JP2001302619A

JP2001302619A - 芳香族基含有重合性チオエ−テル化合物、これを含む重合性組成物及び光学材料

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Publication number: JP2001302619A
Application number: JP2000115414A
Authority: JP
Inventors: Rikihiro Mori; 力宏森; Masao Yamaguchi; 真男山口; Tadashi Hara; 忠司原
Original assignee: Tokuyama Corp
Current assignee: Tokuyama Corp
Priority date: 2000-04-17
Filing date: 2000-04-17
Publication date: 2001-10-31

Abstract

(57)【要約】【課題】その硬化体が高屈折率であり且つ耐光性に優
れた新規な芳香族基含有重合性チオエーテル化合物を提
供する。【解決手段】下記構造式で示されるような側鎖に芳香
族環を持つ重合性チオエーテル化合物。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明性樹脂、特に
眼鏡用プラスチックレンズ等の光学材料の製造原料に適
した重合性化合物、該化合物を含有する重合性組成物、
該組成物を重合して得られる硬化体、該硬化体からなる
光学材料に関する。詳しくは、その硬化体が特に高屈折
率であり、しかも耐光性に優れた重合性チオエーテル化
合物を提供するものである。

【０００２】

【従来の技術】プラスチックレンズは、無機レンズに比
べ軽量で割れにくく、また染色性が良好なため、近年、
メガネレンズやカメラレンズ等の光学素子系に広く普及
している。その代表的なプラスチックレンズは、ジエチ
レングリコ−ルビスアリルカ−ボネイト（ＣＲ−３９）
の重合体であるが、この重合体の屈折率は約１．５０と
低く、特に度数の強いマイナスレンズの場合、コバ厚が
厚くなりプラスチックの特徴である軽量性が損なわれて
しまう。そのため、より屈折率が高いプラスチックレン
ズが望まれている。屈折率を高めるためには、重合性化
合物中のフッ素ではないハロゲンの含有量や芳香環含有
量や、あるいは硫黄含有量を高めることが知られてい
る。例えば特開平１−１２８９６６号公報には、重合性
チオエーテル化合物が開示されているが、これらの重合
性チオエーテル化合物を重合硬化して得られた硬化体の
屈折率は１．５８程度であり、さらなる屈折率の向上が
望まれる。

【０００３】特開平２−２５８８１９号公報には、硫黄
と芳香環との直接結合を有するチオアクリレ−ト化合物
が開示されている。これらの硫黄と芳香環との直接結合
を有するチオアクリレ−ト化合物を重合硬化して得られ
た硬化体の屈折率は約１．５９〜１．６６と高くなって
いるものの、耐光性が悪いという問題がある。

【０００４】そこで、屈折率及び耐光性の両物性を満足
する透明性硬化体並びにその原料となる重合性化合物の
開発が望まれていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
光学材料用重合性化合物の問題点を解決し、眼鏡用レン
ズ物性、耐光性に優れ、屈折率の高い硬化体、該硬化体
に好適な重合性化合物及び重合性組成物を提供すること
を目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、芳香族基を
側鎖に持つ重合性チオエ−テル化合物を用いることによ
り、高屈折率でしかも耐光性が良好であるプラスチック
レンズに好適な硬化体が得られることを見いだし、本発
明を完成するに至った。即ち、本発明は、前記一般式
（１）

【０００７】

【化６】 {式中、Ｘは、下記式（２）〜（５）で示す構造から選
ばれる２価の基を示し

【０００８】

【化７】

【０００９】

【化８】

【００１０】

【化９】

【００１１】

【化１０】

【００１２】（式中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１
３は、互いに独立に、フッ素原子を除くハロゲン原子ま
たは水素原子であり、Ｒ１４は炭素数１〜３のアルキレ
ン基である）、ｎ及びｐは、互いに独立に１〜５の整数
であり、ｍ及びｑは、Ｘが式（３）または（５）の基で
ある時、１〜５の整数であり、Ｘが式（２）または
（４）の基である時、０〜５の整数であり、Ｒ１及びＲ
１０は互いに独立に水素原子又はメチル基であり、Ｒ
２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、
互いに独立に水素原子又は置換基を有しても良い芳香族
基であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８
及びＲ９は、全てが同時に水素原子になることはなく、
Ｘが式（３）または（５）の基でｍ及びｑが１以上であ
る時、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及び
Ｒ９のうち少なくとも一つは、置換基を有しても良い芳
香族基であり、Ｘが式（２）または（４）の基でｍ及び
ｑが０である時、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうち少な
くとも一つは、置換基を有しても良い芳香族基であり、
ｍ、ｎ、ｐ及びｑがそれぞれ２以上の場合には、それぞ
れのＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ
９は異なる原子又は基であってもよい}で示される芳香
族基を側鎖に持つ重合性チオエ−テル化合物（以下、芳
香族基含有重合性チオエーテル化合物という）である。
他の本発明は、上記芳香族基含有重合性チオエーテル化
合物を、全重合性単量体の総重量を基準として、１０〜
１００重量％含有することを特徴とする重合性組成物で
ある。さらに他の本発明は、該重合性組成物を重合硬化
させた硬化体からなる光学材料である。

【００１３】

【発明の実施形態】本発明の芳香族基含有重合性チオエ
ーテル化合物は、前記一般式（１）で表される。

【００１４】一般式（１）中、Ｘは、前記一般式（２）
〜（５）で示す構造から選ばれる２価の基であるが、得
られる硬化体の屈折率の観点から前記一般式（２）もし
くは（４）の基が好ましく、さらには、合成の簡便性の
観点から前記一般式（２）の基がより好ましい。

