JPH02169067A - 被膜形成方法 - Google Patents
被膜形成方法Info
- Publication number
- JPH02169067A JPH02169067A JP32244488A JP32244488A JPH02169067A JP H02169067 A JPH02169067 A JP H02169067A JP 32244488 A JP32244488 A JP 32244488A JP 32244488 A JP32244488 A JP 32244488A JP H02169067 A JPH02169067 A JP H02169067A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- group
- compound
- compd
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims abstract description 10
- 238000003892 spreading Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract description 10
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 23
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 11
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 7
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- -1 perfluoro groups Chemical group 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N hypofluorous acid Chemical compound FO AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RGEOFKQEGVQSBX-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibutylpyridine Chemical compound CCCCC1=CC=CC(CCCC)=N1 RGEOFKQEGVQSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 206010047700 Vomiting Diseases 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- BLBBMBKUUHYSMI-UHFFFAOYSA-N furan-2,3,4,5-tetrol Chemical compound OC=1OC(O)=C(O)C=1O BLBBMBKUUHYSMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008673 vomiting Effects 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N allyl isocyanate Chemical compound C=CCN=C=O HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003110 anti-inflammatory effect Effects 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZRAOJSFRKWPD-UHFFFAOYSA-N isocyanatosilane Chemical compound [SiH3]N=C=O BUZRAOJSFRKWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 210000001258 synovial membrane Anatomy 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は撲水撲油性、潤滑性、および防錆性を示す被膜
を形成する方法に関するものである。
を形成する方法に関するものである。
従来、撲水撲油性、潤滑性、および防M性を示す被膜形
成物質としてはフッ素化合物やフッ素(支)脂が知られ
ている。
成物質としてはフッ素化合物やフッ素(支)脂が知られ
ている。
上記フッ素化合物やフッ素樹脂の俣水撲油性ヰそれ等の
有するパーフルオロアルキル基に存するものである。
有するパーフルオロアルキル基に存するものである。
しかしなから上記フッ素化合物やフッ素樹脂に2いてに
それら被膜を形成した場合に、それらの有するパーフル
オロ基が有効に被膜表面に配向嘔れるとは限らず、パー
フルオロアルキル基の優れた撲水撲油性を最大限に利用
するものではなかつた。
それら被膜を形成した場合に、それらの有するパーフル
オロ基が有効に被膜表面に配向嘔れるとは限らず、パー
フルオロアルキル基の優れた撲水撲油性を最大限に利用
するものではなかつた。
本発明は上記従来の課題を解決するための手段として、
分子鎖の一端1cパーフルオロアルキル基を有し、他端
に加水分解可能なシリル基?有する被膜形成物質の溶液
を水面上に展開して被膜を形成する被膜形成方法を提供
