行き、90℃に2時間保持した。重合終
了後、鋳型を空気炉から取出し、放冷後、重合体を鋳型
のガラスからとりはずした。えられた重合体の諸物性を
測定して第3表に示した。
物100重量部に対してラジカル重合開始剤としても一
ブチルパーオキシー2−エチルヘキサネ−1・1重量部
を添加してよく混合した。この混合液をガラス板とエチ
レン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケットで構成
された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重合は、
空気炉を用い、30℃から90℃で18時間かけ、徐々
に温度を上げて行き、90℃に2時間保持した。重合終
了後、鋳型を空気炉から取出し、放冷後、重合体を鋳型
のガラスからとりはずした。えられた重合体の諸物性を
測定して第3表に示した。
比較例1〜2
単量体としてチオメククリル酸メチルとメタクリル酸2
−メチルチオエチルを用いた以外は実施例12と同様に
実施した。得られた重合体の諸物性を第3表に併記した
。
−メチルチオエチルを用いた以外は実施例12と同様に
実施した。得られた重合体の諸物性を第3表に併記した
。
実施例13
第4表に示すチオカルボン酸エステル化合物及びこれと
共重合可能な単量体とから成る組成物を用いた以外、実
施例12と同様に実施した。得られた重合体の物性を第
4表に示した。
共重合可能な単量体とから成る組成物を用いた以外、実
施例12と同様に実施した。得られた重合体の物性を第
4表に示した。
第1図及び第2図は、夫々実施例1で得られた本発明の
チオカルボン酸エステル化合物の赤外吸収スペクトル及
びIH−核磁気共鳴スペクトルを示す。
チオカルボン酸エステル化合物の赤外吸収スペクトル及
びIH−核磁気共鳴スペクトルを示す。
Claims (2)
- (1)下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R^1は水素原子又はメチル基であり、R^2
及びR^3は、夫々同種又は異種の水素原子又はアルキ
ル基であり、R^4は水素原子、置換若しくは非置換の
アルキル基、又は置換若しくは非置換のアリール基であ
り、mは1以上の整数である。〕 で示されるチオカルボン酸エステル化合物。 - (2)下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R^2及びR^3は、夫々同種又は異種の水素
原子又はアルキル基であり、R^4は水素原子、置換若
しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換の
アリール基でありmは1以上の整数である。〕 で示される化合物と、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R^1は水素原子又はメチル基であり、R^5
は水酸基、塩素原子又はアルコキシ基である。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載のチオカルボン酸エステル化
合物の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1026700A JP2546887B2 (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 |
AU49163/90A AU619952B2 (en) | 1989-02-07 | 1990-02-06 | Resin having a high refractive index |
DE69018661T DE69018661T2 (de) | 1989-02-07 | 1990-02-06 | Harz mit hohem Brechungsindex. |
EP90301233A EP0382477B1 (en) | 1989-02-07 | 1990-02-06 | Resin having a high refractive index |
US07/804,546 US5214116A (en) | 1989-02-07 | 1991-12-11 | Resin derived from sulfur-containing unsaturated compound and having a high refractive index |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1026700A JP2546887B2 (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24081089A Division JPH02208309A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | チオカルボン酸エステル組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02207068A true JPH02207068A (ja) | 1990-08-16 |
JP2546887B2 JP2546887B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=12200664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1026700A Expired - Fee Related JP2546887B2 (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0382477B1 (ja) |
JP (1) | JP2546887B2 (ja) |
AU (1) | AU619952B2 (ja) |
DE (1) | DE69018661T2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2010364C (en) * | 1989-02-22 | 1998-10-20 | Yuichiro Iguchi | Thiol methacrylate or acrylate and resin made therefrom |
EP0524477A3 (en) * | 1991-07-22 | 1993-04-14 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Resin composition having high refractive index properties |
FR2687400A1 (fr) * | 1992-02-17 | 1993-08-20 | Atochem Elf Sa | Nouveaux composes (meth)acryliques, leur procede de preparation et leur application a la synthese de nouveaux polymeres. |
FR2687672B1 (fr) * | 1992-02-20 | 1995-05-12 | Atochem Elf Sa | Nouveaux derives acryliques soufres et leur procede de preparation. |
US5274044A (en) * | 1992-07-28 | 1993-12-28 | General Electric Company | Graft copolymers containing (thioaromatic) alkyl acrylate rubber substrates |
FR2734827B1 (fr) * | 1995-05-31 | 1997-07-11 | Essilor Int | Compositions polymerisables a base de monomeres thio (meth)acrylates, polymeres a faible indice de jaune obtenus a partir de telles compositions et lentilles ophtalmiques correspondantes |
US6197226B1 (en) * | 1998-01-05 | 2001-03-06 | Mitsubishi Gas Chemical Company | Process for tinting a resin having a large refractivity index and optical material tinted by the process |
EP1024223A3 (en) * | 1999-01-29 | 2001-08-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for tinting a resin for optical materials |
AU777978B2 (en) * | 1999-12-02 | 2004-11-11 | Tokuyama Corporation | Method of preparing a sulfur-containing compound |
KR101163113B1 (ko) * | 2004-03-16 | 2012-07-09 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 유황 원자를 함유하는 반사 방지막 |
DE102005003303A1 (de) * | 2005-01-24 | 2006-07-27 | Röhm GmbH & Co. KG | Thio(meth)acrylate, Mischungen zur Herstellung transparenter Kunststoffe, transparente Kunststoffe sowie Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
TWI360535B (en) | 2007-08-30 | 2012-03-21 | Univ Nat Sun Yat Sen | Sulfur-containing compound, method of preparation |
JP2022072420A (ja) * | 2020-10-29 | 2022-05-17 | キヤノン株式会社 | 光学素子、光学系、および、光学機器 |
CN117603108B (zh) * | 2023-10-23 | 2024-06-04 | 江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司 | 一种高折射可固化单体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01110666A (ja) * | 1987-10-22 | 1989-04-27 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 新規チオールカルボン酸エステル |
JPH01226870A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 新規チオールカルボン酸エステル |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU246511A1 (ja) * | 1968-04-15 | 1974-03-25 | М. А. Коршунов, Р. Г. Кузовлева , И. В. Фураева | |
EP0273710B2 (en) * | 1986-12-26 | 1996-10-16 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co., Ltd | Resin having high refractive index, process for producing said resin and optical materials composed of said resin |
EP0394495B1 (en) * | 1988-10-20 | 1994-08-31 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 4,4'-bis(methacryloylthio)diphenyl sulfide and curable composition containing same |
CA2010364C (en) * | 1989-02-22 | 1998-10-20 | Yuichiro Iguchi | Thiol methacrylate or acrylate and resin made therefrom |
-
1989
- 1989-02-07 JP JP1026700A patent/JP2546887B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-02-06 EP EP90301233A patent/EP0382477B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-06 AU AU49163/90A patent/AU619952B2/en not_active Ceased
- 1990-02-06 DE DE69018661T patent/DE69018661T2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01110666A (ja) * | 1987-10-22 | 1989-04-27 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 新規チオールカルボン酸エステル |
JPH01226870A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 新規チオールカルボン酸エステル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0382477B1 (en) | 1995-04-19 |
AU4916390A (en) | 1990-08-16 |
AU619952B2 (en) | 1992-02-06 |
DE69018661D1 (de) | 1995-05-24 |
DE69018661T2 (de) | 1995-10-12 |
JP2546887B2 (ja) | 1996-10-23 |
EP0382477A1 (en) | 1990-08-16 |
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