JPH0255420B2 - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】

本発明は１−オキサデチア−セフエム誘導体の
合成に有用である新規の中間体としての４−
（3′−保護カルボキシ−3′−ジアゾ−2′−オキサプ
ロピルオキシ）−３−アシルアミノ−アゼチジン
−２−オン誘導体に関する。特に、この中間体化
合物は、オキサセフアロスポリン母核を合成する
のに有用である。 次式 で示されるオキサセフアロスポリン母核を有する
化合物は広範囲の抗菌力を有する抗生物質として
知られ、その母核の合成法も種々報告されてい
る。その一つは(1)特開昭49−133594号公報に開示
されている如くアミノ酸を出発原料とした全合成
法である。他方、(2)特開昭53−25551号公報や特
開昭53−121787号公報等に開示されている様に、
ペニシリンを出発原料として用いて環拡大する方
法などがある。 特開昭53−25551号の方法は、次式 の母核を１〜６結合の箇所で閉環する方法、また
特開昭53−121787号の方法は３−４結合の箇所で
閉環する方法である。これらの先行技術はペニシ
リン由来の炭素結合を多く残して閉環するため工
程数が極めて多く複雑な反応である等の不利な点
がある。 本発明者らは、上記の従来法に伴う欠点がない
オキサセフアロスポリン母核の形成法を開発する
ために鋭意研究を重ねた。そして、その研究の結
果、次式（）に示されるカルボキシ基が保護さ
れている４−（3′−カルボキシ−3′−ジアゾ−2′−
オキサプロピルオキシ）−３−アシルアミノ−ア
ゼチジン−２−オン 〔式中、Ａはアルカノイル基又はアロイル基の
如きアシル基、R²はカルボキシル保護基である〕
を新規化合物として合成することに成功し、しか
もこの化合物（）の４位側鎖における3′位炭素
をカルベンに転化させるような物質（カルベン導
入触媒と称する）を作用させると、ジアゾ基（＝
N₂）が遊離されて3′位炭素がカルベンになり且
つアゼチジノン核の１位窒素原子と結合するよう
にして閉環することを発見した。この発明に基づ
いて本発明は完成された。 本発明による、式（）のアゼチジノン誘導体
をカルベン導入触媒で処理すると、閉環を起すも
のであり、こうしてアゼチジノン環が環拡大する
方式でオキサセフアロスポリン母核を形成させる
ものである。この際、オキサセフアロスポリン母
核の４〜５位の箇所で閉環が起きた点で特開昭53
−25551号又は特開昭53−121787号の閉環法と明
確に異なる。しかも、本発明の中間体化合物を用
いると、ペニシリン分子起源の炭素の中で化学
的、立体化学的、また抗菌力発現に必須なβ−ラ
クタム環の炭素のみを利用し、セフエム環に必要
な他の炭素は外部より導入しカルベン導入反応に
より閉環できる点で独特であり、このような反応
がオキサセフアロスポリン母核の合意に応用され
た例はない。 従つて、本発明によると、新規な中間体化合物
として、次の一般式 〔式中、Ａはアシル基を表わし、R¹は水素又
はメトキシ基を、R²はカルボキシル保護基を示
す〕で表わされる４−（3′−置換カルボニル−
3′−ジアゾ−2′−オキサプロピルオキシ）−３−
アシルアミノ−アゼチジン−２−オンが提供され
る。 上記の式（）のジアゾ化合物をカルベン導入
触媒と反応させて閉環すると、次式 〔式中、Ａ，R¹及びR²は前記と同じ意味をも
つ〕の１−オキサ−１−デチア−３−オキサセフ
アロスポリン誘導体が製造できる。また、式
（）の１−オキサ−１−デチア−オキサセフア
ロスポリン誘導体の３位ヒドロキシル基をアルキ
ル化剤と反応させると、次の一般式 〔式中、Ａ，R¹，R²は前記と同じ意味をもち、
R³は低級アルキル基を表わす〕の１−オキサ−
１−デチア−３−アルコキシセフエム化合物を製
