JPH02198720A - 放電加工装置 - Google Patents
放電加工装置Info
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- JPH02198720A JPH02198720A JP63298060A JP29806088A JPH02198720A JP H02198720 A JPH02198720 A JP H02198720A JP 63298060 A JP63298060 A JP 63298060A JP 29806088 A JP29806088 A JP 29806088A JP H02198720 A JPH02198720 A JP H02198720A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は放電加工装置、特に放電加工中に発、生ずる
電磁波による電波障害の防止に関するものである。
電磁波による電波障害の防止に関するものである。
［従来の技術］
第３図は従来の放電加工装置を示す断面図である。この
従来例の関連技術として、特開昭５８−１５３００号公
報に示されるものがある。図において、（１）は加工槽
、（２）は加工槽（１）の底部に設置された加工用定盤
、（３）は加工用定盤（２）に載置された被加工物、（
４）は被加工物（３）の上方に配設された加工用電極（
以下、「電極」と称す）、（５）は加工槽（１）内に貯
溜された加工液、（６）は加工槽（１）外に設けられた
加工用電源装置、（７）は加工用電源装置（８）と加工
槽（１）及び電極（４）との間を接続している給電用フ
ィーダ線、（８）は加工槽（１）と加工用電源装置（８
）とを収納するシールドルームで、大地と接地されてい
る。
従来例の関連技術として、特開昭５８−１５３００号公
報に示されるものがある。図において、（１）は加工槽
、（２）は加工槽（１）の底部に設置された加工用定盤
、（３）は加工用定盤（２）に載置された被加工物、（
４）は被加工物（３）の上方に配設された加工用電極（
以下、「電極」と称す）、（５）は加工槽（１）内に貯
溜された加工液、（６）は加工槽（１）外に設けられた
加工用電源装置、（７）は加工用電源装置（８）と加工
槽（１）及び電極（４）との間を接続している給電用フ
ィーダ線、（８）は加工槽（１）と加工用電源装置（８
）とを収納するシールドルームで、大地と接地されてい
る。
従来の放電加工装置は上記のように構成され、例えば被
加工物（３）と電極（４）を加工液（５）中に微少ギャ
ップをあけて配置し、電極（４）と被加工物（３）の間
に加工用電源装置（６）より給電用フィーダ線（７）を
介してパルス電圧を印加する。そうすると、印加された
パルス電圧により、電極（４）と被加工物（３）とのギ
ャップ間に放電が生じ、給電用フィーダ線（７）、電極
（４）、被加工物（３）、給電用フィーダ線（７）の経
路で加工電流が流れ、放電加工が行われる。この火発放
電の発生の際やパルス電圧の立上りや立下りの際に、電
極（４）と被加工物（３）間のギャップや給電用フィー
ダ線（７）より周囲の空間に電磁波が放射される。この
電磁波は放電加工装置の周辺に他のＮＣ工作機械やテレ
ビ・ラジオ等の受信装置があると、そのＮＣ工作機械に
誤動作を生じさせ、その受信装置にノイズを生じさせる
等電波障害の原因となるものである。しかし、電極（４
）、被加工物（３）を有する加工槽（１）と加工用電源
装置（８）はシールドルーム（８）内に収納されている
から、電極（４）と被加工物（３）間のギャップ等から
放射される電磁波は、シールドルーム（８）によって遮
蔽され、外部に放射されない。従って、これらの電磁波
による電波障害は防止される。
加工物（３）と電極（４）を加工液（５）中に微少ギャ
ップをあけて配置し、電極（４）と被加工物（３）の間
に加工用電源装置（６）より給電用フィーダ線（７）を
介してパルス電圧を印加する。そうすると、印加された
パルス電圧により、電極（４）と被加工物（３）とのギ
ャップ間に放電が生じ、給電用フィーダ線（７）、電極
（４）、被加工物（３）、給電用フィーダ線（７）の経
路で加工電流が流れ、放電加工が行われる。この火発放
電の発生の際やパルス電圧の立上りや立下りの際に、電
極（４）と被加工物（３）間のギャップや給電用フィー
ダ線（７）より周囲の空間に電磁波が放射される。この
電磁波は放電加工装置の周辺に他のＮＣ工作機械やテレ
ビ・ラジオ等の受信装置があると、そのＮＣ工作機械に
誤動作を生じさせ、その受信装置にノイズを生じさせる
等電波障害の原因となるものである。しかし、電極（４
）、被加工物（３）を有する加工槽（１）と加工用電源
装置（８）はシールドルーム（８）内に収納されている
から、電極（４）と被加工物（３）間のギャップ等から
放射される電磁波は、シールドルーム（８）によって遮
蔽され、外部に放射されない。従って、これらの電磁波
による電波障害は防止される。
第４図は従来の別の放電加工装置を示す断面図である。
この従来例の関連技術として特開昭５４−６９３０１号
、５４−６９３０２号、及び６１−２９３７２２号公報
に示されるものがある。図において、第３図に示す従来
例と同一の構成は、同一符号を付して重複した構成の説
明を省略する。（９）は電極（４）を駆動する電極サー
ボ軸、（ｌＯ）は加工槽（１）の上部を覆う導電性を有