【００１５】前記一般式（１）中、ｎ及びｐは、互いに
独立に１〜５の整数であり、ｍ及びｑは、Ｘが前記式
（３）または（５）の基である時、１〜５の整数であ
り、Ｘが前記式（２）または（４）の基である時、０〜
５の整数である。得られる硬化体の耐熱性の観点から、
より好ましいｎ及びｐはそれぞれ独立に１〜３の整数で
あり、Ｘが式（３）または（５）の基である時のより好
ましいｍ及びｑは１〜３の整数であり、Ｘが式（２）ま
たは（４）の基である時のより好ましいｍ及びｑは０〜
３の整数である。

【００１６】前記一般式（１）において、Ｒ１とＲ１０
は互いに独立に水素原子又はメチル基であり、Ｒ１とＲ
１０は異なる基でもよいが、合成の容易さからいえば同
種の基である方がより好ましい。さらには、本発明にお
ける芳香族基含有重合性チオエーテル化合物の保存安定
性の観点から、メチル基であるのが好ましい。

【００１７】また、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ
７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立に水素原子又は置換基
を有しても良い芳香族基である。該芳香族基としては、
フェニル基、トリル基、ナフチル基等の炭化水素系芳香
族基が挙げられるが、原料の入手し易さ等の観点からフ
ェニル基が好ましい。

【００１８】さらに、該芳香族基に置換されてもよい置
換基としては、公知の基が何ら制限無く用いられるが、
アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ
基、芳香族複素環基、フッ素を除くハロゲン原子等が好
ましい。

【００１９】前記置換基としてのアルキル基としては、
公知の基が何ら制限無く用いられるが、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブ
チル基等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。

【００２０】前記アリール基としては、公知の基が何ら
制限無く用いられるが、フェニル基、トリル基、ナフチ
ル基等の炭素数６〜１２のアリール基が好ましい。

【００２１】前記アラルキル基としては、公知の基が何
ら制限無く用いることができるが、ベンジル基、フェネ
チル基等の炭素数７〜１１のアラルキル基が好ましい。

【００２２】前記アルコキシ基としては、公知の基が何
ら制限無く用いられるが、メトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔ−ブト
キシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。

【００２３】前記芳香族複素環基としては、公知の基が
何ら制限無く用いられるが、チエニル基、フリル基、ベ
ンゾチエニル基等の炭素数４〜１０の芳香族複素環基が
好ましい。

【００２４】前記置換基としてのフッ素を除くハロゲン
原子としては塩素、臭素、ヨウ素が挙げられるが、得ら
れる硬化体の屈折率や耐光性の観点から臭素が好まし
い。

【００２５】これら置換基の置換数は、０又は１以上で
あるが、屈折率や合成もしくは入手し易さの観点から４
以下であるのが好ましい。また、置換基の数が２以上の
場合、それぞれ異なる置換基が置換しても良い。

【００２６】前記一般式（１）中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、全てが同時に水素
原子になることはなく、Ｘが式（３）または（５）の基
でｍ及びｑが１以上である時、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ
５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち少なくとも一つ
は、置換基を有しても良い芳香族基であり、Ｘが式
（２）または（４）の基でｍ及びｑが０である時、Ｒ
４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうち少なくとも一つは、置換
基を有しても良い芳香族基である。芳香族基含有重合性
チオエーテル化合物中に存在する側鎖の芳香環数は、分
子中に少なくとも１個あればよいが、特に当該化合物を
構成するエチレン鎖１個に対して１個の芳香環が存在す
る化合物が好ましい。

【００２７】前記式（４）において、ジチアン環に結合
する−ＣＨ₂−基の結合位置は、２，５−置換１，４−
ジチアン環となるような位置であっても、２，６−置換
１，４−ジチアン環となるような位置であっても良い。

【００２８】前記式（５）中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２
及びＲ１３は、互いに独立に、フッ素原子を除くハロゲ
ン原子または水素原子であるが、屈折率や耐光性の観点
から、全てが臭素原子であるのが好ましい。また、同式
中のＲ１４は炭素数１から３までのアルキレン基であ
り、該アルキレン基としては、メチレン基、エチレン
基、プロピレン基を挙げることができる。

【００２９】前記一般式（１）で示される本発明の芳香
族基含有重合性チオエーテル化合物のうち、原料の入手
し易さ及び合成の容易さ等の観点からさらに好ましい態
様を一般式で示せば、下記一般式（６）で表される芳香
族基含有重合性チオエーテル化合物を挙げることができ
る。

【００３０】

【化１１】｛式中、Ｘは下記式（２）または（４）で示される基で
あり

【００３１】

【化１２】

【００３２】

【化１３】

【００３３】、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１
９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は、互いに独立に水素原
子またはフェニル基であり、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、
Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は、同時に
水素原子になることはなく、少なくとも１つはフェニル
基であり、隣り合うＲ基、例えばＲ１５とＲ１６、Ｒ１
７とＲ１８、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２１とＲ２２は同時に
フェニル基になることはなく、ｓ及びｔは、互いに独立
に１〜３の整数であり、ｒ及びｕは、Ｘが式（２）の基
である時、１〜３の整数であり、Ｘが式（４）の基であ
る時、０〜３の整数であり、ｒ、ｓ、ｔ及びｕがそれぞ
れ２以上の場合、それぞれのＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、
Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は異なる水
素原子又はフェニル基であってもよく、Ｒ１５、Ｒ１
６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２
２は、互いに独立に水素原子又はフェニル基であり、Ｒ
１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２
１及びＲ２２は、全てが同時に水素原子になることはな
く、Ｘが式（２）の基でｒ及びｕが１以上である時、Ｒ
１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２
１及びＲ２２のうち少なくとも一つは、フェニル基であ
り、Ｘが式（４）の基でｒ及びｕが０である時、Ｒ１
７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０のうち少なくとも一つ
は、フェニル基である｝本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル化合物を具体
的に例示すれば、下記構造の化合物を挙げることができ
る。

