JPH02174757A - 4―置換―3―アミノ―アゼチジン―2―オン - Google Patents
4―置換―3―アミノ―アゼチジン―2―オンInfo
- Publication number
- JPH02174757A JPH02174757A JP1245205A JP24520589A JPH02174757A JP H02174757 A JPH02174757 A JP H02174757A JP 1245205 A JP1245205 A JP 1245205A JP 24520589 A JP24520589 A JP 24520589A JP H02174757 A JPH02174757 A JP H02174757A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- group
- diazo
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 4-substituted-3-amino-azetidin-2-one Chemical class 0.000 title abstract description 17
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims abstract description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 40
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 13
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical class O1C(=NCC1)* 0.000 abstract description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 2
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 9
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- RTEXIPZMMDUXMR-UHFFFAOYSA-N benzene;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.C1=CC=CC=C1 RTEXIPZMMDUXMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- MDHYEMXUFSJLGV-UHFFFAOYSA-N beta-phenethyl acetate Natural products CC(=O)OCCC1=CC=CC=C1 MDHYEMXUFSJLGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 5
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 5
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 4
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930182555 Penicillin Natural products 0.000 description 3
- JGSARLDLIJGVTE-MBNYWOFBSA-N Penicillin G Chemical compound N([C@H]1[C@H]2SC([C@@H](N2C1=O)C(O)=O)(C)C)C(=O)CC1=CC=CC=C1 JGSARLDLIJGVTE-MBNYWOFBSA-N 0.000 description 3
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 3
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- MNFORVFSTILPAW-UHFFFAOYSA-N azetidin-2-one Chemical compound O=C1CCN1 MNFORVFSTILPAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940049954 penicillin Drugs 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triacetate Chemical compound [Rh+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M sodium periodate Chemical compound [Na+].[O-]I(=O)(=O)=O JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical compound C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical class OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 2
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 2
- 125000003435 aroyl group Chemical group 0.000 description 2
- SKCNIGRBPJIUBQ-UHFFFAOYSA-N chloroform;ethyl acetate Chemical compound ClC(Cl)Cl.CCOC(C)=O SKCNIGRBPJIUBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- UREBWPXBXRYXRJ-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;methanol Chemical class OC.CCOC(C)=O UREBWPXBXRYXRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- JBFYUZGYRGXSFL-UHFFFAOYSA-N imidazolide Chemical compound C1=C[N-]C=N1 JBFYUZGYRGXSFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSJFXBNYJCXDGI-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxyacetate Chemical compound COC(=O)CO GSJFXBNYJCXDGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical group [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000010420 art technique Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003460 beta-lactamyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N