するカバーで、電極サーボ軸（９）を貫通させている。
、５４−６９３０２号、及び６１−２９３７２２号公報
に示されるものがある。図において、第３図に示す従来
例と同一の構成は、同一符号を付して重複した構成の説
明を省略する。（９）は電極（４）を駆動する電極サー
ボ軸、（ｌＯ）は加工槽（１）の上部を覆う導電性を有
するカバーで、電極サーボ軸（９）を貫通させている。
この従来例では、電極（４）と被加工物（３）間のギャ
ップから放射される電磁波を加工槽（１）の上部を覆っ
ている導電性のカバー（ｌＯ）によって遮蔽し、加工槽
（１）外に放射されないようにして電磁波による電波障
害を防止している。
ップから放射される電磁波を加工槽（１）の上部を覆っ
ている導電性のカバー（ｌＯ）によって遮蔽し、加工槽
（１）外に放射されないようにして電磁波による電波障
害を防止している。
［発明が解決しようとする課題］
上記のような従来の放電加工装置では、加工槽（１）と
加工用電源装置（８）をシールドルーム（８）内に収納
するようにしているから、シールドルーム（８）の設置
スペースを確保しなければならず、しかも専門の作業者
による設置作業を行わなければならないために放電加工
装置が高価なものとなるという問題点があった。
加工用電源装置（８）をシールドルーム（８）内に収納
するようにしているから、シールドルーム（８）の設置
スペースを確保しなければならず、しかも専門の作業者
による設置作業を行わなければならないために放電加工
装置が高価なものとなるという問題点があった。
また、従来の別の放電加工装置では、加工槽（１）の上
部を電極（４）を有する電極サーボ軸（９）を貫通させ
た導電性のカバー（ｌＯ）で覆うようにしているから、
電極サーボ軸（９）がその軸線と直交する方向に移動し
て加工を行う際にカバー（ｌＯ）によってその移動範囲
に制約を受けるという問題点があった。また、カバー（
ｌＯ）に電磁波を遮蔽するシールド効果をもたせるため
に、カバー（１０）自体が常に加工槽（１）と同電位即
ちアース電位となるような構造をとる必要があり、更に
、カバー（１ｏ）に開閉を行わせるために設けられた開
閉部からの電磁洩れを防ぐ構造も必要となり、そのため
カバーの構造が複雑化する等の問題点があった。
部を電極（４）を有する電極サーボ軸（９）を貫通させ
た導電性のカバー（ｌＯ）で覆うようにしているから、
電極サーボ軸（９）がその軸線と直交する方向に移動し
て加工を行う際にカバー（ｌＯ）によってその移動範囲
に制約を受けるという問題点があった。また、カバー（
ｌＯ）に電磁波を遮蔽するシールド効果をもたせるため
に、カバー（１０）自体が常に加工槽（１）と同電位即
ちアース電位となるような構造をとる必要があり、更に
、カバー（１ｏ）に開閉を行わせるために設けられた開
閉部からの電磁洩れを防ぐ構造も必要となり、そのため
カバーの構造が複雑化する等の問題点があった。
この発明はかかる問題点を解決するためになされたもの
で、放電加工により発生する電磁波を加工槽内で遮蔽し
て電波障害を防止しうる簡単な構成で安価な放電加工装
置を得ることを目的とする。
で、放電加工により発生する電磁波を加工槽内で遮蔽し
て電波障害を防止しうる簡単な構成で安価な放電加工装
置を得ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］
この発明に係る放電加工装置は、加工用電極及び被加工
物が設置される加工槽を透磁率のよい磁性体で形成し、
加工槽内に貯溜された加工液に少なくとも表面が透磁率
のよい磁性体で形成されたシールド用浮遊物体をシール
ド用浮遊物体同士及びシールド用浮遊物体と加工槽の側
板が接触状態で液面全体を覆うように多数浮遊させるよ
うにしたものである。
物が設置される加工槽を透磁率のよい磁性体で形成し、
加工槽内に貯溜された加工液に少なくとも表面が透磁率
のよい磁性体で形成されたシールド用浮遊物体をシール
ド用浮遊物体同士及びシールド用浮遊物体と加工槽の側
板が接触状態で液面全体を覆うように多数浮遊させるよ
うにしたものである。
また、もう一つのこの発明に係る放電加工装置は、加工
槽の内壁面側で加工液の液面位置に設けられ、表面が加
工槽と同電位とされる複数の電磁石と、電磁石の磁力の
オン・オフ及び強弱を制御する電磁石制御装置と、加工
槽内の加工液に浮遊させられ液面全体を覆う導電性及び
強磁性を有する多数のシールド用浮遊物体とを備えるよ
うに構成したものである。
槽の内壁面側で加工液の液面位置に設けられ、表面が加
工槽と同電位とされる複数の電磁石と、電磁石の磁力の
オン・オフ及び強弱を制御する電磁石制御装置と、加工
槽内の加工液に浮遊させられ液面全体を覆う導電性及び
強磁性を有する多数のシールド用浮遊物体とを備えるよ
うに構成したものである。
［作 用］
この発明においては、透磁率のよい磁性体で形成された
加工槽内の加工液に少なくとも表面が透磁率のよい磁性
体で形成されたシールド用浮遊物体をシールド用浮遊物
体同士及びシールド用浮遊物体と加工槽の側板が接触状
態で液面全体を覆うように多数浮遊させているから、加
工槽の内部は加工槽及び加工槽と接触すると共に互いに
接触するシールド用浮遊物体によって磁気シールドされ
る。従って、放電加工時に電極と被加工物のギャップか
ら放射された電磁波はその磁気シールドに吸収されるこ
とによって遮蔽され、加工槽外への電磁波の放射が防止
