JPH02179374A - レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工装置

Info

Publication number
JPH02179374A
JPH02179374A JP63332535A JP33253588A JPH02179374A JP H02179374 A JPH02179374 A JP H02179374A JP 63332535 A JP63332535 A JP 63332535A JP 33253588 A JP33253588 A JP 33253588A JP H02179374 A JPH02179374 A JP H02179374A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
value
reflected
level
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63332535A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2771569B2 (ja
Inventor
Nobuaki Iehisa
信明 家久
Etsuo Yamazaki
悦雄 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fanuc Corp
Original Assignee
Fanuc Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fanuc Corp filed Critical Fanuc Corp
Priority to JP63332535A priority Critical patent/JP2771569B2/ja
Priority to US07/548,988 priority patent/US5059760A/en
Priority to DE89912658T priority patent/DE68912321T2/de
Priority to EP89912658A priority patent/EP0407598B1/en
Priority to PCT/JP1989/001163 priority patent/WO1990007397A1/ja
Priority to CA002004677A priority patent/CA2004677A1/en
Publication of JPH02179374A publication Critical patent/JPH02179374A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2771569B2 publication Critical patent/JP2771569B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/03Observing, e.g. monitoring, the workpiece
    • B23K26/032Observing, e.g. monitoring, the workpiece using optical means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/70Auxiliary operations or equipment
    • B23K26/702Auxiliary equipment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザ光を照射してワークを加工するレーザ加
工装置に関し、特に反射レーザ光による光学部品の損傷
及びワークの加工不良を防止可能なレーザ加工装置に関
する。
〔従来の技術〕
レーザ加工装置はレーザ光を集光レンズ等によってワー
クの一点に照射し、照射した部分の温度を上昇させて加
工を行う。非常に小さいスポットに絞って照射した部分
を蒸発させることによって穴あけ、切断等の加工を行い
、また焦点を僅かにずらすことによってワークを溶融状
態に停めて溶接を行うことができる。したがって、ワー
クの材質の硬度によらず種々の加工が可能である。
一方、銅やアルミニウム等の金属は常温ではレーザ光の
吸収率が低いために、レーザ光の照射を受けた直後にお
いてはその80%以上を反射してしまう。しかし、−旦
加熱されると吸収率が高まり、加工が可能になる。具体
的データの一例を第4図(a)及び(b)に示す。
第4図(a)はレーザ光のワークへの吸収度の変化を示
したグラフである。レーザ光はCotガスレーザ光、ワ
ークはアルミニウムを使用している。40はワークへ照
射された入射レーザ光の特性であり、時刻10から時刻
t2の幅で、レベルPiをピーク値とするパルス波形で
ある。41は反射レーザ光の特性である。反射レーザ光
のレベルは時刻10より入射レーザ光と同レベルでレベ
ルPrまで上昇するが、その後ワークの吸収率が上がる
ため、反射レーザ光のレベルは時刻t1付近で急激に減
少する。
この場合の反射率の変化を第4図(b)に示す。
図において、時刻LO〜t2はそれぞれ第4図(a)の
同じ記号の時刻に相当している。図に示すように、照射
当初の反射率は1に近く、時刻L1で略Oに低下し、レ
ーザ光の照射が終了すると再びlに近づく。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、上述した反射レーザ光は集光レンズ、ペンダ
ミラー等を通って、出力鏡から再び発振器内に帰還され
る。このため、第4図(a)に示した反射レーザ光のピ
ーク値のレベルPrが高い場合には、発振器内のレーザ
パワーの異常上昇によって光学部品を破損させることが
ある。
また、反射レーザ光のしさルが高い状態、すなわち反射
率が高い状態では良好な加工は行えない。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、反
射レーザ光による光学部品の損傷、及びワークの加工不
良を防止するレーザ加工装置を提供することを目的とす
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明では上記課題を解決するために、レーザ光を出力
してワーク表面に照射し、前記ワークを加工するレーザ
加工装置において、前記ワーク表面での反射によってレ
ーザ発振器内に帰還される反射レーザ光のレベルを検出
する反射光検出手段と、前記反射レーザ光のレベルが所
定値以上に上昇した場合に、前記レーザ発振器の動作と
、ワークあるいはノズル部の移動を停止させ、表示装置
にアラームを表示させる異常検出手段と、を有すること
を特徴とするレーザ加工装置が提供される。
〔作用〕
反射光検出手段によって、レーザ発振器内に帰還される
反射レーザ光のレベルをモニタする。異常反射が生じた
場合にはモニタ値が所定値以上に上昇するので、これを
異常検出手段によって検出してレーザ発振器の動作とワ
ーク及びノズルの移動を停止し、同時に表示装置にアラ
ームを表示する。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図面の簡単な説明する。
第1図は本発明の第1の実施例のCO2ガスレーザ発振
器を使用したレーザ加工装置のブロック図である。図に
おいて、プロセッサ1は図示されていない加ニブログラ
ムに基づいて各種の指令を行ってレーザ加工装置全体を
制御する。出力制御回路2はプロセッサlから出力され