carbonyldiimidazole Chemical compound C1=CN=CN1C(=O)N1C=CN=C1 PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001782 cephems Chemical group 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- WLXALCKAKGDNAT-UHFFFAOYSA-N diazoethane Chemical compound CC=[N+]=[N-] WLXALCKAKGDNAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006003 dichloroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N diphenhydramine Chemical group C=1C=CC=CC=1C(OCCN(C)C)C1=CC=CC=C1 ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000012021 ethylating agents Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Chemical group [CH2]OC1=CC=CC=C1 HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006198 methoxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012022 methylating agents Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000010446 mirabilite Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N oxorhodium Chemical compound [Rh]=O SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229910003450 rhodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006049 ring expansion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical group 0.000 description 1
- RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfate decahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006257 total synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005924 transacylation reaction Methods 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は1−オキサゾチア−セフェム誘導体の合成に有
用である新規の中間体としての4−(3’−保護力ルボ
キシ−3′−ジアゾ−2′−オキサプロピルオキシ)−
3−アシルアミノ−アゼチジン−2−オン誘導体に関す
る。特に、この中間体化合物は、オで示されるオキサセ
ファロスポリン母核を有する化合物は広範囲の抗菌力を
有する抗生物質として知られ、その母核の合成法も種々
報告されている。その一つは(1)特開昭49−133
594号公報に開示されている如くアミノ酸を出発原料
とした全合成法である。他方、(2)特開昭53−25
551号公報や特開昭53−121787号公報等に開
示されている様に、ペニシリンを出発原料として用いて
環拡大する方法などがある。
用である新規の中間体としての4−(3’−保護力ルボ
キシ−3′−ジアゾ−2′−オキサプロピルオキシ)−
3−アシルアミノ−アゼチジン−2−オン誘導体に関す
る。特に、この中間体化合物は、オで示されるオキサセ
ファロスポリン母核を有する化合物は広範囲の抗菌力を
有する抗生物質として知られ、その母核の合成法も種々
報告されている。その一つは(1)特開昭49−133
594号公報に開示されている如くアミノ酸を出発原料
とした全合成法である。他方、(2)特開昭53−25
551号公報や特開昭53−121787号公報等に開
示されている様に、ペニシリンを出発原料として用いて
環拡大する方法などがある。
特開昭53−25551号の方法は、次式の母核を1〜
6結合の箇所で閉環する方法、また特開昭53−121
787号の方法は3−4結合の箇所で閉環する方法であ
る。これらの先行技術はペニシリン由来の炭素結合を多
く残して閉環するため工程数が橘めて多く複雑な反応で
ある等の不利な点がある。
6結合の箇所で閉環する方法、また特開昭53−121
787号の方法は3−4結合の箇所で閉環する方法であ
る。これらの先行技術はペニシリン由来の炭素結合を多
く残して閉環するため工程数が橘めて多く複雑な反応で
ある等の不利な点がある。
本発明者らは、上記の従来法に伴う欠点がないオキサセ
ファロスポリン母核の形成法を開発するために鋭意研究
を重ねた。そして、その研究の結果、次式(1)に示さ
れるカルボキシ基が保護されている4−(3’−力ルボ
キシ−3′−ジアゾ−2′−オキサプロピルオキシ)−
3−アシルアミノ−アゼチジン−2−オン 〔式中、Aはアルカノイル基又はアロイル基の如きアシ
ル基、R2はカルボキシル保護基である〕を新規化合物
として合成することに成功し、しかもこの化合物(りの
4位側鎖における3′位炭素をカルベンに転化させるよ
うな物質(カルベン導入触媒と称する)を作用させると
、ジアゾ基(=N、)が遊離されて3′位炭素がカルベ
ンになり且つアゼチジノン核の1位窒素原子と結合する
ようにして閉環することを発見した。この発見に基づい
て本発明は完成された。
ファロスポリン母核の形成法を開発するために鋭意研究
を重ねた。そして、その研究の結果、次式(1)に示さ
れるカルボキシ基が保護されている4−(3’−力ルボ
キシ−3′−ジアゾ−2′−オキサプロピルオキシ)−
3−アシルアミノ−アゼチジン−2−オン 〔式中、Aはアルカノイル基又はアロイル基の如きアシ
ル基、R2はカルボキシル保護基である〕を新規化合物
として合成することに成功し、しかもこの化合物(りの
4位側鎖における3′位炭素をカルベンに転化させるよ
うな物質(カルベン導入触媒と称する)を作用させると
、ジアゾ基(=N、)が遊離されて3′位炭素がカルベ
ンになり且つアゼチジノン核の1位窒素原子と結合する
ようにして閉環することを発見した。この発見に基づい
て本発明は完成された。
本発明による、式(1)のアゼチジノン誘導体をカルベ
ン導入触媒で処理すると、閉環を起すものであり、こう
してアゼチジノン環が環拡大する方式でオキサセファロ
スポリン母核を形成させるものである。この際、オキサ
セファロスポリン母核の4〜5位の箇所で閉環が起きた
点で特開昭53−25551号又は特開昭53−121
787号の閉環法と明確に異なる。しかも、本発明の中
間体化合物を用いると、ペニシリン分子起源の炭素の中
で化学的、立体化学的、また抗菌力発現に必須なβ−ラ
クタム環の炭素のみを利用し、セフェム環に必要な他の