【００３４】

【化１４】

【００３５】

【化１５】

【００３６】

【化１６】

【００３７】

【化１７】

【００３８】

【化１８】

【００３９】

【化１９】

【００４０】

【化２０】

【００４１】

【化２１】

【００４２】

【化２２】

【００４３】

【化２３】

【００４４】

【化２４】

【００４５】

【化２５】

【００４６】

【化２６】

【００４７】本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル
化合物の合成法については公知の方法が制限なく適用で
きる。特に、芳香族基と硫黄を含んだジオ−ルを中間体
（以下、中間体ジオールという）として合成した後に、
（メタ）アクリル酸及びこれらの誘導体によって（メ
タ）アクリル化する方法（以下、エステル化という）が
好適に利用される。

【００４８】本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル
化合物の合成に使用する（メタ）アクリル酸及びこれら
の誘導体としては、中間体ジオールとエステル化反応を
起こす化合物であれば特に限定されない。このような化
合物としては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル
酸ハロゲン化物、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）
アクリル酸エステル等が挙げられるが、中でも酸、酸塩
化物、エステルが好適に用いられる。

【００４９】本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル
化合物の合成に（メタ）アクリル酸と中間体ジオールと
の縮合反応を適用する場合、一般に酸触媒を用いて行わ
れる。ここで、好適に使用される酸触媒としては、塩
酸、硫酸等の鉱酸、芳香族スルホン酸等の有機酸あるい
は、三フッ化ホウ素エ−テラ−ト、四塩化チタン等のル
イス酸が挙げられる。本反応においては、水が副生する
が、その反応は平衡であるため、一般にディ−ンスタ−
ク水分離器等を用いたり、ソックスレ−抽出器に無水硫
酸ナトリウムあるいはモレキュラ−シ−ブス等の脱水剤
を入れて溶媒を還流させたり、反応系内にＮ，Ｎ‘−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド、リン酸やホスホン酸の
無水物等の脱水剤を共存させるなどして系内から水を取
り除くことが好ましい。

【００５０】本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル
化合物の合成に（メタ）アクリル酸ハロゲン化物と中間
体ジオールとの反応を適用する場合、一般には副生する
ハロゲン化水素を反応系から除去するため、反応系内に
ハロゲン化水素補足剤を共存させることが望ましい。該
ハロゲン化水素補足剤は特に限定されず公知のものを使
用することができる。一般に好適に使用されるハロゲン
化水素補足剤として、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリプロピルアミン等のトリアルキルアミン、ピ
リジン、ジメチルアミノピリジン、テトラメチル尿素、
水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等の塩基が挙げられ
る。また、エピクロロヒドリンなどのエポキシ化合物、
イオン交換樹脂等も好適に使用することができる。該ハ
ロゲン化水素補足剤の量はカルボン酸塩化物１モルに対
して１モル以上用いることが好ましい。

【００５１】本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル
化合物の合成に（メタ）アクリル酸のエステルと中間体
ジオールとのエステル交換反応（以下、単にエステル交
換反応という）を適用する場合には、該エステルに含ま
れるアルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ基）のＲが炭
素数１〜５、さらに好適には炭素数１〜３のアルキル基
又はヒドロキシアルキル基であることが、エステル化反
応の効率の観点から好適で、具体的に例示すれば、（メ
タ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、
（メタ）アクリル酸プロピル、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレ−ト等が挙げられる。加えて、比較的
酸性度の高いアルコ−ルやフェノ−ルとのエステル、例
えば、２，２，２−トリハロゲノエチルエステル、ニト
ロフェニルエステル、ジニトロフェニルエステル、ピク
レ−ト等、いわゆる活性エステルとして知られている誘
導体や、互変異性体を持つアルコ−ルとのエステル、例
えば、ビニルエステル、イソプロペニルエステル等の誘
導体も好適に用いることができる。

【００５２】本エステル交換反応においては、酸又は塩
基を触媒として用いるのが好ましく、触媒として好適に
使用される酸を例示すれば、塩酸、硫酸、ｐ−トルエン
スルホン酸等が挙げられ、塩基としては、水酸化ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリ
ウム等の無機塩基やナトリウムメトキシド又はカリウム
−ｔ−ブトキシド等のアルコキシド等が挙げられる。

【００５３】本エステル交換反応は一般に平衡反応であ
るため、（メタ）アクリル酸のエステル由来のアルコ−
ルを蒸留又は共沸等の方法で反応系外に取り除くことが
好ましい。但し、いわゆる活性エステルとして知られて
いる誘導体や、互変異性体を持つアルコ−ルとエステル
との反応の場合、一般に平衡は目的とするエステル側に
片寄っており、生成するアルコールを除去する必要はな
い。

【００５４】上記エステル化反応に際しては、一般に無
溶媒、又は有機溶剤を用いて行うのが好ましい。該溶媒
として好適に使用されるものを例示すれば、ベンゼン、
トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、石油エ−テ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン等の脂
肪族又は芳香族炭化水素類あるいはハロゲン化炭化水素
類；ジエチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等のエ−テル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
−メチルピロリドン等の、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシ
ド類が挙げられる。

【００５５】また、上記エステル化反応においては、反
応生成物である芳香族基含有重合性チオエーテル化合物
のゲル化を防止するために、重合禁止剤を添加すること
が好ましい。該重合禁止剤としては公知の化合物が何ら
制限無く用いられるが、具体的には、ハイドロキノン、
ｐ−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
−メチルフェノール、ｐ−ｔ−ブチルカテコール等のフ
ェノール系重合禁止剤；フェノチアジン、塩化銅（I
I）、塩化鉄（III）等を挙げることができる。これらの
中でも重合禁止能力、生成物の着色、及び反応後に反応
生成物から除去することを勘案すると、ｐ−メトキシフ
ェノールとｐ−ｔ−ブチルカテコールが好ましい。ま
た、該重合禁止剤の使用量は禁止剤の種類、反応温度に
もよるが、一般的には原料である中間体ジオールの０．
０１〜１０重量％であり、好ましくは０．１〜５重量％
である。

