JPH02183A - 光学活性ホスフィン化合物 - Google Patents
光学活性ホスフィン化合物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、オレフィンの接触不斉水素添加のための光学
活性触媒の製造に有用である新規な光学活性ホスフィン
化合物に関する。この新規なホスフィン化合物は新規な
ホスフィン酸化物から製造される。
活性触媒の製造に有用である新規な光学活性ホスフィン
化合物に関する。この新規なホスフィン化合物は新規な
ホスフィン酸化物から製造される。
均質触媒すなわち反応物中に可溶性である触媒は不斉合
成を目的とする方法において特に有用であることが見出
された。たとえば本発明によれば、ラセミ混合物を生成
しうるオレフィンが光学的に活性な均質触媒の存在下で
水素添加される場合には可能な所望の光学対掌体(en
antiomorph )のうちの一方または他方が多
量に得られ、残りのもう一つの光学対掌体は少量でしか
得られないことが見出された。さらに本発明によれば、
たとえばα−アミノ酸の前駆物質のようなある種のオレ
フィン基質は特に均質光学活性触媒による水素添加を受
けやすいことが見出された。かかる方法はカナダ特許第
937,573号明細書に詳しく記載されている。かか
る接触不斉水素添加方法は大量の所望の光学対掌体を製
造させてきた。
成を目的とする方法において特に有用であることが見出
された。たとえば本発明によれば、ラセミ混合物を生成
しうるオレフィンが光学的に活性な均質触媒の存在下で
水素添加される場合には可能な所望の光学対掌体(en
antiomorph )のうちの一方または他方が多
量に得られ、残りのもう一つの光学対掌体は少量でしか
得られないことが見出された。さらに本発明によれば、
たとえばα−アミノ酸の前駆物質のようなある種のオレ
フィン基質は特に均質光学活性触媒による水素添加を受
けやすいことが見出された。かかる方法はカナダ特許第
937,573号明細書に詳しく記載されている。かか
る接触不斉水素添加方法は大量の所望の光学対掌体を製
造させてきた。
代表的な従来技術における触媒は、米国特許第3.84
9,480号、同第4,008,280号、同第4,1
19,652号および同第4,166.824号各明細
書に記載されている。また、これら触媒のうちのいくつ
かは「J。
9,480号、同第4,008,280号、同第4,1
19,652号および同第4,166.824号各明細
書に記載されている。また、これら触媒のうちのいくつ
かは「J。
Amer、 Chem、 Soc、 J第99巻第59
46頁(1977年)に記載のVineyard氏等に
よる論文中にも述べられている。
46頁(1977年)に記載のVineyard氏等に
よる論文中にも述べられている。
従来技術の触媒とは異なって、本発明の触媒は水性媒体
中で使用することができ、しかも効率がよくそして不斉
水素添加を迅速に実施しうる。
中で使用することができ、しかも効率がよくそして不斉
水素添加を迅速に実施しうる。
[効率がよい]および「迅速に実施しうる」という表現
は本明細書では(後記の表工、IIおよびIIIを参照
されたい)75%以上の効率でありそして2〜3時間よ
り多くない時間、好ましくは1時間以下の時間で実施さ
れることを意味するものとして理解されたい。
は本明細書では(後記の表工、IIおよびIIIを参照
されたい)75%以上の効率でありそして2〜3時間よ
り多くない時間、好ましくは1時間以下の時間で実施さ
