JPH02146049A

JPH02146049A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH02146049A
Application number: JP30040688A
Authority: JP
Inventors: Minoru Umeda; 実梅田; Tatsuya Niimi; 達也新美; Mitsuru Hashimoto; 充橋本
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1988-11-28
Filing date: 1988-11-28
Publication date: 1990-06-05

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は電子写真用感光体の改良に関する。

〔従来の技術〕

近年、電子写真複写機に使用される感光体として、低価
格、生産性及び無公害等の利点を有する有機系の感光材
料を用いたものが普及しはじめている。

有機系の電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール
（ｐｖＫ）に代表される光導電性樹脂、ＰＶＫＴＮＦ（
２，４，７−トリニトロフルオレノン）に代表される電
荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表され
る顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組合せ
て用いる機能分離型の感光体などが知られており、特に
機能分離型の感光体が注目されている。

この様な機能分離型の高感度感光体を、カールソンプロ
セスに適用した場合、帯電性が低く、電荷保持特性が悪
い（暗減衰が大きい）上、繰返し使用による、これら特
性の劣化が大きく、画像上に、濃度ムラ、カブリ、また
反転現像の場合、地汚れを生じるという欠点を有してい
る。

また一般に、高感度感光体は、前露光疲労によって帯電
性が低下する。この前露光疲労は主に電荷生材料が吸収
する光によって起こることから、光吸収によって発生し
た電荷が移動可能な状態で感光体内に残留している時間
が長い程、またその電荷の数が多い程、前露光疲労によ
る帯電性の低下が著しくなると考えられる。即ち、光吸
収によって発生した電荷が残留している状態で帯電操作
をしても、残留しているキャリアの移動で表面電荷が中
和される為５残留電荷が消費されるまで表面電位は上昇
しない、従って、前露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅
れることになり、見かけ上の帯電位は低くなる。

上述の欠点に対して、例えば、特開昭４７−６３４１゜
４８−３５４４および４８−１２０３４号には硝酸セル
ロース系樹脂中間層が、特開昭４８−４７３４４．５２
−２５６３８．５８−３０７５７．５８−６３９４５．
５ｇ−９５３５１，５８−９８７３９および６〇−６６
２５８号にはナイロン系樹脂中間層が、特開昭４９−６
９３３２および５２−１０１３８号にはマレイン酸系樹
脂中間層が、そして特開昭５８−１０５１５５号にはポ
リビニルアルコール樹脂中間層がそれぞれ開示されてい
る。また、中間層の電気抵抗を制御すべく種々の導電性
添加物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている。

例えば、特開昭５１−６５９４２号にはカーボンまたは
カルコゲン系物質を硬化性樹脂に分散した中間層が、特
開昭５２−８２２３８号には四級アンモニウム塩を添加
してインシアネート系硬化剤を用いた熱重合体中間／Ｗ
が、特開昭５５−１１８０４５１号には抵抗調節剤を添
加した樹脂中間層が、特開昭５８−５８５５６号にはア
ルミニウムまたはスズの酸化物を分散した樹脂中間層が
、特開昭５８−９３０６２号には有機金属化合物を添加
した樹脂中間１Ｂが、特開昭５８−９３０６３．６０−
９７３６３および６０−１１１２５５号には導電性粒子
を分散した樹脂中間層が、さらに特開昭５９−８４２５
７．５９−９３４５３および６０−３２０５４号にはＴ
ｉＯ２と５ｎ０２粉体とを分散した樹脂中間層が開示さ
れている。

しかしながら、繰り返し使用による帯電性の低下、とり
わけ帯電４位の立上りの遅れに関しては未だに不充分で
あり、より一層の改善が望まれていた。

また、特開昭５３−２６１２８および５４−１０９４３
８号には、電荷発生層中に電子受容性物質を含む電子写
真感光体が開示されているが、これらは、構成ないし効
果が、本発明とは基本的に異なるものである。

さらに、また電気抵抗のかわりに電荷の移動性を制御し
ようという考え方から、マイナス電荷移動性の物質とし
ての電子受容性の有機化合物を含有した樹脂中間層が提
案されている。例えば、特開昭５３−８９４３３号には
多環芳香族ニトロ化合物を添加した有機高分子光導電体
中間層が、また特開昭５４−４１３４．５９−１６０１
４７および５９−１７０８４６号には電子受容性有機物
を含有する樹脂中間層が開示されている。必ずしも上記
諸要求を満足するものではなかった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、高感度であるとともに前露光疲労による帯電
性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返し
後においても帯電電位の立上りの遅れのない電子写真用
感光体を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば、導電性支持体上に少なくとも電荷発生
層と電荷輸送層を有する積層型有機電子写真感光体にお
いて、該電荷発生層中に下記−最大（］）〜一般式（Ｉ
Ｉ）で示される電子受容性化合物の少なくとも１種を含
有してなることを特徴とする電子写真感光体が提供され
る。