【００５６】上記エステル化反応における反応温度は広
い範囲から選択でき、一般的には−２０℃〜１２０℃の
範囲であり、好ましくは２０℃〜１００℃の範囲から選
べばよい。また、反応時間は原料の種類によっても異な
るが、通常５分〜４８時間の範囲であり、好ましくは１
〜２４時間の範囲から選べばよい。さらには、反応中に
おいては攪拌を行うのが好ましい。

【００５７】この様な製造方法で製造された本発明の芳
香族基含有重合性チオエーテル化合物は、必要に応じて
単離された後、使用に供される。このときの単離方法と
しては公知の方法を何ら制限無く用いることができる。
例えば、反応収率が高いため特に精製操作や脱色操作な
どを行わなくても良いときは、不溶分を濾過した後、反
応に使用した（メタ）アクリル酸またはこれらの誘導体
のうち、未反応の（メタ）アクリル酸またはこれらの誘
導体と溶媒を留去しただけでも構わない。また、反応収
率が低かったり、着色が問題となる場合には、蒸留、カ
ラムクロマトグラフィー等の公知の精製操作、及び活性
炭処理、シリカ処理などの吸着剤処理、或いは水、塩酸
水や水酸化ナトリウム水溶液での洗浄等がの公知の脱色
操作の中から適宜選択した操作を行えばよい。

【００５８】本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル
化合物の合成に用いる中間体ジオ−ルの合成法について
は、公知の方法が制限なく適用できる。具体的には、対
応するジチオ−ル（以下、対応ジチオールという）とエ
ポキシドとの反応、対応ジチオ−ルとハロゲン化物との
反応、対応ジチオ−ルとトシレ−ト等のアルコ−ル誘導
体との反応、対応ジチオ−ルのオレフィンへの付加、ス
ルフェニルクロリドのオレフィンへの付加、スルホンや
スルホキシドの還元等が好適に用いられる。

【００５９】例えば、ジメルカプトジエチレンスルフィ
ドの様な対応ジチオ−ルとスチレンオキシドの様なエポ
キシドとの反応は、塩基存在下で行われる。該塩基とし
ては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基
やナトリウムメトキシド又はカリウム−ｔ−ブトキシド
等のアルコキシド等が挙げられる。

【００６０】上記対応ジチオ−ルとハロゲン化物との反
応に際しては、一般に無溶媒、水或いは有機溶剤を用い
て行うのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるも
のを例示すれば、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、ヘプタン、石油エ−テル、クロロホル
ム、塩化メチレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族
炭化水素類あるいはハロゲン化炭化水素類；ジエチルエ
−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル
類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン等の、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホラン等のスルホキシド類が挙げられ
る。

【００６１】上記対応ジチオ−ルとハロゲン化物との反
応における反応温度は広い範囲から選択でき、一般的に
は−２０℃〜１２０℃の範囲であり、好ましくは２０℃
〜１００℃の範囲から選べばよい。また、反応時間は原
料の種類によっても異なるが、通常５分〜４８時間の範
囲であり、好ましくは１０分〜１２時間の範囲から選べ
ばよい。さらには、反応中においては攪拌を行うのが好
ましい。

【００６２】また、対応ジチオ−ルの合成法について
は、公知の方法が制限なく適用できるが、ハロゲン化物
やトシレ−ト等のアルコ−ルの誘導体とチオ尿素や水硫
化ナトリウム等の硫黄化試薬との反応、アルコールと五
硫化二リン等の硫黄化試薬との反応、アルコ−ルやアル
コキシド、有機金属試薬のエピスルフィドへの付加反応
等が好適に用いられる。

【００６３】例えば、２，５−ビス（クロロメチル）−
１，４−ジチアンの様なハロゲン化物とチオ尿素との反
応に際しては、一般に無溶媒又は有機溶剤を用いて行う
のが好ましい。該溶媒として好適に使用されるものを例
示すれば、メタノール、エタノール、イソプロパノール
等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘ
キサン、ヘプタン、石油エ−テル、クロロホルム、塩化
メチレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素
類あるいはハロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル類；Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等
の、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド類；ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン等のスルホキシド類が挙げられる。

【００６４】上記ハロゲン化物とチオ尿素との反応にお
ける反応温度は広い範囲から選択でき、一般的には−２
０℃〜１２０℃の範囲であり、好ましくは２０℃〜１０
０℃の範囲から選べばよい。また、反応時間は原料の種
類によっても異なるが、通常５分〜４８時間の範囲であ
り、好ましくは１０分〜１２時間の範囲から選べばよ
い。さらには、反応中においては攪拌を行うのが好まし
い。

【００６５】また、上記ハロゲン化物とチオ尿素との反
応において生成するイソチウロニウム塩は、塩基で分解
することにより、目的物であるジチオールにする。該塩
基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等の無
機塩基やアンモニア水等が挙げられる。

【００６６】本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル
化合物は、重合硬化させることにより、高屈折率であり
しかも耐光性に優れた透明性の硬化体を与える。

【００６７】本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル
化合物は、単独重合したときに得られる上記のような特
徴を生かして光学材料、とりわけプラスチックレンズ材
料の原料として好適に使用できる。本発明の芳香族基含
有重合性チオエーテル化合物を上記用途に使用する場合
には、屈折率、アッベ数、耐光性等の他の物性も考慮し
て、当該芳香族基含有重合性チオエーテル化合物と共重
合可能な他の重合性単量体（以下、コモノマーともい
う）を併用して、共重合することも可能である。尚、本
発明において重合性組成物とは、重合性化合物として、
芳香族基含有重合性チオエーテル化合物とコモノマーと
の混合物からなる場合のみならず、芳香族基含有重合性
チオエーテル化合物単独の場合もいう。

