JPH0214823A - 酸化イットリウムで安定化された酸化ジルコニウムのサブミクロン粉末の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ジルコニルイオンとイツトリウムイオンを含
有する酸性溶液の加熱加水分解と、つぎに得られた水和
酸化物の塩基化処理とか焼とによって酸化イツトリウム
で安定化された酸化ジルコニウムのサブミクロン粉末を
製造する一ｎｓｔに関するものである。

［従来技術と問題点］ 業界公知のように、ＺｒＯ２を基礎とするセラミックス
材料の特性は、例えばＭｇ、Ｃａ、Ｃｅ、ＡＩ、ＹＷ＆
化物などが存在して二酸化ジルコニウムと共に正方晶系
または等軸晶系を有する固溶体を形成する事によって広
く変動される。

変性す素の、Ｘ吐ｙ、化合物の結晶構造および焼結条件
によって、二酸化ジルコニウム粉末は例えば吸熱性原動
機の要素、金属押しだし用ノズル、軸受、燃焼および水
分の制御用フィーラなど、各種の製品の製造に使用する
事ができる。

このような粉末は特に、−ハサミの刃、ナイフなどの切
削励付き工具の製造に使用される６高靭性を特徴とする
材料グループは、１．５〜３．５モル％のＹ２Ｏ，を含
有する二酸化ジルコニウムから成る。この毬の化合物は
文献においてＴＰＺ（正方晶系多結晶ジルコニア）と表
示され、正方晶系を有し、対応のセラミックス製品は１
ミクロン以下の微粒子を有する。

これに対して、より多くのイツトリウムを含有する粉末
は等軸晶系を有する。

安定化二酸化ジルコニウムに基づく粉末を製造する従来
の方法は、米国特許第４，２０５，０５１号および欧州
特願第ＥＰ　２６，６６６号に記載のように、Ｚｒ０ｚ
と変性剤の酸化物との混合物をか焼するにある。この方
法はコスカト高ではないが、一般に劣悪な特性を有する
セラミック製品を生じる。これは、固相での配合が必ず
しも二酸化ジルコニウム基質中の変性元素の均質な分布
を保証しないからである。

安定化ジルコニアをｉ造する他の方法は共沈および分解
法である。この方法によれば、ジルコニウムと安定化元
素の塩を溶液から沈澱させた後に、これらの塩を酸化物
に分解するにある。この方法は例えば日本特願第ＪＰ　
５９−０７８，９２８号およびｍＪＰ６０−１７１，２
２３号に記載の方法は微粉末を製造する事ができるが、
か焼段階が高温の使用を必要とし、アグロメレーション
を生じるので、つぎの粉砕段階が必要となり、これは不
純物の導入をともなう。

安定化されたジルコニアを製造する公知の他の方法は、
例えばに、Ｍａｚｄｉｙａｓｎｉ、　Ｃ，Ｔ、Ｌｙｎｃ
ｈ、　Ｃ，Ｒ。

Ｊｏｕｒｎｅｅｓ　Ｅｔｕｄ、５ｏｌｌｄｅｓ　Ｆ！ｎ
ｅｍｅｎｔ　Ｄｉｖ、、　１９８７（ｐｂ、　１９８９
）　、９−２８に記載のように、ジルコニウムの塩化物
または有機金属化合物と安定化元素とを蒸気層で化学分
解するにある。この方法によって得られた粉末は一般に
微細すぎるので、処理が困難である。さらに蒸気層分解
は反応物のコストの故に非常にコスト高の方法である。

先行技術において使用される他の方法は、ゾル−ゲル法
であって、この場合、ジルコニウムと変性剤のアルコラ
ードを重合し、つぎに加熱して酸化物を生じるにある。

ゾル−ゲル法はＲ，Ｇ、　ＩＪｙｍｅｒほか、　　Ｐｒ
ｏｃ、ｌ１ｒｉｔｉｓｈ　Ｃｅｒａｍ、Ｓｏｃ、、７，
６１，１９８７に記載されている。この方法の欠点は多
量の水分が粉末粒子によって化学吸収され、これがコン
パクション後に高密度のセラミック製品を得る事を妨げ
る。