炭素は外部より導入しカルベン導入反応により閉環でき
る点で独特であり、このような反応がオキサセファロス
ポリン母核の合成に応用された例はない。
ン導入触媒で処理すると、閉環を起すものであり、こう
してアゼチジノン環が環拡大する方式でオキサセファロ
スポリン母核を形成させるものである。この際、オキサ
セファロスポリン母核の4〜5位の箇所で閉環が起きた
点で特開昭53−25551号又は特開昭53−121
787号の閉環法と明確に異なる。しかも、本発明の中
間体化合物を用いると、ペニシリン分子起源の炭素の中
で化学的、立体化学的、また抗菌力発現に必須なβ−ラ
クタム環の炭素のみを利用し、セフェム環に必要な他の
炭素は外部より導入しカルベン導入反応により閉環でき
る点で独特であり、このような反応がオキサセファロス
ポリン母核の合成に応用された例はない。
従って、本発明によると、新規な中間体化合物として1
次の一般式 〔式中、Aはアシル基を表わし、R1は水素又はメトキ
シ基を、R2はカルボキシル保護基を示す〕で表わされ
る4−(3’−置換力ルボニル−3′−ジアゾ−2′−
オキサプロピルオキシ)−3−アシルアミノ−アゼチジ
ン−2−オンが提供される。
次の一般式 〔式中、Aはアシル基を表わし、R1は水素又はメトキ
シ基を、R2はカルボキシル保護基を示す〕で表わされ
る4−(3’−置換力ルボニル−3′−ジアゾ−2′−
オキサプロピルオキシ)−3−アシルアミノ−アゼチジ
ン−2−オンが提供される。
上記の式(1)のジアゾ化合物をカルベン導入触媒と反
応させて閉環すると、次式 〔式中、A、R’及びR2は前記と同じ意味をもつ〕の
1−オキサ−1−デチアー3−オキシセファ0スポリン
誘導体が製造できる。また、式(II)の1−オキサ−
1−デチアー3−オキシセファロスポリン誘導体の3位
ヒドロキシル基をアルキル化剤と反応させると、次の一
般式 〔式中、A、R”、 R”は前記と同じ意味をもち、R
3は低級アルキル基を表わす〕のl−オキサ−1−デチ
アー3−アルコキシセフェム化合物を製造できる。この
式(■)又は(III)の1−オキサゾチアセフェム化
合物は、その3位と、7位アミノ基とを修飾することに
よって、本出願人の出願に係る特開昭54−14129
7号(特公平1−20156号)に示されるl−オキサ
ゾチアセファロスポリン類を合成するのに原料として有
用である。
応させて閉環すると、次式 〔式中、A、R’及びR2は前記と同じ意味をもつ〕の
1−オキサ−1−デチアー3−オキシセファ0スポリン
誘導体が製造できる。また、式(II)の1−オキサ−
1−デチアー3−オキシセファロスポリン誘導体の3位
ヒドロキシル基をアルキル化剤と反応させると、次の一
般式 〔式中、A、R”、 R”は前記と同じ意味をもち、R
3は低級アルキル基を表わす〕のl−オキサ−1−デチ
アー3−アルコキシセフェム化合物を製造できる。この
式(■)又は(III)の1−オキサゾチアセフェム化
合物は、その3位と、7位アミノ基とを修飾することに
よって、本出願人の出願に係る特開昭54−14129
7号(特公平1−20156号)に示されるl−オキサ
ゾチアセファロスポリン類を合成するのに原料として有
用である。
次に本発明の実施について説明する。
本発明による式(1)のジアゾ化合物におけるアシル基
(A)は、式R’ CO−(但しR4はアルキル基、特
にC1〜4のアルキル基)のアルカノイル基又は式R’
C0−(但しR5はアリール基、特にフェニル基であり
、反応に関与しない不活性の置換基1例えばニトロ基を
有してもよい)のアロイル基又は式R’ CO−(但し
RGはアラルキル基、例えばフェニル−低級アルキル基
、特にベンジル基又はフェノキシ低級アルキル基、特に
フェノキシメチル基でありうる)のアシル基であること
ができる。アシル基(A)の好ましい例には、ベンゾイ
ル基、フェニルアセチル基またはフェノキシアセチル基
がある。
(A)は、式R’ CO−(但しR4はアルキル基、特
にC1〜4のアルキル基)のアルカノイル基又は式R’
C0−(但しR5はアリール基、特にフェニル基であり
、反応に関与しない不活性の置換基1例えばニトロ基を
有してもよい)のアロイル基又は式R’ CO−(但し
RGはアラルキル基、例えばフェニル−低級アルキル基
、特にベンジル基又はフェノキシ低級アルキル基、特に
フェノキシメチル基でありうる)のアシル基であること
ができる。アシル基(A)の好ましい例には、ベンゾイ
ル基、フェニルアセチル基またはフェノキシアセチル基
がある。
基R1は水素原子あるいはメトキシ基であることができ
る。メトキシ基はα位にあるのが好ましい。
る。メトキシ基はα位にあるのが好ましい。
さらに本発明による式(1)のジアゾ化合物における3
′位炭素原子に結合しているカルボキシル基は保護され
ていることが必要であり、この保護には、公知のカルボ
キシル保護基のうちから適当に選択される。この目的に
適するカルボキシル保護基(R2)の例には、t−ブチ
ル基、ジクロロエチル基などのアルキル基:ベンジル、
ρ−二トロベンジル、p−メトキシベンジル、フェナシ
ル、ジフェニルメチルなどのアラルキル基がある。弱酸
性下であるいは還元的条件下容易に脱離できるものが好
ましい。例えば、ジフェニルメチル基又はP−ニトロフ
ェニルメチル基の如き置換又は非置換アラルキル基が便
利である。
′位炭素原子に結合しているカルボキシル基は保護され
ていることが必要であり、この保護には、公知のカルボ
キシル保護基のうちから適当に選択される。この目的に
適するカルボキシル保護基(R2)の例には、t−ブチ
ル基、ジクロロエチル基などのアルキル基:ベンジル、
ρ−二トロベンジル、p−メトキシベンジル、フェナシ
ル、ジフェニルメチルなどのアラルキル基がある。弱酸
性下であるいは還元的条件下容易に脱離できるものが好
ましい。例えば、ジフェニルメチル基又はP−ニトロフ
ェニルメチル基の如き置換又は非置換アラルキル基が便
利である。
本発明による式(1)のジアゾ化合物の閉環反応で用い
られるカルベン導入触媒には、例えばロジウムアセテー
ト、酸化ロジウムまたは酸化銀などがあり、ロジウムア
セテートが最適である。この閉環反応は有機溶媒、例え
ば酢酸エチル、T HF、ジオキサンなどに出発化合物
([1)をとかし、この溶液中でカルベン導入触媒を作
用させることにより行われる1反応温度は好ましくは0
〜100℃、特に30〜70℃で30分〜1時間反応さ
せればよい。
られるカルベン導入触媒には、例えばロジウムアセテー
ト、酸化ロジウムまたは酸化銀などがあり、ロジウムア
セテートが最適である。この閉環反応は有機溶媒、例え
ば酢酸エチル、T HF、ジオキサンなどに出発化合物
([1)をとかし、この溶液中でカルベン導入触媒を作
用させることにより行われる1反応温度は好ましくは0
〜100℃、特に30〜70℃で30分〜1時間反応さ
せればよい。
上記の閉環反応で一般式(■)の1−オキサ−1−一デ
チアー3−オキシセファ0スポリン誘導体が生成される
が、これは比較的不安定であるから単離し難い。
チアー3−オキシセファ0スポリン誘導体が生成される
が、これは比較的不安定であるから単離し難い。
こうして得られる一般式(Il)の化合物は、単離する
ことなく3位ヒドロキシル基をアルキル化されてアルコ
キシル基にされる。これには、一般に用いられるアルキ
ル化剤としてジアゾアルカンが用いられる。メチル化剤
としては例えばジアゾメタン等、またエチル化剤として
はジアゾエタンが用いられ、これらアルキル化剤は常法
にて上記の有機溶媒中で反応させればよい。
ことなく3位ヒドロキシル基をアルキル化されてアルコ
キシル基にされる。これには、一般に用いられるアルキ