造できる。この式（）又は（）の１−オキサ
デチアセフエム化合物は、その３位と、７位アミ
ノ基とを修飾することによつて、本出願人の出願
に係る特開昭54−141297号（特公平１−20156号）
に示される１−オキサデチアセフアロスポリン類
を合成するのに原料として有用である。 次に本発明の実施について説明する。 本発明による式（）のジアゾ化合物における
アシル基（Ａ）は、式R⁴CO−（但しR⁴はアルキ
ル基、特にC_1〜4のアルキル基）のアルカノイル基
又は式R⁵CO−（但しR⁵はアリール基、特にフエ
ニル基であり、反応に関与しない不活性の置換
基、例えばニトロ基を有してもよい）のアロイル
基又は式R⁶CO−（但しR⁶はアラルキル基、例え
ばフエニル−低級アルキル基、特にベンジル基又
はフエノキシ低級アルキル基、特にフエノキシメ
チル基でありうる）のアシル基であることができ
る。アシル基（Ａ）の好ましい例には、ベンゾイ
ル基、フエニルアセチル基またはフエノキシアセ
チル基がある。 基R₁は水素原子あるいはメトキシ基であるこ
とができる。メトキシ基はα位にあるのが好まし
い。 さらに本発明による式（）のジアゾ化合物に
おける3′位炭素原子に結合しているカルボキシル
基は保護されていることが必要であり、この保護
には、公知のカルボキシル保護基のうちから適当
に選択される。この目的に適するカルボキシル保
護基（R²）の例には、ｔ−ブチル基、ジクロロ
エチル基などのアルキル基：ベンジル、ｐ−ニト
ロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、フエナシ
ル、ジフエニルメチルなどのアラルキル基があ
る。弱酸性下であるいは還元的条件下容易に脱離
できるものが好ましい。例えば、ジフエニルメチ
ル基又はｐ−ニトロフエニルメチル基の如き置換
又は非置帰換アラルキル基が便利である。 本発明による式（）のジアゾ化合物の閉環反
応で用いられるカルベン導入触媒には、例えばロ
ジウムアセテート、酸化ロジウムまたは酸化銀な
どがあり、ロジウムアセテートが最適である。こ
の閉環反応は有機溶媒、例えば酢酸エチル、
THF、ジオキサンンなどに出発化合物（）を
とかし、この溶液中でカルベン導入触媒を作用さ
せることにより行われる。反応温度は好ましくは
０〜100℃、特に30〜70℃で30分〜１時間反応さ
せればよい。 上記の閉環反応で一般式（）の１−オキサ−
１−デチア−３−オキシセフアロスポリン誘導体
が生成されるが、これは比較的不安定であるから
単離し難い。 こうして得られる一般式（）の化合物は、単
離することなく３位ヒドロキシル基をアルキル化
されてアルコキシル基にされる。これには、一般
に用いられるアルキル化剤としてジアゾアルカン
が用いられる。メチル化剤としては例えばジアゾ
メタン等、またエチル化剤としてはジアゾエタン
が用いられ、これらアルキル化剤は常法にて上記
の有機溶媒中で反応させればよい。反応温度は０
〜50℃がよい。 こうして得られた一般式（）の化合物の精製
にはβ−ラクタム化合物の通常の精製法が用いら
れる。一般式（）の化合物はR₁がα−メトキ
シ基の場合はアシルアミノ基（AHN−）はβ位
にある。一方、R₁が水素の場合は、アシルアミ
ノ基（AHN−）はα又はβ位の何れかにある。
アシルアミノ基がβ位の化合物は常法によりアシ
ル交換を施すことにより、抗菌力を有する有用な
物質、例えば特開昭53−112895号公報などに開示
されている物質に誘導できる。また、アシルアミ
ノ基がα位にある場合は常法により７位のα−メ
トキシ化を伴うアシルアミノ基のβ位への転換反
応を行い、さらにアシル交換することにより抗菌
力のある１−オキサデチア−セフエム抗生物質へ
誘導できる。 次に本発明による一般式（）のジアゾ化合物