た出力指令値を電流指令値に変換して出力し、その内部
にディジタル値をアナログ出力に変換するDAコンバー
タを内蔵している。レーザ用電源3は商用電源を整流し
た後、出力制御回路2からの指令に応じた高周波の電圧
を出力する。
放電管4の内部にはレーザガスが循環しており、レーザ
用電源3から高周波電圧が印加されると、放電を生じて
レーザガスが励起される。リア鏡5は反射率99.5%
のゲルマニウム(Ge)製の鏡、出力鏡6は反射率65
%のジンクセレン(Znse)製の鏡であり、これらは
ファブリベロー型共振器を構成し、励起されたレーザガ
ス分子から放出される10.6μmの光を増幅させて一
部を出力Ia6からレーザ光7として外部に出力する。
レーザ光7はペンダミラー8で方向を変え、集光レンズ
9によって0.2mm以下のスポットに集光されてワー
ク10の表面に照射される。11はワーク10の表面で
反射される反射レーザ光であり、集光レンズ9、ペンダ
ミラー8、出力鏡6を通って再び放電管4内に戻る。
メモリ12は加ニブログラム及びパラメータ等を格納す
るメモリであり、バッテリバックアップされたCMOS
等が使用される。位置制御回路13はプロセッサ1から
出力された位置指令値を解読し、サーボアンプ14を介
してサーボモータ15を回転制御し、ボールスクリュー
16及びナツト17によってテーブル18の移動を制御
し、ワーク10の位置を制御する。表示装置19にはC
RT或いは液晶表示装置等が使用される。
20はリア鏡5から0.5%の透過率で出力されるモニ
タ用レーザ光である。モニタ用レーザ光20の出力レベ
ル、すなわちモニタ値はレーザ光7と反射レーザ光11
とを重畳した値に相当し、これを測定することによって
反射レーザ光11の変動を検出できる。
このモニタ値はパワーセンサ21によって測定される。
パワーセンサ21には熱電あるいは光電変換素子等が用
いられる。パワー尋ンサ21の出力は増幅器22で増幅
及びディジタル変換された後、プロセッサ1に出力され
、後述するしきい値と比較される。
第2図はレーザ出力としきい値に関するグラフである。
図において、横軸はパルスデューティ、縦軸はレーザ光
のレベルである。Pcは加ニブログラムによって指令さ
れた連続発振時の基本指令値である。パルス発振時には
基本指令値Pcの他にパルスデューティが指定され、パ
ルスデューティの値に比例した特性のパルス発振指令3
0が指令される。この場合、パルスデューティが小さい
領域ではパルスエンハンス率が高いので、レーザ光の出
力特性は31のようになる。32は発振器の光学部品の
使用限界特性であり、パルスデューティの値によらず一
定の損傷しきい値Piで表される。
これに対して、実際に加工を行うと、正常な加工時でも
反射レーザ光のためにモニタ値が上昇し、モニタ特性は
33に示すような特性となる。例えばパルスデューティ
D1でレーザ光を発振させるとモニタ値はPm33とな
る。
一方、ワークの異常反射が生じた場合のモニタ特性は3
4で表され、パルスデューティD1でのモニタ値はPr
n34となって損傷しきい値P2よりも高くなる。本実
施例ではこの状態をプロセッサ1が検知して、レーザ発
振及びワークの移動を停止させる。これにより、リア鏡
5、出力鏡6等の光学部品の損傷を防止することができ
る。また、同時に表示袋f19にアラームを表示し、オ
ペレータに異常状態を知らせる。
次に本発明の第2の実施例について説明する。
第1の実施例と異なる点はしきい値の設定方法である。
したがって、ハードウェアの構成については第1図と同
様であり、説明を省略する。
第3図は本実施例におけるレーザ出力としきい値に関す
るグラフである。図において、横軸はパルスデューティ
、縦軸はレーザ光のレベルである。
本図において、第2図の記号と同じ記号を記したものは
同じ意味であるので説明を省略する。
ここで、比較的小さいパルスデューティ付近のモニタ特
性は35に示す特性になり、例えばパルスデューティD
2でレーザ光を発振させるとモニタ値はPm35となる
一方、ワークの異常反射が生じた場合のモニタ′特性は
36に示す特性になり、モニタ値はPm36となる。こ
のように、パルスデューティD2の値が小さいので、異
常反射時でもモニタ値Pm36は損傷しきい値Pf以下
である。しかし、実際には異常反射のためにワークにレ
ーザ光が充分に吸収されず、良好な加工はできない。し
たがって、本実施例では37に示す最大出力特性をしき
い値として異常反射を検出している。最大出力時性37
は、正常加工時の範囲で予測される最大の出力レベルを
指令値に基づいて算出した特性であり、次式 %式% O:出力オーバライド値 D:パルスデューティ値 α:パラメータ で求められる。なお、パラメータαの値は出力オーバラ
イド値0及びパルスデューティ値りの値に応じて異なっ
た値が設定される。
具体的には、例えばパルスデューティD2における最大
出力値はPu37である。本実施例では、モニタ値Pm
36が最大出力値Pu37を越えていることをプロセッ
サが検知して、レーザ発振及びワークの移動を停止させ
る。これにより、ワークの不良加工を防止できる。また
、同時に表示装置にアラームを表示し、オペレータに異
常状態を知らせる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明では、反射レーザ光のレベル
が予め設定されたしきい値を越えた場合には、異常状態
であると検知して自動的にレーザ発振及びワークの移動
を停止させる。ここで、検知するときのしきい値を光学
部品の損傷しきい値に設定することによって、光学部品
の損傷を防止することができる。同時に、表示画面にア
ラームを表示するのでオペレータは異常事態を早期に発
見することができる。
また、しきい値を正常加工時の範囲で予測される最大の
出力値に設定することによって、ワークの加工不良を防
止することができる。この場合も同時に表示画面にアラ
ームが表示されてオペレータが異常事態をすぐに発見す
ることができる。
これにより、ワークの損失を最小限に停めることができ
、加工能率及び経済性が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例のレーザ加工装置のブロ
ック図、 第2図は本発明の第1の実施例のレーザ加工装置におけ
るレーザ出力としきい値に関するグラフ、第3図は本発
明の第2の実施例、におけるレーザ出力としきい値に関
するグラフ、 第4図(a)はレーザ光のワークへの吸収度の変化を示
したグラフ、 第4図(b)は反射率の経時的変化を示したグラフであ
る。 1・−・−・−一−−−−−−プロセッサ5   −リ
ア鏡 6   ・−出力鏡 7   −−−−−レーザ光 o−−−−−−−−・−−−−・−ワーク1   ・・
−・・−反射レーザ光 0・−一−−−・−・−・・モニタ用レーザ光1・・・
−・−・・・−・−・パワーセンサO・−・・・・・−
−一−−−−ハルス発振指令1・・−・・・・・−・−
−一一一一実出力特性32−・−・・−・・・−−−−
一光学部品使用限界特性33〜36−・・・−・・−モ
ニタ特性Pm33〜Pm36 −・−−−−−・−・−モニタ値 37・−・・・・・・−・−−−m−正常加工時の最大
出力特性P c −−−−−−−−−−−−−一基本指
令値Pl−・・〜〜−−−−−−−−−−光学部品の損
傷しきい値P u 37−−−−−・−・−・−最大出
力値α−・・・・−・−一一一一・ハラメータ特許出願
人 ファナック株式会社 代理人   弁理士  服部毅巖 第2図 第4図(a) 第4図(b) 第3図 手続補正書(自発) 6、補正の内容