【００６８】該コモノマーは、本発明の芳香族基含有重
合性チオエーテル化合物と共重合可能な重合性単量体で
あれば特に限定されず、目的とする用途に応じて必要な
物性を与えるものを適宜選択して使用すればよい。光学
材料として使用する場合に好適なコモノマーを具体的に
例示すれば、ジアクリレ−ト化合物又はジメタクリレ−
ト化合物として、ジエチレングリコ−ルジメタクリレ−
ト、トリエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、テトラ
エチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ブタンジオ−ル
ジメタクリレ−ト、ヘキサメチレンジメタクリレ−ト、
ビスフェノ−ルAジメタクリレ−ト、２，２−ビス（４
−メタクリロイルオキシエトキシ−３，５−ジブロモフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリロイル
オキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４
−メタクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−メタクリロイルオキシトリエト
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリ
ロイルオキシペンタエトキシフェニル）プロパン：エポ
キシ基を有するアクリレ−ト化合物又はメタクリレ−ト
化合物として、グリシジルアクリレ−ト、グリシジルメ
タクリレ−ト、β−メチルグリシジルアクリレ−ト、β
−メチルグリシジルメタクリレ−ト及びビスフェノ−ル
A−モノグリシジルエ−テルメタクリレ−ト：ビニルベ
ンジル化合物として、ビス−４−ビニルベンジルエ−テ
ル、ビス−４−ビニルベンジルスルフィド、１，２−
（ｐ−ビニルベンジルオキシエチル）スルフィド：不飽
和カルボン酸化合物として、アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、フマル酸：アクリル酸及びメタク
リル酸エステル化合物として、アクリル酸メチル、メタ
クリル酸メチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸
フェニル、トリブロモフェニルメタクリレ−ト、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレ−ト、トリフロロメチルメタ
クリレ−ト、：フマル酸エステル化合物として、フマル
酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジフェニ
ル：芳香族ビニル化合物として、スチレン、クロロスチ
レン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、イソプ
ロペニルナフタレン、ブロモスチレン、ジビニルベンゼ
ン等を挙げることができる。これらの重合性単量体は１
種又は２種以上を混合してもよい。

【００６９】重合性組成物がコモノマーとの混合物の場
合の組成は、光学材料の目的、用途に応じて適宜決定す
ればよく、通常全重合性単量体の総重量を基準として、
本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル化合物が１０
〜１００重量％、特に２０〜９５重量％（残部がコモノ
マー量となる）の範囲で使用するのが好ましい。

【００７０】本発明の重合性組成物、即ち芳香族基含有
重合性チオエーテル化合物、或いは芳香族基含有重合性
チオエーテル化合物とコモノマーからなる混合物を重合
硬化させて硬化体を得る重合方法は特に限定的でなく、
公知のラジカル重合方法を採用することができる。この
場合の重合開始手段は、種々の過酸化物やアゾ化合物な
どのラジカル重合開始剤の使用、または種々の光重合開
始剤存在下、紫外線、α線、β線、γ線等の照射、ある
いは両者の併用によって行うことができる。従って、本
発明の重合性組成物中には、これら重合開始剤を適宜含
有させることが出来る。

【００７１】ラジカル重合開始剤としては、特に限定さ
れず、公知のものが使用できるが、代表的なものを例示
すると、ベンゾイルパーオキサイド、ｐ−クロロベンゾ
イルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド等のジ
アシルパーオキサイド；ｔ−ブチルパーオキシ−２−エ
チルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシジカーボネ
ート、クミルパーオキシネオデカネート、ｔ−ブチルパ
ーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル；ジイソ
プロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘ
キシルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチル
オキシカーボネート等のパーカーボネート類；２，２’
−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス
（４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス
（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス
（シクロヘキサン−１−カーボニトリル）等のアゾ化合
物等が挙げられる。

【００７２】該ラジカル重合開始剤の使用量は、重合条
件や開始剤の種類、前記本発明の重合性組成物の種類や
組成によって異なり、一概に限定できないが、一般に
は、全重合性単量体１００重量部に対して０．０１〜１
０重量部の範囲で用いるのが好適である。

【００７３】また、該ラジカル重合開始剤は、単独又は
２種以上を混合して使用してもかまわない。

【００７４】重合条件のうち、特に温度は得られる硬化
体の性状に影響を与える。この温度条件は、該ラジカル
重合開始剤の種類と量や重合性組成物の組成に影響を受
けるので、一概には限定できないが、一般的に比較的低
温で重合を開始し、ゆっくりと温度を上げていき、重合
終了時に高温下に硬化させるいわゆるテーパ型の２段重
合を行うのが好適である。

【００７５】重合時間も温度と同様に各種の要因によっ
て異なるので、予めこれらの条件に応じた最適の時間を
決定するのが好適であるが、一般に２〜４０時間で重合
が完了するように条件を選ぶのが好ましい。また、活性
エネルギ−線を照射して重合を開始させる場合には、光
重合開始剤を添加することもできる。その成分の具体例
としては、１−フェニル２−ヒドロキシ−２−メチルプ
ロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン等のアセト
フェノン系光重合開始剤；１，２−ジフェニルエタンジ
オン、メチルフェニルグリオキシレ−ト等のα−ジカル
ボニル系光重合開始剤；２，４，６−トリメチルベンゾ
イルジフェニルフォスフィンオキシド、ビス（２，６−
ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペン
チルフォスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメチルベ
ンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフ
ィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイ
ル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオ
キシド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，
４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等の
フォスフィンオキシド系光重合開始剤等が挙げられる。

【００７６】該光重合開始剤の添加量は、重合条件や該
光重合開始剤の種類、重合性組成物の組成によって異な
り、一概には限定できないが、一般的には、重合体の内
部均一性や硬化度の観点から、重合性組成物１００重量
部に対して、０．００１〜５重量部、好ましくは０．０
２〜１重量部の範囲が好適である。