の調整法について説明する。 この式（）の化合物は、後記の参考例に示さ
れるように、オキサゾリン誘導体とグリセリン又
はヒドロキシ酢酸アルキルエステルとを素原料と
して用いて数工程で作られた次の一般式 〔式中、Ｒはフエニル基、フエニルメチル基又
はフエノキシメチル基を示し、R¹は水素又はメ
トキシ基を示し、Ｍはアルカリ金属を示す〕で表
わされる化合物から更に数段階を経て合成でき
る。化合物（）における３位アシルアミノ基
（RCONH−）が本発明のジアゾ化合物（）に
おける対応のアシルアミノ基（AHN−）と一致
していないときは、既知のアシル交換反応で所望
の、適当なアシルアミノ基AHN−を導入するこ
とによつて次式 の化合物にする。そしてこの式（′）の化合物
を中和により対応の遊離酸の形にし、さらに４位
側鎖の末端カルボキシル基を活性化する。その
後、例えばマロン酸モノエステルのアルカリ金属
（又はアルカリ土類金属）塩又は酢酸エステル・
アニオン等を反応させて２炭素伸長させることに
より、次の一般式 （式中、Ｒ，R¹は前述の意味を有し、R²はカ
ルボキシル基の保護基を示す）で表わされる化合
物を得る。さらにこの化合物（）をアジド化合
物と反応させ次の一般式 （式中、Ｒ，R¹およびR²は前述の意味を有す）
で表わされるジアゾゾ化合物を得る。 前述の式（）のジアゾ化合物の調整の段階に
おいて、一般式（）の化合物から（）の化合
物への各反応はワンポツト（one−pot）方式で
行い得るもので、先づ有機溶媒例えばアセトニト
リル、THFなどの溶媒中で化合物（′）を鉱
酸、例えば塩酸、硫酸などで中和することにより
遊離酸とし、続いて４位側鎖における末端カルボ
キシル基を活性カルボン酸誘導体にする。この活
性化法は公知の方法例えば混合酸無水物法、酸ハ
ライド法、活性イミダゾライド法などで行いう
る。この際、例えばカルボジイミダゾールを用い
る場合の反応温度は０〜５℃で１〜２時間反応さ
せればよい。 次いで、上記溶媒中で、活性化された化合物
（′）について、２炭素伸長させて式（）の化
合物を生成させる反応を行うが、これに用いられ
る２炭素伸長試薬は例えばマロン酸モノエステ
ル・アニオン、酢酸エステル・アニオン、または
メルドラム酸誘導体アニオンである。この際の反
応温度は５〜20℃で３〜４時間が好適である。 一般式（）の化合物から一般式（）のジア
ゾ化合物を生成するジアゾ化反応に用いられるア
ジド化合物は次式 （式中、R⁷は水素、カルボキシル基又は
（C_1〜9）アルキル基を示す）の芳香族スルホン酸
アジドが適している。特に好ましいものはR⁷が
カルボキシル基の化合物である。このジアゾ化反
応は一般式（）の化合物を有機溶媒例えばアセ
トニトリル、ジオキサン、THFなどに溶解し、
０〜30℃にて、上記アジド化剤（）を加え撹拌
下に反応しついで有機塩基、例えばトリエチルア
ミン、ジメチルアニリン等を滴下し反応を完結さ
せる。 次に本発明の一般式（）のジアゾ化合物の製
造例を実施例について説明するが、これに限定さ
れるものでない。なお、本発明による一般式
（）のジアゾ化合物を閉環する反応例を参考例
で示す。 実施例 １ （3R，4R）−４−（3′−ｐ−ニトロフエニルメ
トキシカルボニル−3′−ジアゾ−2′−オキサプ
ロピルオキシ）−３−ベンゾイルアミノ−アゼ
チジン−２−オンの合成 (イ) （3R，4R）−４−（ソジオカルボキシメトキ
シ）−３−ベンゾイルアミノ−アゼチジン−２
−オンの製造 (i) 次式 （但しPh＝フエニル基である。以下、同
様）で示されるオキサゾリン誘導体、すなわ
ちベンツヒドリル ３−メチル−２−〔1R，
5S）−３−フエニル−７−オキソ−４−オキ
サ−２，６−ジアザビシクロル〔３，２，
０〕ヘプト−２−エン−６−イル〕ブト−２
−エノエイト（参考文献「J.Chem.Soc.