される。
加工槽内の加工液に少なくとも表面が透磁率のよい磁性
体で形成されたシールド用浮遊物体をシールド用浮遊物
体同士及びシールド用浮遊物体と加工槽の側板が接触状
態で液面全体を覆うように多数浮遊させているから、加
工槽の内部は加工槽及び加工槽と接触すると共に互いに
接触するシールド用浮遊物体によって磁気シールドされ
る。従って、放電加工時に電極と被加工物のギャップか
ら放射された電磁波はその磁気シールドに吸収されるこ
とによって遮蔽され、加工槽外への電磁波の放射が防止
される。
また、もう一つのこの発明においては、加工槽内の加工
液に導電性及び強磁性を有する多数のシールド用浮遊物
体を液面全体を覆うように浮遊させ、放電加工時に加工
槽の内壁面側で加工液の液面位置に設けられ、表面が加
工槽と同電位とされる複数の電磁石から電磁石制御装置
によって弱い磁力を出力させてその周囲に弱い磁界を発
生させる。そうすると、その磁界によって、加工液の液
面全体を覆うように浮遊している、多数のシールド用浮
遊物体は励磁されて互いに接触し、加工槽、電磁石、多
数シールド用浮遊物体が同電位となり、加工槽の内部は
加工槽及び多数のシールド用浮遊物体によって電磁シー
ルドされる。従って、放電加工時に電極と被加工物のギ
ャップから放射された電磁波はその電磁シールドによっ
て遮蔽され、加工槽外への放射が防止される。
液に導電性及び強磁性を有する多数のシールド用浮遊物
体を液面全体を覆うように浮遊させ、放電加工時に加工
槽の内壁面側で加工液の液面位置に設けられ、表面が加
工槽と同電位とされる複数の電磁石から電磁石制御装置
によって弱い磁力を出力させてその周囲に弱い磁界を発
生させる。そうすると、その磁界によって、加工液の液
面全体を覆うように浮遊している、多数のシールド用浮
遊物体は励磁されて互いに接触し、加工槽、電磁石、多
数シールド用浮遊物体が同電位となり、加工槽の内部は
加工槽及び多数のシールド用浮遊物体によって電磁シー
ルドされる。従って、放電加工時に電極と被加工物のギ
ャップから放射された電磁波はその電磁シールドによっ
て遮蔽され、加工槽外への放射が防止される。
［実施例］
第１図はこの発明の一実施例を示す断面図、第２図は放
電加工装置のシールド不要時の状態を示す断面図である
。図において、従来例と同一の構成は同一符号を付して
重複した構成の説明を省略する。（１）は透磁率のよい
磁性体で形成された加工槽、（５）は絶縁性を有する加
工液、（１１）は一端を加工槽（１）と接続し、加工槽
（１）と加工用電源装置（６）との間の給電用フィーダ
線（７）をシールドしているフィーダ用シールド、（１
２）はフィーダ用シールド（１１）の加工槽（１）側に
おけるフィーダ線導入口をシールするバッキング、（１
３）は電極（４）と電極サーボ軸（９）とを接続する絶
縁物で構成された電極シャンク、（１４）は透磁率のよ
い磁性体で形成された強磁性を有する直径が４〜５ｍ−
程度のシールド用浮遊物体であるフェライトビーズで、
浮力を有するように内部が中空に形成されている。（１
５）は加工槽（１）の底部に設けられた排液口である。
電加工装置のシールド不要時の状態を示す断面図である
。図において、従来例と同一の構成は同一符号を付して
重複した構成の説明を省略する。（１）は透磁率のよい
磁性体で形成された加工槽、（５）は絶縁性を有する加
工液、（１１）は一端を加工槽（１）と接続し、加工槽
（１）と加工用電源装置（６）との間の給電用フィーダ
線（７）をシールドしているフィーダ用シールド、（１
２）はフィーダ用シールド（１１）の加工槽（１）側に
おけるフィーダ線導入口をシールするバッキング、（１
３）は電極（４）と電極サーボ軸（９）とを接続する絶
縁物で構成された電極シャンク、（１４）は透磁率のよ
い磁性体で形成された強磁性を有する直径が４〜５ｍ−
程度のシールド用浮遊物体であるフェライトビーズで、
浮力を有するように内部が中空に形成されている。（１
５）は加工槽（１）の底部に設けられた排液口である。
次に、上記実施例の動作を第１図を参照しながら説明す
る。
る。
まず、電極（１）と被加工物（３）を加工液（５）中に
て微少ギャップをあけて対向させて配置する。
て微少ギャップをあけて対向させて配置する。
しかる後、加工液（５）に多数のフェライトビーズ（１
４）をフェライトビーズ（１４）同士及びフェライトビ
ーズ（１４）と加工槽（１）の側板が接触状態で液面全
体を覆うように浮遊させる。そうすると、多数のフェラ
イトビーズ（１４）は第１図に示すように加工液（５）
の液面とその周囲空間を遮蔽する。このとき、加工液（
５）の液面の周囲空間を遮蔽している互いに接触状態の
多数のフェライトビーズ（１４）は加工槽（１）と磁気
的に接続され、加工槽（１）とで閉回路の磁気回路を形
成し、加工槽（１）の内部は磁気シールドされた状態と
なる。
４）をフェライトビーズ（１４）同士及びフェライトビ
ーズ（１４）と加工槽（１）の側板が接触状態で液面全
体を覆うように浮遊させる。そうすると、多数のフェラ
イトビーズ（１４）は第１図に示すように加工液（５）
の液面とその周囲空間を遮蔽する。このとき、加工液（
５）の液面の周囲空間を遮蔽している互いに接触状態の
多数のフェライトビーズ（１４）は加工槽（１）と磁気
的に接続され、加工槽（１）とで閉回路の磁気回路を形
成し、加工槽（１）の内部は磁気シールドされた状態と