れることを意味するものとして理解されたい。
本発明は、溶媒の回収および損失の問題を考慮せずに水
中で迅速に実施しうる可能性と共に高い効率をも兼ね備
えている光学活性金属配位錯触媒を製造するのに有用な
新規なホスフィン化合物である。これらの触媒は水性媒
体中と同様にアルコール媒体中でも使用されうる。これ
らの触媒はオレフィン化合物の接触不斉水素添加におい
て有用である。これらの新規なホスフィン化合物は新規
なホスフィン酸化物から製造される。
中で迅速に実施しうる可能性と共に高い効率をも兼ね備
えている光学活性金属配位錯触媒を製造するのに有用な
新規なホスフィン化合物である。これらの触媒は水性媒
体中と同様にアルコール媒体中でも使用されうる。これ
らの触媒はオレフィン化合物の接触不斉水素添加におい
て有用である。これらの新規なホスフィン化合物は新規
なホスフィン酸化物から製造される。
本発明による新規なホスフィン化合物は、式の新規な光
学活性ホスフィン酸化物から製造される。式中、R1は
メチル、N、N−ジメチルアミノまたはモルホリノであ
りそして広範囲のアルキル、アリールまたはジアルキル
アミノ基(そのアルキルおよびアリール基は炭化水素で
あるかまたは有機基あるいは無機基で置換されうる)で
あることができる。しかしながら、R□の範囲はそれが
所要な溶解性または接触過程を妨害しないという条件に
より限定される。鳥は水素、アルキル基またはアリール
基(これらもまた炭化水素であるかあるいは有機基また
は無機基で置換されているかのいずれかでありうる)ま
たは無機基である。−は3位、4位または5位になけれ
ばならない。相容性であると予想されるいくつかの無機
基はCe、 Br、 L Fおよびスルホンである。鳥
の範囲はそれが必要な溶解性または接触過程を妨害しな
いという条件により限定される。
学活性ホスフィン酸化物から製造される。式中、R1は
メチル、N、N−ジメチルアミノまたはモルホリノであ
りそして広範囲のアルキル、アリールまたはジアルキル
アミノ基(そのアルキルおよびアリール基は炭化水素で
あるかまたは有機基あるいは無機基で置換されうる)で
あることができる。しかしながら、R□の範囲はそれが
所要な溶解性または接触過程を妨害しないという条件に
より限定される。鳥は水素、アルキル基またはアリール
基(これらもまた炭化水素であるかあるいは有機基また
は無機基で置換されているかのいずれかでありうる)ま
たは無機基である。−は3位、4位または5位になけれ
ばならない。相容性であると予想されるいくつかの無機
基はCe、 Br、 L Fおよびスルホンである。鳥
の範囲はそれが必要な溶解性または接触過程を妨害しな
いという条件により限定される。
ホスフィン酸化物から製造される新規なホスフィン化合
物は、式 本発明は以下の具体的例の記載からより明確に理解され
よう。
物は、式 本発明は以下の具体的例の記載からより明確に理解され
よう。
本発明を説明する新規なキラール配位子(chiral
ligand )は以下の構造を有する。
ligand )は以下の構造を有する。
これらは対応する新規な光学活性ホスフィン酸化物
(式中、R1および−は前述の定義を有する)で表わさ
れる。
れる。
光学活性金属配位錯触媒の前駆物質はロジウム金属およ
び金属のモル当たり2モルのホスフィン配位子からなる
。これらの配位子は先に記載のものである。
び金属のモル当たり2モルのホスフィン配位子からなる
。これらの配位子は先に記載のものである。
■!