【００７７】また、該光重合開始剤は、単独又は２種以
上を一緒に使用してもかまわない。さらには、上記該ラ
ジカル重合開始剤と該光重合開始剤とをそれぞれ１種類
以上混合して使用して、二つの重合方法を併用してもか
まわない。

【００７８】本発明の重合組成物には、最終的に得られ
る硬化体の用途、物性等に応じて、離型剤、紫外線吸収
剤、赤外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、着色防
止剤、帯電防止剤、蛍光染料、染料、顔料、香料、フォ
トクロミック化合物等の各種安定剤や添加剤を配合する
ことができる。

【００７９】重合方法も特に限定されないが、レンズ等
の光学材料としての用途を考える場合には、注型重合を
行うのが好適である。例えば、エラストマーガスケット
またはスペーサーで保持されているモールド間に、ラジ
カル重合開始剤を添加した本発明の重合性組成物を注入
し、空気炉中で加熱して重合硬化させた後、取り出すこ
とによって行われる。

【００８０】本発明の硬化体は、芳香族基含有重合性チ
オエ−テル化合物を単独で重合させて得られる重合体、
あるいは芳香族基含有重合性チオエ−テル化合物とコモ
ノマーとを共重合させて得られる共重合体である。

【００８１】この硬化体は高い透明性を有し、光学材
料、とりわけプラスチックレンズとして有用であり、そ
の用途に応じて以下のような表面処理を施すこともでき
る。即ち、分散染料などを用いる染色、シランカップリ
ング剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニ
ウム、スズ、タングステン等のゾル成分を主成分とする
ハ−ドコ−ト剤や、有機高分子体を主成分とするハード
コート剤によるハードコーティング処理や、ＳｉＯ２、
ＴｉＯ２、ＺｒＯ２等の金属酸化物からなる薄膜の蒸着
や有機高分子の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電
防止処理等の加工及び２次処理を施すことも可能であ
る。

【００８２】

【実施例】以下、本発明を説明するために、実施例を挙
げて説明するが、本発明はこれらの実施例に制限される
ものではない。なお、化合物の同定にはプロトン核磁気
共鳴スペクトル、質量分析スペクトル、元素分析を用い
た。

【００８３】実施例１１０００ｍｌ３つ口フラスコにメタノ−ル５００ｍｌ、
ジメルカプトジエチレンスルフィド１１２ｇ（０．７９
ｍｏｌ）、炭酸カリウム１２０ｇ（０．８６８ｍｏｌ）
を加え攪拌した。この溶液を還流しながら、スチレンオ
キシド２０４ｇ（１．７ｍｏｌ）をメタノ−ルに溶解し
たものを滴下した。次いで、この溶液を４時間還流し続
けた後、室温まで冷却した。その後、溶液をろ過してメ
タノールを減圧留去し、残渣をクロロホルムに溶解し
た。このクロロホルム溶液を水、食塩水で洗浄し、クロ
ロホルム層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫
酸マグネシウムをろ過してクロロホルムを減圧留去して
中間体ジオールを２８３ｇ（０．７２ｍｏｌ）得た。こ
の中間体ジオールは、下記化合物（イ）−（ハ）の混合
物であり、これを、シリカゲルを用いてカラム分離し
た。

【００８４】

【化２７】

【００８５】

【化２８】

【００８６】

【化２９】

【００８７】上記化合物（イ）４６ｇ（０．１２ｍｏ
ｌ）をエーテルに溶解し、トリエチルアミン３０．３ｇ
（０．３ｍｏｌ）を加え、冷却しながらメタクリル酸ク
ロリド３１．１ｇ（０．３ｍｏｌ）を滴下した。滴下終
了後、３時間還流し、その後室温まで放冷した。生成し
たトリエチルアミン塩酸塩をろ過し、エーテル層を希塩
酸、希水酸化ナトリウム水溶液、食塩水の順に洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウ
ムをろ過し、エーテルを減圧留去して下記化合物（ニ）
４４．５ｇ（０．０８４ｍｏｌ）を得た。収率は、７０
％であった。ここで用いている収率は、原料である化合
物（イ）を基準とした時の値である。

【００８８】

【化３０】また、上記化合物（ニ）は、以下の方法でも製造した。

【００８９】実施例２２０００ｍｌ４つ口フラスコにクロロホルム５００ｍ
ｌ、スチレンオキシド３００ｇ（２．５ｍｏｌ）を加え
攪拌した。この反応溶液を、０℃に保ちながら、濃塩酸
４１０ｇを滴下した。その後、０℃に保ちながら、３時
間攪拌した後、炭酸水素ナトリウム水溶液で有機相を中
和し、次いで水、食塩水で洗浄した。その後、乾燥さ
せ、溶媒を留去し、減圧蒸留することにより下記化合物
（ホ）を得た。

【００９０】

【化３１】

【００９１】次に、１０００ｍｌの四つ口フラスコにベ
ンゼン２００ｍｌ、上記化合物（ホ）１２０ｇ（０．７
６７ｍｏｌ）を加え攪拌した。次いで、この溶液を８０
℃に加熱しながら、無水酢酸１０２．９ｇ（１ｍｏｌ）
を滴下した後、８０℃のまま２時間攪拌した。その後、
反応溶液を室温になるまで放冷した後、水、食塩水で洗
浄し、乾燥させ、溶媒を留去することにより下記化合物
（ヘ）を得た。

【００９２】

【化３２】

【００９３】さらに、１０００ｍｌの四つ口フラスコに
Ｎ，Ｎ′−ジメチルホルムアミド２５０ｍｌ、ジメルカ
プトジエチレンスルフィド３８．８ｇ（０．２５２ｍｏ
ｌ）、さらに水素化ナトリウム１２．１ｇ（０．５０４
ｍｏｌ）を加えて１時間室温で攪拌した。ここに上記化
合物（ヘ）１００ｇ（０．５０４ｍｏｌ）のＮ，Ｎ′−
ジメチルホルムアミド溶液を滴下した後、８０℃で攪拌
を５時間継続した。その後、室温まで放冷し、エーテル
５００ｍｌを加え、希塩酸、水、食塩水で洗浄し、エー
テルを減圧留去して下記化合物（ト）を１１０．５ｇ
（０．２１ｍｏｌ）得た。