なる。
一方、電極（４）と加工定盤（２）を介した被加工物（
３）に接続されている給電用フィーダ１！ （７）のう
ち加工用電源（６）と加工槽（１）との間の外部に露出
する部分は一端が加工槽（１）と接続されているフィー
ダ用シールド（１１）によりシールドされている。
３）に接続されている給電用フィーダ１！ （７）のう
ち加工用電源（６）と加工槽（１）との間の外部に露出
する部分は一端が加工槽（１）と接続されているフィー
ダ用シールド（１１）によりシールドされている。
そして、電極（４）と被加工物（３）とに給電用フィー
ダ（７）を介して加工用電源装置（６）よりパルス電圧
が印加されると、このパルス電圧により、電極（４）と
被加工物（３）とのギャップ間に火花放電が生じ、給電
用フィーダ線（７）、電極（４）、ギャップ、被加工物
（３）、給電用フィーダ線（７）の経路で、加工電流が
流れ放電加工が行われる。この放電加工中に電極（４）
と被加工物（３）とのギャップ及び給電用フィーダ線（
７）より電磁波が放射される。この電磁波は加工槽（１
）、多数のフェライトビーズ（Ｉ４）及びフィーダ用シ
ールド（１１）により形成された磁気シールドによって
遮蔽され、磁気シールドで吸収される。このため、加工
槽（１）の外部空間には不要な電磁波の放射が押さえら
れる。シールド用浮遊物体としてフェライトビーズ（１
４）が用いられるのは、フェライトが強磁性を有し、磁
気シールド材として一番シールド効果が良好だからであ
る。
ダ（７）を介して加工用電源装置（６）よりパルス電圧
が印加されると、このパルス電圧により、電極（４）と
被加工物（３）とのギャップ間に火花放電が生じ、給電
用フィーダ線（７）、電極（４）、ギャップ、被加工物
（３）、給電用フィーダ線（７）の経路で、加工電流が
流れ放電加工が行われる。この放電加工中に電極（４）
と被加工物（３）とのギャップ及び給電用フィーダ線（
７）より電磁波が放射される。この電磁波は加工槽（１
）、多数のフェライトビーズ（Ｉ４）及びフィーダ用シ
ールド（１１）により形成された磁気シールドによって
遮蔽され、磁気シールドで吸収される。このため、加工
槽（１）の外部空間には不要な電磁波の放射が押さえら
れる。シールド用浮遊物体としてフェライトビーズ（１
４）が用いられるのは、フェライトが強磁性を有し、磁
気シールド材として一番シールド効果が良好だからであ
る。
また、給電用フィーダ線（７）にのり、加工用電源装置
（８）へ戻る電磁波の外部への放射も加工用電源装置（
６）自身のもつ筐体によるシールドや、絶縁トランス、
フィルタ等によって他の機器に影響しないレベルまで軽
減される。
（８）へ戻る電磁波の外部への放射も加工用電源装置（
６）自身のもつ筐体によるシールドや、絶縁トランス、
フィルタ等によって他の機器に影響しないレベルまで軽
減される。
第２図はこの発明の別の実施例を示す断面図、第３図は
同実施例のシールド不要時の状態を示す断面図である。
同実施例のシールド不要時の状態を示す断面図である。
図において、上記実施例と同一の構成は同一符号を付し
て重複した構成の説明を省略する。（１）は導電性を有
する加工槽、（１６）は表面を導電性の材質で構成し、
内部に表面と絶縁されたコイルと鉄心をもつ電磁石で、
８個の電磁石が加工槽（１）の内壁面で、加工液（５）
の液面位置に等間隔で設けられている。（１７）は電磁
石（１６）の磁力のオン・オフ及び強弱を制御する電磁
石制御装置、（１８）は電磁石（１６）と電磁石制御装
置（１７）とを接続する電磁石制御線である。
て重複した構成の説明を省略する。（１）は導電性を有
する加工槽、（１６）は表面を導電性の材質で構成し、
内部に表面と絶縁されたコイルと鉄心をもつ電磁石で、
８個の電磁石が加工槽（１）の内壁面で、加工液（５）
の液面位置に等間隔で設けられている。（１７）は電磁
石（１６）の磁力のオン・オフ及び強弱を制御する電磁
石制御装置、（１８）は電磁石（１６）と電磁石制御装
置（１７）とを接続する電磁石制御線である。
次に、上記別の実施例の動作を第２図及び第３図を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
まず、電極（１）と被加工物（３）を加工液（５）中に
て微少ギャップをあけて対向させて配置する。
て微少ギャップをあけて対向させて配置する。
しかる後、加工液（５）に多数のフェライトビーズ（１
４）を液面全体を覆うように浮遊させる。次に、電磁石
制御装置（１７）によって、８個の電磁石（１６）から
弱い磁力を出力させてその周囲に弱い磁界を発生させる
。そうすると、多数のフェライトビーズ（１４）はこの
磁界により励磁されて加工槽（１）内の加工液（５）の
液面全体に互い接触した状態で拡散し、第２図に示すよ
うに加工液（５）の液面とそ９周囲空間を遮蔽する。こ
の場合、互いに対向する位置にある電磁石＜１８）、
（ＩＱ）同士の表面側の極性は一方をＮ極とすると、他
方をＳ極としている。
４）を液面全体を覆うように浮遊させる。次に、電磁石
制御装置（１７）によって、８個の電磁石（１６）から
弱い磁力を出力させてその周囲に弱い磁界を発生させる
。そうすると、多数のフェライトビーズ（１４）はこの
磁界により励磁されて加工槽（１）内の加工液（５）の
液面全体に互い接触した状態で拡散し、第２図に示すよ
うに加工液（５）の液面とそ９周囲空間を遮蔽する。こ