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レーザ光を出力してワーク表面に照射し、前記ワ
    ークを加工するレーザ加工装置において、前記ワーク表
    面での反射によってレーザ発振器内に帰還される反射レ
    ーザ光のレベルを検出する反射光検出手段と、 前記反射レーザ光のレベルが所定値以上に上昇した場合
    に、前記レーザ発振器の動作と、ワークあるいはノズル
    部の移動を停止させ、表示装置にアラームを表示させる
    異常検出手段と、 を有することを特徴とするレーザ加工装置。
  2. (2)前記所定値は前記レーザ発振器を構成する光学部
    品の使用限界を決定する損傷しきい値であることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載のレーザ加工装置。
  3. (3)前記所定値は正常加工時の範囲で予測される最大
    の出力値であることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載のレーザ加工装置。
  4. (4)前記最大の出力値は、次式 Pu=Pc×O×D+α ((Pc×O×D+α)<Plのとき) Pu=Pl ((Pc×O×D+α)≧Plのとき) 但し、Pu:前記最大の出力値 Pc:連続発振時の指令値 Pl:前記損傷しきい値 O:出力オーバライド値 D:パルスデューティ値 α:パラメータ で求められることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載のレーザ加工装置。
  5. (5)前記反射光検出手段は、前記レーザ発振器のリア
    鏡より透過させたモニタ用レーザ光を入力して前記反射
    レーザ光のレベルを検出することを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載のレーザ加工装置。
JP63332535A 1988-12-29 1988-12-29 レーザ加工装置 Expired - Fee Related JP2771569B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63332535A JP2771569B2 (ja) 1988-12-29 1988-12-29 レーザ加工装置
US07/548,988 US5059760A (en) 1988-12-29 1989-11-15 Laser beam machining device
DE89912658T DE68912321T2 (de) 1988-12-29 1989-11-15 Bearbeitungsvorrichtung mit laser.
EP89912658A EP0407598B1 (en) 1988-12-29 1989-11-15 Laser machining apparatus
PCT/JP1989/001163 WO1990007397A1 (en) 1988-12-29 1989-11-15 Laser machining apparatus
CA002004677A CA2004677A1 (en) 1988-12-29 1989-12-06 Laser beam machining device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63332535A JP2771569B2 (ja) 1988-12-29 1988-12-29 レーザ加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02179374A true JPH02179374A (ja) 1990-07-12
JP2771569B2 JP2771569B2 (ja) 1998-07-02