ル化剤としてジアゾアルカンが用いられる。メチル化剤
としては例えばジアゾメタン等、またエチル化剤として
はジアゾエタンが用いられ、これらアルキル化剤は常法
にて上記の有機溶媒中で反応させればよい。
反応温度は0〜50℃がよい。
こうして得られた一般式(m)の化合物の精製には β
−ラクタム化合物の通常の精製法が用いられる。−数式
(III)の化合物はR8がα−メトキシ基の場合はア
シルアミノ基(AHN−)はβ位にある。一方、R工が
水素の場合は、アシルアミノ基(AHN−)はα又はβ
位の何れかにある。アシルアミノ基がβ位の化合物は常
法によりアシル交換を施すことにより、抗菌力を有する
有用な物質。
−ラクタム化合物の通常の精製法が用いられる。−数式
(III)の化合物はR8がα−メトキシ基の場合はア
シルアミノ基(AHN−)はβ位にある。一方、R工が
水素の場合は、アシルアミノ基(AHN−)はα又はβ
位の何れかにある。アシルアミノ基がβ位の化合物は常
法によりアシル交換を施すことにより、抗菌力を有する
有用な物質。
例えば特開昭53−112895号公報などに開示され
ている物質に誘導できる。また、アシルアミノ基がα位
にある場合は常法により7位のα−メトキシ化を伴うア
シルアミノ基のβ位への転換反応を行い、さらにアシル
交換することにより抗菌力のあるl−オキサゾチア−セ
フェム抗生物質へ誘導できる。
ている物質に誘導できる。また、アシルアミノ基がα位
にある場合は常法により7位のα−メトキシ化を伴うア
シルアミノ基のβ位への転換反応を行い、さらにアシル
交換することにより抗菌力のあるl−オキサゾチア−セ
フェム抗生物質へ誘導できる。
次に本発明による一般式(1)のジアゾ化合物の調製法
について説明する。
について説明する。
この式(りの化合物は、後記の参考例に示されるように
、オキサゾリン誘導体とグリセリン又はヒドロキシ酢酸
アルキルエステルとを素原料として用いて数工程で作ら
れた次の一般式〔式中、Rはフェニル基、フェニルメチ
ル基又はフェノキシメチル基を示し、R1は水素又はメ
トキシ基を示し、Mはアルカリ金属を示す〕で表わされ
る化合物から更に数段階を経て合成できる。化合物(I
V)における3位アシルアミノ基(RCONII−)が
本発明のジアゾ化合物(1)における対応のアシルアミ
ノ基(AHN−)と一致していないときは、既知のアシ
ル交換反応で所望の、適当なアシルアミノ基AHN−を
導入することによって次式 の化合物にする。そしてこの式(■′)の化合物を中和
により対応の遊離酸の形にし、さらに4位側鎖の末端カ
ルボキシル基を活性化する。その後、例えばマロン酸モ
ノエステルのアルカリ金属(又はアルカリ土類金属)塩
又は酢酸エステル・アニオン等を反応させて2炭素伸長
させることにより、次の一般式 (式中、R,R”は前述の意味を有し、R2はカルボキ
シル基の保護基を示す)で表わされる化合物を得る。さ
らにこの化合物(V)をアジド化合物と反応させ次の一
般式 (式中、R,R”およびR1は前述の意味を有す)で表
わされるジアゾ化合物を得る。
、オキサゾリン誘導体とグリセリン又はヒドロキシ酢酸
アルキルエステルとを素原料として用いて数工程で作ら
れた次の一般式〔式中、Rはフェニル基、フェニルメチ
ル基又はフェノキシメチル基を示し、R1は水素又はメ
トキシ基を示し、Mはアルカリ金属を示す〕で表わされ
る化合物から更に数段階を経て合成できる。化合物(I
V)における3位アシルアミノ基(RCONII−)が
本発明のジアゾ化合物(1)における対応のアシルアミ
ノ基(AHN−)と一致していないときは、既知のアシ
ル交換反応で所望の、適当なアシルアミノ基AHN−を
導入することによって次式 の化合物にする。そしてこの式(■′)の化合物を中和
により対応の遊離酸の形にし、さらに4位側鎖の末端カ
ルボキシル基を活性化する。その後、例えばマロン酸モ
ノエステルのアルカリ金属(又はアルカリ土類金属)塩
又は酢酸エステル・アニオン等を反応させて2炭素伸長
させることにより、次の一般式 (式中、R,R”は前述の意味を有し、R2はカルボキ
シル基の保護基を示す)で表わされる化合物を得る。さ
らにこの化合物(V)をアジド化合物と反応させ次の一
般式 (式中、R,R”およびR1は前述の意味を有す)で表
わされるジアゾ化合物を得る。
前述の式(1)のジアゾ化合物の!Illの段階におい
て、一般式(IV)の化合物から(V)の化合物への各
反応はワンポット(one −pot)方式で行い得る
もので、先づ有機溶媒例えばアセトニトリル、THFな
どの溶媒中で化合物(■′)を鉱酸、例えば塩酸、硫酸
などで中和することにより遊離酸とし、続いて4位側鎖
における末端カルボキシル基を活性カルボン酸誘導体に
する。この活性化法は公知の方法例えば混合酸無水物法
、酸ハライド法。
て、一般式(IV)の化合物から(V)の化合物への各
反応はワンポット(one −pot)方式で行い得る
もので、先づ有機溶媒例えばアセトニトリル、THFな
どの溶媒中で化合物(■′)を鉱酸、例えば塩酸、硫酸
などで中和することにより遊離酸とし、続いて4位側鎖
における末端カルボキシル基を活性カルボン酸誘導体に
する。この活性化法は公知の方法例えば混合酸無水物法
、酸ハライド法。
活性イミダゾライド法などで行いうる。この際、例えば
カルボジイミダゾールを用いる場合の反応温度は0〜5
℃で1〜2時間反応させればよい。
カルボジイミダゾールを用いる場合の反応温度は0〜5
℃で1〜2時間反応させればよい。
次いで、上記溶媒中で、活性化された化合物(■′)に
ついて、2炭素伸長させて式(V)の化合物を生成させ
る反応を行うが、これに用いられる2炭素伸長試薬は例
えばマロン酸モノエステル・アニオン、酢酸エステル・
アニオン、またはメルドラム酸誘導体アニオンなどであ
る。この際の反応温度は5〜20℃で3〜4時間が好適
である。
ついて、2炭素伸長させて式(V)の化合物を生成させ
る反応を行うが、これに用いられる2炭素伸長試薬は例
えばマロン酸モノエステル・アニオン、酢酸エステル・
アニオン、またはメルドラム酸誘導体アニオンなどであ
る。この際の反応温度は5〜20℃で3〜4時間が好適
である。
一般式(V)の化合物から一般式(1)のジアゾ化合物
を生成するジアゾ化反応に用いられるアジド化合物は次
式 %式%() (式中、R7は水素、カルボキシル基又は(C1〜、)
アルキル基を示す)の芳香族スルホン酸アジドが適して
いる。特に好ましいものはR7がカルボキシル基の化合
物である。このジアゾ化反応は一般式(V)の化合物を
有機溶媒例えばアセトニトリル、ジオキサン、THFな
どに溶解し、0〜30℃にて、上記アジド化剤(VI)
を加え攪拌下に反応しついで有機塩基、例えばトリエチ
ルアミン、ジメチルアニリン等を滴下し反応を完結させ
る。
を生成するジアゾ化反応に用いられるアジド化合物は次
式 %式%() (式中、R7は水素、カルボキシル基又は(C1〜、)
アルキル基を示す)の芳香族スルホン酸アジドが適して
いる。特に好ましいものはR7がカルボキシル基の化合
物である。このジアゾ化反応は一般式(V)の化合物を
有機溶媒例えばアセトニトリル、ジオキサン、THFな
どに溶解し、0〜30℃にて、上記アジド化剤(VI)
を加え攪拌下に反応しついで有機塩基、例えばトリエチ
ルアミン、ジメチルアニリン等を滴下し反応を完結させ
る。
次に本発明の一般式(1)のジアゾ化合物の製造例を実
施例について説明するが、これに限定されるものでない
、なお、本発明による一般式(りのジアゾ化合物を閉環
する反応例を参考例で示す。
施例について説明するが、これに限定されるものでない