（０）Ｐ（式中、Ｒはハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ
基を表わし、ｍ、ｎは各々０〜４の間の整数、Ｐは０、
ｌまたは２を表わす。）（式中、Ｒはハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ
基を表わし、＋ｍ、　ｎは各々０〜４の間の整数を表わ
す、）（式中、ｑは０〜４の整数を表わす。）上述したように
、高感度の積層型有機電子写真感光体は、くり返し使用
によって、帯電の立上りの遅れを生じ、その結果、帯電
性の低下をまねくが、本発明者らは、積層型有機電子写
真感光体の電荷発生層に特定の電子受容性化合物を含有
させることによって、くり返し使用後の帯電４位の立上
りの遅れのない電子写真感光体が得られることを見い出
し、本発明を完成するに到った。

以下１図面に沿って、本発明を説明する。

第１図は、本発明の電子写真感光体の構成例を示す断面
図であり、導電性支持体１１上に電荷発生層２１、次い
で電荷輸送層２２よりなる感光層１５を設けたものであ
る。

第２図は、本発明の別の構成例を示す断面図であり、導
電性支持体１１上に先ず電荷輸送層２２、次いで電荷発
生層２１よりなる感光層１５を設けたものである。

第３図および第４図は、更に別の構ｌ戊例を示す断面図
であり、第３図は導電性支持体１１と感光層１５の間に
下引層１３を設けたものであり、また第４図は感光Ｍ１
５の上に保護層１７を設けたものである。

導電性支持体１１としては、体積抵抗１０１ａΩ■以下
の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル
、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸
化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又は
スパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプ
ラスチック、紙等に被覆したもの、あるいは、アルミニ
ウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板
およびそれらをり、１．．１．１．、押出し、引抜き等
の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理
した管等を使用することができる。

次に、電荷発生層２１について説明する。

電荷発生［２１は、電荷発生物質と一般式（１）〜−一
般式ＩＩＩ）で示される電子受容性化合物の少なくとも
１種を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂
を用いることもある。　バインダー樹脂としては、ポリ
アミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、
ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アク
リル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが用いられる
。

一般式（１）〜−一般式ｍ）で示される電子受容性化合
物には次に示す化学構造式のものが好ましく用いられる
。

〔一般式（１）の化合物の具体例〕【−最大（ｎ）の化合物の具体例〕【−最大（ｍ）の化合物の具体例〕（ただしＣＰはカップラー残基、以下同様）電荷発生物質としては、公知の材料を用いることができるが、とりわけ以下に示すジスアゾあるいは１−リスアゾ顔料が好適に用いられる。

（ただしＡは、 −Ｎｌ！−１一奈、 −８−を表わす。

（ただしＲは、水素原子、置換又は非置換の（ただしｎは、１−５の間の整数を表わす。

アルキル基を表わす。

（ただしＲは、水素原子、アルキル基、）Ｘ　口ゲン原子を表わす。

Ｃｐ−置（ト◎−Ｇ−Ｎ＝Ｎ−［有］これらのカップラー残基Ｃρとしては、たとえばフェノ
ール類、ナフトール類などのフェノール性水酸基を有す
る化合物、アミノ基を有する芳香族アミノ化合物あるい
はアミノ基とフェノール性水酸基を有するアミノナフト
ール類、脂肪族もしくは芳香族のエノール性ケトン基を
有する化合物（活性メチレン基を有する化合物）などが
用いられ、好ましくは下記一般式（Ｉ）〜（１１）で表
わされるものである。

（上記式（１）、（２）、（３）および（４）中、Ｘ、
Ｙｌ、Ｚ、ｍおよびｎはそれぞれ以下のものを表わす。

Ｘ　：　−ＯＨ，−Ｎ　　　または　−ＮＨＲ−Ｒ）（
Ｒ，およびＲ２は水素または置換もしくは無置換のアル
キル基を表わし、Ｒ３は置換もしくは無置換のアルキル
基または置換もしくは無置換のアリール基を表わす。）Ｖユ二水素、ハロゲン、置換もしくは無置換のアルキル
基、置換もしくは無置換のアルコキシ基。

カルボキシ基、スルホン基、置換もしくは無置換のスル
ファモイル基または　−ＣＯＮ−’／。

（Ｒ４は水素、アルキル基またその置換体、フェニル基
またはその置換体を表わし、Ｙ２は炭化水素環基または
その置換体、複素環基またＲ１は炭化水素環基またはそ
の置換体、複素環基またはその置換体あるいはスチリル
基またはその置換体、ＲＧは水素、アルキル基、フェニ
ル基またはその置換体を表わすか、あるいはＲ５及びＲ
６はそれらに結合する炭素原子と共に環を形成してもよ
い。）を示す。）２：炭化水素環またはその置換体あるいは複素環または
その置換体ｎ　：ｌまたは２の整数ｍ　：ｌまたは２の整数〕〔式（５）および（６）中、Ｒ７は置換もしくは無置換
の炭化水素基を表わし、Ｘは前記に同じである。〕Ａｒ
□ 〔式中、Ｒ，はアルキル基、カルバモイル基、カルボキ
シ基またはそのエステルを表わし、Ａｒ□は炭化水素環
基またはその置換体を表わし、Ｘは前記と同じである。