■
から製造される。2個の配位子および1個のロジウムを
組合せることにより表工に示されている触媒が使用され
うるし、あるいはまた以下の構造式%式% (式中、Lはホスフィン配位子でありそしてCODは1
,5−シクロオクタジエンである)を有する固体錯体が
使用されうる。基質(たとえば2−α−アセトアミド桂
皮酸)は遊離酸(A)または水溶性ナトリウム塩(B)
として水素添加されうる。溶媒は純水から50%メタノ
ールそして88%イソプロピルアルコールまで変化しう
る。前記触媒前駆物質はたとえ添加される錯体がイオン
性であったとしても水溶媒中では全く充分に水素添加し
ないであろうことが強調されるべきである。
組合せることにより表工に示されている触媒が使用され
うるし、あるいはまた以下の構造式%式% (式中、Lはホスフィン配位子でありそしてCODは1
,5−シクロオクタジエンである)を有する固体錯体が
使用されうる。基質(たとえば2−α−アセトアミド桂
皮酸)は遊離酸(A)または水溶性ナトリウム塩(B)
として水素添加されうる。溶媒は純水から50%メタノ
ールそして88%イソプロピルアルコールまで変化しう
る。前記触媒前駆物質はたとえ添加される錯体がイオン
性であったとしても水溶媒中では全く充分に水素添加し
ないであろうことが強調されるべきである。
表工
配位子■ロジウム触媒(1)による
2−α−アセトアミド桂皮酸の還元
触媒 l虹l―胤幻J亘 ケ用旦鮪汰−固体 50
5088%IPA/A O,279,7固体
50 50 H20/A O,4(73
)95%実施反応系中 50504%MeOH/B
O,383固体 50 50 H20/B
O,482,5反応系中 05050%MeO
H/B 3.0 91.5固体 0 504%
MeOH/ B 2.0 92.5(1)水素添加は
基質対金属のモル比1000 / 1で実施された 表II 配位子■ロジウム触媒(2)による 2−α−アセトアミド桂皮酸の還元 触媒 l虹Ω 部肱 漁釈J亘 I虹囮 鮪固体
50 5050%MeOH/B O,2B4反
応系中 50 5088%IPA/A O,
178反応系中 50 50 3%MeOH/B
O,486(2)水素添加は基質対金属のモル比
1000 / 1で実施された 表III モルホリノ配位子(3)ロジウム触媒(4)による2−
α−アセトアミド桂皮酸の還元反応系中 MeOH/B 〜2 モルホリノ配位子 5−(0−メトキシフェニル)メチル(モルホリノスル
ホニルメチル)ホスフィン (4) 水素添加は基質対金属のモル比1ooo /
iで実施された 実施例1 水素添加法は以下のとおりである。65m(圧力容器に
1000 g (4,9ミリモル)の2−〇−アセトア
ミド桂皮酸および25mffの溶媒を仕込み、ついで残
留空気を除去するためにパージする。ついでそれを所望
の水素圧および温度にセットする。0.005ミリモル
のロジウムに相当する触媒が(Rh (COD ) C
e )zまたはRh (COD ) AcAc (式中
、CODは1,5−シクロオクタジエンでありそしてA
cAcはCH3COCOCH3である)としての1当量
のロジウム2当量の配位子を加えることにより95%メ
タノール中において調製される。ついでこの触媒を隔膜
を通してバッチに加えそしてガス吸収が止むまで水素添
加を実施する。ee%は一定容量に稀釈しそしてその旋
光度を標準と比較することにより直接測定される。固体
錯体が触媒として使用される場合にはそれはパージの前
に直接加えられる。
5088%IPA/A O,279,7固体
50 50 H20/A O,4(73
)95%実施反応系中 50504%MeOH/B
O,383固体 50 50 H20/B
O,482,5反応系中 05050%MeO
H/B 3.0 91.5固体 0 504%
MeOH/ B 2.0 92.5(1)水素添加は
基質対金属のモル比1000 / 1で実施された 表II 配位子■ロジウム触媒(2)による 2−α−アセトアミド桂皮酸の還元 触媒 l虹Ω 部肱 漁釈J亘 I虹囮 鮪固体