、なお、本発明による一般式(りのジアゾ化合物を閉環
する反応例を参考例で示す。
1胤旌よ
(3R,4R)−4−(3’−p−ニトロフェニルメト
キシカルボニル−3′−ジアゾ−2′−オキサプロピル
オキシ)−3−ベンゾイルアミノ−アゼチジン−2−オ
ンの合成(イ) (3R,4R)−4−(ソジオカルポ
キシメトキシ)−3−ベンゾイルアミノ−アゼチジン−
2−オンの製造(+)次式 (但しph=フェニル基である。以下、同様)で示され
るオキサゾリン誘導体、すなわちベンツヒドリル 3−
メチル−2−((In、5S)−3−フェニル−7−オ
キソ−4−オキサ−2,6−ジアザビシクロ(3,2,
0)ヘプト−2−エン−6−イル〕ブドー2−エンエイ
ト(参考文献「J。
キシカルボニル−3′−ジアゾ−2′−オキサプロピル
オキシ)−3−ベンゾイルアミノ−アゼチジン−2−オ
ンの合成(イ) (3R,4R)−4−(ソジオカルポ
キシメトキシ)−3−ベンゾイルアミノ−アゼチジン−
2−オンの製造(+)次式 (但しph=フェニル基である。以下、同様)で示され
るオキサゾリン誘導体、すなわちベンツヒドリル 3−
メチル−2−((In、5S)−3−フェニル−7−オ
キソ−4−オキサ−2,6−ジアザビシクロ(3,2,
0)ヘプト−2−エン−6−イル〕ブドー2−エンエイ
ト(参考文献「J。
Chew、 Soc、 Perkin I 、J 1
975.1932に記載されである)の4.52g(1
0ミリモル)を酢酸エチル50〇−gにとかし、グリセ
リン の8.3g (90ミリモル)を加え水冷下に攪拌し
た。
975.1932に記載されである)の4.52g(1
0ミリモル)を酢酸エチル50〇−gにとかし、グリセ
リン の8.3g (90ミリモル)を加え水冷下に攪拌し
た。
0〜5℃で三弗化ホウ素・エチルエーテル複合体(BF
、・Et、0)の0.4mfiを加え30分間反応させ
、室温にもどし26〜28℃で2.5時間反応する。水
冷下に重曹水を25i+fl加え、分液し、50%食塩
水50a+flで2回、水50tQで1回洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥。
、・Et、0)の0.4mfiを加え30分間反応させ
、室温にもどし26〜28℃で2.5時間反応する。水
冷下に重曹水を25i+fl加え、分液し、50%食塩
水50a+flで2回、水50tQで1回洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥。
溶媒除去すると5.26gの泡沫状固体を得る。
この固体は次式
で表わされる化合物よりなる。
(i)上記の泡沫状固体の5.26gをテトラヒドロフ
ラン(T)IF)の200mflにとかし、その溶液に
対して。
ラン(T)IF)の200mflにとかし、その溶液に
対して。
過沃素酸ナトリウムNaIO4の2.44g(11,5
ミリモル)をlN−1(,504114mMにとかした
液を水冷上滴下する。
ミリモル)をlN−1(,504114mMにとかした
液を水冷上滴下する。
0〜5℃で20分間反応し、室温にもどし3時間反応す
る0反応液を水冷し、酢酸エチルIQ、水600■Qの
中に空は分液する。水層は100■Q酢酸エチルで再抽
出した。有機層を合わせて飽和NaHCO,水溶液10
0tQで洗浄、水洗(200■QX3)L、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒除去した。4.92gの固体を得
た。
る0反応液を水冷し、酢酸エチルIQ、水600■Qの
中に空は分液する。水層は100■Q酢酸エチルで再抽
出した。有機層を合わせて飽和NaHCO,水溶液10
0tQで洗浄、水洗(200■QX3)L、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒除去した。4.92gの固体を得
た。
この固体をベンゼンにとかし、シリカゲル(ワコーゲル
)98gのカラムに通し、このシリカ・カラムをベンゼ
ン−酢酸エチル(3:1)で溶出し、溶出液から溶媒を
留去すると、次式 で表わされるアルデヒド体の2.2gを得た。収率40
.4%、このアルデヒド体はシリカゲルTLC,上でベ
ンゼン−酢酸エチル(1:1)で展開するとRfO03
3を示した。
)98gのカラムに通し、このシリカ・カラムをベンゼ
ン−酢酸エチル(3:1)で溶出し、溶出液から溶媒を
留去すると、次式 で表わされるアルデヒド体の2.2gを得た。収率40
.4%、このアルデヒド体はシリカゲルTLC,上でベ
ンゼン−酢酸エチル(1:1)で展開するとRfO03
3を示した。
NMR(CDCM3) :62.0(s、3)1)
2.25(s、3)1)4.25(s、2H) 4.
8(d、J=8.IH) 5.1(s、IH)6.8
5(s、1)l) 7.0〜7.7(15)1)
9.5(s、1Il)マススペクトル(飄/e) :
512(M”)なお、上記のシリカ・カラムをベンゼン
−酢酸エチル(1: 1)で溶出し、その溶出液から溶
媒を留去すると、副成した次式 の化合物(グリセリンが2級アルコールとして反応した
生成物)の360mg (収率6.6%)が得られた。
2.25(s、3)1)4.25(s、2H) 4.
8(d、J=8.IH) 5.1(s、IH)6.8
5(s、1)l) 7.0〜7.7(15)1)
9.5(s、1Il)マススペクトル(飄/e) :
512(M”)なお、上記のシリカ・カラムをベンゼン
−酢酸エチル(1: 1)で溶出し、その溶出液から溶
媒を留去すると、副成した次式 の化合物(グリセリンが2級アルコールとして反応した
生成物)の360mg (収率6.6%)が得られた。
(i)前項(Dで得られた式(c)のアルデヒド体の3
.74g(7,23ミリモル)を371のアセトンに溶
解し、水冷下0〜5℃でCrO,−H2So4溶液(0
,7ミリモル/+++Q)の2.4gmQをゆっくり滴
下する(約10分)。15分間反応後、室温にもどし1
5分間反応させた。水冷下、0.96m12のメタノー
ルを加え10分間攪拌、酢酸エチル280d、飽和食塩
水140mQを加えて分液した。50%飽和食塩水10
mmで2回洗い、水洗(70+++Q x 2 )、硫
酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を除去した。
.74g(7,23ミリモル)を371のアセトンに溶
解し、水冷下0〜5℃でCrO,−H2So4溶液(0
,7ミリモル/+++Q)の2.4gmQをゆっくり滴
下する(約10分)。15分間反応後、室温にもどし1
5分間反応させた。水冷下、0.96m12のメタノー
ルを加え10分間攪拌、酢酸エチル280d、飽和食塩
水140mQを加えて分液した。50%飽和食塩水10
mmで2回洗い、水洗(70+++Q x 2 )、硫
酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を除去した。
3.44gの結晶を得た。エチルエーテル約50m1l
でスラリーにして洗いエーテルを除くと3.0gの結晶
を得る。m、p、167〜167.5℃。収率79%。
でスラリーにして洗いエーテルを除くと3.0gの結晶
を得る。m、p、167〜167.5℃。収率79%。
この生成物はシリカゲル几C1で水飽和酢酸エチル−メ
タノール(3:1)で展開すると、Rf=0.33を示
した。この生成物は次式 で表わされるヒドロキシ酢r!a誘導体である。
タノール(3:1)で展開すると、Rf=0.33を示
した。この生成物は次式 で表わされるヒドロキシ酢r!a誘導体である。
NMR(CDCM、) :δ2.0(s、211)