〕〔上記式（８）および（９）中、Ｒ，は水素または置換
もしくは無置換の炭化水素基を表わし、Ａｒ、は炭化水
素環基またはその置換体を表わす。〕前記一般式（１）
、（２）、（３）または（４）のＺの炭化水素環として
はベンゼン環、ナフタレン環などが例示でき、また複素
環（置換を持っていてもよい）としてはインドール環、
カルバゾール環、ベンゾラン環、ジベンゾフラン環など
が例示できる。Ｚの環における置換基としては塩素原子
、臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。

Ｙ２またはＲ５における炭化水素環基としては、フェニ
ル基、ナフチル基、アントリル基、ピレニル基などが、
また、複素環基としてはピリジル基、チエニル基、フリ
ル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基、ジベンゾフラニル基などが例示でき、さらに、Ｒ５
およびＲ６が結合して形成する環としては、フルオレン
環などが例示できる。

Ｙ２またはＲ６の炭化水素環基または複素環基あるいは
Ｒ６およびＲ５によって形成される環における置換基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
どのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原
子などのハロゲン原子。

ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキル
アミノ基、トリフルオロメチル基などのハロメチル基、
ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基またはそのエステ
ル、水酸基、−５ｏ、　Ｎａなどのスルホン酸塩基など
が挙げられる。

Ｒ４のフェニル基の置換体としては塩素原子または臭素
原子などのハロゲン原子が例示できる。

Ｒ７またはＲ５における炭化水素基の代表例としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアル
キル基、フェニル基などのアリール基またはこれらの置
換体が例示できる。

Ｒ７またはＲ９の炭化水素基における置換基としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアル
キル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などの
ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基などが例示できる。

ＡｒユまたはＡｒ２における炭化水素環基としては。

フェニル基、ナフチル基などがその代表例であり、また
、これらの基における置換基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのア
ルコキシ基、ニトロ基。

塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキルア
ミノ基などが例示できる。

また、Ｘの中では特に水酸基が適当である。

上記カップラー残基の中でも好ましいのは上記−最大（
２）　、　（５）　、　（６）　、　（７）　、　（８
）および（９）で示されるものであり、この中でも一般
式におけるＸが水酸基のものが好ましい。また、この中
でも一般式（１ｏ）１゛・２・・′ （Ｖ工および２は前記に同じ。）で表わされるカップラー残基が好ましく、さらに好まし
くは一般式（Ｚ、Ｙ２およびＲ２は前記に同じ。）で表わされるカ
ップラー残基である。

さらにまた、上記好ましいカップラー残基の中でも一般
式（１２）または（１３）゛・Ｚ・′ Ｒ９ｚ・′ （Ｚ、Ｒ２，Ｒ，およびＲ６は前記に同じであり、また
Ｒｏ。

とじては上記のＹ２の置換基が例示できる。）で表わさ
れる。

以上に示した電子受容性化合物および電荷発生物質は各
々単独であるいは２種以上併用して用いられる。

前記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で示される電子受容性化
合物は電荷発生物質１重量部に対して０．０１〜１００
重量部用いるのが適用であり、好ましくは０．１〜１０
重量部である。

バインダー樹脂は、電荷発生物質１００重量部に対して
０−１００重量部用いるのが適当であり、好ましくは０
〜５０重量部である。

電荷発生層は、（１）〜（ＩＩＩ）式で示される電子受
容性化合物と電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂
とともに、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジ
オキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用いてボールミル
、アトライター、サンドミルなどにより分散し５分散液
を適度に希釈して塗布することにより形成できる。塗布
は、浸漬塗工法レーコート、ビートコ−１〜法などを用
いて行なうことができる。

電荷発生層の膜厚は、　０．０１〜５声程度であり、好
ましくは０．１〜２ρである。

電荷輸送層２２は、電荷輸送物質およびバインダー樹脂
を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥す
ることにより形成できる。

電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがあ
る。

電子輸送物質としては、たとえば、クロルアニル、ブロ
ムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノン
ジメタン、２，４．７−トリニトロ−９−フルオレノン
、２，４，５．７−テトラニトロ−９−フルオレノン、
２，４，５．７−チトラニトロキサントン、２，４゜８
−トリニドロチオキサントン、２，６．８−トリニトロ
−４１１−インデノ（１，２−ｂ）チオフェン−４−オ
ン、１，３．７トリニトロジベンゾチオフエノンー５．
５−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられる。