Perkin ，」1975，1932に記載されてあ
る）の4.52ｇ（10ミリモル）を酢酸エチル
500mlにとかし、グリセリン の8.3ｇ（90ミリモル）を加え氷冷下に撹拌
した。０〜５℃で三弗化ホウ素・エチルエー
テル複合体（BF₃・Et₂0）の0.4mlを加え30
分間反応させ、室温にもどし26〜28℃で2.5
時間反応する。氷冷下に重曹水を25ml加え、
分液し、50％食塩水50mlで２回、水50mlで１
回洗い、、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒除
去すると5.26ｇの泡沫状固体を得る。 この固体は次式 で表わされる化合物よりなる。 (ii) 上記の泡沫状固体の5.26ｇをテトラヒドロ
フラン（THF）の200mlにとかし、その溶液
に対して、過沃素酸ナトリウムNaIO₄の2.44
ｇ（11.5ミリモル）を1N−H₂SO₄114mlにと
かした液を氷冷下滴下する。０〜５℃で20分
間反応し、室温にもどし３時間反応する。反
応液を氷冷し、酢酸エチル１、水600mlの
中に空け分液する。水層は100ml酢酸エチル
で再抽出した。有機層を合わせて飽和
NaHCO₃水溶液100mlで洗浄、水洗（200ml
×３）し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
除去した。4.92ｇの固体を得た。 この固体をベンゼンにとかし、シリカゲル
（ワコーゲル）98ｇのカラムに通し、このシ
リカ・カラムをベンゼン−酢酸エチル（３：
１）で溶出し、溶出液から溶媒を留去する
と、次式 で表わされるアルデヒド体の2.2ｇを得た。
収率40.4％、このアルデヒド体はシリカゲル
TLC.上でベンゼン−酢酸エチル（１：１）
で展開するとRf0.33を示した。 NMR（CDCl₃）：δ2.0（ｓ，3H）2.25（ｓ，3H）
4.25（ｓ，2H）4.8（ｄ，Ｊ＝８，1H）5.1
（ｓ，1H）6.85（ｓ，1H）7.0〜7.7（15H）
9.5（ｓ，1H） マススクペクトル（ｍ／ｅ）：512（M⁺） なお、上記のシリカ・カラムをベンゼン−酢酸
エチル（１：１）で溶出し、その溶出液から溶媒
を留去すると、副成した次式 の化合物（グリセリンが２級アルコールとして反
応した生成物）の360mg（収率6.6％）が得られ
た。 (iii) 前項(ii)で得られた(C)のアルデヒド体の3.74
ｇ（7.23ミリモル）を37mlのアセトンに溶解
し、氷冷下０〜５℃でCrO₃−H₂SO₄溶液
（0.7ミリモル／ml）の2.4mlをゆつくり滴下
する（約10分）。15分間反応後、室温にもど
し15分間反応させた。氷冷下、0.96mlのメタ
ノールを加え10分間撹拌、酢酸エチル280ml、
飽和食塩水140mlを加えて分液した。50％飽
和食塩水70mlで２回洗い、水洗（70ml×２）、
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を除去し
た。3.44ｇの結晶を得た。エチルエーテル約
50mlでスラリーにして洗いエーテルを除くと
3.0ｇの結晶を得る。m.p.167〜167.5℃。収率
79％。この生成物はシリキカゲルTLC.で水
飽和酢酸エチル−メタノール（３：１）で展
開すると、Rf＝0.33を示した。この生成物は
次式 で表わされるヒドロキシ酢酸誘導体である。 NMR（CDCl₃）：δ2.0（ｓ，2H）2.2（ｓ，2H）4.1
（ABq，2H）4.75（ｄ，Ｊ＝８，1H）5.1
（ｓ，1H）6.8（ｓ，1H）7.0〜7.7（15H） マススペクトル（ｍ／ｅ）：528（M⁺） 赤外スペクトル（ヌジヨール）：1765，1720，
1635cm^-1 (iv) 前項(iii)で得た式(e)のヒドロキシ酢酸誘導体
の1.7ｇをメタノール55mlにとかし、−55℃〜
−50℃に冷却しオゾンO₃を吹き込む。45分
後には反応が完了した。その後15分間空気を
流してO₃を除去、酢酸エチルの160mlをゆつ
くりと加え、NaHSO₃（17ｇ）の320ml水溶
液（氷冷）の中にあけ分液した。水洗（30ml