50 5050%MeOH/B O,2B4反
応系中 50 5088%IPA/A O,
178反応系中 50 50 3%MeOH/B
O,486(2)水素添加は基質対金属のモル比
1000 / 1で実施された 表III モルホリノ配位子(3)ロジウム触媒(4)による2−
α−アセトアミド桂皮酸の還元反応系中 MeOH/B 〜2 モルホリノ配位子 5−(0−メトキシフェニル)メチル(モルホリノスル
ホニルメチル)ホスフィン (4) 水素添加は基質対金属のモル比1ooo /
iで実施された 実施例1 水素添加法は以下のとおりである。65m(圧力容器に
1000 g (4,9ミリモル)の2−〇−アセトア
ミド桂皮酸および25mffの溶媒を仕込み、ついで残
留空気を除去するためにパージする。ついでそれを所望
の水素圧および温度にセットする。0.005ミリモル
のロジウムに相当する触媒が(Rh (COD ) C
e )zまたはRh (COD ) AcAc (式中
、CODは1,5−シクロオクタジエンでありそしてA
cAcはCH3COCOCH3である)としての1当量
のロジウム2当量の配位子を加えることにより95%メ
タノール中において調製される。ついでこの触媒を隔膜
を通してバッチに加えそしてガス吸収が止むまで水素添
加を実施する。ee%は一定容量に稀釈しそしてその旋
光度を標準と比較することにより直接測定される。固体
錯体が触媒として使用される場合にはそれはパージの前
に直接加えられる。
新規な化合物は以下のようにして製造される。
CH3
精製されていない
CH3
II
oCH3■
実施例2 (2メトキシフエニル)メチル[(メチルス
ルホニル)メチル]ホスフィンオキシトIII窒素下に
乾燥した500m(容三頚丸底フラスコ中に57%油分
散液として9.7 g (231,5ミリモル)のNa
Hを入れついでヘキサンで数回洗浄して油を除去する。
ルホニル)メチル]ホスフィンオキシトIII窒素下に
乾燥した500m(容三頚丸底フラスコ中に57%油分
散液として9.7 g (231,5ミリモル)のNa
Hを入れついでヘキサンで数回洗浄して油を除去する。
その後200m?のジメチルスルホキシド(DMSO)
(分子篩上に保存された)を加えそして水素の発生が止
むまで(約45分)70〜75°Cで撹拌しながら加熱
する。溶液を室温に加温せしめついで同時に固体として
のメントールエステル(I)(25g、77.2ミリモ
ル)を加えそして4時間50°Cに加熱しついで一夜室
温で撹拌する。
(分子篩上に保存された)を加えそして水素の発生が止
むまで(約45分)70〜75°Cで撹拌しながら加熱
する。溶液を室温に加温せしめついで同時に固体として
のメントールエステル(I)(25g、77.2ミリモ
ル)を加えそして4時間50°Cに加熱しついで一夜室
温で撹拌する。
反応混合物を約2倍量の水で希釈しついでクロロホルム
で数回抽出する。有機抽出物を一緒にし、ついで、減圧
下(約20 mmHg )で濃縮する。その後、水浴で
加熱(約90°C)Lながら高真空下で蒸留することに
より生成されたメントールを除去する。構造式IIに一
致する質量スペクトルおよびnmrを有する黄褐色油状
物の残留物は精製せずに使用される。
で数回抽出する。有機抽出物を一緒にし、ついで、減圧
下(約20 mmHg )で濃縮する。その後、水浴で
加熱(約90°C)Lながら高真空下で蒸留することに
より生成されたメントールを除去する。構造式IIに一
致する質量スペクトルおよびnmrを有する黄褐色油状
物の残留物は精製せずに使用される。
この物質はその油状物を酢酸(300mO中に溶解しそ
して3%KM]1lI04水溶液(1000ml )で
処理することによりスルホンに酸化される。この酸化は
わずかに発熱的であり、数分で終了する。すなわち、A
cOH中におけるスルホキシドの溶液およびKMnO4
溶液は迅速に結合されそして約30分の反応時間である
。生成する暗褐色混合物をMnO2が溶解するまで固体
のメタ重亜硫酸ナトリウムで処理しそしてこの溶液をC