またこの場合、比較的高価な原材料、例えばジルコニウ
ムおよび変性元素のアルコラードが使用される。

これよりコストのかからない一般に先行技術において使
用されている他の方法は、例えば米国特許＄４，６１９
，８１７号＄３よび日本特願第ＪＰ　５７−１９１，２
３４号および第ＪＰ　５８−１３５，１３１号に記載の
ように、ジルコニウムと変性元素の水酸化物を対応金属
の水溶液から冷間塩基化処理によって共沈させるにある
。

その後、この生成物に熱処理を加えて所望の結晶構造を
得る。この方法の欠点は、沈澱した水酸化物の粒度を制
御する事が困難な事にある。この沈澱物は無定型でゼラ
チン状を成し、不確定なモルフォロジーを有し、コアセ
ルベート粒子から成るからである。

公知の他の方法は、酸化ジルコニウムまたは水酸化ジル
コニウムから成る基質の存在において変性元素の沈澱を
水酸化物の形で実施するにある。

この方法は例えば日本特願第ＪＰ　５９−２２７．７２
５．第８０−５１６１７号、第５９−２３２．９２０号
および欧州特願第Ｅｌ’１９４．１９１号に記載されて
いる。′ｆｌｉ化ジルコニウムが基質として使用される
時、分散を慎重に実施する必要があり、これには相当の
エネルギーと時間を消費する必要がある。

出願人は予想外に、酸化イットリウムによって安定化さ
れた高品質の酸化ジルコニウム粉末が比較的安価な方法
で製造できることを発見した。しかもこの粉末は前記の
ような欠点を示す事なく、特に前記の用途に適した優れ
た密度と機械特性とを有するセラミックス製品を製造す
る事ができる。

［発明の目的および効果コ 本発明の目的は、水和酸化ジルコニウムと水酸化イツト
リウムのサブミクロン非凝集粒子の製造法において、 ａ）沸点から２５０℃までの範囲内の温度で、ジルコニ
ルイオンを含有する酸性水溶液を安定化イツトリウムイ
オンの存在または不存在において加熱する事によって水
熱沈澱させる段階と、ｂ）前記（ａ）段階においてイツ
トリウムイオンが存在しなければこれを添加した後に、
分散系を８．５以上のｐＨまで＠基化する段階とから成
る方法にある。

本発明の他の目的は、酸化イツトリウムによって安定化
された酸化ジルコニウムのサブミクロン非凝集粒子の製
造法において、 ａ）沸点から２５０℃内の温度で、ジルコニルイオンを
含有する酸性水溶液を安定化イツトリウムイオンの存在
または不存在によって加熱する事によって水熱沈澱させ
る段階と、 ｂ）前記（ａ）段階においてイツトリウムイオンが存在
しなければこれを添加した後に、分散系を８．５以上の
ｐ＋（まで塩基化する段階と、Ｃ）水和酸化ジルコニウ
ムと水酸化イツトリウムに対して、約７５０乃至１１０
０”Ｃ範囲内の温度でか焼を実施する段階とを含む方法
に関するものである。

前記の段Ｎ　ａ　）は、加水分解によってジルコニウム
計算で９０重量％以上の量の水和酸化ジルコニウムを含
有する分散系が得られる時間実施される。

本発明の方法によれば、正方晶系まは立方晶系のセラミ
ックス粉末を得るに適した水和酸化ジルコニウムと水酸
化イツトリウムのサブミクロン非凝集粒子を得る事がで
きる。この粒子は一般に０．５ミクロン以下好ましくは
０．２ミクロン以下の平均粒径を有する。

特に本発明の方法は０．２ミクロン以下の平均粒径と１
０ｍ２／　ｇ以下の比表面積を有する正方晶系および／
または等軸晶系の、酸化イツトリウムによって安定化さ
れた酸化ジルコニウムのサブミクロン粉末を得る事がで
きる。

この粉末は、機械的離解処理（例えば粉砕処理）を受け
ず、コンパクションと１３５０℃で１時間の焼結後に理
論密度の９２％以上、好ましくは９５％以上の密度を示
す。先行技術によれば、この密度は安定化されたジルコ
ニア粉末を１３５０℃以上の温度で焼結する事によって
得られる。これは本発明の方法によって調製できる粉末
の高い反応性を示している。

原料溶液は、水中にジルコニウム塩を溶解して、ｏ、ｉ
乃至１．０Ｍ、好ましくは０．２乃至０．６Ｍの範囲内
のジルコニウム濃度を有する酸性溶液を得る事によって
作られる。この酸性溶液のｐＨは大体０．３以下である
。