×３）し、硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒
を除去した。1.7ｇの油状物を得た。この生
成物は次式 で表わされる化合物である。 (v) 前項(iv)で得た(f)の油状生成物の1.7ｇを17
mlのアセトンにとかし、このアセトン溶液
を、炭酸水素ナトリウムの270mg（3.22ミリ
モル）を含むメタノール（290ml）と水（5.8
ml）との混液（PH10）中に滴下する。滴下
後、室温にもどして30分間反応させた（滴下
後の黄色が淡黄色になる）。溶媒を除去し、
減圧下に２時間乾燥エーテル50mlを加えて固
化させる。固体をろ取した後に五酸化リン上
で乾燥し、固体880mgを得た。m.p.155℃（分
解）。収率95％。この生成物はシリカゲル
TLCで水飽和酢酸エチル−メタノール
（３：１）で展開すると、Rf＝0.12を示した。
この生成物は次式 で表わされるナトリウム塩形の化合物、（す
なわち表題の（3R，4R）−４−（ソジオカル
ボキシメトキシ）−３−ベンゾイルアミノ−
アゼチジン−２−オンである。 NMR（DMSO−d₆）：δ4.15（ｓ，2H）4.65（ｄ，
Ｊ＝８，1H）5.2（ｄ，Ｊ≒１，1H）7.3〜7.9
（5H）8.95（bs1H）9.1（ｄ，Ｊ＝８，1H） 赤外スペクトル（KBr）：3300，1755，1740，
1645cm^-1 (ロ) （3R，4R）−４−（3′−ｐ−ニトロフエニル
メトキシカルボニル−2′−オキサプロピルオキ
シ）−３−ベンゾイルアミノ−アゼチジン−２
−オンの製造 前項(イ)(v)で得た式(g)のナトリウム塩化合物の57
mg（0.2ミリモル）をTHFに懸濁し、この懸濁液
には無水3N−HClジオキサン溶液63μ（HCl量
0.19ミリモル）を氷冷下に滴下する。氷冷下15分
反応した後、溶媒を除去、減圧下に充分に乾燥後
（66mg）、アセトニトリル３mlを加え溶解した。溶
液を氷冷下撹拌し、36mg（0.22ミリモル）のカル
ボニルジイミダゾール

【式】を加 え、氷冷下に４時間反応する。得られた反応液中
には、次式 で表わされる活性アミド（イミダゾライド）が生
成、含有される。 上記の反応液に次式 で表わされるマロン酸のモノ（ｐ−ニトロフエニ
ルメチル）エステルのマグネシウム塩の120mg
（0.24ミリモル）を加え、氷冷下に30分間反応さ
せ、次に室温で2.5時間反応させると、２炭素伸
長反応により反応液中に次式 で示される表題化合物が生成される。 上記の化合物を含む反応液を再び氷冷し、酢酸
エチル５ml加え0.5N−HCl水溶液を４ml滴下す
る（PH約２）。分液し、５mlの水で洗い、50％飽
和NaHCO₃水溶液を（PH７〜８）10mlで洗い、
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮する
と80mgの黄色油状物を得る。 この黄色油状物を酢酸エチルにとかし、シリ
カ・ゲル（ワコーゲル）1.4ｇのカラムに通し、
クロロホルム20mlで展開する。その後、シリカゲ
ル・カラムををクロロホルム−酢酸エチル（１：
１）で溶出し、β−ケトエステルの形の式(j)の表
題化合物42mgを単離したm.p.151〜153℃。収率47
％。 NMR（CD₃COCD₃）：δ3.8（ｓ，2H）4.55（ｓ，
2H）4.85（dd，Ｊ＝8J＝１，1H）5.35
（3H）7.4〜8.5（10H） マススペクトル（ｍ／ｅ）：441（M⁺） 赤外スペクトル（ヌジヨール）：3350，1775，
1740，1720，1640cm^- (ハ) （3R，4R）−４−（3′−ｐ−ニトロフエニル
メトキシカルボニル−3′−ジアゾ−2′−オキサ
プロピルオキシ）−３−ベンゾイルアミノ−ア
ゼチジン−２−オンの製造 前項(ロ)で得た式(j)のβ−ケトエステル化合物の
67mg（0.15ミリモル）をアセトニトリル６mlにと
かし氷冷する。ｐ−カルボキシベンゼンスルホン
アジド42mg（0.18ミリモル）を加え撹拌する。10
分後トリエチルアミンの77μ（0.52ミリモル）
を滴下し、氷冷で10分後反応後室温で反応する。
50分間、析出する沈殿を濾去し濾液を濃縮する。