HCe3で抽出(5X250ml)する。抽出物を一緒
にし、これを減圧下で濃縮して白色固体を得、これをト
ルエンまたは水から晶出させて白色結晶を得ることが出
来る。
して3%KM]1lI04水溶液(1000ml )で
処理することによりスルホンに酸化される。この酸化は
わずかに発熱的であり、数分で終了する。すなわち、A
cOH中におけるスルホキシドの溶液およびKMnO4
溶液は迅速に結合されそして約30分の反応時間である
。生成する暗褐色混合物をMnO2が溶解するまで固体
のメタ重亜硫酸ナトリウムで処理しそしてこの溶液をC
HCe3で抽出(5X250ml)する。抽出物を一緒
にし、これを減圧下で濃縮して白色固体を得、これをト
ルエンまたは水から晶出させて白色結晶を得ることが出
来る。
収量は3.6g(19%)であり、融点は172〜17
4°Cである。質量スペクトルは原(ペアレント)イオ
ン262を示す。さらに精製すると融点175〜176
°C1[α]D+ 70.2 (メタノール中C= 0
.8 )の物質が得られる。
4°Cである。質量スペクトルは原(ペアレント)イオ
ン262を示す。さらに精製すると融点175〜176
°C1[α]D+ 70.2 (メタノール中C= 0
.8 )の物質が得られる。
実施例3 (2−メトキシフェニル)メチル[(メチ
ルスルホニル)メチル]ホスフィン■ 窒素下において乾燥した250mff容三頚丸底フラス
コ中にアセトニトリル(75me、分子篩上で乾燥)中
における(III ) (0,87g、3.32ミリモ
ル)の溶液を準備しついで還流加熱する。注射器でSi
2 Ce6 (x、7m(,3当量)を加えついでさら
に15分後に最後の等量(1,7mff、3当量)の5
i2Cで。を加える。この後、反応を1時間継続させつ
いで室温に冷却させる。
ルスルホニル)メチル]ホスフィン■ 窒素下において乾燥した250mff容三頚丸底フラス
コ中にアセトニトリル(75me、分子篩上で乾燥)中
における(III ) (0,87g、3.32ミリモ
ル)の溶液を準備しついで還流加熱する。注射器でSi
2 Ce6 (x、7m(,3当量)を加えついでさら
に15分後に最後の等量(1,7mff、3当量)の5
i2Cで。を加える。この後、反応を1時間継続させつ
いで室温に冷却させる。
窒素下にこの反応混合物を氷冷した25%水性NaOH
の溶液(60m(、窒素でパージされた)に少しずつ加
えそして室温に加温する。この溶液をCHCe3(クロ
ロホルムによる水酸化ナトリウムの抽出は危険であるの
でクロロホルムよりもCH2Ce2を使用するのが好ま
しい)で数回抽出しついで減圧濃縮して白色固体を得、
これをエタノールから晶出させて白色結晶固体を得るこ
とができる。
の溶液(60m(、窒素でパージされた)に少しずつ加
えそして室温に加温する。この溶液をCHCe3(クロ
ロホルムによる水酸化ナトリウムの抽出は危険であるの
でクロロホルムよりもCH2Ce2を使用するのが好ま
しい)で数回抽出しついで減圧濃縮して白色固体を得、
これをエタノールから晶出させて白色結晶固体を得るこ
とができる。
これのnmrは構造式■に一致する。[α]D+ 13
1(無水エタノール中においてC=Q、4)。
1(無水エタノール中においてC=Q、4)。
実施例4 [(N、N−ジメチルアミノスルホニル)
メチル1(2−メトキシ)メチルホスフィンオキシド ■ 窒素下に乾燥した500me容三頚丸底フラスコ中にC
H35o2N (CH3)2(10,43g、0.08
48モル)およびテトラヒドロフラン(THF ) (
100me 、 Naおよびベンゾフェノンから蒸留)
の溶液を準備しそして約10°Cに冷却する。これを1
0°Cで撹拌し、それに温度を15〜20°C(リチウ
ム塩の沈殿が生成する)以下に保持するようにしてn−
ブチルリチウム(50,9me、0.0815モル、ヘ
キサン中において1.6M)を消却する。この溶液を約
15分間15°Cで撹拌する。
メチル1(2−メトキシ)メチルホスフィンオキシド ■ 窒素下に乾燥した500me容三頚丸底フラスコ中にC
H35o2N (CH3)2(10,43g、0.08
48モル)およびテトラヒドロフラン(THF ) (
100me 、 Naおよびベンゾフェノンから蒸留)
の溶液を準備しそして約10°Cに冷却する。これを1
0°Cで撹拌し、それに温度を15〜20°C(リチウ
ム塩の沈殿が生成する)以下に保持するようにしてn−
ブチルリチウム(50,9me、0.0815モル、ヘ
キサン中において1.6M)を消却する。この溶液を約
15分間15°Cで撹拌する。
乾燥THF (50m? )中におけるメントールエス
テル(I)(11,0g、0.034モル)の溶液を1
5°Cにおいて迅速に加えついでその反応混合物を室温
に加温しそして一夜撹拌する。この後、反応器混合物は
透明で淡黄色になる。酢酸エチルでのシリカゲル上薄膜
クロマトグラフィー(TLC)による分析は本質的にす
べての出発物質がなくなったことを示した。
テル(I)(11,0g、0.034モル)の溶液を1
5°Cにおいて迅速に加えついでその反応混合物を室温
に加温しそして一夜撹拌する。この後、反応器混合物は
透明で淡黄色になる。酢酸エチルでのシリカゲル上薄膜
クロマトグラフィー(TLC)による分析は本質的にす
べての出発物質がなくなったことを示した。
この反応混合物を過剰の酢酸(20me)で急冷しつい
で減圧下で濃縮した。残留物をCHCe3(250ml
)中に溶解し、これを少量の水(100me)で洗浄し
た。水性洗液をCHCe3(2X 250 rne )
で抽出しそして有機相を減圧下で濃縮した。黄色ないし
黄褐色の油状物である残留物をシリカゲル及び酢酸エチ
ルを用いて乾燥カラムクロマトグラフィー上で精製して
淡黄褐色固体を得、これを熱トルエン中に溶解しついで
濾過して白色固体(9,1g、76%)を得、これをト
ルエンから晶出させる。この質量スペクトルおよびnm
rは構造式Vに一致する。融点143〜144°C1[
α]D+59.8(メタノール中C=2.6)。
で減圧下で濃縮した。残留物をCHCe3(250ml
)中に溶解し、これを少量の水(100me)で洗浄し
た。水性洗液をCHCe3(2X 250 rne )
で抽出しそして有機相を減圧下で濃縮した。黄色ないし
黄褐色の油状物である残留物をシリカゲル及び酢酸エチ
ルを用いて乾燥カラムクロマトグラフィー上で精製して
淡黄褐色固体を得、これを熱トルエン中に溶解しついで
濾過して白色固体(9,1g、76%)を得、これをト
ルエンから晶出させる。この質量スペクトルおよびnm
rは構造式Vに一致する。融点143〜144°C1[
α]D+59.8(メタノール中C=2.6)。
実施例5 [(N、N−ジメチルスルホニル)メチル
](2−メトキシフェニル)−メチルホスフィン■ 窒素下で乾燥した250mt’容三頚丸底フラスコ中に
アセトニトリル(80mff、分子篩上で乾燥された)
中におけるホスフィンオキシト(V)(1,0g、3.
3ミリモル)の溶液を用意しそして還流加熱する。この
還流溶液に2.0 me(3当量)の5i2Ce6を加
えて反応を15分進行させる。ついでさらに別f) 1
.0 me(1,5当量)の5i2Ce6を加えて30
分間還流加熱を続ける。反応混合物を0°Cに冷却しそ
してこれを少しずつ窒素下においてベンゼン(300m
e 、窒素でパージされた)および25%水性NaOH
(50rne 、N2でパージされた)の水冷混合物に
加える。各層を分離しそしてベンゼン層を水(2X30
me)で洗浄しく再びすべて窒素下でなされる)、初め
の水性NaOH層をCHCe3(クロロホルムによる水
酸化ナトリウム溶液の抽出は危険であるので場合により
クロロホルムよりもCH2Ce2の使用が好ましい)で
洗浄する。有機抽出物を一緒にしそして減圧下で濃縮し
て空気に鋭敏な黄色油状物(約1.0g、はぼ定量的収
率に近い)を得る。
](2−メトキシフェニル)−メチルホスフィン■ 窒素下で乾燥した250mt’容三頚丸底フラスコ中に
アセトニトリル(80mff、分子篩上で乾燥された)
中におけるホスフィンオキシト(V)(1,0g、3.
3ミリモル)の溶液を用意しそして還流加熱する。この
還流溶液に2.0 me(3当量)の5i2Ce6を加
えて反応を15分進行させる。ついでさらに別f) 1
.0 me(1,5当量)の5i2Ce6を加えて30
分間還流加熱を続ける。反応混合物を0°Cに冷却しそ
してこれを少しずつ窒素下においてベンゼン(300m
e 、窒素でパージされた)および25%水性NaOH
(50rne 、N2でパージされた)の水冷混合物に
加える。各層を分離しそしてベンゼン層を水(2X30
me)で洗浄しく再びすべて窒素下でなされる)、初め
の水性NaOH層をCHCe3(クロロホルムによる水
酸化ナトリウム溶液の抽出は危険であるので場合により
クロロホルムよりもCH2Ce2の使用が好ましい)で
洗浄する。有機抽出物を一緒にしそして減圧下で濃縮し
て空気に鋭敏な黄色油状物(約1.0g、はぼ定量的収
率に近い)を得る。
この油状物質はロジウム錯体に変換しそして88%IP
Aから晶出させることにより精製されうる。
Aから晶出させることにより精製されうる。
空気に鋭敏なロジウム錯体は構造式L2RhAcAc
(式中、Lは配位子■でありそしてAcAcはCH3C
OCOCH3である)を有する。この物質は接触水素添
加に使用される。
(式中、Lは配位子■でありそしてAcAcはCH3C
OCOCH3である)を有する。この物質は接触水素添
加に使用される。
実施例6 (S)−(0−メトキシフェニル)メチル
(モルホリノスルホニルメチル)−ホスフィン15°C
において100meの乾燥テトラヒドロフラン(THF
)中におけるモルホリノメチルスルポンアミド(14,
0g、 84.9ミリモル)の溶液にn−ブチルリチウ
ム(ヘキサン中における1、6M溶液50.9 me
。
(モルホリノスルホニルメチル)−ホスフィン15°C
において100meの乾燥テトラヒドロフラン(THF
)中におけるモルホリノメチルスルポンアミド(14,
0g、 84.9ミリモル)の溶液にn−ブチルリチウ
ム(ヘキサン中における1、6M溶液50.9 me
。
81.5ミリモル)を加えた。ついで50m6の乾燥T
HF中における(S) −p−メンチル−O−メトキシ
フェニルメチルホスフィネート(11,0g、 34.
0ミリモル)を15°Cにおいて加えそしてそれを16
時間20〜25°Cに保って透明な黄色溶液を得た。こ
の中間体生成物は酢酸エチルで溶離させることにより乾
燥シリカカラム上で精製した。
HF中における(S) −p−メンチル−O−メトキシ
フェニルメチルホスフィネート(11,0g、 34.
0ミリモル)を15°Cにおいて加えそしてそれを16
時間20〜25°Cに保って透明な黄色溶液を得た。こ
の中間体生成物は酢酸エチルで溶離させることにより乾
燥シリカカラム上で精製した。
CDCe3中における核磁気共鳴(NMR)は31.9
6(d、 3H,J = 14Hz)、3.20〜3.
90 (m 、 8H)、3,55(d、 2H,J
= 14.H2)、3.92 (s 、 3H)および
6.74〜8.11(m 、 4H)であった。この固
体の中間体生成物(2,26g、 6.8ミリモル)を
150meの乾燥アセトニトリル中に溶解しそして70
°Cにおいて6 m(の5i2Ce6を徐々に加えた。
6(d、 3H,J = 14Hz)、3.20〜3.