水溶性の任意のジルコニウム塩を使用する事ができるが
、好ましくは塩化ジルコニルを使用する。

前記の段１Ｍ（ａ）において安定化剤が存在する場合、
前記のように調製された溶液に対してか焼最終生成物の
酸化イツトリウム重量％で１乃至１５％、好ましくは３
乃至１２％範囲内のイツトリウム含有量を得るように、
イットリウムを塩または濃縮母液の形で添加する。

イツトリウム化合物としては、ジルコニウムの酸性溶液
の中に可溶であってそのアニオンが反応媒質中において
不溶性生成物を生じる事のない任意の塩を使用する事が
できる。例えば塩化物または酸化物、好ましくは塩化物
を使用する。

加水分解は好ましくは１３０乃至２００℃さらに好まし
くは１４０乃至１８０℃、さらに好ましくは１４０乃至
１６０℃の温度範囲内で実施される。

加水分解相を得るに必要な時間は一般に１乃至６時間で
あり、加水分解温度に依存する０例えば１４０℃で操作
する場合、加熱は３乃至５時間実施されるが、２００℃
で操作する場合、前記の量の水和酸化ジルコニウムを沈
澱させるのに１乃至２時間で十分である。

過度に短い加水分解時間は、塩基化処理後に不均一なモ
ルフォロジーとサイズを示す沈澱物を生じる事を注意し
なければならない。

加水分解反応は自生圧で実施される。

溶液の加熱は、加水分解温度に到達する以前に生成物の
核化反応が生じないように実施される事が好ましい。こ
れは、粒子の均一な流度分布を得るためである。加水分
解温度が高いほど、加熱時間が短い。１５０℃以上の加
水分解温度の場合、加熱時間は一般に１時間以内である
。

０．２ミクロン以下の粒度の生成物、水和酸化ジルコニ
ウムー水酸化イツトリウムを得るための好ましい操作条
件は１４０℃の加水分解温度と、０．５Ｍ以下、好まし
くは０．２〜０．３Ｍの範囲内のジルコニウム溶液であ
る。

塩基化段階は、任意のアルカリ性溶液によって実施され
る。一般にアンモニア水溶液が使用され、その濃度は決
定的ではない。ｐＨが少なくとも８．５、一般に８．５
〜９．５、好ましくは９．０〜９．１に到達するまで塩
基を添加する。

安定剤としてのイットリウムイオンが（ａ）段階または
（ｂ）段階において添加されていれば、イツトリウムの
完全沈澱のためには塩基性ｐＨが必要である。

塩基化処理時間は一般に１０分以上である。塩基化処理
はｐ）Ｉの安定のため大体１時間実施される。

またｐ）Ｉの安定のため、分散系を１５分以上の時間、
撹拌状態に保持する事が好ましい。

塩基化処理が終了した後に、生成物を濾過し、洗浄して
、溶解塩を除去する。濾過操作を容易にするため、アニ
オンポリ電解質を使用する事ができる。この電解質は一
般に固体の凝結に使用され業界においては例えばＥＣ０
ＣＬＡＲ＠およびＰＲＡＥＳＴＯＬ（！！１として公知
である。

水洗に続いて、アルコールで洗浄する。一般に、エチル
アルコールが使用される。これは乾燥後に処理しやすい
柔らかな離解された粉末を得るためである。

乾燥工程は真空中でまたは大気圧で実施する事ができる
。

一般に、真空中では６０℃の温度で乾燥を実施し、大気
圧中では１１０℃の温度で実施する。

濾過ケーキに対して直接に熱処理を実施する。

塩基化処理後に得られた沈澱物は水和酸化ジルコニウム
と水酸化イツトリウムのサブミクロン球形粒子から成る
。この生成物を水洗しアルコールで洗浄し、６０℃で５
時間、真空乾燥した後に、１時間、９００℃で処理する
事によって、一般に１５％以下の重量損失を生じる。

塩基化処理後に得られた生成物の粒径は、好ましくは０
．２ミクロン以下とする。このような粒子はミクロ細孔
構造を有する。

業界公知のＢ、Ｅ、Ｔ、（Ｂｒｕｎａｎｅｒ、Ｅｌｌｌ
ｍｅｔ、ｔ、　＆　Ｔｅ１ｌｅｒ）法によって測定され
た前記粒子の比表面積は、真空中で６０℃で５時間、つ
ぎに真空中で１８０℃で乾燥されたサンプルについて１
００〜２５０＋ａ２／ｇの範囲内である。

か焼は空気中で回転炉またはローラ炉の中で静的条件で
実施する事ができ、好ましいか焼温度は８５０−１．０
００℃である。

このような条件において、最終生成物について計算して
６重量％以下のＹ２Ｏ３を含有する生成物は正方晶系を
示すが、６重量％以上のＹ２Ｏ３を含有する生成物は等
軸晶系を示す。

Ｘ線によって測定された結晶子サイズは２００〜５００
人の範囲内である。

加熱速度は大体に１５０℃／ｈ乃至５００℃／ｈの範囲
内である。

か焼温度における生成物の滞留時間は約３０分〜５時間
であり、か焼温度と加熱速度に対応する。

７５０℃の場合、か焼時間は一般に３時間以上であるが
、１０００℃の場合には１時間以下のか力°０時間も可
能である。

またか焼はか焼温度に達するに必要な時間だけ、すなわ
ち加熱速度の測定時間だけ実施する事ができ、この場合
に加熱速度は好ましくは３５０℃／ｈ以下とする。

すぐれた機械性能を有するセラミックス製品を製造する
ためには、か焼生成物がすぐれた反応性を有していても
、乾式プレス成形段階中のコンパクション欠陥を防止す
るための処理を加える。

弱凝集粉末の場合には、次の処理工程中に導入される汚
染物は無視可能である。

公知技術のうちで好ましい方法は、生成物の水性分散系
を作り、スプレードライヤによってこれを乾燥するにあ
る。

水性分散系は、ボールミルまたは振動ミル、アトリショ
ンミル、急速分散装置中で、分散剤または安定剤の存在
または不存在において調製する事ができる。本発明の目
的を成す粉末の場合には、超音波プローブによる分散工
程が適当な事が発見された。このような操作はバッチ方
式でまたは連続方式で実施された。

生成物の配合条件（分散剤、結合剤、潤滑剤の種類と量
）および粉末の力゛〔結サイクルが最適でなくても、乾
式プレス処理および次の焼結処理によって得られたサン
プルは８００ＭＰａ以上の機械的曲げ強さ（４点法）を
示し、変動係数は１０％を超えなかった。

表面の熱腐食後に走査電子′ｉＭ微鏡（ＳＥＭ）でテス
トされた焼結サンプルは０．５ミクロン以下の粒径の粒
子から成る均一ミクロ構造を示した。

下記の実施例は本発明を説明するためのものであって、
本発明はこれに限定されるものではない。

実」ｌ肚−」− ３８ｇの純度９９％のＹＣｌ３・６Ｈ２０を含有し、対
応量のＺｒ０Ｃ１□・６１１２０を溶解シテｔＥ’ｌ　
製すレタＺｒ０Ｃ１２（７）　０．５Ｍ溶液４０００ｃ
ｃを、撹拌器を備えた有効容量５Ｑのエナメルライニン
グされたオートクレーブの中に導入した。

この溶液を１時間で１５０℃に加熱した。この温度を５
時間保持した。

冷却後の水性分散系を２５℃の温度で、約４．０モル濃
度のＮＨ，溶液によって、５０分間でｐ１１９まで塩基
化処理し、その後、濃度０．５ｇ／ｌのアニオン凝鮪剤
。

ＥＣ０ＣＬＡＲＯ８００２の溶液６００ｃｃによって処
理した。

この生成物を濾過し、塩が除去されるまで水洗し、エチ
ルアルコールによっ゛Ｃ洗浄して吸収水分を除去した。

生成物を真空中６０℃で６時間乾燥させた。

Ｂ、Ｅ、Ｔ、法によって測定された乾燥生成物の比表面
積は１４０ｍ２／ｇであった。

ＩＡ燥粉末をマツフル炉中で静的条件のもとに、９００
　℃で３０分間か焼した。この温度に１５０℃／ｈの速
度で到達した。

か焼の結果、１３％の重量損失が生じた。

最終生成物中に存在するＹの党は、全体量に対して５．
４重量％のＹ２Ｏ３に相当した。

か焼生成物の比表面積は２１．６ｍ２／ｇ、粒径は３１
５人、また結晶構造は正方晶系であった。

か焼生成物に対して機械的摂ｆＬ＾冬処理を加える事な
く、３ｃｍ直径の金型中で５００ｋｇ／ａｍ２の圧力で
コンパクション処理し１３５０℃で１時間仰結した後に
、理論値の９７％に相当する密度が得られた。

災差−匠又 出発濃度０．３Ｍの塩化ジルコニル溶液を使用し。

Ｚｒ／Ｙモル比を変更しないまま実施例１の手１１１１
を繰り返した。

乾燥生成物の比表面積は１２３＋＋２／ｇであった。生
成物は実施例１の手順に従ってか焼された後に、１２．
８％の重量損失を示した。

か焼生成物の結晶構造は正方晶系であり、比表面積は２
１　、４ｍ”／ｇであった。

実施例１に従って焼結された製品の密度は理論値の９９
％であった。

炙厳舅ユニュ 実施例１に記載の塩化ジルコニル濃度、温度および加水
分解時間を変更して、実施例１の手順を繰り返した。常
に全量に対して５．４重量％のＹ２Ｏ３を含有する最終
生成物を得るように、イットリウム量を配食した。

表　　１ 得られた結果を下記の表２に示す。

ここに Ｔ＝正正方茶系する。

表 下記の表３のようにか焼温度Ｔｃ、 温度Ｔｃにおけ るか焼時間ｔｃ。

および加熱速度Ｒ，を変更して実 施例１を繰り返した。

表３ 得られた結果を下記の表４に示す。

表４ 出発濃度０．２５Ｍの塩化ジルコニウム溶液を使用し、
それぞれ実施例８−１５のようにか焼温度、か焼時間、 加熱速度を変更して実施例１を繰り返した。

得られた結果を下記の表５に示す。

表５ ２００　Ｑの０．５Ｍ塩化ジルコニル溶液と１．８２ｋ
ｇの六水和塩化イツトリウム（ＹＣｌ３・６１１２０）
とを、機械的アンカー撹拌器と加熱ジャケットを有する
容量３００　Ｑのエナメル塗装オートクレーブの中に装
入した。

この溶液を撹拌しながら（３０ｒｐｍ）　１４０℃まで
１時間で加熱し、この温度に４時間保持した。つぎに４
０℃まで冷却した後に、Ｎ１１３の水溶液（１３重量％
）の添加によって２１１９まで分散系の塩基化処理を実
施した。ｐＨを安定させた後に（約３０分後に）、０．
５ｇ／］のＥＣ０ＣＬＡＲ８１０５を含有する溶液４５
Ｑを添加した。

凝紅後に、生成物を遠心分離し、脱イオン水と共に遠心
分離洗浄した。透過電子顕微鏡（Ｔ、Ｅ、Ｍ）でテスト
し、０．１５ミクロンの平均直径を示した。

遠心分離ケーキ（か焼生成物１２ｋｇに対応する２８ｋ
ｇ）をムライトトレー上に装入し、直接にローラ炉の中
で１０００℃の温度で、約１時間か焼した。加熱時間は
２時間。

か焼された生成物は下記の物性を有していた。

−納品＾ン電　　　　　　　　　：正方晶系−結晶子サ
イズ　　　　　　　＝４８０人−比表面積（Ｂ、Ｅ、Ｔ
、）　　　　　　：　１０．２ｍ”／ｇ−リアル密度　
　　　　　　　：　６．Ｏｇ／ｃｍ３−Ｙ２０３％　　
　　　　　　　　：５．２−Ｃ１−：　３００ｐｐｍ 生成物はコンパクション処理され（５００ｋｇ／ｃｍ”
）１時間１３５０℃で焼結された後に、下記の結果な示
した。

一コンパクション生成物の密度二理論密度の４２％−焼
結生成物の密度　　　　　：理論密度の９４％機械的特
性の測定のためのサンプルを製造するため、まずポリビ
ニルアルコールベースの添／７０１１（ＯＰＴＡＰＩＸ
　ＰＡ　４Ｇｏ）　０．５％（７）存在において、生成
物を超音波プローブによって水中に分散させた（固体４
０重量％）。分散が終了した時、分析装置ＳＨＩＭＡＺ
Ｕ　ｍｏｄｅｌ　５Ａ−Ｃｒ２によって測定された５０
重量％の粒子に対応する平均粒径と、８４重量％に対応
する平均粒径は、それぞれ０．１６ミクロンおよび０．
３０ミクロンであった。

その後、生成物をスプレードライヤ中で乾燥した。

１１０ｇの粉末を単方向プレス（２００ｋｇ／ａｍ”）
の正方形゛金型（面積４９ｃｍ２）中で圧縮し、つぎに
アイソスタティックコールドプレス（２０００ｋｇ／ｃ
ｍ２）の中で圧縮した。

−サンプル密度　　　　　　二理論値の５２％焼結は下
記のサイクルによって実施された。

−８００℃までの加熱　　　＝２０℃／ｈ−８００℃で
の滞留時間　　：２時間 −１５００℃までの加熱　　：１００℃／ｈ−１５００
℃での滞留時間　　＝２時間−冷冷却度　　　　　　　
：１００℃／ｈ焼結された生成物の密度は理論密度の９
９％に等しい事が確認された。

焼結生成物をダイヤモンド刃（粒子１５０ミクロン）を
もってバー状（３Ｘ４　Ｘ５０ｍｍ）に切断し、つぎに
その隅部を手作業でダイヤモンドディスク（粒子１５ミ
クロン）で面取りした。

平均曲げ抵抗（４点法）は１０％の変動係数で８１７Ｍ
Ｐａに等しかった。

央１ｊ［−５ 実施例２４に対して〉本少咋賢性質と量を変動させた。

生成物の水中分散は、２％（７）ＯＰＴＡＰＩＸ　ＰＡ
　４Ｇ（［１１ト１％の合成ポリ電解質ＤＯＰＡＲＩＸ
ＯＣＥ６４の存在において実施された。

焼結サンプルに対する曲げ抵抗は１０％の変動係数をも
って８６０８Ｐａであった。

出口入代通人　　佐・　藤　−雄

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、水和酸化ジルコニウムと水酸化イットリウムのサブ
   ミクロン非凝集粒子の製造法において、 ａ）沸点から２５０℃までの範囲内の温度で、ジルコニ
   ルイオンを含有する酸性水溶液を安定化イットリウムイ
   オンの存在または不存在において加熱する事によって水
   熱沈澱させる段階と、 ｂ）前記（ａ）段階においてイットリウムイオンが存在
   しなければこれを添加した後に、分散系を８．５以上の
   ｐＨまで塩基化する段階とから成る方法。 ２、前記段階（ａ）は、加水分解によつてジルコニウム
   計算で８０重量％以上の水和酸化ジルコニウムを含有す
   る分散系が得られる時間実施される事を特徴とする請求
   項１に記載の方法。 ３、ジルコニルイオンの水溶液は０．１Ｍ乃至１．０Ｍ
   の範囲内のジルコニウム濃度を有する事を特徴とする請
   求項１に記載の方法。 ４、ジルコニルイオンの水溶液は０．２Ｍ乃至０．６Ｍ
   の範囲内のジルコニウム濃度を有する事を特徴とする請
   求項３に記載の方法。 ５、イットリウムイオンは、か焼された最終生成物中の
   酸化イットリウム重量％として計算してイットリウム含
   有％が１．０乃至１５％の範囲内となる量を添加される
   事を特徴とする請求項１に記載の方法。 ６、イットリウム含有％は酸化物として３乃至１２重量
   ％の範囲内にある事を特徴とする請求項５に記載の方法
   。 ７、段階（ａ）を実施する温度は１３０乃至２００℃の
   範囲内にある事を特徴とする請求項１に記載の方法。 ８、段階（ａ）を実施する温度は１４０乃至１６０℃の
   範囲内にある事を特徴とする請求項７に記載の方法。 ９、段階（ａ）を実施する温度は１４０℃であり、ジル
   コニルイオンの水溶液濃度は０．２乃至０．５Ｍの範囲
   内にあり、また加水分解時間は３乃至５時間の範囲内に
   ある事を特徴とする請求項１に記載の方法。 １０、さらに段階（ｃ）において、段階（ｂ）で得られ
   た水和酸化ジルコニウムと水酸化イットリウムに対して
   約７５０乃至１０００℃の温度でか焼を実施する事を特
   徴とする請求項１に記載の方法。 １１、請求項１の方法によって得られた水和酸化ジルコ
   ニウムと水酸化イットリウムのサブミクロン非凝集粒子
   。 １２、正方晶系および／または等軸晶系を有し、０．２
   ミクロン以下の平均粒径と１０ｍ＾２／ｇ以上の比表面
   積とを有する請求項１０の方法によつて得られた酸化イ
   ットリウムで安定化された酸化ジルコニウムのサブミク
   ロン粉末。