するものでるる。
分子鎖の一端1cパーフルオロアルキル基を有し、他端
に加水分解可能なシリル基?有する被膜形成物質の溶液
を水面上に展開して被膜を形成する被膜形成方法を提供
するものでるる。
上記本発明に用いらt(る被膜形成物質は例えば下記の
方法によ−て合成される。
方法によ−て合成される。
(1)分子鎖の一端にパーフルオロアルキル基を有し他
端に官能基を有する化合物Aと5分子鎖の−端rc加水
分解可能々シリル基を有し他端に化合物Aの官能基と反
応可能な官能基を有する化合物Bとを反応せしめること
によりで合成する。
端に官能基を有する化合物Aと5分子鎖の−端rc加水
分解可能々シリル基を有し他端に化合物Aの官能基と反
応可能な官能基を有する化合物Bとを反応せしめること
によりで合成する。
ここに加水分解可能なシリル基とは下記の構造を有する
ものである。
ものである。
一8t Xp
式中Rfiアル千ル基、アリール基、アラルキル基から
選ばれる2価の炭化水素基、Xは例えはアルコキシル基
、ハロゲン等の加水分解可能な基。
選ばれる2価の炭化水素基、Xは例えはアルコキシル基
、ハロゲン等の加水分解可能な基。
Pに1.2.8の整数でるる。
また化合物Aと化合物Bとの官能基は例えば第1表のよ
うな組合わせか適用される。
うな組合わせか適用される。
第1表
したがりて本発明に用いられる?!!!膜形成物質は例
えば下記の構造式1で表わすことが出来るであろう。
えば下記の構造式1で表わすことが出来るであろう。
式中I、m、nは整数、Yは第1表に例示するようなエ
ステル結合、エーテル結合、アミド結合。
ステル結合、エーテル結合、アミド結合。
ウレタン結合、尿素結合等でるる。
(2)分子鎖の一端にパーフルオロアルキル基を有シ他
端に官能基を有する化合物Aと1分子鎖の一端に化合物
Aの官能基と反応可能な官能基を有し他端に炭素−炭素
二重結合を有する化合物Cとを反応させ5次いで化合物
C部分の炭素−炭素二重結合に加水分解可能なシラン化
合物を反応ちぜる。この場合の化合物Aと化合物Cの官
能基は第1表の組合ゼと同様なものでるり、得られる被
膜形成物質に構造式1と同一の構造を有する。
端に官能基を有する化合物Aと1分子鎖の一端に化合物
Aの官能基と反応可能な官能基を有し他端に炭素−炭素
二重結合を有する化合物Cとを反応させ5次いで化合物
C部分の炭素−炭素二重結合に加水分解可能なシラン化
合物を反応ちぜる。この場合の化合物Aと化合物Cの官
能基は第1表の組合ゼと同様なものでるり、得られる被
膜形成物質に構造式1と同一の構造を有する。
本発明に用いられる被膜形成物質蝶上記合成方法(1)
、 (2)によ−て合成ちれる構造式(1)を有する
化合物以外に例えば下記の構造式(21、(a)を有す
る化合物も本発明に用いられる*#膜形成物質含まれる
。
、 (2)によ−て合成ちれる構造式(1)を有する
化合物以外に例えば下記の構造式(21、(a)を有す
る化合物も本発明に用いられる*#膜形成物質含まれる
。
このようにし、て得られた本発明に用いられる被膜形成
物質をm剤に溶解させた溶液を・水面上に展開してlI
膜を形成させる。このような?II膜形成方法はラング
ミ、アブクジエツト法(LB法)と呼ばれる。LB法に
よれば得られる被膜の疾水俣油性能等が他の被膜形成方
法例えばキダスト法やスピンコード法に比してより優れ
たものとなる。LB法においては本発明の被膜形成物質
を例えばメチレンクロライY、トリ/ロロエタン、 ト
IJ クロロエチレン、アセトン、メチルエテルケトン
、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル等の有機溶剤に溶解
爆ぜて溶液とし、該溶液を水面上に展開して該被膜形成
物質の単分子膜を作成し、該単分子膜を基板上にすくい
とる方法でるる。この場合、該単分子膜を一対の障壁間
VCおいて圧縮して該単分子膜表面のパーフルオロ基を
最充填密度の状態にすることが望ましく、また該単分子
膜をつづら折り伏に折り畳ねて膜厚を犬としてもよい。
物質をm剤に溶解させた溶液を・水面上に展開してlI
膜を形成させる。このような?II膜形成方法はラング
ミ、アブクジエツト法(LB法)と呼ばれる。LB法に
よれば得られる被膜の疾水俣油性能等が他の被膜形成方
法例えばキダスト法やスピンコード法に比してより優れ
たものとなる。LB法においては本発明の被膜形成物質
を例えばメチレンクロライY、トリ/ロロエタン、 ト
IJ クロロエチレン、アセトン、メチルエテルケトン
、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル等の有機溶剤に溶解
爆ぜて溶液とし、該溶液を水面上に展開して該被膜形成
物質の単分子膜を作成し、該単分子膜を基板上にすくい
とる方法でるる。この場合、該単分子膜を一対の障壁間
VCおいて圧縮して該単分子膜表面のパーフルオロ基を
最充填密度の状態にすることが望ましく、また該単分子
膜をつづら折り伏に折り畳ねて膜厚を犬としてもよい。
このような本発明の方法によ−て作成嘔れた被膜によっ
て被覆された基板が得られるが、該基板としては金属、
プラスチック、あるいは磁気記録担体、光磁気記録担体
等種々なものが対象になる。
て被覆された基板が得られるが、該基板としては金属、
プラスチック、あるいは磁気記録担体、光磁気記録担体
等種々なものが対象になる。
本発明の被膜形成物質の被膜を水面上に形成すると親水
性を有する加水分解可能なシリル基は水面側、即ち被膜