2.2(s、2)1) 4.1(ABq。
2.2(s、2)1) 4.1(ABq。
2H) 4.75(d、J=8.IH) 5.1(
s、IH)6.8(s、IH) 7.0〜7.7(1
51()マススペクトル(m/e) : 528(M”
)赤外スペクトル(ヌジョール) : 1765.17
20゜1635cn+ (ff)前項(i)で得た式(e)のヒドロキシ酢酸誘
導体の1.7gをメタノール55m12にとかし、−5
5℃〜−50℃に冷却しオゾン0.を吹き込む。45分
後には反応が完了した。その後15分間空気を流してO
lを除去、酢酸エチル(7)160mUをゆっくりと加
え、NaHSO3(17g)の320mQ水溶液(氷冷
)の中にあけ分液した。水洗(30m12 X 3 )
L、、、硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を除去した
。1.7gの油状物を得た。この生成物は次式 酢酸エチル−メタノール(3:1)で展開すると、Rf
=0.12を示した。この生成物は次式で表わされる化
合物である。
s、IH)6.8(s、IH) 7.0〜7.7(1
51()マススペクトル(m/e) : 528(M”
)赤外スペクトル(ヌジョール) : 1765.17
20゜1635cn+ (ff)前項(i)で得た式(e)のヒドロキシ酢酸誘
導体の1.7gをメタノール55m12にとかし、−5
5℃〜−50℃に冷却しオゾン0.を吹き込む。45分
後には反応が完了した。その後15分間空気を流してO
lを除去、酢酸エチル(7)160mUをゆっくりと加
え、NaHSO3(17g)の320mQ水溶液(氷冷
)の中にあけ分液した。水洗(30m12 X 3 )
L、、、硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を除去した
。1.7gの油状物を得た。この生成物は次式 酢酸エチル−メタノール(3:1)で展開すると、Rf
=0.12を示した。この生成物は次式で表わされる化
合物である。
(曾)前項(りで得た式(f)の油状生成物の1.7g
を17朧Qのアセトンにとかし、このアセトン溶液を、
炭酸水素ナトリウムの270+ig(3,22ミリモル
)を含むメタノール(290m12)と水(5,8rR
Q)との混液(pH1O)中に滴下する。滴下後、室温
にもどして300分間反応せた(滴下後の黄色が淡黄色
になる)、 ls媒を除去し、減圧下に2時間乾燥エー
テル50mQを加えて固化させる。固体をろ取した後に
五酸化リン上で乾燥し、固体88011gを得た。 m
、p、155℃(分解)。収率95%、この生成物はシ
リカゲルTLCで水飽和で表わされるナトリウム塩形の
化合物、 (すなわち表題の(3R,4R)−4−(ソ
ジオカルポキシメトキシ)−3−ベンゾイルアミノ−ア
ゼチジン−2−オンである。
を17朧Qのアセトンにとかし、このアセトン溶液を、
炭酸水素ナトリウムの270+ig(3,22ミリモル
)を含むメタノール(290m12)と水(5,8rR
Q)との混液(pH1O)中に滴下する。滴下後、室温
にもどして300分間反応せた(滴下後の黄色が淡黄色
になる)、 ls媒を除去し、減圧下に2時間乾燥エー
テル50mQを加えて固化させる。固体をろ取した後に
五酸化リン上で乾燥し、固体88011gを得た。 m
、p、155℃(分解)。収率95%、この生成物はシ
リカゲルTLCで水飽和で表わされるナトリウム塩形の
化合物、 (すなわち表題の(3R,4R)−4−(ソ
ジオカルポキシメトキシ)−3−ベンゾイルアミノ−ア
ゼチジン−2−オンである。
NMR(DMSO−ds) :δ4.15(s、2tl
) 4.65(d、J=8,1)1)5.2(d、J
白1.IH) 7.3〜7.9(5H)8.95(b
slH) 9.1(d、J=8.IH)赤外スペクト
ル(にBr) : 3300.1755.1740゜1
645c−一1 (ロ) (3R,4R)−4−(3’−p−ニトロフ
ェニルメトキシカルボニル−27−オキサプロピルオキ
シ)−3−ベンゾイルアミノ−アゼチジン−2−オンの
製造前項(イ)(マ)で得た式(g)のナトリウム塩化
合物の57mg(0,2ミリモル)をTHFに懸濁し、
この懸濁液に無水3N−IICQジオキサン溶液63μ
Q(IIcQ量0.19ミリモル)を水冷下に滴下する
。水冷下15分反応した後、溶媒を除去、減圧下に充分
に乾燥後(66B)、アセトニトリル3mQを加え溶解
した。溶液を水冷下撹拌し、36mg(0,22ミリモ
ル)のカルボ4時間反応する。得られた反応液中には1
次式で表わされる活性アミド(イミダゾライド)が生成
、含有される。
) 4.65(d、J=8,1)1)5.2(d、J
白1.IH) 7.3〜7.9(5H)8.95(b
slH) 9.1(d、J=8.IH)赤外スペクト
ル(にBr) : 3300.1755.1740゜1
645c−一1 (ロ) (3R,4R)−4−(3’−p−ニトロフ
ェニルメトキシカルボニル−27−オキサプロピルオキ
シ)−3−ベンゾイルアミノ−アゼチジン−2−オンの
製造前項(イ)(マ)で得た式(g)のナトリウム塩化
合物の57mg(0,2ミリモル)をTHFに懸濁し、
この懸濁液に無水3N−IICQジオキサン溶液63μ
Q(IIcQ量0.19ミリモル)を水冷下に滴下する
。水冷下15分反応した後、溶媒を除去、減圧下に充分
に乾燥後(66B)、アセトニトリル3mQを加え溶解
した。溶液を水冷下撹拌し、36mg(0,22ミリモ
ル)のカルボ4時間反応する。得られた反応液中には1
次式で表わされる活性アミド(イミダゾライド)が生成
、含有される。
上記の反応液に次式
で表わされるマロン酸のモノ(p−ニトロフェニルメチ
ル)エステルのマグネシウム塩の120+sg(0,2
4ミリモル)を加え、水冷下に30分間反応させ、次に
室温で2.5時間反応させると、2炭素伸長反応により
反応液中に次式 で示される表題化合物が生成される。
ル)エステルのマグネシウム塩の120+sg(0,2
4ミリモル)を加え、水冷下に30分間反応させ、次に
室温で2.5時間反応させると、2炭素伸長反応により
反応液中に次式 で示される表題化合物が生成される。
上記の化合物を含む反応液を再び水冷し、酢酸エチル5
m1l加え0.5N−NCR水溶液を4mR滴下する(
pH約2)、、分液し、5mflの水で洗い、50%飽
和NaHCO,水溶液(pH7〜8 )10s+Rで洗
い、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮すると
80mgの黄色油状物を得る。
m1l加え0.5N−NCR水溶液を4mR滴下する(
pH約2)、、分液し、5mflの水で洗い、50%飽
和NaHCO,水溶液(pH7〜8 )10s+Rで洗
い、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮すると
80mgの黄色油状物を得る。
この黄色油状物を酢酸エチルにとかし、シリカ・ゲル(
ワコーゲル)1.4gのカラムに通し、クロロホルム2
0@Qで展開する。その後、シリカゲル・カラムをクロ
ロホルム−酢酸エチル(1: l)で溶出し、β−ケト
エステルの形の式(j)の表題化合物42mgを単離し
たra、p、 151〜153℃、収率47%。
ワコーゲル)1.4gのカラムに通し、クロロホルム2
0@Qで展開する。その後、シリカゲル・カラムをクロ
ロホルム−酢酸エチル(1: l)で溶出し、β−ケト
エステルの形の式(j)の表題化合物42mgを単離し
たra、p、 151〜153℃、収率47%。
NMR(CD、C0CD、) :63.8(s、2H)