90 (m 、 8H)、3,55(d、 2H,J
= 14.H2)、3.92 (s 、 3H)および
6.74〜8.11(m 、 4H)であった。この固
体の中間体生成物(2,26g、 6.8ミリモル)を
150meの乾燥アセトニトリル中に溶解しそして70
°Cにおいて6 m(の5i2Ce6を徐々に加えた。
ついでこの混合物を30分間保持し、冷却しそしてこれ
を0〜5°Cにおいて100m1の25%NaOHに加
えた。各層を分離しそしてその水性相をCH2Ce2で
抽出した。溶媒の除去後に1.9gの透明な黄色油状物
が得られた。これをエタノールから晶出させて融点が7
6〜77°Cであり、[α]ら’ + 123.8°C
(CHC1!3中c=o、s)の生成物を得た。質量分
析(MS)および核磁気共鳴(nmr )分析は一致し
た。さらに晶出させても旋光度はよくならなかった。
を0〜5°Cにおいて100m1の25%NaOHに加
えた。各層を分離しそしてその水性相をCH2Ce2で
抽出した。溶媒の除去後に1.9gの透明な黄色油状物
が得られた。これをエタノールから晶出させて融点が7
6〜77°Cであり、[α]ら’ + 123.8°C
(CHC1!3中c=o、s)の生成物を得た。質量分
析(MS)および核磁気共鳴(nmr )分析は一致し
た。さらに晶出させても旋光度はよくならなかった。
本発明は具体的態様について詳記したけれどもこれは単
に説明のためであって、本発明は必ずしもこれに限定さ
れるものではないことを理解されたい。なぜならば本発
明の開示によって当業者にとってその他の態様および操
作技術は自明であろうからである。
に説明のためであって、本発明は必ずしもこれに限定さ
れるものではないことを理解されたい。なぜならば本発
明の開示によって当業者にとってその他の態様および操
作技術は自明であろうからである。
Claims (4)
- (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1はアルキル基またはジアルキルアミノ基
で、R_2は水素である)の光学活性ホスフィン。 - (2)式中R_1がメチルでありそしてR_2が水素で
ある前記特許請求の範囲第1項に記載のホスフィン。 - (3)式中R_1がジメチルアミノでありそしてR_2
が水素である前記特許請求の範囲第1項に記載のホスフ
ィン。 - (4)式中R_1がモルホリノでありそしてR_2が水
素である前記特許請求の範囲第1項に記載のホスフィン
。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/213,272 US4376870A (en) | 1980-12-05 | 1980-12-05 | Optically active phosphine compounds |
US213272 | 1980-12-05 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56194664A Division JPS57120596A (en) | 1980-12-05 | 1981-12-04 | Catalytic asymmetric hydrogenation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02183A true JPH02183A (ja) | 1990-01-05 |
JPH038358B2 JPH038358B2 (ja) | 1991-02-05 |
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Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56194664A Granted JPS57120596A (en) | 1980-12-05 | 1981-12-04 | Catalytic asymmetric hydrogenation |
JP1042032A Granted JPH02190A (ja) | 1980-12-05 | 1989-02-23 | 光学活性ホスフィン化合物 |
JP1042033A Granted JPH02183A (ja) | 1980-12-05 | 1989-02-23 | 光学活性ホスフィン化合物 |
JP2225473A Granted JPH04159288A (ja) | 1980-12-05 | 1990-08-29 | 光学活性ホスフィン化合物 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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- 1981-12-04 CA CA000391533A patent/CA1162542A/en not_active Expired
- 1981-12-04 DE DE19813148098 patent/DE3148098A1/de active Granted
-
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- 1982-08-02 FR FR8213472A patent/FR2510562A1/fr active Granted
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-
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- 1989-02-23 JP JP1042032A patent/JPH02190A/ja active Granted
- 1989-02-23 JP JP1042033A patent/JPH02183A/ja active Granted
-
1990
- 1990-08-29 JP JP2225473A patent/JPH04159288A/ja active Granted
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