の下@面に配向嘔れ、反対にパーフルオロ基は効率よく
被膜表面測知配向される。
性を有する加水分解可能なシリル基は水面側、即ち被膜
の下@面に配向嘔れ、反対にパーフルオロ基は効率よく
被膜表面測知配向される。
そして該加水分解可能なシリル基は周囲の水分により加
水分解されてシラノール基となり、更にシラノール基相
互によりシラン結合が形成ちれることにより本発明に用
いられる被膜形成物質は架橋する。
水分解されてシラノール基となり、更にシラノール基相
互によりシラン結合が形成ちれることにより本発明に用
いられる被膜形成物質は架橋する。
したがって本発明においては撲水枳油性に富みかつ機棉
的強度の高い被膜が得られ、このような被膜は金属の防
錆膜、磁気記録担体や光磁気記録担体の保護膜、プラス
チックの1%I滑膜等として極めて有用である。
的強度の高い被膜が得られ、このような被膜は金属の防
錆膜、磁気記録担体や光磁気記録担体の保護膜、プラス
チックの1%I滑膜等として極めて有用である。
〔実施例〕
(合成例)l。
CF、(CF2)7(CH2)20COM((CH2)
8si (OCR2CH8)。
8si (OCR2CH8)。
被膜形成物質(1)の合成
攪拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100m1ツ
ガラス製反応器中に式CF、 (CF2) 、CH2C
H20Hで表わされるフルオロアルコール5.08g(
10,8mmoJ)と、式0 =C=N−CM2CM2
CH2Si(OCH2CH8)−で表わされるシリルイ
ソシアネート2.72 g (11,0mmoJ )と
、ベンゼン60rnlを仕込み、窒素気流下70℃にて
20時間反応させた。反応終了後1反応液中の低沸分を
70℃/l Q−2mmHgの条件で除去し良ところ会
7.6gの無色透明のやや粘稠な液体が得られた。赤外
吸収スペクトル分析、核磁気共鳴スペクトル分析、元素
分析の結果から目的とする被膜形成物質(1)であるこ
とが確認嘔れた。
ガラス製反応器中に式CF、 (CF2) 、CH2C
H20Hで表わされるフルオロアルコール5.08g(
10,8mmoJ)と、式0 =C=N−CM2CM2
CH2Si(OCH2CH8)−で表わされるシリルイ
ソシアネート2.72 g (11,0mmoJ )と
、ベンゼン60rnlを仕込み、窒素気流下70℃にて
20時間反応させた。反応終了後1反応液中の低沸分を
70℃/l Q−2mmHgの条件で除去し良ところ会
7.6gの無色透明のやや粘稠な液体が得られた。赤外
吸収スペクトル分析、核磁気共鳴スペクトル分析、元素
分析の結果から目的とする被膜形成物質(1)であるこ
とが確認嘔れた。
(合成例)2゜
被膜形成物質の別途合成
撹拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100mjの
ガラス製反応器中に1式CF8(CF’2) 7CH2
C)1.OHで表わされるフルオロアルコール5.12
g(11,0mmo71)と式0=C=N−CM CH
=CH2で表わされるアリルイソシアネート1.25g
(16,0m+no71)と、ベンゼン50fn71を
仕込み、窒素気流下70℃にて20時間反応させた。反
応終了後反応液中の低沸分を減圧除去したところ6.1
gの無色透明のやや粘稠な液体が得られた。赤外吸収ス
ペクトル分析、核磁気共鳴スペクトル分析、元素分析ノ
結果カラ式CF8(CF2)7(CH2)20cONH
cH2CHCH2で表わされる化合物(、)であること
が確認芒れた。
ガラス製反応器中に1式CF8(CF’2) 7CH2
C)1.OHで表わされるフルオロアルコール5.12
g(11,0mmo71)と式0=C=N−CM CH
=CH2で表わされるアリルイソシアネート1.25g
(16,0m+no71)と、ベンゼン50fn71を
仕込み、窒素気流下70℃にて20時間反応させた。反
応終了後反応液中の低沸分を減圧除去したところ6.1
gの無色透明のやや粘稠な液体が得られた。赤外吸収ス
ペクトル分析、核磁気共鳴スペクトル分析、元素分析ノ
結果カラ式CF8(CF2)7(CH2)20cONH
cH2CHCH2で表わされる化合物(、)であること
が確認芒れた。
次に上記化合物(A)5.00 g (9,1mmol
)と。
)と。
ベンゼン50m!と塩化白金酸を0.0008g含むイ
ングロバノールiao、am!、と、 トリエトキシシ
ランH81(OCR2CH,)B1.9 g (11,
6mmo7りを窒素気流下にて仕込み90°Cにて12
時間反応芒ぜた。反応終了後、反応液中の低沸分を減圧
除去したところ6.8gO淡黒色のやや粘稠な液体が得
られた。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共鳴スペクト
ル分析、元素分析の結果から目的とする被膜形成物質(
1)であることが確認された。
ングロバノールiao、am!、と、 トリエトキシシ
ランH81(OCR2CH,)B1.9 g (11,
6mmo7りを窒素気流下にて仕込み90°Cにて12
時間反応芒ぜた。反応終了後、反応液中の低沸分を減圧
除去したところ6.8gO淡黒色のやや粘稠な液体が得
られた。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共鳴スペクト
ル分析、元素分析の結果から目的とする被膜形成物質(
1)であることが確認された。
(合成例)8゜
CF、 (CF2)6(CH2)20(CH2)8Si