4.55(s、2H)4.85(dd、j=8 j
=1.1)1) 5.35(3)1)7.4〜8.5
(IOH) マススペクトル(履/e) : 441(M”)赤外ス
ペクトル(ヌジョール) : 3350.1775.1
740゜1720、1640ci+−” (ハ) (3R,4R)−4−(3’−P−二トロフェ
ニルメトキシ力ルボニル−3′−ジアゾ−2′−オキサ
プロピルオキシ)−3−ベンゾイルアミノ−アゼチジン
−2−オンの製造前項(G)で得た式(j)のβ−ケト
エステル化合物の67111g(0,15ミリモル)を
アセトニトリル6mRにとかし水冷する。p−力ルボキ
シベンゼンスルホンアジド42mg(0,18ミリモル
)を加え攪拌する。10分後トリエチルアミンの77μ
Q(0,52ミリモル)を滴下し、水冷で10分後反応
後室温で反応する。50分間、析出する沈澱を濾去し濾
液を濃縮する。得られた固体をベンゼン−酢酸エチル(
1: 1)i4液にとかし、シリカ・ゲル(ワコーゲル
)1.6gのカラムにかけ、ベンゼン−酢酸エチル(1
: 1)の20IIIflで展開した後に、酢酸エチル
で溶出した。溶出液から溶媒を除くと5次式 で表わされる表題のジアゾ化合物の61mgを得た。
4.55(s、2H)4.85(dd、j=8 j
=1.1)1) 5.35(3)1)7.4〜8.5
(IOH) マススペクトル(履/e) : 441(M”)赤外ス
ペクトル(ヌジョール) : 3350.1775.1
740゜1720、1640ci+−” (ハ) (3R,4R)−4−(3’−P−二トロフェ
ニルメトキシ力ルボニル−3′−ジアゾ−2′−オキサ
プロピルオキシ)−3−ベンゾイルアミノ−アゼチジン
−2−オンの製造前項(G)で得た式(j)のβ−ケト
エステル化合物の67111g(0,15ミリモル)を
アセトニトリル6mRにとかし水冷する。p−力ルボキ
シベンゼンスルホンアジド42mg(0,18ミリモル
)を加え攪拌する。10分後トリエチルアミンの77μ
Q(0,52ミリモル)を滴下し、水冷で10分後反応
後室温で反応する。50分間、析出する沈澱を濾去し濾
液を濃縮する。得られた固体をベンゼン−酢酸エチル(
1: 1)i4液にとかし、シリカ・ゲル(ワコーゲル
)1.6gのカラムにかけ、ベンゼン−酢酸エチル(1
: 1)の20IIIflで展開した後に、酢酸エチル
で溶出した。溶出液から溶媒を除くと5次式 で表わされる表題のジアゾ化合物の61mgを得た。
m、p、 167℃(分解)、収率87%、この化合物
はシリカゲルTLCでベンゼン−酢酸エチル(1:1)
で展開するとRf=0.22を示した。
はシリカゲルTLCでベンゼン−酢酸エチル(1:1)
で展開するとRf=0.22を示した。
NMR(CD、C0CD、) :δ4,75(dd、J
=8 J=1.LH)4.8(s、2)1) 5.2
5(d、J=1.IH) 5.4(s、2H)7.4
〜8.5(IOH) 赤外スペクトル(ヌジョール):3300.2170.
17g0゜1773、1720co−’ 去】11λ 本例は参考例1 (イ)(i)で用いた式(a)のオキ
サゾリン誘導体から出発し、これにヒドロキシ酢酸メチ
ルエステルを反応させ、さらに前出の式(e)のヒドロ
キシ酢酸誘導体に至る別の調製法の例を示す。
=8 J=1.LH)4.8(s、2)1) 5.2
5(d、J=1.IH) 5.4(s、2H)7.4
〜8.5(IOH) 赤外スペクトル(ヌジョール):3300.2170.
17g0゜1773、1720co−’ 去】11λ 本例は参考例1 (イ)(i)で用いた式(a)のオキ
サゾリン誘導体から出発し、これにヒドロキシ酢酸メチ
ルエステルを反応させ、さらに前出の式(e)のヒドロ
キシ酢酸誘導体に至る別の調製法の例を示す。
前出の式(a)のオキサゾリン誘導体5g(1,1ミリ
モル)を酢酸エチル(500mA)に溶解し、ヒドロキ
シ酢酸メチルエステル(40+sQ)を加え、水冷、攪
拌する。この溶液に0〜5℃にて三フフ化ホウ素・エチ
ルエーテル複合体(BF、 4t、O) (0,4m1
2)を加え30分反応し、次いで室温にて2時間反応す
る0反応液に重曹水(2,5mQ)、50%食塩水(1
0011u)を加え、激しく攪拌後分液する。有機層を
水洗(loOsM) 。
モル)を酢酸エチル(500mA)に溶解し、ヒドロキ
シ酢酸メチルエステル(40+sQ)を加え、水冷、攪
拌する。この溶液に0〜5℃にて三フフ化ホウ素・エチ
ルエーテル複合体(BF、 4t、O) (0,4m1
2)を加え30分反応し、次いで室温にて2時間反応す
る0反応液に重曹水(2,5mQ)、50%食塩水(1
0011u)を加え、激しく攪拌後分液する。有機層を
水洗(loOsM) 。
芒硝で乾燥後、濃縮乾固すると上記の式(Q)の化合物
(5,9g)を得る。
(5,9g)を得る。
この化合物(Q)の粗製物をアセトン(200m12)
に溶解し、氷冷下lN−Na011水(9,9+++1
2)を加え1時間反応する。次いでlN−HCf1水9
.9+Rを加え濃縮乾固し、残渣(6,2g)を水洗、
乾燥すると式(、)の化合物(5,4g)を得た。
に溶解し、氷冷下lN−Na011水(9,9+++1
2)を加え1時間反応する。次いでlN−HCf1水9
.9+Rを加え濃縮乾固し、残渣(6,2g)を水洗、
乾燥すると式(、)の化合物(5,4g)を得た。
歩Ajす=
(6R,7R)−7−ペンゾイルアミノー3−メトキシ
−1−オキサ−1−デチアー4−P−ニトロフェニルメ
トキシカルボニル−3−セフェムの合成 (イ)次式 のジアゾ化合物、すなわち(3R,4R)−4−(3’
−p−二トロフェニルメトキシ力ルボニル−3′−ジア
ゾ−2′−オキサプロピルオキシ)−3−ベンゾイルア
ミノ−アゼチジン−2−オン(実施例1(ハ)の生成物
)の30B(0,064ミリモル)と酢酸ロジウム(R
h (OAc)2)の0.41gを6mQの酢酸エチル
に懸濁し、N2ガスを20分通す、45〜48℃で加熱
する。加熱中に出発物質は徐々に溶液となる、45〜4
8℃で300分間反応せた。
−1−オキサ−1−デチアー4−P−ニトロフェニルメ
トキシカルボニル−3−セフェムの合成 (イ)次式 のジアゾ化合物、すなわち(3R,4R)−4−(3’
−p−二トロフェニルメトキシ力ルボニル−3′−ジア
ゾ−2′−オキサプロピルオキシ)−3−ベンゾイルア
ミノ−アゼチジン−2−オン(実施例1(ハ)の生成物
)の30B(0,064ミリモル)と酢酸ロジウム(R
h (OAc)2)の0.41gを6mQの酢酸エチル
に懸濁し、N2ガスを20分通す、45〜48℃で加熱
する。加熱中に出発物質は徐々に溶液となる、45〜4
8℃で300分間反応せた。
反応液中には、閉環反応で生成した次式の化合物が含ま
れる。
れる。
(ロ)上記の反応液を氷冷し、さらに0.1ミリモル/
yaQのジアゾメタンを含むエチルエーテル溶液の6m
Qを加える。水冷下5分間反応し、室温で15分間反応
する。
yaQのジアゾメタンを含むエチルエーテル溶液の6m
Qを加える。水冷下5分間反応し、室温で15分間反応
する。
次に反応液をろ過し、溶媒を除去すると、33Bの黄色
物を得る。この黄色物をクロロホルムに溶解しシリカ・
ゲル(ワコーゲル) 660I1gのりaマドグラフィ
にかけ、クロロホルム10−Qで展開後、クロロホルム
−酢酸エチル(10:1)で溶出し、溶媒を留去すると
、結晶17Bを得た。収率58%、m、p。
物を得る。この黄色物をクロロホルムに溶解しシリカ・
ゲル(ワコーゲル) 660I1gのりaマドグラフィ
にかけ、クロロホルム10−Qで展開後、クロロホルム
−酢酸エチル(10:1)で溶出し、溶媒を留去すると