の場合、互いに対向する位置にある電磁石＜１８）、
（ＩＱ）同士の表面側の極性は一方をＮ極とすると、他
方をＳ極としている。
また、加工液（５）の液面の周囲空間を遮蔽している互
いに接触状態の多数のフェライトビーズ（１４）は、電
磁石（１Ｂ）の表面を介して加工槽（１）と電気的に接
続され、大地と設置された加工槽（１）と同電位となり
、加工槽（１）の内部は加工槽（１）及び多数のフェラ
イトビーズ（１４）によって電磁シールドされる。
いに接触状態の多数のフェライトビーズ（１４）は、電
磁石（１Ｂ）の表面を介して加工槽（１）と電気的に接
続され、大地と設置された加工槽（１）と同電位となり
、加工槽（１）の内部は加工槽（１）及び多数のフェラ
イトビーズ（１４）によって電磁シールドされる。
そして、電極（４）と被加工物（３）とに給電用フィー
ダ線（７）を介して加工用電源装置（６）よりパルス電
圧が印加されると、このパルス電圧により、電極（４）
と被加工物（３）とのギャップ間に火花放電が生じ、給
電用フィーダ線（７）、電極（４）、ギャップ、被加工
物（３）、給電用フィーダ線（７）の経路で、加工電流
が流れ放電加工が行われる。この放電加工中に電極（４
）と被加工物（３）とのギャップ及び給電用フィーダ線
（７）より電磁波が放射される。この電磁波は加工ｆｆ
１（１）、多数のフェライトビーズ（１４）及びフィー
ダ用シールド（１１）により形成された電磁シールドに
よって遮蔽され、この電磁シールドを介して大地へ落さ
れる。このため、加工槽（１）の外部空間には不要な電
磁波の放射が押えられる。シールド用浮遊物体としてフ
ェライトビーズ（１４）が用いられるのは、フェライト
が導電性と強磁性を有し、電磁シールド材として一番シ
ールド効果が良好だからである。
ダ線（７）を介して加工用電源装置（６）よりパルス電
圧が印加されると、このパルス電圧により、電極（４）
と被加工物（３）とのギャップ間に火花放電が生じ、給
電用フィーダ線（７）、電極（４）、ギャップ、被加工
物（３）、給電用フィーダ線（７）の経路で、加工電流
が流れ放電加工が行われる。この放電加工中に電極（４
）と被加工物（３）とのギャップ及び給電用フィーダ線
（７）より電磁波が放射される。この電磁波は加工ｆｆ
１（１）、多数のフェライトビーズ（１４）及びフィー
ダ用シールド（１１）により形成された電磁シールドに
よって遮蔽され、この電磁シールドを介して大地へ落さ
れる。このため、加工槽（１）の外部空間には不要な電
磁波の放射が押えられる。シールド用浮遊物体としてフ
ェライトビーズ（１４）が用いられるのは、フェライト
が導電性と強磁性を有し、電磁シールド材として一番シ
ールド効果が良好だからである。
次に、放電加工が終了し、加工槽（１）内の電磁シール
ドが不要になった場合、例えば加工液（５）の排出時の
場合には、まず電磁石制御装置（１７）によって電磁石
（Ｉ６）の磁力の出力をオフにし、フェライトビーズ（
１４）の接触を解除する。次に、電磁石制御装置（１７
）によって電磁石（１６）から強い磁力を出力させてそ
の周囲に強い磁界を発生させ、加工液（５）の妓面上を
浮遊しているフェライトビーズ（１４）を第３図に示す
ように全て電磁石（ＩＢ）に吸着させる。従って、加工
液（５）を加工槽（１）の底部の排液口（１５）より外
部に排出することができる。
ドが不要になった場合、例えば加工液（５）の排出時の
場合には、まず電磁石制御装置（１７）によって電磁石
（Ｉ６）の磁力の出力をオフにし、フェライトビーズ（
１４）の接触を解除する。次に、電磁石制御装置（１７
）によって電磁石（１６）から強い磁力を出力させてそ
の周囲に強い磁界を発生させ、加工液（５）の妓面上を
浮遊しているフェライトビーズ（１４）を第３図に示す
ように全て電磁石（ＩＢ）に吸着させる。従って、加工
液（５）を加工槽（１）の底部の排液口（１５）より外
部に排出することができる。
また、加工槽（１）内に再度電磁シールドを設けること
が必要となった場合には、加工槽（１）内の加工液（５
）をその液面が電磁石（１Ｂ）がある位置まで供給し、
しかる後に電磁石制御装置（１７）によって電磁石（１
Ｂ）の出力をオフにし、加工液（５）の液面上にフェラ
イトビーズ（１４）を再度浮遊させ、電磁石（１Ｇ）に
電磁石制御装置（１７）によって弱い磁界を発生させば
前述したのと同様に電磁シールドが形成される。
が必要となった場合には、加工槽（１）内の加工液（５
）をその液面が電磁石（１Ｂ）がある位置まで供給し、
しかる後に電磁石制御装置（１７）によって電磁石（１
Ｂ）の出力をオフにし、加工液（５）の液面上にフェラ
イトビーズ（１４）を再度浮遊させ、電磁石（１Ｇ）に
電磁石制御装置（１７）によって弱い磁界を発生させば
前述したのと同様に電磁シールドが形成される。
上記の第１図及び第２図に示す実施例ではシールド用浮
遊物体として内部を中空にして浮力を持たせたフェライ
トビーズ（１４）を用いてるが２、加工液（５）の液面
に浮かぶものであれば、フェライトで構成されるシール
用浮遊物体を箔状または薄い円盤状にした形状のものを
使用してもよい。また、シールド用浮遊物体をフェライ
トビーズ（１４）の代わりに加工液（５）よりも比重の
小さな物質で微少粒体を形成し、その表面をフェライト
の薄膜でコーティングして構成したものを使用してもよ
いことは勿論である。更に、シールド用浮遊物体が導電