得られた固体をベンゼン−酢酸エチル（１：１）
混液にとかし、シリカ・ゲル（ワコーゲル）1.6
ｇのカラムにかけ、ベンゼン−酢酸エチル（１：
１）の20mlで展開した後に、酢酸エチルで溶出し
た。溶出液から溶媒を除くと、次式 で表わされる表題のジアゾ化合物の61mgを得た。
m.p.167℃（分解）、収率87％。この化合物はシリ
カゲルTLCでベンゼン−酢酸エチル（１：１）
で展開するとRf＝0.22を示した。 NMR（CD₃COCD₃）：δ4.75（dd，Ｊ＝8J＝１，
1H）4.8（ｓ，2H）5.25（ｄ，Ｊ＝１，1H）
5.4（ｓ，2H）7.4〜8.5（10H） 赤外スペクトル（ヌジヨール）：3300，2170，
1780，1773，1720cm^- 実施例 ２ 本例は参考例１(イ)(i)で用いた式(a)のオキサゾリ
ン誘導体から出発し、これにヒドロキシ酢酸メチ
ルエステルを反応させ、さらに前出の式(e)のヒド
ロキシ酢酸誘導体に至る別の調製法の例を示す。 前出の式(a)のオキサゾリン誘導体５ｇ（1.1ミ
リモル）を酢酸エチル（500ml）に溶解し、ヒド
ロキシ酢酸メチルエステル（40ml）を加え、氷
冷、撹拌する。この溶液に０〜５℃にて三フツ化
ホウ素・エチルエーテル複合体（BF₃・Et₂O）
（0.4ml）を加え30分反応し、次いで室温にて２時
間反応する。反応液に重曹水（2.5ml）、50％食塩
水（100ml）を加え、激しく撹拌後分液する。有
機層を水洗（100ml）、芒硝で乾燥後、濃縮乾固す
ると上記の式(l)の化合物（5.9ｇ）を得る。 この化合物(l)の粗製物をアセトン（200ml）に
溶解し、氷冷下1N−NaOH水（9.9ml）を加え１
時間反応する。次いで1N−HCl水9.9mlを加え濃
縮乾固し、残渣（6.2ｇ）を水洗、乾燥すると式
(e)の化合物（5.4ｇ）を得た。 参考例 １ （6R，7R）−７−ベンゾイルアミノ−３−メ
トキシ−１−オキサ−１−デチア−４−ｐ−ニ
トロフエニルメトキシカルボニル−３−セフエ
ムの合成 (イ) 次式 のジアゾ化合物すなわち（3R，4R）−４−
（3′−ｐ−ニトロフエニルメトキシカルボニル
−3′−ジアゾ−2′−オキサプロピルオキシ）−
３−ベンゾイルアミノ−アゼチジン−２−オン
（実施例１(ハ)の生成物）の30mg（0.064ミリモ
ル）と酢酸ロジウム（Rh（OAc）₂）の0.4mgを
６mlの酢酸エチルに懸濁し、N₂ガスを20分通
す。45〜48℃で加熱する。加熱中に出発物質は
除々に溶液となる。45〜48℃で30分間反応させ
た。反応液中には、閉環反応で生成した次式 の化合物が含まれる。 (ロ) 上記の反応液を氷冷し、さらに0.1ミリモ
ル／mlのジアゾメタンを含むエチルエーテル溶
液の６mlを加える。氷冷下５分間反応し、室温
で15分間反応する。 次に反応液をろ過し、溶媒を除去すると、33
mgの黄色物を得る。この黄色物をクロロホルム
に溶解しシリカ・ゲル（ワコーゲル）660mgの
クロマトグラフイにかけ、クロロホルム10mlで
展開後、クロロホルム−酢酸エチル（10：１）
で溶出し、溶媒を留去すると、結晶17mgを得
た。収率58％、m.p.192〜193℃、この結晶はシ
リカゲルTLCで展開溶媒ベンゼン−酢酸エチ
ル（１：１）で展開するとRf＝0.33を示した。 NMR（CDCl₃）：δ3.8（ｓ，3H）4.5（ABq，2H）
4.9（dd，Ｊ＝８，１，1H）5.05（ｄ，Ｊ＝
１，1H）5.35（ABq，2H）6.85（ｄ，Ｊ＝
８，1H）7.3〜8.2（9H） マススペクトル（ｍ／ｅ）：439（M⁺） 赤外スペクトル（ヌジヨール）：1790，1705，
1640cm^-1 上記の生成物は次式 で示される表題化合物であると同定された。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 次の一般式 〔式中、Ａはアシル基を表わし、R¹は水素又
   はメトキシ基を、R²はカルボキシル保護基を示
   す〕で表わされる４−（3′−置換カルボニル−
   3′−ジアゾ−2′−オキサプロピルオキシ）−３−
   アシルアミノ−アゼチジン−２−オン。