正孔輸送物質としては、以下の一般式で表わされる電子
供与性物質等が挙げられ、良好に用いられる。

（式中、Ｒ□＊Ｆｌａ＊ＲａおよびＲ４は水素原子、置
換もしくは無置換のアリール基を表わし、Ａｒ工は置換
又は無置換のアリール基を表わし、Ａｒ工とＲ８は共用
で環を形成してもよく、またｎは０又はｌの整数である
。）（式中、Ｒ４は炭素数１〜１１のアルキル基、置換又は
非置換のフェニル基あるいは複素環残基を表わし、Ｒ２
，Ｒ３はそれンれ同一でも異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基、０１〜ｃ４のヒドロキシアルキル
基、Ｃ１〜Ｃ４のクロルアルキル基、あるいは置換又は
非置換のアラルキル基を表わし、またＲ２とＲ１は共同
で窒素を含む複素環を形成してもよ＜、Ｒ，、Ｒ，はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わす
。）（但し、Ｒ１は低級アルキル基、低級アルコキシ基又は
ハロゲン原子を表わし、ｎはθ〜４の整数を表わし、Ｒ
，、Ｒ３は同一でも異なっていてもよく、水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表
わす。）＋１２（式中、Ｒ１，Ｒ，は水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、あるいはジ低級アルキルアミノ基を表わ
し、Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子あるいはニトロ基を表わし、ｎはＯ又
はｌを表わす。）（式中、Ｒはカルバゾリル基、ピリジ
ル基、チエニル基、インドリル基又はフリル基、あるい
はそれぞれ置換または非置換のフェニル基、スチリル基
、ナフチル基又はアントリル基（但し前記置換基はジ低
級アルキルアミノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、アラルキルアミノ基又は、アミノ基
からなる群から選ばれる）を表わす。）（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、低
級アルキル基を表わし、Ｒ，Ｊ３　＋Ｒｇは水素原子、
置換又は無置換の低級アルキル基あるいは置換又は無置
換のベンジル基を表わし、Ｒ４゜Ｒ６は水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基あるいは低級アルコキシ基又
はジ低級アルキルアミノ基を表わす、）バ３（式中、Ｒ□９Ｒ２ＴＲ３は同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、フ
ェニル基、フェノキシ基、またはハロゲン原子を表わす
、）（式中、Ｒ１、Ｒ２ｕｎｉ　、Ｒ４＝Ｒ＠は水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、置
換又は無置換のジ低級アルキルアミノ基又はジベンジル
アミノ基を表わし、Ｒ６は低級アルキル基又はベンジル
基を表わす。）Ａｒ−Ｑｌ＝Ｎ−Ｎ−Ｏ）（式中、Ａｒはナフタレン環、アントラセン環。

スチリル基及びそれらの置換体、あるいはピリジン環、
フラン環、チオフェン環を表わし、Ｒは低級アルキル基
又はベンジル基を表わす。）ｌ（式中、Ｒ工は低級アルキル基、２−ヒドロキシエチル
基又は２−クロロエチル基を表わし、Ｒ２は低級アルキ
ル基、ベンジル基又はフェニル基を表わし、Ｒ３は水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ジ低級アルキルアミノ基又はニトロ基を表わす。）（式中、Ｒユは水素原子、低級アルキル基、クロルエチ
ル基又はヒドロキシエチル基を表わし、Ｒ２は水素原子
又はハロゲン原子を表わし、Ｒ１は低級アルキル基、ジ
低級アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、置換又は
無置換のスチリル基、置換又は無置換の芳香環残基（芳
香環又はベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等
）、置換又は無置換の複素環残基（複素環はピリジン環
、キノキサリン環、カルバゾール環等）を表わす６）（式中、Ｒ工は低級アルキル基を表わし、Ｒ２は低級ア
ルキル基、ジ低級アルキルアミノ基、ジアリールアミノ
基、置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換の芳
香環残基（芳香環はベンゼン環、ナフタレン環、アント
ラセン環等）、置換又は無置換の複素環残基（複素環は
ピリジン環、キノキサリン環、カルバゾール環等）を表
わす、）（式中、Ｒ工＋Ｌは同一でも異なっていてもよく、水素
原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ク
ロル低級アルキル基、アルキルの炭素数１〜２のアシル
基、アルキルの炭素数５〜６のシクロアルキル基、ある
いは置換又は非置換のアラルキル基を表わす。）これらの電荷輸送物質は、単独又は２種以上混合して用
いられる。

バインダー樹脂としてはポリスチレン、スチレン−アク
リロニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体
、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポ
リ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ボリアリレート樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロー
ス樹脂。

エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポ
キシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹
脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が
挙げられる。

溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トル
エン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチ
レンなどが用いられる。

電荷輸送層２２の厚さは５〜１００μｍ程度が適当であ
る。また、本発明において電荷輸送層２２中に可塑剤や
レベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジブ
チルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の樹脂
の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき
、その使用量は、バインダー樹脂に対してＯ〜３０重量
％程度が適当である。

レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メ
チルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル
類が使用され、その使用量はバインダー樹脂に対して、
０〜１重量ｘ程度が適当である。

支持体１１と感光層１５との間に設けられる下引層１３
は本発明の効果をいっそう向上すると共に、接着性を向
上する目的で設けられ、その材料としてはＳｉｎ、　Ａ
ｇ２Ｏ３、シランカップリング剤、チタンカップリング
剤、クロムカップリング剤等の無機材料やポリアミド樹
脂、アルコール可溶性ポリアミド樹脂、水溶性ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルブチラール、ＰＶＡ等の接着
性の良いバインダー樹脂などが使用される。その他、前
記接着性の良い樹脂にＺｎＯ，ＴｉＯ□、　ＺｎＳ等を
分散したものも使用できる。下引層の形成法としては無
機材料単独の場合はスパッタリング、蒸着等の方法が、
また有機材料を用いた場合は通常の塗布法が採用される
。