性及び強磁性を有する素材で形成され、加工液（５）の
液面に浮かぶ構造のものであれば、フェライトビーズ（
１４）に限定されることなく、この発明を実施しうろこ
とはいうまでもない。
遊物体として内部を中空にして浮力を持たせたフェライ
トビーズ（１４）を用いてるが２、加工液（５）の液面
に浮かぶものであれば、フェライトで構成されるシール
用浮遊物体を箔状または薄い円盤状にした形状のものを
使用してもよい。また、シールド用浮遊物体をフェライ
トビーズ（１４）の代わりに加工液（５）よりも比重の
小さな物質で微少粒体を形成し、その表面をフェライト
の薄膜でコーティングして構成したものを使用してもよ
いことは勿論である。更に、シールド用浮遊物体が導電
性及び強磁性を有する素材で形成され、加工液（５）の
液面に浮かぶ構造のものであれば、フェライトビーズ（
１４）に限定されることなく、この発明を実施しうろこ
とはいうまでもない。
［発明の効果］
この発明は以上説明したとおり、透磁率のよい磁性体で
形成された加工槽内の加工液に少なくとも表面が透磁率
のよい磁性体で形成されたシールド用浮遊物体をシール
ド用浮遊物体同士及びシールド用浮遊物体と加工槽の側
板が接触状態で液面全体を覆うように多数浮遊させ、加
工槽の内部を加工槽並びに互いに接触するシールド用浮
遊物体によって磁気シールドし、放電加工時に電極と被
加工物のギャップから放射された電磁波をその磁気シー
ルドで吸収して遮蔽するようにしたので、加工槽が従来
のシールドルームを代用することとなり、シールドルー
ムの設置スペースや付帯設備等が省略でき、電波障害の
防止が簡単な構成で安価に実施できるという効果がある
。
形成された加工槽内の加工液に少なくとも表面が透磁率
のよい磁性体で形成されたシールド用浮遊物体をシール
ド用浮遊物体同士及びシールド用浮遊物体と加工槽の側
板が接触状態で液面全体を覆うように多数浮遊させ、加
工槽の内部を加工槽並びに互いに接触するシールド用浮
遊物体によって磁気シールドし、放電加工時に電極と被
加工物のギャップから放射された電磁波をその磁気シー
ルドで吸収して遮蔽するようにしたので、加工槽が従来
のシールドルームを代用することとなり、シールドルー
ムの設置スペースや付帯設備等が省略でき、電波障害の
防止が簡単な構成で安価に実施できるという効果がある
。
また、加工槽の内壁面側で加工液の液面位置に表面が加
工槽と同電位とされる複数の電磁石を設け、加工槽内の
加工液の液面全体を導電性及び強磁性を有する多数のシ
ールド用浮遊物体で覆い、複数の電磁石に電磁石制御装
置によって弱い磁力を出力させて磁界を発生させ、加工
液の液面で互いに接触する多数のシールド用浮遊物体と
これと同電位の加工槽とで加工槽に電磁シールドを形成
し、放電加工時に電極と被加工物とのギャップより放射
される電磁波をその電磁シールドで遮蔽するようにする
ことにより、加工槽が従来のシールドルームを代用する
こととなり、電波障害の防止が簡単な構成で安価に実施
できるという効果がある。
工槽と同電位とされる複数の電磁石を設け、加工槽内の
加工液の液面全体を導電性及び強磁性を有する多数のシ
ールド用浮遊物体で覆い、複数の電磁石に電磁石制御装
置によって弱い磁力を出力させて磁界を発生させ、加工
液の液面で互いに接触する多数のシールド用浮遊物体と
これと同電位の加工槽とで加工槽に電磁シールドを形成
し、放電加工時に電極と被加工物とのギャップより放射
される電磁波をその電磁シールドで遮蔽するようにする
ことにより、加工槽が従来のシールドルームを代用する
こととなり、電波障害の防止が簡単な構成で安価に実施
できるという効果がある。
更に、電磁石制御装置によって加工槽の内壁面側に設け
られている電磁石の磁力を制御することによって加工槽
と多数のシールド用浮遊物とで構成される電磁シールド
の設定・解除が簡単に行えるという効果も有する。
られている電磁石の磁力を制御することによって加工槽
と多数のシールド用浮遊物とで構成される電磁シールド
の設定・解除が簡単に行えるという効果も有する。
第１図はこの発明の一実施例を示す断面図、第２図はこ
の発明の別の実施例を示す断面図、第３図は同実施例の
シールド不要時の状態を示す断面図、第４図は従来の放
電加工装置を示す断面図、第５図は従来の別の放電加工
装置を示す断面図である。 図において、（■）は加工槽、（５）は加工液、（１４
）はフェライトビーズ（シールド用浮遊物体）である。 なお各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 弁理士 佐々木 宗 治 第 図 フェライトピース′（シールドＭｍ＠％）第 図 第 図 第 図 第 図 手続補装置（自発） 平成 ｈ ５月１１日
の発明の別の実施例を示す断面図、第３図は同実施例の
シールド不要時の状態を示す断面図、第４図は従来の放
電加工装置を示す断面図、第５図は従来の別の放電加工
装置を示す断面図である。 図において、（■）は加工槽、（５）は加工液、（１４
）はフェライトビーズ（シールド用浮遊物体）である。 なお各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 弁理士 佐々木 宗 治 第 図 フェライトピース′（シールドＭｍ＠％）第 図 第 図 第 図 第 図 手続補装置（自発） 平成 ｈ ５月１１日
Claims (2)