Family

ID=18256006

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63332535A Expired - Fee Related JP2771569B2 (ja) 1988-12-29 1988-12-29 レーザ加工装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5059760A (ja)
EP (1) EP0407598B1 (ja)
JP (1) JP2771569B2 (ja)
CA (1) CA2004677A1 (ja)
DE (1) DE68912321T2 (ja)
WO (1) WO1990007397A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5463202A (en) * 1992-12-28 1995-10-31 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Laser machining apparatus and method
JP2001287059A (ja) * 2000-04-10 2001-10-16 Amada Eng Center Co Ltd レーザ加工機の加工不良検出方法およびその装置
JP2002066773A (ja) * 2000-08-25 2002-03-05 Amada Eng Center Co Ltd レーザ加工方法及びその装置
JP2010506394A (ja) * 2006-10-03 2010-02-25 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ レーザコントローラ
JP2020022988A (ja) * 2018-08-08 2020-02-13 ファナック株式会社 レーザ装置

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02241070A (ja) * 1989-03-15 1990-09-25 Fanuc Ltd Ncレーザ装置
US5427733A (en) * 1993-10-20 1995-06-27 United Technologies Corporation Method for performing temperature-controlled laser sintering
JP3315556B2 (ja) * 1994-04-27 2002-08-19 三菱電機株式会社 レーザ加工装置
US6476353B2 (en) 2000-01-26 2002-11-05 Js Chamberlain & Assoc. Laser surface finishing apparatus and method
US7393764B2 (en) * 2004-11-29 2008-07-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser treatment apparatus, laser treatment method, and manufacturing method of semiconductor device
US7244906B2 (en) * 2005-08-30 2007-07-17 Electro Scientific Industries, Inc. Energy monitoring or control of individual vias formed during laser micromachining
DE102006038795A1 (de) * 2006-08-18 2008-03-20 Fft Edag Produktionssysteme Gmbh & Co. Kg Überwachungsvorrichtung für eine Laserbearbeitungsvorrichtung
JP6339603B2 (ja) * 2016-01-28 2018-06-06 ファナック株式会社 レーザ加工開始条件を学習する機械学習装置、レーザ装置および機械学習方法
DE102017104097A1 (de) * 2017-02-28 2018-08-30 Pac Tech-Packaging Technologies Gmbh Verfahren und Laseranordnung zum Aufschmelzen eines Lotmaterialdepots mittels Laserenergie