なお下引層の厚さは５μｍ以下が適当である。

保護層１７は感光体の表面保護の目的で設けられ。

これに使用される材料としてＡＢＳ樹脂、ＡＣ３樹脂、
オレフィンルビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエー
テル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポ
リアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、
ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミ
ド、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン、ポリプロピレ
ン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリスチ
レン、ＡＳ樹脂、ブタジェン−スチレン共重合体、ポリ
ウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニデン、エポキ
シ樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層にはその他、耐摩
耗性を向上する目的でポリテトラフルオロエチレンのよ
うな弗素樹脂、シリコーン樹脂、及びこれら樹脂に酸化
チタン、酸化錫、チタン酸カリウム等の無機材料を分散
したもの等を添加することができる。保護層の形成法と
しては通常の塗布法が採用される。なお保護層の厚さは
０．５〜ｔＯ，ａ程度が適当である。

更に本発明では感光層１５と保護層１７との間に別の中
間層（図示せず）を設けることも可能である。

〔実施例〕

次に、実施例によって１本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

なお、実施例中使用する部は、すべて重量部を表わす。

実施例１アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に、下記組成の電荷発生層塗工液、電荷輸送層
塗工液を順次、塗布、乾燥して各々０．２７ａ厚の電荷
発生層および２２μｌ厚の電荷輸送層を形成し、本発明
の電子写真感光体を作成した。

〔電荷発生層塗工液〕

下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　４部２−ブタ
ノン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質（”、＋１− １００部９０部下記構造式の電子受容性物質１部テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　８００部実施
例２実施例１と同じ支持体上に、下記組成の下引層塗工液、
電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々０．３卯の下引層、０．２戸の電荷発生
層および２０μｍの電荷輸送層を成し、本発明の電子写
真感光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

シクロヘキサノン２００部水１５０部メタノール〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質下記構造式の電子受容性物質２００部３部１部テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　８００部実施
例３ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の下引層塗工液、電荷発生層塗
工液および電荷輸送層塗工液を順次。

塗布・乾燥して、各々２趣の下引Ｊ〜、０．３μｍの電
荷発生層および１８μｌの電荷輸送層を形成し、本発明
の電子写真感光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

二酸化チタン　　　　　　　　　　　　　１０部シクロ
ヘキサノン２−ブタノン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質１５０部１５０部８０部トルイレン−２，４−ジイソシアネート　　　０．２部
２−ブタノン　　　　　　　　　　　　　　１００部４
−メチル−２−ペンタノン　　　　　　　　　７０部〔
電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　４部下記構造
式の電子受容性物質１．５部〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質シクロヘキサノンテトラヒドロフラン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質２００部１５０部８０部下記構造式の電子受容性物質１．５部テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　７５０部実施
例４厚さ０．２圃のアルミニウム板上に、下記組成の電荷発
生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布乾燥し
て各々０．２７ｍの電荷発生層および１７−の電荷輸送
層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成した。

テトラヒドロフラン（電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質３５０部９０部塩化メチレン　　　　　　　　　　　　８００部実施例
５厚さ０．１ｍの電鋳ニッケル板上に、下記組成の下引層
塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液および保
護層塗工液を順次、塗布・乾燥して各々０．３μｍの下
引層、０．２μｍの電荷発生層および１８部割の電荷輸
送層および３癖の保護層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

下記構造式の電子受容性物質ポリサルホン（日産化学■製シクロヘキサノンテトラヒドロフラン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質Ｐ−１７００）１．５部１００部２００部８０部水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１００部メタノール　　　　　　　　　　　　　　１
００部〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　２部塩化メチ
レン〔保護層塗工液〕８５０部酸化錫トルエン８０部１７０部２−ブタノン　　　　　　　　　　　　　　１００部実
施例６実施例１と同じ支持体上に、下記組成の下引層塗工液、
電荷輸送層塗工液および電荷発生層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々２趣の下引層、２２μｍの電荷輸送層お
よび０．４４の電荷発生層を形成し、本発明の電子写真
感光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

二酸化チタン　　　　　　　　　　　　　　８部１．２
−ジクロロエタン〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質２００部２部下記構造式の電子受容性物質１部２−ブタノン　　　　　　　　　　　　　　９０部酢酸
エチル　　　　　　　　　　　　　　６０部〔電荷輸送
層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質　　　　　　　７０部塩化メ
チレン６００部トルイレン−２，４−ジイソシアネート　　　０．２部
テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　２５０部４−
メチル−２−ペンタノン　　　　　　　　１００部実施
例７実施例４と同じ支持体上に、下記組成の電荷輸送層塗工
液、電荷発生層塗工液、中間層塗工液および保８Ｍ塗工
液を順次、塗布・乾燥して、各々２０趨の電荷輸送層、
０．２μｍの電荷発生層、０．２μｍの中間層および５
μｍの保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成
した。

〔電荷輸送層塗工液〕

下記構造式の電荷輸送物質９０部４−メチル−２−ペンタノン１２０部〔中間層塗工液〕メタノール７０部ｎ−ブタノール４０部〔保護層塗工液〕塩化メチレン〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質８５０部３．５部下記構造式の電子受容性物質１．５部シクロヘキサノン２３０部導電性酸化チタン　　　　　　　　　　　９０部ト）Ｌ
ｔＺ’、ｔ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
２２０部ｎ−ブタノール　　　　　　　　　　　　　６
０部実施例８厚さ０．２ｍのニクロム板上に、下記組成の電荷輸送Ｊ
ＦＪ塗工液、電荷発生層塗工液および保護層塗工液を順
次、塗布乾燥して各々１９μｌの電荷輸送層、０．３μ
ｓの電荷発生層および２ＩＪ１Ｍの保護層を形成し、本
発明の電子写真感光体を作成した。

【電荷輸送層塗工液〕

下記構造式の電荷輸送物質　　　　　　　８０部〔保護
層塗工液〕テトラヒドロフラン〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電子受容性物質トルイレン−２，４−ジイソシアネートシクロヘキサノ
ン２−ブタノン７００部２部０．２部２００部１２０部酸化錫　　　　　　　　　　　　　　　　　９０部トル
エン　　　　　　　　　　　　　　　　２５０部２−ブ
タノン　　　　　　　　　　　　　　７０部比較例１〜
８以上の様に作成した実施例１−８の感光体において、各
々の電荷発生層に電子受容性物質を含有させない他はす
べて実施例１〜８と同様にして感光体を形成し、比較例
１〜８の感光体とした。

実施例９アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に、下記組成の電荷発生層塗工液、電荷輸送層
塗工液を順次、塗布、乾燥して各々０．２／４Ｉ厚の電
荷発生層および２２μｍ厚の電荷輸送層を形成し、本発
明の電子写真感光体を作成した。

〔電荷発生層塗工液〕

下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　３部下記構造
式の電子受容性物質１部実施例９と同じ支持体上に、下記組成の下引層塗工液、
電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々０　、３　ｐｍの下引層、０．２μｍの
電荷発生層および２０μｍの電荷輸送層を成し、本発明
の電子写真感光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

シクロヘキサノン２−ブタノン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質２００部１００部水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　１５０部メタノール　　　　　　　　　　　　　　
２００部（電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　３部９０部下記構造式の電子受容性物質１部テトラヒドロフラン８００部実施例１０シクロヘキサノン２−ブタノン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質１５０部１５０部８０部トルイレン−２，４−ジイソシアネート２−ブタノン４−メチル−２−ペンタノン〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質０．２部１００部７０部４部テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　８００部実施
例１１ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の下引層塗工液、電荷発生層塗
工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布・乾燥して、
各々２ｐｍの下引層、０．３趣の電荷発生層および１８
μｍの電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を
作成した。

〔下引層塗工液〕

二酸化チタン　　　　　　　　　　　　　１０部下記構
造式の電子受容性物質１．５部シクロヘキサノンテトラヒドロフラン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質２００部１５０部８０部テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　７５０部実施
例１２厚さ０．２ｍｍのアルミニウム板上に、下記組成の電荷
発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布乾燥
して各々０．２μｍの電荷発生層および１７μｍの電荷
輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成した。

〔電荷発生層塗工液〕

下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　４部下記構造
式の電子受容性物質　　　　　１．５部テ１−ラヒドロ
フラン３００部〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質９０部塩化メチレン　　　　　　　　　　　　　８００部実施
例１３厚さ０．１ｎ＋ｍの電鋳ニッケル板上に、下記組成の下
引層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液およ
び保護）ｔ４塗工液を順次、塗布・乾燥して各々０．３
μｍの下引Ｍ、０．２μｍの電荷発生層および１８μｍ
の電荷輸送層および３μｍの保護層を形成し、本発明の
電子写真感光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

水メタノール〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質下記構造式の電子受容性物質ポリサルホン（日産化学■製Ｐ〜１７００）シクロヘキ
サノンテトラヒドロフラン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質１００部塩化メチレン〔保護層塗工液〕８５０部１００部２部１部１．５部１００部２００部醸化錫　　　　　　　　　　　　　　　　　８０部トル
エン　　　　　　　　　　　　　　　　１７０部２−ブ
タノン　　　　　　　　　　　　　　１００部実施例１
４実施例９と同じ支持体上に、下記組成の下引１１り塗工
液、電荷輸送層塗工液および電荷発生層塗工液を順次、
塗布・乾燥して各々２μｍの下引層、２２μｍの電荷輸
送層および０．４μｍの電荷発生層を形成し、本発明の
電子写真感光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

二酸化チタン　　　　　　　　　　　　　８部８０部２−ブタノン９０部酢酸エチル〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質塩化メチレン１．２−ジクロロエタン〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質６０部７０部６００部２００部２部トルイレン−２，４−ジイソシアネート　　　０．２部
テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　２５０部４−
メチル−２−ペンタノン　　　　　　　　１００部実施
例１５実施例１２と同じ支持体上に、下記組成の電荷輸送Ｊ−
塗工液、電荷発生層塗工液、中間層塗工液および保護層
塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々２０μｍの電荷輸
送層、０．２岬の電荷発生層、０．２μｍの中間層およ
び５癖の保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作
成した。

〔電荷輸送層塗工液〕

下記構造式の電荷輸送物質　　　　　　　９０部下記構
造式の電子受容性物質１部塩化メチレン８５０部〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質下記構造式の電子受容性物質シクロヘキサノン４−メチル−２−ペンタノン〔中間層塗工液〕３．５部１．５部２３０部１２０部導電性酸化チタン　　　　　　　　　　　９０部トルエ
ン　　　　　　　　　　　　　　　２２０部ｎ−ブタノ
ール　　　　　　　　　　　　　６０部実施例１６厚さ０．２部ｍのニクロム板上に、下記組成の電荷輸送
層塗工液、電荷発生層塗工液および保護層塗工液を順次
、塗布乾燥して各々１９μｍの電荷輸送層、０．３−の
電荷発生層および２趨の保護層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。

〔電荷輸送層塗工液〕

下記構造式の電荷輸送物質　　　　　　　８０部メタノ
ールｎ−ブタノール〔保護層塗工液〕７０部４０部テトラヒドロフラン〔電荷発生層塗工液〕７００部下記構造式の電荷発生物質下記構造式の電子受容性物質トルイレン−２，４−ジイソシアネートシクロヘキサノ
ン２−ブタノン〔保護層塗工液〕３部２部０．２部２００部９０部比較例９〜１６以上の様に作成した実施例９〜１６の感光体において、
各々の電荷発生層に電子受容性物質を含有させない他は
すべて実施例９〜１６と同様にして感光体を形成し、比
較例９〜１６の感光体とした。

実施例１７アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に、下記組成の電荷発生層塗工液、電荷輸送層
塗工液を順次、塗布、乾燥して各々０．２２部厚の電荷
発生層および２２趣厚の電荷輸送層を形成し、本発明の
電子写真感光体を作成した。

〔電荷発生層塗工液〕

下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　３部酸化スズトルエン２−ブタノン９０部２５０部７０部下記構造式の電子受容性物質１部〔下引層塗工液〕シクロヘキサノン２−ブタノン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質２００部１００部９０部水メタノール〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　８００部実施
例１８実施例１７と同じ支持体上に、下記組成の下引層塗工液
、電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗
布・乾燥して各々０．３μｍの下引層。

０．２μｍの電荷発生層および２０／Ｊｍの電荷輸送層
を成し、本発明の電子写真感光体を作成した。

下記構造式の電子受容性物質ＬＩｚシクロヘキサノン２−ブタノン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質ポリカーボネート　　　　　　　　　　　１００部（奇
人化成■製パンライトに−１３００）テトラヒドロフラ
ン　　　　　　　　　　８００部実施例１９ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の下引層塗工液、電荷発生層塗
工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布・乾燥して、
各々２−の下引層、０．３μＩの電荷発生層および１８
μｌの電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を
作成した。

〔下引ＩＦＪ塗工液〕

二酸化チタン　　　　　　　　　　　　　１０部ポリエ
ステル　　　　　　　　　　　　　　１部（東洋紡績■
バイロン２００）トルイレン−２，４−ジイソシアネート　　　０．２部
２−ブタノン　　　　　　　　　　　　　　１００部４
−メチル−２−ペンタノン　　　　　　　　　７０部下
記構造式の電子受容性物質ポリビニルブチラール（ＵＣＣ！Ｉ　Ｘ’／ＨＬ）シクロヘキサノンテトラヒドロフラン（電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質１５０部２００部１５０部１５０部８０部１−５部２００部１５０部８０部テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　７５０部実施
例２０厚さ０．２部ｍのアルミニウム板上に、下記組成の電荷
発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布乾燥
して各々０．２μｍの電荷発生層および１７−の電荷輸
送層を形成し１本発明の電子写真感光体を作成した。

〔電荷発生層塗工液〕

下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　４部下記構造
式の電子受容性物質　　　　　１．５部テトラヒドロフ
ラン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質３５０部９０部塩化メチレン　　　　　　　　　　　　　８００部実施
例２１厚さ０．１ｍ＋＋＋＋の電鋳ニッケル板上に、下記組成
の下引層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液
および保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して各々０．３
μｍの下引層、０．２よの電荷発生層および１８声の電
荷輸送層および３μｍの保護層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

水１００部メタノール１００部〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質２部塩化メチレン〔保護層塗工液〕８５０部下記構造式の電子受容性物質１部Ｉ’ｌｌノ２ポリサルホン（日産化学■製Ｐ−１７００）シクロヘキ
サノンテトラヒドロフラン〔電荷輸送層塗工液〕下記構造式の電荷輸送物質１．５部１００部２００部８０部酸化錫　　　　　　　　　　　　　　　　　８０部トル
エン　　　　　　　　　　　　　　　１７０部２−ブタ
ノン　　　　　　　　　　　　　　１００部実施例２２実施例１７と同じ支持体上に、下記組成の下引Ｉσ１塗
工液、ｆｆｌ荷輸送層塗工液および電荷発生物質二［液
を順次、塗布・乾燥して各々２μｍの下引Ｊ（７７，２
２μＩの電荷輸送層および０．４μｍの電荷発生／ｉ４
を形成し、本発明の電子写真感光体を作成した。

【下引層塗工液〕

一酸化チタン　　　　　　　　　　　　　８部２−ブタ
ノン９０部酢酸エチル〔電荷輸送層塗工液〕６０部下記構造式の電荷輸送物質塩化メチレン（，２−ジクロロエタン〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質下記構造式の電子受容性物質（果ヰＷｊＭ開表バイロン１００）下記構造式の電子受容性物質シクロヘキサノンＬ１２４−メチル−２−ペンタノン［中間層塗工液〕メタノールｎ−ブタノール〔保護層塗工液〕導電性酸化チタントルエン７０部６００部２００部２部トルイレン−２，４−ジイソシアネート　　　０．２部
テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　２５０部４−
メチル−２−ペンタノン　　　　　　　　１００部実施
例２３実施例２０と同じ支持体上に、下記組成の電荷輸送層塗
工液、電荷発生層塗工液、中間層塗工液および保護層塗
工液を順次、塗布・乾燥して、各々２０μ―の電荷輸送
層、０．２μｌの電荷発生層、０．２７ａの中間層およ
び５μｍの保護層を形成し１本発明の電子写真感光体を
作成した。

〔電荷輸送層塗工液〕

下記構造式の電荷輸送物質　　　　　　　９０部１部塩化メチレン　　　　　　　　　　　　８５０部〔電荷
発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質　　　　　　３．５部１．５
部２３０部ｎ−ブタノール　　　　　　　　　　　　　　６０部実
施倒２４厚さ０．２ｍｍのニクロム板上に、下記組成の電荷輸送
層塗工液、電荷発生層塗工液および保護層塗工液を順次
、塗布乾燥して各々１９μｍの電荷輸送層、０．３μｌ
の電荷発生層および２μｍの保護層を形成し、本発明の
電子写真感光体を作成した。

〔電荷輸送層塗工液〕

下記構造式の電荷輸送物質　　　　　　　８０部１２０
部７０部４０部テトラヒドロフラン〔電荷発生層塗工液〕下記構造式の電荷発生物質７００部３部９０部２２０部下記構造式の電子受容性物質トルイレン−２，４−ジイソシアネートシクロヘキサノ
ン２−ブタノン〔保護層塗工液〕酸化スズトルエン２−ブタノン２部０．２部２００部１２０部９０部２５０部７０部比較例１７〜２４以上の様に作成した実施例１７〜２４の感光体において
、各々の電荷発生層に電子受容性物質を含有させない他
はすべて実施例１７〜２４と同様にして感光体を形成し
、比較例１７〜２４の感光体とした。

以上の各感光体の特性を、静電複写紙試験装置（川口電
気製作新製５Ｐ−４２８型）を用いて次のように評価し
た。

まず、−５，２ｋＶ（もしくは６．６ｋＶ）の放電々圧
にて、コロナ−圧電を１５秒間行ない、次いで暗減衰さ
せて表面電位が一８００Ｖ　（もしくは＋８００Ｖ）に
なったところで、４Ｑｕｘのタングステン光を照射した
。

この時の帯電開始後１秒と１５秒の表面電位Ｖ□ｍ、Ｖ
、５（Ｖ）また光照射の際、表面電位が一４００Ｖ（も
しくは＋４００Ｖ）になるのに必要な露光ＭＥ４ｏｏ　
（Ｑ、ｕｘ・５ｅｃ）を測定した。

更に、この感光体に色温度２８５６＠Ｈのタングステン
光を５００００Ｑｕｘ−ｓｅｅ照射して光疲労させた後
、再び前記と同様にしてＶ工、Ｖ工９、Ｅ４゜０を測定
した。

評価結果を、表−１に示す。

表−１第１図−第４図は、各々本発明に係る電子写真感光体の
模式断面図である。

＊１ニー８００Ｖまで帯電せず、測定不可。

＊２：＋５ｏｏｖマチｆｍせず、？１１１定不可。

特許出願人　株式会社　リ　　コ

Claims

【特許請求の範囲】

（１）導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸
送層を有する積層型有機電子写真感光体において、該電
荷発生層中に下記一般式（ I ）〜一般式（III）で示さ
れる電子受容性化合物の少なくとも１種を含有してなる
ことを特徴とする電子写真感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、Ｒはハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ
基を表わし、ｍ、ｎは各々０〜４の間の整数、ｐは０、
１または２を表わす。） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）（式中、Ｒはハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ
基を表わし、ｍ、ｎは各々０〜４の間の整数を表わす。） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、ｑは０〜４の整数を表わす。）