- （１）加工槽内の加工液中に加工用電極及び被加工物を
設置し、上記加工用電極と被加工物間にパルス電圧を印
加して火花放電を発生させ、被加工物の加工を行う放電
加工装置において、 上記加工槽を透磁率のよい磁性体で形成し、上記加工槽
内の加工液に少なくとも表面が透磁率のよい磁性体で形
成されたシールド用浮遊物体をシールド用浮遊物体同士
及びシールド用浮遊物体と加工槽の側板が接触状態で液
面全体を覆うように多数浮遊させてなることを特徴とす
る放電加工装置。 - （２）加工槽内の加工液中に加工用電極及び被加工物を
設置し、上記加工用電極と被加工物間にパルス電圧を印
加して火花放電を発生させ、被加工物の加工を行う放電
加工装置において、 上記加工槽の内壁面側で加工液の液面位置に設けられ、
表面が上記加工槽と同電位される複数の電磁石と、上記
電磁石の磁力のオン・オフ及び強弱を制御する電磁石制
御装置と、上記加工槽内の加工液に浮遊させられ液面全
体を覆う導電性及び強磁性を有する多数のシールド用浮
遊物体とを備えたことを特徴とする放電加工装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63298060A JPH02198720A (ja) | 1988-10-03 | 1988-11-28 | 放電加工装置 |
| KR1019890012742A KR920007642B1 (ko) | 1988-10-03 | 1989-09-04 | 방전가공장치 |
| US07/416,089 US4952767A (en) | 1988-10-03 | 1989-10-02 | EDM with an electromagnetic shield of hollow ferrite beads floating on dielectric fluid |
| CH3603/89A CH679287A5 (ja) | 1988-10-03 | 1989-10-03 | |
| DE3933005A DE3933005A1 (de) | 1988-10-03 | 1989-10-03 | Mit elektrischer entladung arbeitende bearbeitungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-247338 | 1988-10-03 | ||
| JP24733888 | 1988-10-03 | ||
| JP63298060A JPH02198720A (ja) | 1988-10-03 | 1988-11-28 | 放電加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02198720A true JPH02198720A (ja) | 1990-08-07 |
Family
ID=26538218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63298060A Pending JPH02198720A (ja) | 1988-10-03 | 1988-11-28 | 放電加工装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4952767A (ja) |
| JP (1) | JPH02198720A (ja) |
| KR (1) | KR920007642B1 (ja) |
| CH (1) | CH679287A5 (ja) |
| DE (1) | DE3933005A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005333716A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Olympus Corp | 静電アクチュエータ用エレクトレットフィルムの製造方法 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH684883A5 (fr) * | 1991-05-31 | 1995-01-31 | Charmilles Technologies | Machine thermostable à aspersion pour découper par électroérosion une pièce avec un fil-électrode. |
| US5290987A (en) * | 1992-12-14 | 1994-03-01 | Charmilles Technologies Manufacturing Corporation | Electrical discharge machining apparatus |
| US6638422B1 (en) | 1999-11-03 | 2003-10-28 | Steven H. Schwartzkopf | Liquid filtration apparatus and method embodying filtration particles having specific gravity less than liquid being filtered |