【００９４】

【化３３】

【００９５】次いで、エタノール中水酸化カリウムを用
いて、上記化合物（ト）のアセチル基を加水分解し、前
記化合物（イ）を７８．８ｇ（０．２ｍｏｌ）得た。そ
の後、５００ｍｌの三つ口フラスコにディーンスターク
脱水装置を取り付け、前記化合物（イ）７５ｇ（０．１
９ｍｏｌ）、炭酸セシウム１．５ｇ、メタクリル酸メチ
ル９５．１ｇ（０．９５ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノ
ール１．５ｇ、ｎ−ヘキサン３００ｍｌを仕込み、９４
℃に加熱して、反応により生成してくるメタノールをｎ
−ヘキサンと共沸除去しながら２１時間反応させた。次
いで、ｎ−ヘキサンを減圧留去してクロロホルムを加
え、水、希塩酸、食塩水で洗浄し、クロロホルム層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、無水硫酸マグネシウ
ムをろ過し、クロロホルムを減圧留去して前記化合物
（ニ）の粗生成物８１．２ｇ（０．１５３ｍｏｌ）を得
た。シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによ
って生成することにより前記化合物（ニ）６８．５ｇ
（０．１３ｍｏｌ）を単離した。収率は、５１．６％で
あった。ここで用いている収率は、原料であるジメルカ
プトジエチレンスルフィドを基準としたときの値であ
る。

【００９６】この化合物（ニ）の元素分析は、Ｃ６３．
３１％、Ｈ６．４９％、Ｏ１２．００％、Ｓ１８．２０
％であって、Ｃ₂₈Ｈ₃₄Ｏ₄Ｓ₃に対応する計算値であるＣ
６３．４０％、Ｈ６．４２％、Ｏ１２．０７％、Ｓ１
８．１１％に極めてよく一致した。

【００９７】また、プロトン核磁気共鳴スペクトルを測
定したところ、図１に示すように、δ８．０〜７．０ｐ
ｐｍ付近にフェニル基のプロトンに基づく１０Ｈのピー
ク、δ６．７〜５．５ｐｐｍ付近に末端の不飽和炭化水
素基のプロトンに基づく４Ｈのピーク、δ４．６〜４．
０ｐｐｍ付近に酸素に隣接するメチレン炭素に結合する
プロトンに基づく４Ｈのピーク、δ３．２〜２．４ｐｐ
ｍ付近に硫黄に隣接するメチレン炭素に結合するプロト
ンに基づく１０Ｈのピーク、δ２．１〜１．２ｐｐｍ付
近にメタクリル基に含まれるメチル基のプロトンに基づ
く６Ｈのピークを示した。

【００９８】また、質量分析スペクトルを測定したとこ
ろ、化合物（ニ）の親ピークと思われる分子量５３０の
ピークを観測した。

【００９９】上記の結果から、単離生成物は下記構造式
で示される化合物（ニ）であることを確認した。

【０１００】

【化３４】

【０１０１】尚、当該化合物（ニ）の各種分析値は、実
施例１で得られた化合物（ニ）のそれらと良く一致して
いた。

【０１０２】実施例３〜２０原料については、エステル化以前の中間体ジオールにつ
いて、代表的な一例を示した。実施例１並びに２と同様
の反応を行い、表１〜７に示す芳香族基含有重合性チオ
エーテル化合物を合成した。また、対応する芳香族基含
有重合性チオエーテル化合物の原料である中間体ジオー
ルとそのエステル化試薬を表１〜７に示した。得られた
生成物について、実施例１と同様な構造確認の手段を用
いて構造解析した結果、表１〜７に示す構造式で示され
る芳香族基含有重合性チオエーテル化合物であることを
確認した。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】

【表２】

【０１０５】

【表３】

【０１０６】

【表４】

【０１０７】

【表５】

【０１０８】

【表６】

【０１０９】

【表７】

【０１１０】また、表８〜１１にこれらの化合物の元素
分析値ならびに、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルのピーク並び
に質量分析スペクトルで確認された親ピークと思われる
ピーク値を示した。

【０１１１】

【表８】

【０１１２】

【表９】

【０１１３】

【表１０】

【０１１４】

【表１１】

【０１１５】実施例２１〜４１前記実施例１〜２０で製造した本発明の芳香族基含有重
合性チオエーテル化合物を用い、必要に応じて下記Ｂ成
分及びＣ成分として示すコモノマーを添加して表１２及
び１３に示すモノマー組成の重合性組成物を調製し、得
られた重合性組成物を重合硬化させて硬化体を得た。得
られた硬化体の光学的物性を後記試験法により測定し
た。その結果をあわせて表１２，１３に示す。

【０１１６】重合は、次のようにして行った。すなわ
ち、重合性組成物１００重量部に対し、ラジカル重合開
始剤として、ｔ−ブチルパーオキシネオデカネート０．
５重量部及び１，１，３，３−テトラメチルブチルパー
オキシ−２−エチルヘキサネート０．４重量部を添加し
てよく混合した。この混合液をガラス板とエチレン−酢
酸ビニル共重合体からなるガスケットで構成された鋳型
の中に注入し、注型重合を行った。重合は空気炉を用
い、３３℃から９０℃まで１７時間かけて徐々に昇温
し、９０℃で５時間保持した。重合終了後、鋳型を空気
炉から取り出し、放冷後、硬化体を鋳型のガラスから取
り外した。