、結晶17Bを得た。収率58%、m、p。
192〜193℃、この結晶はシリカゲルTLCで展開
溶媒ベンゼン−酢酸エチル(1:1)で展開するとRf
=0.33を示した。
溶媒ベンゼン−酢酸エチル(1:1)で展開するとRf
=0.33を示した。
NMR(CDCQ、) : δ3.8(s、3)1)
4.5(ABq、2)1)4.9(dd、J=8.1
.1)1) 5.05(d、J=1.1)1)5.3
5(ABq、2H) 6.85(d、J=a、LH)
7.3〜L2(9)1) マススペクトル(m/a) : 439(P)赤外スペ
クトル(ヌジョール) : 1790.1705゜16
40cm−” 上記の生成物は次式 で示される表題化合物であると同定された。
4.5(ABq、2)1)4.9(dd、J=8.1
.1)1) 5.05(d、J=1.1)1)5.3
5(ABq、2H) 6.85(d、J=a、LH)
7.3〜L2(9)1) マススペクトル(m/a) : 439(P)赤外スペ
クトル(ヌジョール) : 1790.1705゜16
40cm−” 上記の生成物は次式 で示される表題化合物であると同定された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Aはアシル基を表わし、R^1は水素又はメト
キシ基を、R^2はカルボキシル保護基を示す〕で表わ
される4−(3′−置換カルボニル−3′−ジアゾ−2
′−オキサプロピルオキシ)−3−アシルアミノ−アゼ
チジン−2−オン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1245205A JPH02174757A (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 4―置換―3―アミノ―アゼチジン―2―オン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1245205A JPH02174757A (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 4―置換―3―アミノ―アゼチジン―2―オン |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56198466A Division JPS58103391A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 1−オキサデチア−セフエム誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02174757A true JPH02174757A (ja) | 1990-07-06 |
JPH0255420B2 JPH0255420B2 (ja) | 1990-11-27 |
Family
ID=17130188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1245205A Granted JPH02174757A (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 4―置換―3―アミノ―アゼチジン―2―オン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02174757A (ja) |
-
1989
- 1989-09-22 JP JP1245205A patent/JPH02174757A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0255420B2 (ja) | 1990-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0005889B1 (en) | Process for the preparation of beta-lactam derivatives, the novel derivatives so obtainable and pharmaceutical compositions containing them | |
JPS60214792A (ja) | ペナム酸エステル誘導体 | |
JP3771128B2 (ja) | フェブリフジンおよびフェブリフジン化合物の新規合成方法 | |
JPH02174757A (ja) | 4―置換―3―アミノ―アゼチジン―2―オン | |
US4297279A (en) | Imidazoledicarboxylic acid derivative | |
US4556513A (en) | Process for the production of antibiotic 1-oxadethiacephalosporins, and intermediate | |
JPH0222757B2 (ja) | ||
HU212782B (en) | Water-free acylating process for stereospecifical producing antibioticum cephepim-dihydrochloride-hydrate | |
EP0023045B1 (en) | Imidazolecarboxylic acid derivatives of penicillins and cephalosporins | |
JPH064641B2 (ja) | セフアロスポリン誘導体の製造方法 | |
US4472576A (en) | Processes for the production of antibiotic 1-oxadethiacephalosporins | |
HU181503B (en) | Process for producing 3,3-ethylenedioxy-4,5-seco-19-nor-androst-9-ene-5,17-dione | |
SU1039444A3 (ru) | Способ получени 1-оксадетиацефалоспоринов | |
US3880837A (en) | 6-Hydrazono penicillins and method of preparation thereof | |
JPS6048936A (ja) | 酸への脱エステル化方法 | |
US5079146A (en) | Method of protection of the carboxy groups in the chemistry of β-lactam compounds | |
US4433142A (en) | Process for the preparation of 7-(2-amino-2-phenylacetamido) cephem derivatives | |
JP2898029B2 (ja) | セフェム誘導体ジメチルホルムアミド溶媒和結晶 | |
KR100390548B1 (ko) | 세팔로스포린 중간체의 제조방법 | |
JPH02157278A (ja) | アゼチジノン中間体 | |
JPH0354110B2 (ja) | ||
KR970004048B1 (ko) | 비대칭형 3-메톡시메틸 세팔로스포린 유도체의 디아스테레오머의 분리방법 | |
JP3101474B2 (ja) | 4’−デメチル−4−ホルミルメチル−4−デソキシ−4−エピポドフィロトキシン誘導体の製造法 | |
JPS5995291A (ja) | ペニシリン誘導体 | |
JPS6219431B2 (ja) |