| US7034194B2 (en) | 2001-01-19 | 2006-04-25 | Chevron U.S.A. Inc. | Compositions comprising decamantanes and processes for their separation |
| US7270745B2 (en) * | 2003-08-04 | 2007-09-18 | Schwartzkopf Steven H | Liquid filtration apparatus embodying super-buoyant filtration particles |
| CN102601468B (zh) * | 2012-03-23 | 2014-02-26 | 华南理工大学 | 一种自修复电磁极工具及放电加工方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3009119A (en) * | 1957-09-30 | 1961-11-14 | Raytheon Co | Ferrite circulators |
| DE1565371B1 (de) * | 1966-05-13 | 1970-11-12 | Aeg Elotherm Gmbh | Abschirmung fuer Funkenerosionsmaschinen |
| JPS5469302A (en) * | 1977-11-14 | 1979-06-04 | Mitsubishi Electric Corp | Shielding device for leakage radio waves of electrical discharge machine |
| JPS5469301A (en) * | 1977-11-14 | 1979-06-04 | Mitsubishi Electric Corp | Shielding device for leakage radio waves of electrical discharge machine |
| JPS5815300A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-28 | 三菱電機株式会社 | 電波障害防止用被覆体 |
| JPS5828423A (ja) * | 1981-08-13 | 1983-02-19 | Fanuc Ltd | ワイヤカツト放電加工機 |
| JPS60249392A (ja) * | 1984-05-24 | 1985-12-10 | ティーディーケイ株式会社 | 電磁シ−ルド材料 |
| JPS61293722A (ja) * | 1985-06-20 | 1986-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | ワイヤカツト放電加工装置 |
| US4670347A (en) * | 1986-03-12 | 1987-06-02 | Topflight Corp. | RFI/EMI shielding apparatus |
| US4703133A (en) * | 1986-06-05 | 1987-10-27 | Miller John S | Electromagnetic shield |
| JPS62297032A (ja) * | 1986-06-17 | 1987-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | ワイヤ放電加工装置 |
-
1988
- 1988-11-28 JP JP63298060A patent/JPH02198720A/ja active Pending
-
1989
- 1989-09-04 KR KR1019890012742A patent/KR920007642B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-10-02 US US07/416,089 patent/US4952767A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-03 DE DE3933005A patent/DE3933005A1/de active Granted
- 1989-10-03 CH CH3603/89A patent/CH679287A5/de not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005333716A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Olympus Corp | 静電アクチュエータ用エレクトレットフィルムの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3933005A1 (de) | 1990-04-12 |
| DE3933005C2 (ja) | 1992-04-23 |
| US4952767A (en) | 1990-08-28 |
| KR900006055A (ko) | 1990-05-07 |
| CH679287A5 (ja) | 1992-01-31 |
| KR920007642B1 (ko) | 1992-09-14 |
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