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6363589A (ja) * 1986-09-02 1988-03-19 Komatsu Ltd 高反射率材料のレ−ザ加工方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2203539B (en) * 1985-02-19 1989-08-31 Atomic Energy Authority Uk Apparatus for monitoring infra-red emissions
US4719342A (en) * 1986-07-09 1988-01-12 Hughes Aircraft Company Electromagnetic energy diversion device wherein pellicle oblates responsive to very strong power density
JPS63280483A (ja) * 1987-05-13 1988-11-17 Canon Inc レーザ光の波長検出方法
JP2804027B2 (ja) * 1987-07-13 1998-09-24 ファナック 株式会社 レーザ出力補正方式
DE3733489A1 (de) * 1987-10-03 1989-04-20 Telemit Electronic Gmbh Verfahren und vorrichtung zur materialbearbeitung mit hilfe eines lasers

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6363589A (ja) * 1986-09-02 1988-03-19 Komatsu Ltd 高反射率材料のレ−ザ加工方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5463202A (en) * 1992-12-28 1995-10-31 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Laser machining apparatus and method
DE4336136C2 (de) * 1992-12-28 2001-03-15 Mitsubishi Electric Corp Laserbearbeitungsvorrichtung und -verfahren
JP2001287059A (ja) * 2000-04-10 2001-10-16 Amada Eng Center Co Ltd レーザ加工機の加工不良検出方法およびその装置
JP2002066773A (ja) * 2000-08-25 2002-03-05 Amada Eng Center Co Ltd レーザ加工方法及びその装置
JP4610059B2 (ja) * 2000-08-25 2011-01-12 株式会社アマダエンジニアリングセンター レーザ加工方法及びその装置
JP2010506394A (ja) * 2006-10-03 2010-02-25 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ レーザコントローラ
JP2020022988A (ja) * 2018-08-08 2020-02-13 ファナック株式会社 レーザ装置
US10985522B2 (en) 2018-08-08 2021-04-20 Fanuc Corporation Laser apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
US5059760A (en) 1991-10-22
DE68912321T2 (de) 1994-05-11
EP0407598B1 (en) 1994-01-12
JP2771569B2 (ja) 1998-07-02
CA2004677A1 (en) 1990-06-29
EP0407598A4 (en) 1991-04-10
DE68912321D1 (de) 1994-02-24
EP0407598A1 (en) 1991-01-16
WO1990007397A1 (en) 1990-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02179374A (ja) レーザ加工装置
JP3315556B2 (ja) レーザ加工装置
JP2005161361A (ja) レーザ加工機の管理方法及びレーザ加工機
JPH10263859A (ja) レーザモニタ装置及びレーザ装置
JP2644315B2 (ja) 高周波放電励起レーザ装置
ITTO960359A1 (it) Procedimento e dispositivo per il controllo e la regolazione della po sizione del fuoco nella lavorazione laser dei materiali.
JP2706498B2 (ja) レーザ加工装置
JP2820939B2 (ja) Ncレーザ装置
JPH0655358B2 (ja) レーザ溶接装置
EP0416122B1 (en) Nc laser
JP2664417B2 (ja) Ncレーザ装置
JPH08267261A (ja) ファイバ損傷モニタを備えたレーザ加工装置
JP2690184B2 (ja) レーザ加工装置
JP2812157B2 (ja) レーザ加工装置
JP2659210B2 (ja) Ncレーザ装置
JPH02205283A (ja) レーザ加工装置
JPH02179376A (ja) レーザ加工装置
JPH02241071A (ja) Ncレーザ装置
JP2785637B2 (ja) レーザ加工装置
JP3172371B2 (ja) レーザ加工方法
JPH0691384A (ja) レーザ加工機
JP2989112B2 (ja) レーザ溶接方法
JPH01258885A (ja) レーザ出力検出装置
JPH0323686A (ja) Ncレーザ装置
JPH067980A (ja) レーザ加工機

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees