JPH02173162A - 顔料フレークの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、薄い真空付着フィルムから顔料フレークを製
造する方法に関する。結合剤に加えられて光を反射、透
過又は吸収することができる性質を持つフレーク類は、
プラズマ化学蒸着技術を利用して製造されている。

〈従来の技術〉 上述の通り、フレーク状顔料は結合剤に添加して面上に
塗布されると、光を反射、透過又は吸収する物質である
。この種のフレーク類は呼称厚み約５０オングストロー
ム乃至３００ミクロンで直径が数ミクロン乃至数百ミク
ロンの薄い板状の形状寸法を有する。ボロメイ等（Ｂｏ
ｌｏｍｅｙ　ａｔ　ａｌ、）に付与された米国特許第３
，１２３，４９０号（開示内容を０鳥文献としてここに
引用する）に教示されているように、上記の板は単一材
料又は２層若しくはそれ以上の層状配置の複数の材料か
ら成る。

フレーク状顔料を結合剤中に導入して面上に塗布すると
、フレークは互いに且つ塗布面に平行になる傾向を示す
。フレークの屈折率と結合剤の屈折率とが異なると、ボ
ロメイ等の教示するように、光が結合剤とフレークとの
界面で反射されて真珠に似た真珠光沢を与えることがあ
る。フレークが多層フィルムから成るようにし、且つ薄
層フィルム干渉構造に関する周知の設計技術に従って各
Ｍ間で屈折率を変えることにより、反射特性を制御する
ことができる。更に見る角度を変えると反射スペクトル
が変わるようにすることもできる。従って、直角の入射
角で見ると面が赤に見え、たとえば垂直から４５度の角
度で見ると青に見えるようにすることもできる。−例を
挙げると、ボロメイ等は、この種の顔料フレークを用い
フレークをポリメチルメタクリレート結合剤中に導入し
、得られたラッカーをガラスピーズに塗布して真珠のボ
タンに似せて天然の真珠の擬似品をつくることを教示し
ている。

顔料フレークを用いて、擬造防止インク又は塗料を製造
することもできる。この場合には、多層顔料フレークを
結合剤中に導入し、混合物をインクとして使用する。イ
ンクの色は、フレーク構造中の各層の厚み、数及び屈折
率によって定まる。

明らかに、視角が変わると色が変わり、この特性を利用
して通貨からブルー・ジーンズに至る各種物品が真物（
はんもの）であることが確認できる。

従来技術では、真空蒸着技術により顔料フレークが製造
されている。そのような技術は、フィルムの付着沈積さ
せることとフレーク状のフィルムを担体から取り除（の
を容易にするという二つの目的で採用されたものである
。たとえば、ボロメイ等は、真空の室内に取りつけた２
本のロールに厚さ２５ミル（０，６３５ｎｎ）のポリエ
ステル・フィルムの無端ベルトを用いることを教示して
いる。このベルトを夫々Ｎ　ａ、Ｂ４Ｏ７，Ｚ　ｎ　Ｓ
　。

ＭｇＦ、及びＺｎＳを別々に入れた四つのボートの上を
次々に移動させる。上に列記した化合物の１種を含む特
定のボート上をベルト区画が移動する際に、そのボート
の中でベルトに各物質の層が塗布され、剥離層として働
＜Ｎａ２Ｂ、Ｏ，層の上にＺｎＳ／ＭｇＦ２／ＺｎＳ界
面塗膜が塗布される。フレーク層の厚みを制御して、所
望の反射スペクトル及び透過スペクトルを持つようにす
ることができる。

ボロメイ等の方法により塗膜を形成させ塗膜と担体とを
大気圧に戻した後、ベルトを真空塗布器から引き離し、
剥離層を溶解する水で洗浄し、フィルムをポリエステル
製ベルトからはがす。これらのフレークは洗浄して剥離
層を取り除いた後、濾過し乾燥させる。

顔料フレークを製造する他の方法は、アッシュ等（Ａｓ
ｈ　ｅｔ　ａｌ、）に付与された米国特許第４，４３４
．０１０号に教示されている。この方法の場合。

大きな真空室内に置かれたポリエチレン担体上に干渉フ
ィルムを塗布する。室から取り出した後、担体をアセト
ン又はその他の適宜な溶剤に溶解することにより、フレ
ーク状にして取り去る。この場合も、フレークを濾過し
乾燥しなければならない。

ボロメイ等及びアッシュ等の教示する技術を考えると、
多量の顔料フレークの製造のためには、大型で高価な真
空設備を必要とし、更に真空室の外部で行なわれる湿式
法によって顔料フィルムを担体から引き離さなければな
らないという厄介な仕事があることは明らかである。こ
の仕事をするには、真空室内を先ず低圧にし、フィルム
を担体上に蒸着させた後に室に通気して大気圧状態にし
て担体をアセトン又は離型剤に対するアセトン類似の溶
剤にあて、更に溶媒からフレークを取り出すために濾過
及び乾燥が必要となる。

従来技術の方法は、明らかに、多くの要因によって制約
されている。たとえば、フレークを形成する層の速度及
び厚みに支配されるロール塗布器内で所与の時間内に付
着（蒸着）するフレーク製造材料の質量には限りがある
。例としてボロメイ等の方法を採用し担体の幅を０．３
０５ｍ　（，１フイート）とし蒸着速度をボロメイ等に
よって与えられた速度とした場合には、０．１〜０．２
ｇ／ｓｉｎの質量の沈積（蒸着）を期待できる。極めて
大型のロール塗布器では一般的であり、ウェッブ幅１．
５２４ｍ　（５フィート）を採用した場合には、０．５
〜Ｉｇ／分の速度にしかならない。従来の方法を検討す
ると、一般的に厚みを良好に制御した真空ロール塗布機
付着誘導体では、上記の速度が代表的なものであるごヒ
袋マ判ヨｑｔｚｒＳ。

〈発明が解決しようとする課題〉 上述のような従来法の実施上の欠点を持たない顔料フレ
ーク材を堤供することが本発明の目的である。

本発明の他の目的は、安価な設備を用いて比較的高速で
顔料フィルム材を製造することである。

本発明の更に別の目的は、フレーク状の薄いフィルム材
料を該フィルムが蒸着している担体から引き離す効率の
良い方法を提供することである。

上述及びその他の目的は、以下の説明及び添付の図面か
らより明瞭になるものであろう。

く課題を解決するための手段〉 本発明は、小板状の形の顔料を製造する方法に関する。

本発明の方法は、室を準備し、その室内を真空にし、プ
ラズマ発生装置にあてるとプラズマを発生するガス類を
室内に供給する工程からなる。次いで、室内でプラズマ
を発生させ、室壁上にフィルムを形成させる。次に、室
壁からフレークの形で前記フィルムを引き離して、室か
ら取り出す。

上で言及したプラズマは室内部をマイクロ波又はラジオ
波のキャビティにすることにより、発生する。キャビテ
ィを静止させておいてキャビティ内部で室を移動させる
か、或いはキャビティを室に対して担体移動させる。本
発明の別の実施例においては、室及びキャビティの両方
を静止させておき、室内で電気的にプラズマを移動させ
るか若しくはパルスをオン・オフさせる。

蒸着が行なわれる室は円筒形チューブであるのが普通で
あるが、これは必ずしも必須要件ではない。更に、室壁
自体の上ではなく室内部の担体上に付着蒸着させること
もできる。

〈実施例〉 上でも述にたように、本発明においてはプラズマ化学蒸
着の原理を利用して、比較的高い蒸着質量速度でチュー
ブの内壁上又は誘電性面上に薄いフィルムを蒸着させる
。一実施例においては、プラズマ化学蒸着が行なわれて
いる真空装置からチューブ又は誘電性面を取り出すこと
なく、フレーム形状のフィルムを取り出す技術も提供さ
れる。

このような実施例によれば、比較的安価な設備を用いて
真空室の外部においてフレークを除去する必要もなく、
高速度でフレークを製造される。

本発明の一実施例においては、通常は直径１．２７−５
．０８ｃｍ（０，５〜２インチ）のガラス・チューブの
内壁にフィルムの付着が起こる。チューブはマイクロ波
キャビティを通り過ぎ、減圧され、ガラス・チューブを
通して前駆物質ガス類が吹き込まれる。次に、マイクロ
波キャビティ内に置かれた区域内のチューブ内部にプラ
ズマをあてる。このマイクロ波キャビティは、プラズマ
とともに該キャビティをチューブに沿って前後に移動さ
せるステップ・モータに取りつけておくことができる。

キャビティを前後に走らせると、プラズマ区域内のチュ
ーブ内壁上に薄いフィルムが付着する。プラズマは、チ
ューブ内壁に薄い層を塗りつける「塗布ブラシ」と見る
こともできる。極めて強いプラズマ中では付着沈積が起
こるので、高質量付着速度が得られる。この技術は、光
学繊維プレホームをつくるために使用されている同様の
工程について光学繊維の分野で知られており、たとえば
クツパー（ｋｕｐｐｅｒ）等に付与された米国特許第４
，１４５，４５６号に開示されており、この先行特許明
細書を参考文献としてここで引用しておく。

明らかに、付着した薄いフィルムの性質は前駆物質材料
によって定まる。従って、５ｉＣＱ、、とｏ２の混合物
は結果として５ｉｎ２フイルムを生じ、ＴｊＣＱ４と０
２の混合物は結果としてＴｉ○２フィルムとなる。更に
、前恥物質材料を交互に用いると、多層フィルムがつく
られる。即ち、５ｉＣＱ４＋０２とＴｉＣＡ４＋０２と
を交互に使用すると、５ｉｎ２／Ｔｉｅ２多層体ができ
る。

本発明の一実施例によれば、所望の多層フィルムを形成
した後に、熱ショック又はその他の適宜な手段で、チュ
ーブを真空室から出すことなくフィルムが形成されてい
る誘電性担体からフィルムを破壊して解き放つことがで
きることを意図している。窒素その他の適宜なガスを内
部に流すことによりフィルム材料のフレークをチューブ
から摘出すると、フレークはフィルタの下向流により、
チューブの出口端から集められることができる。

このようにして、多層フィルム蒸着、フィルム取りはず
し、及びフレークの収集工程を同一チューブを用いて繰
り返すことが可能である。最終の結果として、これまで
使用されて来たロール型塗布器よりも安価な設備中で高
速度でフレークを製造できる方法になる。更に、好まし
いことには１本発明を実施する場合には、塗布器の外部
で湿式１程を行なう必要がない。

第１図において、プラズマ発生装置７は、好ましくは、
マイクロ波マグネトロンであるが、ラジオ波及び直流発
生器を用いることもできる。誘電体チューブ１は、端部
カラー２によって真空密封され、ポンプ９によって真空
にされる。プラズマ発生装置７により電力が供給されて
いるｌマイクロ波キャビティ３をチューブ１が通過する
時、質量流制御器によりチューブ１内に放射されるガス
１１とキャビティ内の電場との相互作用により真空チユ
ーブ１内部でプラズマ４が生じる。チューブに入って来
るガス１１は、プラズマ領域に達するまでは化学的反応
を行なわず、プラズマ領域で活性化されてチューブ壁土
にフィルム１２を形成する。

マイクロ波キャビティ３は、該キャビティを移動させ惹
いてはプラズマを矢印１０で示すようにチューブに沿っ
て前後に移動させるキャビティ移動装置８に付設するこ
とができる。この前後移りＪの結果、チューブの長さ方
向に沿って均一なフィルムが形成される。１回の走行に
よって蒸着されるフィルムの厚さは、ガス流１１及びマ
イクロ波キャビティの矢印１０方向の移動速度によって
制御される。蒸着物質が層毎に異なる多層フィルムは、
導入するガス類の適宜な変更切換によって蒸着できる。

本発明の有用性を更に例示するために、スペクトルの可
視域を反射又は吸収し、波長２〜４ミクロンの光を透過
させるよう設計した多層フィルムを製造した。この多層
フィルムは、５ｉ０２層とこれと交互に配設したＳｉ層
とから成る。各層の厚さは、干渉フィルター設計技術を
利用して計算される。このフィルムの場合、層の数は通
常３０層である。

このような複数の層をつくるために、先ず先行ガスを選
定した。本例の場合、Ｓｉ層形成のためにはＳ　ｉ　Ｈ
４を、ＳｉＯ□暦形成のためには５ｉＣ１４＋０２を用
いた。

Ｓｉの第−層をつくるために、誘電体チューブ１にＳｉ
Ｈ４を供給した。誘電体チューブ１は、直径２．５４ｃ
ｍａ（１インチ）のガラス・チューブから成る。Ｓ　ｉ
　Ｈ，ガスは、１００〜２００ｓｅｃｍの流速で反応室
内に供給され、プラズマ発生のために使用した呼称マイ
クロ波電力は、約１０００ワツトであった。

流速及び電力を一定に維持し、チューブ壁上にＳｉの第
−層が蒸着するまでチューブに沿ってプラズマで走査し
た。次に、ＳｉＨ４流を止め、５ｉｎ２の第二層を蒸着
させるために５ｉＣ１，と酸素とを流し始めた。流速は
５ｉＣ１４及び０２の夫々について１０１００５ｅとし
た。３０層の構造ができあがるまで上記の工程を繰り返
した。

光学フィルタ中の各層の厚みは、一般的には、±３〜±
１０％の誤差範囲内におさまるよう制御されなければな
らない。本発明を採用する際、この工程は種々の方法で
成し遂げられつる。プラズマの１走行（１走査）で蒸着
する厚みは、流量制限ガスの質量流に比例し、且つチュ
ーブに沿ったマイクロ波キャビティの速度に反比例する
から、たとえば単純な時間−速度技法を用いることがで
きる。質量流制御器とステッピング・モータとを用いれ
ば、一般的には上記の各因子を１％の誤差範囲で制御で
きる。もう一つの厚み監視技法としては、チューブ内部
で成長しつつあるフィルムから反射されるレーザ・ビー
ムを用いる方法がある。

たとえば、チューブ内のフィルムが可視光線透過性であ
る場合には、ヘリウム・ネオン・レーザを使用すればよ
い。光学用塗膜工業分野では、周知の技術に従って５反
射率を利用して各層の厚みを監視することができる。

更に、本発明の第二の実施例を第６図に示す。

本実施例においては、プラズマはキャビティ内で静止し
ている波によって発生するのではなく、マイクロ波供給
装置によってチューブの一端部から発射される表面波に
よって発生する。この例では。

プラズマはキャビティの内部で発生するのに対し、第一
の実施例においては、波発射装置の外部でプラズマが発
生する。「サファトロンＪ　（Ｓｕｒｆａｔｒｏ口）と
呼ばれることが多いこの種の表面波装置は、チャカー等
（Ｃｈａｋｅｒ　ａｔ　ａｌ、）により、Ｊ、　Ｐｈｙ
ｓ。

Ｌｅｔｔｅｒｓ、　５３Ｌ、　７１　（１９８２年）に
記述され、又、マレク等（Ｍａｒｅｃ　ｅｔ　ａｌ、　
）により［ガスの電気絶縁破壊及び放電Ｊ　　（Ｅｌｅ
ｃ、　Ｂｒｅａｋｄｏｔｉｎａｎｄ　Ｄｉｓｃｈａｒｓ
ｅ　ｉｎ　Ｇａ５ｅｓ）としてプレナム出版社（Ｐｌｅ
ｎｕａ＋　Ｐｕｂ、　Ｃｏｒｐ、　）からのＢ、３４７
　（１９８３年）として記載されている。この種の装置
を用い、チューブに沿ったプラズマ・カラムの長さを変
動させることにより、チューブ内部にフィルムを付着で
きることが教示されている。上記の長さ変動は、静止し
た発射装置への電力変動を伴なう。そして移動している
カラムの前方端部においてのみ付着が起こるから、入力
マイクロ波電力を増減させることにより、チューブに沿
って付着領域を前後に動かして走査することができる。

より明確に言えば、誘電体チューブ４０を表面波発射装
置４１に挿入し、ポンプ４２によって内部を真空にする
。この表面波発射装置はマイクロ波発生器５３によって
賦活されており、前駆物質ガス類は流量制御を行ないつ
つ、流れ制御器４３を介して供給容器４４から供給され
る。

マイクロ波発生装置から表面波発射装置４１に電力が供
給されると、プラズマ４５が真空にされたチューブ４０
の内面にあたる。このプラズマの長さ４６は、マイクロ
波発生装置からの電力を増すことにより増大する。斯く
して、マイクロ波電力を変えることにより、チューブ内
面に沿ってプラズマの端部を前後に走査できる。

前駆物質ガス混合物がプラズマ・カラムに入ると、フィ
ルム４７の付着が起こる。考慮対象の諸物質について言
えば、プラズマ端部の数センチメートル以内で付着は完
了し、前駆物質は実質的に１００％消耗される。従って
、たとえばＳｉｎ２層を塗布するためには、前駆物質ガ
ス類として、５ｉＣ１，と、０□との混合物を用いれば
よい。これらのガスをマイクロ波出力を入れると同時に
流し始めるようにすれば、結果としてプラズマ・カラム
４６を最小にできる。マイクロ波発生装置の出力を増す
につれて、制御下でプラズマ長が増して、その結果、誘
電体チューブの内面上にＳｉｎ、層が付着する。複数の
多層フィルムが付着するまで。

上記の工程を繰り返すことができる。

本発明の実施にあたっては、幾つかのプラズマ塗布方式
を採用できることを御理解されるにちがいない。第１図
乃至第６図に図示した実施例に加えて、パルス型システ
ムが採用されることが考慮される。この場合には、真空
にした室内の圧力が所定レベルになるまで前駆物質をそ
の室に供給する。その後、前駆物質流を止め、チューブ
全体にパルス・プラズマ放電を行なう。このパルス放電
は、通常数ミリ秒続けられるが、この時間中にチューブ
内の前駆物質は、チューブ壁土へのフィルムの付着によ
り取り去られ、その後、生成ガス類は系からポンプ圧送
により送り出される。所望のフィルム厚さになるまで、
上記工程を繰り返す。

更に別の実施例においては、誘電体円筒形チューブを導
波管に挿入し、簡単な進行波を用いてプラズマを発生さ
せてもよい。

種々のフィルム層を付着させるために、何れの実施例を
用いるにせよ１本発明の実施にあたっては、上記の各フ
ィルムをフレーク状で管面から取り除くことが意図され
ている。

本発明によれば、数種の方法でフィルム除去が行なわれ
る。たとえば、フィルムの除去及びフレーク化に用いる
ことができるフィルム内部応力は。

基本的には固有の性質及び／又は熱特性である。

フィルムを所定温度で付着させると、固有ストレス（内
部応力）が生じる。熱ストレスは、フィルム温度を付着
温度と異なる温度に変化させると生じ、多層フィルム物
質と担体との間の通常は異なる熱膨張係数の結果生じる
ものである。フィルム内部の固有ストレス及び熱ストレ
スの組合せが緊張ストレスとなり、担体へのフィルムの
接着力よりも大きくなると、フィルムは複数の小板に砕
け、所望に応じて担体から剥れてフレークとなる。

上記のフィルム除去の例として、前駆物質ガスとしてＳ
　ｉ　Ｃ１４＋０２及びＴｉＣｌ４＋０２の組合せを用
いて、石英チューブの内面に５ｉｎ２／ＴｉＯ□多層フ
ィルムを付着させた。この配置例は、交互層になったＳ
　ｉ　Ｏ，及びＴｉＯ２フィルム３１層から成り、全体
厚みが約２ミクロンであった。付着温度は約３００℃で
、付着前における石英チューブの処理は行なわなかった
。冷却すると、ＳｉＯ，／ＴｉＯ２多層フィルムがフレ
ークを形成し、このフレークが担体面から容易に落下す
るのが認められた。たとえば窒素のような「排気ガス」
を以下に記載するようにしてポンプ圧送によりチューブ
に流すことにより、フレークを容易に掃き出すことがで
きた。

５ｉｎ２／Ｔｉｅ２フイルムは、該フィルムが付着して
いる石英チューブよりも大きな熱膨張係数を示す。従っ
て、付着後に冷却することによりフィルムに強いストレ
スを生じさせてフレーク形成に導くことができた。チュ
ーブがフィルムの熱膨張率よりも大きな熱膨張率を持つ
ときには、フィルム／チューブ構造体を付着温度より高
く加熱することにより緊張ストレスを生しさせることが
できる。

蒸着して更なるフィルム材料として付着することが不可
能なガスのプラズマを発生させることにより、フィルム
／チューブ組合せ体の温度を上昇させ緊張ストレスを増
大できるということがオ〕かった。−例を挙げると、充
分な量の窒素を反応室に導入して強いプラズマを維持し
、これによりマイクロ波出力を増大させて１０００℃を
越える温度にすることができる。この結果、プラズマ発
生装置の１回の走査中にフィルムを剥ぎ取り、フレーク
状にするのに充分な熱ストレスが得られる。

第２図に、本発明の更にもう一つの実施例を示しである
が、この実施例では顔料含有フィルムのフレーク状除去
を促進させるために、離型層が設けられている。本実施
例の場合、管状担体１３上に第−層をは型層１４として
付着させる。離型層上面に先の実施例で配設したと同様
にして、多層１５を付着させることができる。

離型層及びこれと組み合わせる離型メカニズムは種々の
形にすることができる。たとえば、テフロン（Ｔｅｆｌ
ｏｎ　：　Ｗ録商標）を用いてもよい。テフロンのプラ
ズマ重合及び付着は周知技術である。

テフロンの温度を約３５０〜４００℃に上昇させると、
テフロンが分解低重合化及び／又は蒸発して、固体状フ
ィルムからガスになる。このために塗布済みのチューブ
下部で低速高出力のマイクロ波プラズマ発生装置を用い
て、テフロン層を低重合化させて所望に応じてチューブ
から塗膜をフレーク化すればよい。適宜な解放特性とす
るためにテフロン層を非常に厚くする必要はない。たと
えば、多層赤外線放出フィルムの厚みが数ミクロンであ
るときに、効率的な解放除去を行なうに必要なテフロン
の厚みは、たかだか数十又は数百オングストロームでよ
い。このようにテフロンの相対厚さが小さいということ
は、はとんどの製品に対しフレーク上に残る少量の離型
剤が害を及ぼさないため、完全な重合又は蒸発の必要性
を緩和することとなる。

別法として、離型剤としてＮ２Ｂ４０７を用いることも
できる。上に述へたように、この物質は水に回答であり
、フィルムの解放除去の促進のために水を使用しようと
望むときに、用いられる。

第３図に、本発明の更に他の実施例を示しであるが、こ
の実施例では各層がフレークの製造源となる多層フィル
ムを分離又は隔離している多数層の離型剤層が設けられ
ている。第３図を参照して説明すると、管状担体内に先
ず第１の離型／１Ｗ１８を塗布し、次いで多層フィルム
１９を付着させる。

更に、第二の離型層２０を塗布し、全体厚さが実施上の
限界になるまで繰返し続ける。その後、−回の解除操作
により、数枚の多層フィルムはチューブから割り除かれ
、互いに分離する。

固有ストレス及び熱ストレスが誘電体面から顔料含有フ
ィルムを除去するに不充分であると認められたときには
１機械的な振動は、分離を完全にするのに用いてもよい
ということが理解される。

この場合、そのような振動を与えるために、チューブに
音波又は超音波変換器を取りつけるのが便利な技法であ
ることがわかった。

上記の如く、フィルムをフレーク状にしてチューブ壁部
から解除する際、チューブからフレークを除去するため
のメカニズムの提供が意図されている。真空システムか
らチューブを取り出さずに以下の二つの方法の何れかに
より効率良く除去を行なうことができる。その一つの方
法としては、大気圧よりも高い圧力で反応室内部にガス
を適用することにより、フレークを吹き出すこともでき
。

別法としては、適宜な位置に置いた真空ポンプによりフ
レークを引き出すこともできる。何れの場合においても
、チューブを真空室から取り出すことなくフレークの除
去が成し遂げられる。

第４図に高圧フレーク除去システムを例示する第一実施
例を示す。制御弁２５を介して高圧容器２４からガスを
吹き出させることにより、フレークはチューブ２３から
吹き飛ばされる。高圧ガスは、フレークの入っているチ
ューブ２３を流れ、次いでもう一つの制御弁２６を通っ
て収集容器２７に入る。この収集容器は、該容器の上部
に位置するフィルタ２８を介して大気圧に開口している
。このフィルタは高圧ガスを逃がすとともにフレークの
飛散を防止し、ガス流を止めたときに上記フレークは容
器２７の底部に集まる。フィルムの付着時には、弁２５
及び２６を閉じ、前味物質系３０からの流れを制御する
弁２９を開口させ、同様に真空ポンプ・ラインの弁３１
を開口させる。

チューブ壁からのフィルム除去がプラズマを必要とする
とき、大気圧下におけるプラズマの発生が困難である場
合には、窒素又はアルゴン等のようなガスを用いて室内
の圧力を一定レベルにして。

プラズマ準備操作を容易にすることができる。不活性ガ
ス導入後、チューブの全部の弁を閉じ、流動しないガス
を用いてプラズマを維持させてフィルムを壁部でフレー
ク状にする。次に、チューブを系から取り出すことなく
系を自動的に蒸着モードからフィルム除去モードに切り
換えることができる。このようにして、効率の高いフレ
ーク除去・収集技術を含む本発明の目的が達成できる。

第５図にフレーク除去システムの更に別の例を示すが、
この場合には、大気圧よりも低い圧力が用いられる。フ
レーク除去時には、チューブをガス供給源に接続するラ
イン中の制御弁３２は開いている。系の出口端部即ちポ
ンプ側の端部において、バイパス弁３４は、掃気ガスを
フレークが集められフィルタ３６を取り付けた収集室３
５を通るよう分路させる。次いで、掃気ガスは真空ポン
プによって系に圧入される。収集操作後、系は弁３４及
び３２が閉じ、蒸着ガス系３８からの前駆物質流を制御
する弁３７と弁３９とが開いている蒸着モードに切り換
えられる。

次のフィルム蒸着が行なわれている間にフィルタ３５を
収集室３６から取りはずして、集まったフレークを除去
する。この操作は、各蒸着サイクル毎に行なわねばなら
ないわけではなく、フレーク除去時に、ポンプ圧送が可
能な程度にフィルタを清浄に保つのに必要となる度に行
なえばよい。

フィルム及びフレークのその場位置除去は、幾つかの利
点をもつものではあるが、フィルム及びフレークをオフ
・ライン工程で除去して本発明を実施することもできる
。従って、チューブを第１図のシステムで塗布し、シス
テムからチューブを取り出し、フィルムのフレーク化の
ためのチューブ炉に入れ、最終的にフレーク収集のため
の装置に入れることもできる。湿式法は、既述のように
好ましくはないけれども、フィルム及びフレークの除去
は湿式法によって行なうこともできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は１本発明に従って誘電体チューブの内側に薄い
フィルム状の多層体を付着させるために使用されつるプ
ラズマ化学蒸着システムの概略説明図である。 第２図は１本発明に従って離型層上に付着させた多層フ
ィルムの側断面図である。 第３図は、＃ｉ型層により分離されている数層の多層ス
タックの側断面図である。 第４図は、顔料フレークが付着したチューブ壁から離し
た後にチューブ内側から顔料フレークを取り出すために
使用することができる高圧システムの概略説明図である
。 第５図は、顔料フレークをチューブの内側から取り出す
ための低圧システムの概略説明図である。 第６図は、本発明のプラズマ化学蒸着システムの別の実
施例を示す図である。 １・・誘電体チューブ、３・・マイクロ波キャビティ、
４・・プラズマ、６・・質量流制御器、７・・プラズマ
発生装置（マイクロ波マグネトロン）、８・・プラズマ
・キャビティ移動装置、９・・ポンプ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）室内に担体を入れ、室内部を真空にし、プラズマ発
   生装置にあてるとプラズマを形成できるガスを室内部に
   供給し、該室内部でプラズマを発生させて前記担体の表
   面上にフィルムを形成させ、形成したフィルムを担体か
   らフレークとして剥離させた後に前記の室から取り出す
   ことを特徴とするフィルム状フレークの製造方法。 ２）前記プラズマが周波数０乃至１００ギガヘルツの電
   場内に前記の室を運び入れることによって作り出される
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ３）前記のキャビティ又は電場を前記の室に沿って移動
   させることにより前記担体でプラズマを発生させること
   を特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の方法。 ４）前記担体がチューブ状に形成された誘電体材料から
   成ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方
   法。 ５）前記担体がガラス・チューブより成ることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ６）前記フレークの厚みが、ほぼ５００オングストロー
   ム乃至３０ミクロンであることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項に記載の方法。 ７）内壁及び外壁を持つ中空チューブ状部材の形の室を
   用意し、室内部を真空にし、プラズマ発生装置にあてる
   とプラズマを形成できるガスを室内部に供給し、室内部
   でプラズマを発生させて前記の室の内壁上にフィルムを
   形成させ、形成したフィルムを室の内壁からフレークと
   して剥離させた後に前記の室から取り出すことを特徴と
   するフィルム状フレークの製造方法。 ８）前記プラズマ発生装置が、表面波発射器より成るこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第７項に記載の方法。 ９）前記表面波発射器の出力を変動させてプラズマを前
   記の室の内壁に沿って移動させることを特徴とする特許
   請求の範囲第８項に記載の方法。 １０）前記の室全体にパルス放電を行なうことにより前
   記プラズマを発生させることを特徴とする特許請求の範
   囲第７項に記載の方法。 １１）前記フィルムが前記担体からフレークになるのに
   充分な応力を前記フィルムに印加することを特徴とする
   特許請求の範囲第１項に記載の方法。 １２）前記フィルムが前記の室からフレークになるのに
   充分な応力を前記のフィルムに印加することを特徴とす
   る特許請求の範囲第７項に記載の方法。 １３）前記フィルム及びフィルムを支持する面の温度を
   変化させることにより前記応力を発生させることを特徴
   とする特許請求の範囲第１１項又は第１２項に記載の方
   法。 １４）プラズマがあたってもフィルムを付着させること
   のない第二のガスを室内に導入し、前記の第二のガスを
   プラズマに変換させることにより温度変化を生じさせる
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１３項に記載の方法
   。 １５）前記フィルムを付着させる前に前記担体上に離型
   層を付着させておくことを特徴とする特許請求の範囲第
   １項に記載の方法。 １６）前記フィルムを付着させる前に室の内壁上に離型
   層を付着させておくことを特徴とする特許請求の範囲第
   ７項に記載の方法。 １７）前記離型層が、プラズマ重合によって付着された
   テフロン（登録商標）から成ることを特徴とする特許請
   求の範囲第１５項又は第１６項に記載の方法。 １８）前記離型層が、Ｎ＿２Ｂ＿４Ｏ＿７のフィルムか
   ら成ることを特徴とする特許請求の範囲第１５項又は第
   １６項に記載の方法。 １９）後に付着せしめられる複数のフィルムの中間に１
   層又は２層以上の追加の離型層が付着されることを特徴
   とする特許請求の範囲第１５項又は第１６項に記載の方
   法。 ２０）高圧ガスを吹き付けて前記フレークを室から吹き
   出す方法により前記フレークを室から取り出すことを特
   徴とする特許請求の範囲第１項又は第７項に記載の方法
   。 ２１）室内の圧力を大気圧よりも低圧に保持しながら、
   室内にガスを流し入れる方法により前記の室からフレー
   クを取り出すことを特徴とする特許請求の範囲第１項又
   は第７項に記載の方法。 ２２）機械的な剥離により前記の室からフレークを取り
   出すことを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第７項
   に記載の方法。