JPH02204435A - 含水素ジフルオロプロパン類の製造法 - Google Patents

含水素ジフルオロプロパン類の製造法

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JPH02204435A
JPH02204435A JP1022624A JP2262489A JPH02204435A JP H02204435 A JPH02204435 A JP H02204435A JP 1022624 A JP1022624 A JP 1022624A JP 2262489 A JP2262489 A JP 2262489A JP H02204435 A JPH02204435 A JP H02204435A
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difluoropropane
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hydrogen
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difluoromethylene group
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Shinsuke Morikawa
森川 真介
Shunichi Samejima
鮫島 俊一
Masaru Yoshitake
優 吉武
Keiichi Onishi
大西 啓一
Toshihiro Tanuma
敏弘 田沼
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Asahi Glass Co Ltd
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はジフルオロメチレン基を有する含水素ジフルオ
ロプロパン類(CsH,、C16−nF2 ;1≦n≦
6)の製造法に関するものである。含水素ジフルオロプ
ロパン類は従来から用いられてきたフロン類と同様に発
泡剤、冷媒、洗浄剤等の用途が期待される。
U従来の技術及び発明が解決しようとする課題]ジフル
オロメチレン基を有する含水素ジフルオロプロパン類の
合成ルートとしては、従来塩化アルミニウムの存在下に
1.1−ジクロロ−2,2−ジフルオロエチレン等のジ
フルオロメチレン単位を有するエチレンにトリクロロメ
タン等を付加させて合成する方法が知られている。しか
し、この方法は目的生成物と同時に目的生成物と沸点の
近い、ジフルオロメチレン以外のメチレン基を有する反
応副生物を生成するため純度の高い製品を得るには多段
の精製工程が必要であるという欠点を有している。
[課題を解決するための手段] 本発明者はジフルオロメチレン基を有する含水素ジフル
オロプロパン類(C3HnC16−nF2 :1≦n≦
6)の効率的製造法について鋭意検討を行なった結果、
 ジフルオロメチレン基を有する ジフルオロプロパン
類(CaH,C16−F2 :0≦m≦5)を水素化触
媒の存在下に水素で還元することにより、高収率で含水
素ジフルオロプロパン類及び含水素フルオロプロパン類
が得られることを見いだし本発明を提供するに至ったも
のである。
以下本発明の詳細について実施例とともに説明する。
すなわちジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロ
パン類を接触水素還元すると、下式に示すようにジフル
オロメチレン基を有する・含水素ジフルオロプロパン類
及び含水素フルオロプロパン類が収率よく生成すること
を見いだした。
C3H,C16−、F2  =   C3H,Cl  
8−0F2O≦m≦5           1≦n≦
6本反応においては■族元素、レニウム、ジルコニウム
、タングステン等、またはこれらの組合せにより形成さ
れた種々の水素化触媒が使用可能である。
原料に用いる ジフルオロメチレン基を有するジフルオ
ロフロパン類(C3HmCle−F2;O≦m≦5)と
しては、1.1.1.3.3.3−ヘキサクロロ−2,
2−ジフルオロプロパン(R−212ea)、1.1.
1.3,3−ペンタクロロ−2,2−ジフルオロプロパ
ン(R−222ea)、1.1.3.3−テl−ラクO
lニア −2,2−ジフルオロプロパン(R−232e
a)、1.1.1.3−テトラクロロ−2,2−ジフル
オロプロパン(R−232eb)、1.1.3− )ク
ロロロー2.2−ジフルオロプロパン(R−242ca
)、1.1.1− トリクロロ−2,2−ジフルオロプ
ロパン(R−242eb)、1.3−ジクロロ−2,2
−ジフルオロプロパン(R−252ea)、1.1−ジ
クロロ−2,2−ジフルオロプロパン(R−252eb
)、1−クロO−2,2−ジフルオロプロパン(R−2
62ca)があげられるが、これらはいずれも公知であ
る。
本発明において、水素化触媒の担体としては、例えば、
アルミナ、活性炭等が好適である。担持方法は、従来の
貴金属触媒の調製法が適用可能である。なお、使用に当
たってはあらかじめ触媒の還元処理を施しておくことが
安定した特性を得る上で好ましいが、必ずしも行なう必
要はない。
水素と原料の割合は大幅に変動させ得る0通常、化学量
論量の水素を使用してハロゲン原子を除去するが、ジフ
ルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン類(C3
H,C16−F2 ;o≦m≦5)原料をほぼ完全に反
応させるなめに出発物質の全モル数に対して化学量論量
よりかなり多い量、例えば4倍モルまたはそれ以上の水
素を使用してもよい。
反応温度は、気相反応においては100〜450℃が適
当であり特には100〜300℃が好ましい。接触時間
は通常0.1〜300秒、特には2〜60秒が好ましい
液相で反応を行なう場合において用いる溶媒としてはエ
タノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、
酢酸、とリジン等が上げられるが、無溶媒で行なうこと
も可能である。液相反応での反応温度は常温〜1.50
℃が好ましく、また反応圧力は常圧〜10 kg/al
が好ましい。
反応により生成するジフルオロメチレン基を有する含水
素ジフルオロプロパン類(C3H。
C18−oF2 ;1≦n≦6)としては、1.1.1
.3.3−ペンタクロロ−2,2−ジフルオロプロパン
(R−222ca)、1.1.3.3−テトラクロロ−
2,2−ジフルオロプロパン(R−232ca)、1.