(OCR2CH8)8被膜形成物質(2)の合成 攪拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100m1の
ガラス製反応器中に1式CF、(CF2)、CI(2C
H20Hで表わされるフルオロアルコール5.12g(
14,1mmol)と、無水テトラヒドロキシフラン5
amtと、金属ナトリクムワイヤー0.8g(18,6
mmoJ )を窒素気流下にて仕込み、24時間還流さ
せた。金属ナトリウムが完全に消失していることを確認
した後%溶媒を除去し、生成固体をドライボックス中で
ろ別し、真空乾燥した。
(OCR2CH8)8被膜形成物質(2)の合成 攪拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100m1の
ガラス製反応器中に1式CF、(CF2)、CI(2C
H20Hで表わされるフルオロアルコール5.12g(
14,1mmol)と、無水テトラヒドロキシフラン5
amtと、金属ナトリクムワイヤー0.8g(18,6
mmoJ )を窒素気流下にて仕込み、24時間還流さ
せた。金属ナトリウムが完全に消失していることを確認
した後%溶媒を除去し、生成固体をドライボックス中で
ろ別し、真空乾燥した。
次に攪拌機、温度計、滴下ロート、還流冷却機を取り付
けた2 00 mlのカラス製反応器中に、式CF、
(CF8) 6gM2CH2ON鳳 で表わきれる上記
生成物’−8g (11,1mmol )と、”4サフ
ルオロバラキシレンi o o 4を仕込み、窒素気流
下塊化アリル(CH2=CHCH2(J)8.5 g
(46rn mol )をを含む無水テトラヒドロキシ
フラン溶液50 ml’1t)1時間で滴下し、滴下終
了後120℃にて24時間撹拌した。反応終了後反応液
中の低沸分子t70’C/ 10 mmEgの条件で
除去したところ5.2gの淡黄色透明のやや粘稠な液体
が得られた。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共鳴スペ
クトル分析、元素分析の結果から式CF、(CF2)、
(CI(2)20CH2CH−CH2で表わ嘔れる化合
物(b)でおることが確認された。
けた2 00 mlのカラス製反応器中に、式CF、
(CF8) 6gM2CH2ON鳳 で表わきれる上記
生成物’−8g (11,1mmol )と、”4サフ
ルオロバラキシレンi o o 4を仕込み、窒素気流
下塊化アリル(CH2=CHCH2(J)8.5 g
(46rn mol )をを含む無水テトラヒドロキシ
フラン溶液50 ml’1t)1時間で滴下し、滴下終
了後120℃にて24時間撹拌した。反応終了後反応液
中の低沸分子t70’C/ 10 mmEgの条件で
除去したところ5.2gの淡黄色透明のやや粘稠な液体
が得られた。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共鳴スペ
クトル分析、元素分析の結果から式CF、(CF2)、
(CI(2)20CH2CH−CH2で表わ嘔れる化合
物(b)でおることが確認された。
次に撹拌機、温度針、還流冷却機を取り付けた100m
jのガラス製反応器に、上記化合物(b)4.1g (
10,0mmol )と、ベンゼンBOmlと、塩化白
金酸を0.0008g含むイソプロパツール溶液80℃
にて12時間反応爆ぜた。反応終了後反応液中の低沸分
を減圧除去したところ5.8gの淡黒色のやや粘稠な液
体が得られた。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共鳴ス
ペクトル分析1冗素分析の結果から目的とする上記被膜
形成物質(2)であることか確認避れた。
jのガラス製反応器に、上記化合物(b)4.1g (
10,0mmol )と、ベンゼンBOmlと、塩化白
金酸を0.0008g含むイソプロパツール溶液80℃
にて12時間反応爆ぜた。反応終了後反応液中の低沸分
を減圧除去したところ5.8gの淡黒色のやや粘稠な液
体が得られた。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共鳴ス
ペクトル分析1冗素分析の結果から目的とする上記被膜
形成物質(2)であることか確認避れた。
(合成例)4゜
CF8(CF2) 、 (CH2) 2Coo(CH2
) 、S i (OCH2CH8)8被膜形成物質(8
)の合成 攪拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100m1の
ガラス製反応器中に5式CFi(CF2)5CH2CH
2Coonで表わてれるフルオロカルボン酸5.02g
(12,8mmJ)と、塩化チオニル50 mlと、ジ
メチルホルムアミド10mJ!を仕込み、120℃にて
8時間還流させた。反応終了後反応液中の低沸分子ニア
0℃/ l Q mmHgの条件で除去したところ4
.9gの淡黄色透明の〃・なり粘稠な液体が得られた。
) 、S i (OCH2CH8)8被膜形成物質(8
)の合成 攪拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100m1の
ガラス製反応器中に5式CFi(CF2)5CH2CH
2Coonで表わてれるフルオロカルボン酸5.02g
(12,8mmJ)と、塩化チオニル50 mlと、ジ
メチルホルムアミド10mJ!を仕込み、120℃にて
8時間還流させた。反応終了後反応液中の低沸分子ニア
0℃/ l Q mmHgの条件で除去したところ4
.9gの淡黄色透明の〃・なり粘稠な液体が得られた。
赤外吸収スペクトル分析、核磁気共鳴スペクトル分析5
冗素分析の結果から式CF8(CF2)5(CH2)2
COCIで表わ嘔れる化合物fc)であることが確認さ
れた。
冗素分析の結果から式CF8(CF2)5(CH2)2
COCIで表わ嘔れる化合物fc)であることが確認さ
れた。
次に攪拌機、還流冷却器を取り付けた100ffl、g
のガラス製反応器中罠、上記生成物(C14,2g(1
0,2mmJ )と、アリルアルコール(CH2=CH
CH20H) 1−8 g (2f!−4m mo l
)と、2.6−ジ1−ブチルピリジン18g(12,
0mmal)と。
のガラス製反応器中罠、上記生成物(C14,2g(1
0,2mmJ )と、アリルアルコール(CH2=CH
CH20H) 1−8 g (2f!−4m mo l
)と、2.6−ジ1−ブチルピリジン18g(12,
0mmal)と。
へ千すフルオロパラキシレン50m1を仕込み、室温で
12時間撹拌した。反応終了後、水な加えて固体を完全
に溶かし、エーテルで抽出し、70°C/10 mm
Hgの条件で減圧除去したところ43gの茶褐色の粘稠
な液体が得られた。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共
鳴スペクトル分析5冗素分析の結果7)a ラ式CF8
(CF2)6(CH2)2COOCH2CH=CB2で
表わちれる化合物(dlであることが確認された。
12時間撹拌した。反応終了後、水な加えて固体を完全
に溶かし、エーテルで抽出し、70°C/10 mm
Hgの条件で減圧除去したところ43gの茶褐色の粘稠
な液体が得られた。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共
鳴スペクトル分析5冗素分析の結果7)a ラ式CF8
(CF2)6(CH2)2COOCH2CH=CB2で
表わちれる化合物(dlであることが確認された。
次に攪拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100m
jtのカラス製反応器中に、上記化合物(dl8.2g
(7,4mmojりと、ベンゼン80−と、塩化白金酸
を0.0008g含むイソプロパツール溶液0.5m]
と、トリエトキシシランH81(OCR20H8)81
.9g (11,6rnmol ) 2g素気流下V(
て仕込み、80℃にて12時間反応さゼた。反応終了後
反応液中の低沸分を減圧除去し4.8gの淡黒色のやや
粘稠な液体を得た。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共
鳴スペクトル分析、元素分析の結果から目的とする上記
被膜形成物質(8)であることが確認嘔れた。
jtのカラス製反応器中に、上記化合物(dl8.2g
(7,4mmojりと、ベンゼン80−と、塩化白金酸
を0.0008g含むイソプロパツール溶液0.5m]
と、トリエトキシシランH81(OCR20H8)81
.9g (11,6rnmol ) 2g素気流下V(
て仕込み、80℃にて12時間反応さゼた。反応終了後
反応液中の低沸分を減圧除去し4.8gの淡黒色のやや
粘稠な液体を得た。赤外吸収スペクトル分析、核磁気共
鳴スペクトル分析、元素分析の結果から目的とする上記
被膜形成物質(8)であることが確認嘔れた。
(合成例)5゜
CF、(CF2)、(CH2)OCO(CH2) 8S
i (OCH2C18) 8被膜形成物[(4)の合
成 攪拌機、温度計sNN流冷締機取り付けた100m1の
ガラス製反応器中に式CFjl(OF2) 6CH2C
H20Hで表わされるフルオロアルコール5.06 g
(111,9mmo))と、別途合成したビニル酢酸
塩化物CH2=CHCH2COCl 1.5 g (1
7,4m mol )と、2.6−ジし一ブチルピリジ
ン2.8 g (14,6mmol)とヘキサフルオロ
バラキシレン50rnlを仕込み室温で12時間攪拌し
た。反応終了後水を加えて固体を完全に溶かし、エーテ
ルで抽出し70℃/10mmHgの条件で低沸分を除去
し7.8gの茶褐色の粘稠な液状物1に得た。赤外吸収
スペクトル分析、核磁気共鳴スペクトル分析1冗素分析
の結果から式0式% 生成物(、)であることが確認された。
i (OCH2C18) 8被膜形成物[(4)の合
成 攪拌機、温度計sNN流冷締機取り付けた100m1の
ガラス製反応器中に式CFjl(OF2) 6CH2C
H20Hで表わされるフルオロアルコール5.06 g
(111,9mmo))と、別途合成したビニル酢酸
塩化物CH2=CHCH2COCl 1.5 g (1
7,4m mol )と、2.6−ジし一ブチルピリジ
ン2.8 g (14,6mmol)とヘキサフルオロ
バラキシレン50rnlを仕込み室温で12時間攪拌し
た。反応終了後水を加えて固体を完全に溶かし、エーテ
ルで抽出し70℃/10mmHgの条件で低沸分を除去
し7.8gの茶褐色の粘稠な液状物1に得た。赤外吸収
スペクトル分析、核磁気共鳴スペクトル分析1冗素分析
の結果から式0式% 生成物(、)であることが確認された。
次に攪拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100m
Jのガラス製反応器中に上記化合物(&s、。
Jのガラス製反応器中に上記化合物(&s、。
f (6,9mmot)と、ベンゼア8Qmlと、塩化
白金酸をo、oooag含むイソプロパツール溶液0.