【０１１７】また、以下の重合方法によっても同種の硬
化体が得られることを確認した。すなわち、上記重合性
組成物１００重量部に対し、光開始剤としてイルガキュ
ア１７００（チバガイギー製）を０．０３５重量部、熱
重合開始剤としてパ−ブチルＩＢ（日本油脂製）を０．
５重量部それぞれ添加し、十分混合した後、減圧下で脱
気した。この液を、ガラス板とエチレン−酢酸ビニル共
重合体とからなるガスケットで構成された鋳型の中に注
入し、１．５ｋｗメタルハライドランプの１５cmの距離
から紫外線を両面から２分間照射した。その後、１１０
℃で１時間加熱した。硬化後、重合体を鋳型から取り外
した。

【０１１８】なお、表１２及び１３における各略号は、
次の化合物を意味する。〔Ａ成分〕各々対応する番号の実施例で製造した本発明
の芳香族基含有重合性チオエーテル化合物。〔Ｂ成分〕ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート３Ｇ：トリエチレングリコールジメタクリレート４Ｇ：テトラエチレングリコールジメタクリレート。〔Ｃ成分〕ＢＰＥＭ：２，２−ビス（４−メタクリロイルオキシ・
ポリエトキシフェニル）プロパン（エチレンオキシド鎖
の平均値が２．６のもの）ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレートＳｔ：スチレンＭＳ：α―メチルスチレン。

【０１１９】

【表１２】

【０１２０】

【表１３】

【０１２１】〔屈折率及びアッベ数〕アタゴ（株）製ア
ッベ屈折率計を用いて、２０℃における屈折率及びアッ
ベ数を測定した。接触液にはブロモナフタレンまたはヨ
ウ化メチレンを使用した。屈折率及びアッベ数は、共に
高い方がより好ましい。〔耐光性〕スガ試験機（株）製ロングライフキセノンフ
ェードメーター中に試料を設置し、１００時間キセノン
光を露光した後、スガ試験機（株）製色差計（ＳＭ−４
型）で試料のＹＩを測定し、初期のＹＩに対する増加分
ΔＹＩで評価した。ΔＹＩが小さいほど耐光性が良いと
言える。

【０１２２】（○）：ΔＹＩが１−５程度のもの。

【０１２３】（△）：ΔＹＩが６−１０程度のもの。

【０１２４】（×）：ΔＹＩが１１以上のもの。〔外観〕目視により判定した。

【０１２５】比較例１、２Ａ成分として本発明の芳香族基含有重合性チオエーテル
化合物に替えて下記の化合物（チ）及び（リ）を用い、
表１３に示したモノマー組成の重合性組成物を調製し、
実施例２１と同様にして硬化体を得た。得られた硬化体
について実施例２１と同様にして光学的物性を測定し
た。その結果を表１３に示した。

【０１２６】

【化３５】

【０１２７】

【化３６】

【０１２８】実施例２１と比較例１を比較すると、屈折
率において実施例２１の方が高いことが明らかである。
また、実施例２１と比較例２を比較すると、実施例２１
の方が屈折率とアッベ数とのバランスが良いことが分か
る。さらに、実施例２１−４１と比較例２を比較する
と、実施例２１−４１の方が、耐光性が良いことが分か
る。

【０１２９】

【発明の効果】本発明の有する芳香族基含有重合性チオ
エーテル化合物は、高屈折率であり、しかも耐光性に優
れた硬化体を与える重合性単量体として有用である。

【０１３０】このため、本発明の芳香族基含有重合性チ
オエーテル化合物を単独重合またはコモノマーと共重合
して得た硬化体は、光学材料として有用であり、例えば
眼鏡レンズ、光学機器等の光学レンズとして最適であ
り、また、プリズム、光ディスク基盤、光ファイバーの
用途に好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１及び２の生成物である化合物（ニ）の
プロトン核磁気共鳴スペクトルである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｃ 7/02 Ｇ０２Ｃ 7/02 Ｆターム(参考） 4C023 PA07 4H006 AA01 AB92 TA04 TB35 TB75 4J027 AC03 AC06 AE02 AH03 AJ02 AJ08 BA01 BA02 BA04 BA05 BA06 BA07 BA08 BA09 BA11 BA17 BA18 BA19 CB02 CB03 CB10 CC02 CC05 CC08 CD04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）【化１】｛式中、Ｘは、下記式（２）〜（５）で示す構造から選
ばれる２価の基を示し、【化２】【化３】【化４】【化５】（式中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、互いに
独立に、フッ素原子を除くハロゲン原子または水素原子
であり、Ｒ１４は炭素数１〜３のアルキレン基である）
ｎ及びｐは、互いに独立に１〜５の整数であり、ｍ及び
ｑは、Ｘが式（３）または（５）の基である時、１〜５
の整数であり、Ｘが式（２）または（４）の基である
時、０〜５の整数であり、Ｒ１及びＲ１０は互いに独立
に水素原子又はメチル基であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ
５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立に水素原
子又は置換基を有しても良い芳香族基であり、Ｒ２、Ｒ
３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、全てが
同時に水素原子になることはなく、Ｘが式（３）または
（５）の基でｍ及びｑが１以上である時、Ｒ２、Ｒ３、
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち少なくと
も一つは、置換基を有しても良い芳香族基であり、Ｘが
式（２）または（４）の基でｍ及びｑが０である時、Ｒ
４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうち少なくとも一つは、置換
基を有しても良い芳香族基であり、ｍ、ｎ、ｐ及びｑが
それぞれ２以上の場合には、それぞれのＲ２、Ｒ３、Ｒ
４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は異なる原子又は
基であってもよい｝で示される芳香族基含有重合性チオ
エ−テル化合物。
【請求項２】請求項１記載の芳香族基含有重合性チオ
エーテル化合物を、全重合性単量体の総重量を基準とし
て、１０〜１００重量％含有することを特徴とする重合
性組成物。
【請求項３】請求項２記載の重合性組成物を重合硬化
させた硬化体からなることを特徴とする光学材料。