1.1.3−テトラクロロ−2,2−ジフルオロプロパ
ン(R−232cb)、1、1.3− )リクロロー2
.2−ジフルオロプロパン(R−242ca)、i、 
i、 1−トリクロロ−2,2−ジフルオロプロパン(
R−242cb)、1,3−ジクロロ−2,2−ジフル
オロプロパン(R−252ca)、1.1−ジクロロ−
2,2−ジフルオロプロパン (R−252cb)、1
−クロロ−2,2−ジフルオロプロパン(R−262c
a)、2,2−ジフルオロプロパン(R−272ca)
があげられ、これらは通常の蒸留等の操作により分離す
ることができる。
[実施例コ 以下に本発明の実施例を示す。
調製例、1 ヤシガラ成形炭を純水中に塩酸を1重量%加え可1を調
整した液に浸漬し細孔内部まで液を含浸させた。これに
塩化パラジウムを活性炭の重量に対し金属成分の全重量
で0.5%だけ溶解した水溶液を少しずつ滴下しイオン
成分を活性炭に吸着させた。これにヒドラジン水溶液を
投入し急速に還元した。純水を用いて洗浄した後、それ
を150℃で5時間乾燥した。
調製例 2 ヤシガラ破砕炭を純水中に浸漬し細孔内部まで水を含浸
させた。これに塩イヒ白金酸を活性炭の重量に対し金属
成分の全重量で0.5%だけ溶解した水溶、液を少しず
つ滴下しイオン成分を活性炭に吸着させた。純水を用い
て洗浄した後、それを150℃で5時間乾燥した0次に
窒素中550℃で4時間乾燥した後、水素を導入し、5
時間、250℃に保持して還元した。
実施例 1 調製例1と同様にして調製したパラジウム触媒を400
cc充填した内径2654 c m、長さ100cmの
インコネル600製反応管を塩浴炉中に浸漬した。
水素と出発物質2,2−ジフルオロペンタクロロプロパ
ンを3= 1のモル比でガス化して反応管に導入した。
反応温度は200℃、接触時間は20秒であった0反応
生成物は酸分を除去した後−78℃に冷却したトラップ
に捕集した。捕集した反応生成物をガスクロマトグラフ
ィーおよびNMRを用いて分析しな、その結果を表1に
示す。
2.2.−ジフルオロペンタクロロプロパンの水素化反
応を行い反応生成物の分析を行なった。その結果を表1
に示す。
表1 実施例 2〜3 触媒成分を変える他は調製例2と同様にして調製した表
1に示す水素化触媒、表1に示す反応条件をそれぞれ用
いる以外は実施例1と同様にして、実施例 4〜6 触媒成分を変え、還元温度を280℃とする他は調製例
2と同様にして調製した表2に示す水素化触媒、表2に
示す反応条件をそれぞれを用いる以外は実施例1と同様
にして、 2,2.−ジフルオロペンタクロロプロパン
の水素化反応を行い反応生成物の分析を行なった。その
結果を表2に示す。
表2 実施例 7〜8 触媒成分を変え、還元温度を300℃とする他は調製例
2と同様にして調製した表3に示す水素化触媒、表3に
示す反応条件を用いる以外は実施例1と同様にして、 
2.2.−ジフルオロペンタクロロプロパンの水素化反
応を行い反応生成物の分析を行なった。その結果を表3
に示す。
表3 実施例 9〜11 触媒成分を変える他は調製例1と同様にして調製した表
4に示す水素化触媒、表4に示す反応条件を用いる以外
は実施例1と同様にして、2,2−ジフルオロへキサク
ロロプロパンの水素化反応を行い反応生成物の分析を行
なった。その結果を表4に示す。
実施例 12〜14 触媒成分を変え還元温度を280”Cとする他は調製例
2と同様にして調製した表5に示す水素化触媒、表5に
示す反応条件を用いる以外は実施例1と同様にして、2
,2−ジフルオロへキサクロロプロパンの水素化反応を
行い反応生成物の分析を行なった。その結果を表5に示
す。
表4 表5 実施例 15〜16 触媒成分を表6の組成とし還元温度を300℃とする他
は調製例2と同様にして調製した水素化触媒、表6に示
す反応条件を用いる以外は実施例1と同様にして、2,
2−ジフルオロへキサクロロプロパンの水素化反応を行
い反応生成物の分析を行なった。その結果を表6に示す
表6 実施例17 出発物質として1.1.1.3−テトラクロロ−2,2
−ジフルオロプロパンを用い、表7に示す反応条件を用
いる以外は実施例1と同様にして反応を行ない反応生成
物の分析を行なった。その結果を表7に示す。
実施例18 出発物質として1.1.3.3−テトラクロロ−2,2
−ジフルオロプロパンを用い、表7に示す反応条件を用
いる以外は実施例1と同様にして反応を行ない反応生成
物の分析を行なった。その結果を表7に示す。
実施例19 出発物質として1.1.1− )ジクロロ−2,2−ジ
フルオロプロパンを用い、表7に示す反応条件を用いる
以外は実施例1と同様にして反応を行ない反応生成物の
分析を行なった。その結果を表7に示す。
表7 実施例21 出発物質として1,1−ジクロロ−2,2−ジフルオロ
プロパンを用い、表8に示す反応条件を用いる以外は実
施例1と同様にして反応を行ない反応生成物の分析を行
なった。その結果を表8に示す。