5mlト* ト!J!ト#シシラyH8i(OCH2
CH8)。
白金酸をo、oooag含むイソプロパツール溶液0.
5mlト* ト!J!ト#シシラyH8i(OCH2
CH8)。
1.9 g (I L6rnrnol )をg素気流下
ニテ仕込ミ80″Cにて12時間反応場せた。反応終了
後反応液中の低沸分を減圧除去し8.6gの淡黒色のや
や粘稠な液体を得た。赤外吸収スペクトル分析、核磁気
共鳴スペクトル分析、元素分析の結果から目的とする上
記被膜形成物W+41であることが確認された。
ニテ仕込ミ80″Cにて12時間反応場せた。反応終了
後反応液中の低沸分を減圧除去し8.6gの淡黒色のや
や粘稠な液体を得た。赤外吸収スペクトル分析、核磁気
共鳴スペクトル分析、元素分析の結果から目的とする上
記被膜形成物W+41であることが確認された。
(合成例)6゜
CF8(CF2)、(CH2)2CON)1(CH2)
8Si(OCH2CH8)8被膜形成物質(5)の合成 攪拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100m1の
ガラス製反応器中に1合成例4で合成した化合物(6)
5.2 g (12,6mmoJ )と、アリルアミン
CH2−cHCH2NH21,5g (26,8m m
ob )と26−ジt−ブチルピリジン2−8g(14
,6m面りとヘキサフルオロバラキシレン50mJt仕
込み、室温で12時間攪拌した。反応終了後水を加えて
固体を完全に溶かし、エーテルで抽出し70°C/1O
−2nun Hgの条件で低沸分を除去し5.3gの淡
黄色の粘稠な液秋物f−得た。赤外吸収スペクトル分析
、核磁気共鳴スペクトル分析、元素分析の結果から式C
F8(CFり、(CH2)2CONHCH2CH=CH
2で表わ嘔れる化合物(f)でろることが確認嘔れた。
8Si(OCH2CH8)8被膜形成物質(5)の合成 攪拌機、温度計、還流冷却機を取り付けた100m1の
ガラス製反応器中に1合成例4で合成した化合物(6)
5.2 g (12,6mmoJ )と、アリルアミン
CH2−cHCH2NH21,5g (26,8m m
ob )と26−ジt−ブチルピリジン2−8g(14
,6m面りとヘキサフルオロバラキシレン50mJt仕
込み、室温で12時間攪拌した。反応終了後水を加えて
固体を完全に溶かし、エーテルで抽出し70°C/1O
−2nun Hgの条件で低沸分を除去し5.3gの淡
黄色の粘稠な液秋物f−得た。赤外吸収スペクトル分析
、核磁気共鳴スペクトル分析、元素分析の結果から式C
F8(CFり、(CH2)2CONHCH2CH=CH
2で表わ嘔れる化合物(f)でろることが確認嘔れた。
次に撹拌機、温度計、還流冷却機を取り付けたlQQm
Jのガラス製反応器中に上記化合物(f)2.2g (
5,1mmoJ )と、ベンゼン80rnlと、塩化白
金酸を0゜0008g含むイソプロパツール溶液0、5
rntと、トリエトキシシランHsi(OcH2CH
8)8L9 g (11,6mmot) fr窒素気流
下にて仕込み80℃にて12時間反応嘔ゼた。反応終了
後反応液中の低沸仕分減圧除去し8.8gの淡黒色のや
や粘稠な液体を得た。赤外吸収スペクトル分析%核磁気
共鳴スペクトル分析、元素分析の結果から目的とする上
記被膜形成物質(5)であることが確認嘔れた。
Jのガラス製反応器中に上記化合物(f)2.2g (
5,1mmoJ )と、ベンゼン80rnlと、塩化白
金酸を0゜0008g含むイソプロパツール溶液0、5
rntと、トリエトキシシランHsi(OcH2CH
8)8L9 g (11,6mmot) fr窒素気流
下にて仕込み80℃にて12時間反応嘔ゼた。反応終了
後反応液中の低沸仕分減圧除去し8.8gの淡黒色のや
や粘稠な液体を得た。赤外吸収スペクトル分析%核磁気
共鳴スペクトル分析、元素分析の結果から目的とする上
記被膜形成物質(5)であることが確認嘔れた。
宍施例1゜
合成例1〜6で得られた被膜形成物質(1)〜(5)を
50 mg秤量し、0.5mg/+n7Iのクロロホル
ム溶液にする。これをLB法において20℃bPH2の
水面上r(展開したときの表面圧−一分子当りの面積の
関係(F−A曲線)を測定した結果全第1図に示す。こ
れより被膜形成物質(1)〜(5)について一分子当り
の分子占有面積はフルオロアルキル鎖の断面積と同じ8
0Aになる。
50 mg秤量し、0.5mg/+n7Iのクロロホル
ム溶液にする。これをLB法において20℃bPH2の
水面上r(展開したときの表面圧−一分子当りの面積の
関係(F−A曲線)を測定した結果全第1図に示す。こ
れより被膜形成物質(1)〜(5)について一分子当り
の分子占有面積はフルオロアルキル鎖の断面積と同じ8
0Aになる。
次いで水面上に展開した上記被膜形成物質(II〜(5
)を表面圧45mN/mで粗面度0.05 μmのアル
ミ基板上に単分子膜を移しとり110℃で加熱重合させ
たもののM膜の水との接触角および臨界表面張力?測定
した。その結果に第2表に示される。
)を表面圧45mN/mで粗面度0.05 μmのアル
ミ基板上に単分子膜を移しとり110℃で加熱重合させ
たもののM膜の水との接触角および臨界表面張力?測定
した。その結果に第2表に示される。
第1−
F−A制、諜
2ル2表
第2表によれば各試料の臨界表面張力はテフロン表面の
18dyn/CMよりも小さくなり、パーフルオロ基が
有効に表面に配向されていることが認められる。
18dyn/CMよりも小さくなり、パーフルオロ基が
有効に表面に配向されていることが認められる。
0.00
50、○O
面@(入2)
事件の表示
昭和63年特許願第322444号
発明の名称
被膜形成方法
補正をする者
事件との関係 特許出願人
住 所 名古屋市瑞穂区二野町8散3号名 称
ナトコペイント株式会社取締役社長粕谷菊次部
ナトコペイント株式会社取締役社長粕谷菊次部
Claims (2)
- (1)分子鎖の一端にパーフルオロアルキル基を有し、
他端に加水分解可能なシリル基を有する被膜形成物質の
溶液を水面上に展開して被膜を形成することを特徴とす
る被膜形成方法。 - (2)水面上に展開した該被膜を障壁間において圧縮す
ることを特徴とする「特許請求の範囲第1項」に記載の
被膜形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63322444A JP2665961B2 (ja) | 1988-12-20 | 1988-12-20 | 被膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63322444A JP2665961B2 (ja) | 1988-12-20 | 1988-12-20 | 被膜形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02169067A true JPH02169067A (ja) | 1990-06-29 |
JP2665961B2 JP2665961B2 (ja) | 1997-10-22 |
Family
ID=18143739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63322444A Expired - Lifetime JP2665961B2 (ja) | 1988-12-20 | 1988-12-20 | 被膜形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2665961B2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0559331A (ja) * | 1991-09-03 | 1993-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水・撥油性コーテイング材およびその製造方法 |
WO1995018188A1 (fr) * | 1993-12-28 | 1995-07-06 | Daikin Industries, Ltd. | Composition de revetement et article revetu avec ladite composition |
EP0950662A1 (fr) * | 1998-04-15 | 1999-10-20 | L'oreal | Composés fluoro-siliconés sous forme d'huile et leur utilisation en cosmétique |
WO2000034408A1 (fr) * | 1998-12-10 | 2000-06-15 | Toray Industries, Inc. | Article optique, procede de fabrication associe et compose organo-silicie |
JP2006110476A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Nippon Soda Co Ltd | 有機薄膜形成方法 |
JPWO2009087981A1 (ja) * | 2008-01-11 | 2011-05-26 | 株式会社Kri | 重合性化合物及びこの製造方法 |
JP2011147890A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成方法及び機能性材料の製造方法 |
US8058463B2 (en) | 2007-12-04 | 2011-11-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Compnay | Fluorosilanes |
CN102643303A (zh) * | 2012-04-13 | 2012-08-22 | 阜新恒通氟化学有限公司 | 一种含氟抗指纹剂的制备方法 |
JP2014111617A (ja) * | 2007-03-08 | 2014-06-19 | 3M Innovative Properties Co | ペンダントシリル基を有するフルオロケミカル化合物 |
CN105801618A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-07-27 | 厦门建霖工业有限公司 | 一种含氟超疏水疏油剂的制备方法 |
CN105968131A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-09-28 | 厦门建霖工业有限公司 | 一种含氟超疏水疏油剂及应用 |
-
1988
- 1988-12-20 JP JP63322444A patent/JP2665961B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0559331A (ja) * | 1991-09-03 | 1993-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水・撥油性コーテイング材およびその製造方法 |
JP4061656B2 (ja) * | 1993-12-28 | 2008-03-19 | ダイキン工業株式会社 | 塗料組成物および塗装物 |
WO1995018188A1 (fr) * | 1993-12-28 | 1995-07-06 | Daikin Industries, Ltd. | Composition de revetement et article revetu avec ladite composition |
US5919851A (en) * | 1993-12-28 | 1999-07-06 | Daikin Industries, Ltd. | Paint composition and painted article |
EP0950662A1 (fr) * | 1998-04-15 | 1999-10-20 | L'oreal | Composés fluoro-siliconés sous forme d'huile et leur utilisation en cosmétique |
FR2777567A1 (fr) * | 1998-04-15 | 1999-10-22 | Oreal | Composes fluoro-silicones sous forme d'huile et leur utilisation en cosmetique |
WO2000034408A1 (fr) * | 1998-12-10 | 2000-06-15 | Toray Industries, Inc. | Article optique, procede de fabrication associe et compose organo-silicie |
EP1055718A1 (en) * | 1998-12-10 | 2000-11-29 | Toray Industries, Inc. | Optical article, method for preparing optical article and organic silicon compound |
EP1055718A4 (en) * | 1998-12-10 | 2005-01-05 | Toray Industries | OPTICAL ARTICLE, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND ORGANO-SILICY COMPOUND |
JP2006110476A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Nippon Soda Co Ltd | 有機薄膜形成方法 |
JP2014111617A (ja) * | 2007-03-08 | 2014-06-19 | 3M Innovative Properties Co | ペンダントシリル基を有するフルオロケミカル化合物 |
US8058463B2 (en) | 2007-12-04 | 2011-11-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Compnay | Fluorosilanes |
US8420826B2 (en) | 2007-12-04 | 2013-04-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluoroalkyl silanes |
US8501952B2 (en) | 2007-12-04 | 2013-08-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluoroalkyl silanes |
JPWO2009087981A1 (ja) * | 2008-01-11 | 2011-05-26 | 株式会社Kri | 重合性化合物及びこの製造方法 |
JP2011147890A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成方法及び機能性材料の製造方法 |
CN102643303A (zh) * | 2012-04-13 | 2012-08-22 | 阜新恒通氟化学有限公司 | 一种含氟抗指纹剂的制备方法 |
CN105801618A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-07-27 | 厦门建霖工业有限公司 | 一种含氟超疏水疏油剂的制备方法 |
CN105968131A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-09-28 | 厦门建霖工业有限公司 | 一种含氟超疏水疏油剂及应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2665961B2 (ja) | 1997-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2034000C1 (ru) | Способ модификации перфторполиэфиров | |
JPH02169067A (ja) | 被膜形成方法 | |
CN112166103A (zh) | 一种含羧基的全氟聚醚化合物 | |
JPH1129585A (ja) | パーフルオロポリエーテル変性アミノシラン及び表面処理剤 | |
JPS5978236A (ja) | ビニル重合反応性直鎖シリコ−ン高分子量モノマ−の製造法 | |
JPS58167597A (ja) | フルオロアミノシラン化合物 | |
US10087287B2 (en) | Reactive polyoxazolines having a perfluorinated group | |
JPS62172081A (ja) | 接着促進剤 | |
JP4232276B2 (ja) | 加水分解性シラン化合物およびその製造方法 | |
JP2674423B2 (ja) | 含フッ素有機珪素化合物及びその製造方法 | |
JP2907515B2 (ja) | 末端パーフルオロアルキルシラン化合物及びその製造方法 | |
JPS6352629B2 (ja) | ||
JPH0798827B2 (ja) | ω−シリルアルキニルシラン化合物およびその製造方法 | |
US5241096A (en) | Fluorine-containing organosilicon compound | |
JP2000290287A (ja) | ペルフルオロアルキル基を有する多面体有機ケイ素化合物 | |
EP2870165B1 (fr) | Précurseurs organosilanes polysilylés fonctionnalisables | |
EP0395434B1 (en) | Organosilicon compound | |
EP0395433B1 (en) | Organosilicon compound | |
JP2686454B2 (ja) | 共役ジアセチレン結合含有ケイ素化合物およびその製造方法 | |
JPH0344078B2 (ja) | ||
JPH03184986A (ja) | 新規な多官能オルガノシラン化合物 | |
KR100191742B1 (ko) | 비닐디옥소 화합물의 반응성 부가물 | |
JP3150576B2 (ja) | 有機けい素化合物 | |
JP2519601B2 (ja) | 有機けい素化合物 | |
Chudov et al. | Konstantin S. Levchenko*, Gregory E. Adamov 2, Dmitri Yu. Demin 2, Polina A. Chicheva |