表8 実施例20 出発物質として1.1.3−トリクロロ−2,2−ジフ
ルオロプロパンを用い、表8に示す反応条件を用いる以
外は実施例1と同様にして反応を行ない反応生成物の分
析を行なった。その結果を表8に示す。
実施例22 出発物質として 1.3−ジクロロ−2,2−ジフルオ
ロプロパンを用い、表9に示す反応条件を用いる以外は
実施例1と同様にして反応を行ない反応生成物の分析を
行なった。その結果を表9に示す。
実施例23 出発物質として 1−クロロ−2,2−ジフルオロプロ
パンを用い、表9に示す反応条件を用いる以外は実施例
1と同様にして反応を行ない反応生成物の分析を行なっ
た。その結果を表9に示す。
表9 実施例24 水素化触媒として実施例2と同様にして調製した白金触
媒を、出発物質として1.1.1.3−テトラクロロ−
2,2−ジフルオロプロパンをそれぞれ用い、表10に
示す反応条件を用いる以外は実施例1と同様にして反応
を行ない反応生成物の分析を行なった。その結果を表1
0に示す。
実施例25 水素化触媒として実施例2と同様にして調製した白金触
媒を、出発物質として1.1.3.3−テトラクロロ−
2,2−ジフルオロプロパンをそれぞれ用い、表10に
示す反応条件を用いる以外は実施例1ど同様にして反応
を行ない反応生成物の分析を行なった。その結果を表1
0に示す。
実施例26 水素化触媒として実施例2と同様にして調製した白金触
媒を、出発物質として1.1.1−トリクロロ−2,2
−ジフルオロプロパンをそれぞれ用い、表10に示ず反
応条件を用いる以外は実施例1と同様にして反応を行な
い反応生成物の分析を行なった。
その結果を表10に示す。
表10 実施例27 水素化触媒として実施例2と同様にして調製した白金触
媒を、出発物質として1.1.3−)リクロロー2,2
−ジフルオロプロパンをそれぞれ用い、表11に示す反
応条件を用いる以外は実施例1と同様にして反応を行な
い反応生成物の分析を行なった。
その結果を表11に示す。
実施例28 水素化触媒として実施例2と同様にして調製した白金触
媒を、出発物質として1.1−ジクロロ−2゜2−ジフ
ルオロプロパンをそれぞれ用い、表11に示す反応条件
を用いる以外は実施例1と同様にして反応を行ない反応
生成物の分析を行なった。その結果を表11に示す。
表11 実施例29 水素化触媒として実施例2と同様にして調製した白金触
媒を、出発物質として1.3−ジクロロ−2゜2−ジフ
ルオロプロパンをそれぞれ用い、表12に示す反応条件
を用いる以外は実施例1と同様にして反応を行ない反応
生成物の分析を行なった。その結果を表12に示す。
実施例30 水素化触媒として実施例2と同様にして調製した白金触
媒を、出発物質として1−クロロ−2,2−ジフルオロ
プロパンをそれぞれ用い、表12に示す反応条件を用い
る以外は実施例1と同様にして反応を行ない反応生成物
の分析を行なった。その結果を表12に示す。
表12 実施例31 1Qの5US316製オートクレーブに、750gの2
,2−ジフルオロペンタクロロプロパン、および還元触
媒として担持量を5重量%とし活性炭粉末を単体とする
他は調製例2と同様にして調製した白金触媒を7.5g
仕込んだ、なお、オートクレーブのフランジ上部には冷
却器を、冷却器の上部にバルブをそれぞれ取り付けて開
放系に出来るようにした。冷却器の冷媒の温度は、−2
0℃とした。
オートクレーブの内部を窒素で十分に置換した後、攪拌
下で65℃まで昇温しな。次に内圧が2kg/cm2と
なるまで水素を吹き込んだ、その後は内圧が常に2kg
/cm2どなるような一定の流量で水素を導入し、温度
は常に60℃付近となるようにしな、この時の水素流量
は、560d/分であった。冷却器で凝縮しきれなかっ
た反応ガスは水中を通過させることにより塩化水素を除
去した後、ドライアイスで冷却したトラップを通過させ
、凝縮分を捕集I−な。
この状態で攪拌下120時間反応させた後、反応液を取
り出し、触媒をr別した。P液と、ドライアイスで冷却
したトラップ中に溜った凝縮分との混合液をガスクロマ
トグラフィーで分析した。
その結果を表13に示す。
表13 [発明の効果] 本発明は、ジフルオロメチレン基を有する ジフルオロ
プロパン類を原料として水素化触媒の存在下で水素と反
応させることにより選択的に含水素ジフルオロプロパン
類及び含水素フルオロプロパン類を製造し得るという効
果を有する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン
    類(C_3H_mCl_6_−_mF_2;0≦m≦5
    )を水素化触媒の存在下で水素と反応させることを特徴
    とする含水素ジフルオロプロパン類(C_3H_nCl
    _6_−_nF_2;1≦n≦6)の製造法。 2、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン
    類が1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ−2,2−
    ジフルオロプロパンである請求項1に記載の製造法。 3、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン
    類が1,1,1,3,3−ペンタクロロ−2,2−ジフ
    ルオロプロパンである請求項1に記載の製造法。 4、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン
    類が1,1,3,3−テトラクロロ−2,2−ジフルオ
    ロプロパンである請求項1に記載の製造法。 5、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン
    類が1,1,1,3−テトラクロロ−2,2−ジフルオ
    ロプロパンである請求項1に記載の製造法。 6、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン
    類が1,1,3−トリクロロ−2,2−ジフルオロプロ
    パンである請求項1に記載の製造法。 7、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン
    類が1,1,1−トリクロロ−2,2−ジフルオロプロ
    パンである請求項1に記載の製造法。 8、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン
    類が1,3−ジクロロ−2,2−ジフルオロプロパンで
    ある請求項1に記載の製造法。 9、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパン
    類が1,1−ジクロロ−2,2−ジフルオロプロパンで
    ある請求項1に記載の製造法。 10、ジフルオロメチレン基を有するジフルオロプロパ
    ン類が1−クロロ−2,2−ジフルオロプロパンである
    請求項1に記載の製造法。
JP1022624A 1989-02-02 1989-02-02 含水素ジフルオロプロパン類の製造法 Pending JPH02204435A (ja)

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EP93112758A EP0580181A1 (en) 1989-02-02 1990-02-01 Process for producing a hydrogen-containing 2,2-difluoropropane
DE69019090T DE69019090T2 (de) 1989-02-02 1990-02-01 Verfahren zur herstellung eines wasserstoff enthaltenden 2,2-difluorpropans.
CA002026568A CA2026568C (en) 1989-02-02 1990-02-01 Process for producing a hydrogen-containing 2,2-difluoropropane
PCT/JP1990/000122 WO1990008753A1 (en) 1989-02-02 1990-02-01 Process for producing a hydrogen-containing 2,2-difluoropropane
EP90902677A EP0416113B1 (en) 1989-02-02 1990-02-01 Process for producing a hydrogen-containing 2,2-difluoropropane
US08/272,622 US5545777A (en) 1989-02-02 1994-07-11 Process for producing a hydrogen-containing 2,2-difluoropropane

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993009081A1 (en) * 1991-11-01 1993-05-13 Daikin Industries, Ltd. Process for producing 1,1,1,2,2,4,4,4-octafluorobutane

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993009081A1 (en) * 1991-11-01 1993-05-13 Daikin Industries, Ltd. Process for producing 1,1,1,2,2,4,4,4-octafluorobutane

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