JPH0415657A - 電子写真感光体 - Google Patents
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- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 89
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 421
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 abstract 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 154
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 148
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 102
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 69
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 56
- 239000010408 film Substances 0.000 description 53
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 48
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 48
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 47
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 44
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 44
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 40
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 description 34
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- -1 chromium Chemical compound 0.000 description 29
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 23
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 20
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 19
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 19
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 16
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 15
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 15
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 15
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 14
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 12
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 11
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 11
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 11
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 9
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 9
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 8
- QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N [As].[Se] Chemical class [As].[Se] QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 7
- FRCHCYFLGZRELU-UHFFFAOYSA-N butan-2-one;cyclohexanone Chemical compound CCC(C)=O.O=C1CCCCC1 FRCHCYFLGZRELU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N methanol;hydrate Chemical compound O.OC GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 5
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 5
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 5
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 5
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920007962 Styrene Methyl Methacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- MFICMDKKOZOGQZ-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;cyclohexanone Chemical compound C1CCCCC1.O=C1CCCCC1 MFICMDKKOZOGQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- PHQKZMYRTMPOBK-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;4-methylpentan-2-one Chemical compound CC(C)CC(C)=O.O=C1CCCCC1 PHQKZMYRTMPOBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTKQPVCPQBFCCJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;oxolane Chemical compound C1CCOC1.O=C1CCCCC1 NTKQPVCPQBFCCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003852 thin film production method Methods 0.000 description 2
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical compound [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- CUOMGDRCUPNBNC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloroethane;dichloromethane Chemical compound ClCCl.ClCCCl CUOMGDRCUPNBNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- PWNBRRGFUVBTQG-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-di(propan-2-yl)benzene-1,4-diamine Chemical compound CC(C)NC1=CC=C(NC(C)C)C=C1 PWNBRRGFUVBTQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIYMTJFAHSJKJZ-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-ditert-butyl-1-n,4-n-dimethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC(C)(C)N(C)C1=CC=C(N(C)C(C)(C)C)C=C1 JIYMTJFAHSJKJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,5,7-tetranitrofluoren-9-one Chemical compound O=C1C2=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C2C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C=C2[N+]([O-])=O JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 2,4,7-trinitrofluoren-9-one Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3C(=O)C2=C1 VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVUXDWXKPROUDO-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butyl-4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 BVUXDWXKPROUDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXALMAQOPWXPPY-UHFFFAOYSA-N 2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]prop-2-enoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC(=C)C(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O MXALMAQOPWXPPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPKNFEVLZVJGBM-UHFFFAOYSA-N 2-aminonaphthalen-1-ol Chemical class C1=CC=CC2=C(O)C(N)=CC=C21 QPKNFEVLZVJGBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZNQOWAYHQGMKBF-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzene-1,4-diol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC(O)=CC=C1O ZNQOWAYHQGMKBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BSJQLOWJGYMBFP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)CC(C)(C)C)C=C1O BSJQLOWJGYMBFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXONTAHNOAWQJ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-octadec-2-enylbenzene-1,4-diol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC=CCC1=CC(O)=C(C)C=C1O KCXONTAHNOAWQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPSVDJQHSZMCKL-UHFFFAOYSA-N 4-methylpentan-2-one;oxolane Chemical compound C1CCOC1.CC(C)CC(C)=O MPSVDJQHSZMCKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100096653 Arabidopsis thaliana SRO1 gene Proteins 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004255 Butylated hydroxyanisole Substances 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004313 LEXAN™ RESIN 141 Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N N-isopropyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine Chemical compound C1=CC(NC(C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001691 aryl alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000402 bisphenol A polycarbonate polymer Polymers 0.000 description 1
- ZWLQACFYTXLLEJ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;methanol Chemical compound OC.CCCCO ZWLQACFYTXLLEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- CZBZUDVBLSSABA-UHFFFAOYSA-N butylated hydroxyanisole Chemical compound COC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1.COC1=CC=C(O)C=C1C(C)(C)C CZBZUDVBLSSABA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019282 butylated hydroxyanisole Nutrition 0.000 description 1
- 229940043253 butylated hydroxyanisole Drugs 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRVWBEJJZZTIGJ-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Ce+3].[Ce+3] DRVWBEJJZZTIGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000421 cerium(III) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000002482 conductive additive Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000004970 halomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WSOJIQBCVMSHLB-UHFFFAOYSA-N indeno[1,2-b]thiophen-4-one Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=C1SC=C2 WSOJIQBCVMSHLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M metanil yellow Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(N=NC=2C=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=C1 NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007760 metering rod coating Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 235000014593 oils and fats Nutrition 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920006215 polyvinyl ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920002102 polyvinyl toluene Polymers 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N tetradecyl 3-(3-oxo-3-tetradecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 125000005309 thioalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930003799 tocopherol Natural products 0.000 description 1
- 239000011732 tocopherol Substances 0.000 description 1
- 235000019149 tocopherols Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- CFAVHELRAWFONI-UHFFFAOYSA-N tris(2,4-dibutylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCC1=CC(CCCC)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(CCCC)=CC=1)CCCC)OC1=CC=C(CCCC)C=C1CCCC CFAVHELRAWFONI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUURMAINMLIZMX-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl)phosphane Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)C1=CC=CC=C1CCCCCCCCC IUURMAINMLIZMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNYHQVOFITVOZ-UHFFFAOYSA-N tris[2,3-di(nonyl)phenyl]phosphane Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC(P(C=2C(=C(CCCCCCCCC)C=CC=2)CCCCCCCCC)C=2C(=C(CCCCCCCCC)C=CC=2)CCCCCCCCC)=C1CCCCCCCCC OBNYHQVOFITVOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- QUEDXNHFTDJVIY-UHFFFAOYSA-N γ-tocopherol Chemical class OC1=C(C)C(C)=C2OC(CCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C)(C)CCC2=C1 QUEDXNHFTDJVIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子写真用感光体の改良に関する。
近年、電子写真複写機に使用される感光体として、低価
格、生産性及び無公害等の利点を有する有機系の感光材
料を用いたものが普及しはじめている。
格、生産性及び無公害等の利点を有する有機系の感光材
料を用いたものが普及しはじめている。
有機系の電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール
(PVK)に代表される光導電性樹脂、PVK−TNF
(2,4,7−)−リニトロフルオレノン)に代表され
る電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表
される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組
合せて用いる機能分離型の感光体などが知られており、
特に機能分離型の感光体が注目されている。
(PVK)に代表される光導電性樹脂、PVK−TNF
(2,4,7−)−リニトロフルオレノン)に代表され
る電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表
される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組
合せて用いる機能分離型の感光体などが知られており、
特に機能分離型の感光体が注目されている。
この様な機能分離型の高感度感光体を、カールソンプロ
セスに適用した場合、帯電性が低く、電荷保持特性が悪
い(暗減衰が大きい)上、繰返し使用による、これら特
性の劣化が大きく1画像上に、濃度ムラ、カブリ、また
反転現像の場合、地汚れを生じるという欠点を有してい
る。
セスに適用した場合、帯電性が低く、電荷保持特性が悪
い(暗減衰が大きい)上、繰返し使用による、これら特
性の劣化が大きく1画像上に、濃度ムラ、カブリ、また
反転現像の場合、地汚れを生じるという欠点を有してい
る。
また一般に、高感度感光体は、前露光疲労によって帯電
性が低下する。この前露光疲労は主に電荷生材料が吸収
する光によって起こることから、光吸収によって発生し
た電荷が移動可能な状態で感光体内に残留している時間
が長い程、またその電荷の数が多い程、前露光疲労によ
る帯電性の低下が著しくなると考えられる。即ち、光吸
収によって発生した電荷が残留している状態で帯電操作
をしても、残留しているキャリアの移動で表面電荷が中
和される為、残留電荷が消費されるまで表面電位は上昇
しない、従って、前露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅
れることになり、見かけ上の帯電電位は低くなる。
性が低下する。この前露光疲労は主に電荷生材料が吸収
する光によって起こることから、光吸収によって発生し
た電荷が移動可能な状態で感光体内に残留している時間
が長い程、またその電荷の数が多い程、前露光疲労によ
る帯電性の低下が著しくなると考えられる。即ち、光吸
収によって発生した電荷が残留している状態で帯電操作
をしても、残留しているキャリアの移動で表面電荷が中
和される為、残留電荷が消費されるまで表面電位は上昇
しない、従って、前露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅
れることになり、見かけ上の帯電電位は低くなる。
上述の欠点に対して5例えば、特開昭47−6341.
48−3544および48−12034号には硝酸セル
ロース系樹脂中間層が、特開昭48−47344.52
−25638.58−30757.58−63945.
58−9535158−98739および60−662
58号にはナイロン系樹脂中間層が、特開昭49=69
332および52−10138号にはマレイン酸系樹脂
中間層が、そして特開昭58−105155号にはポリ
ビニルアルコール樹脂中間層がそれぞれ開示されている
。また、中間層の電気抵抗を制御すべく種々の導電性添
加物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている。例
えば、特開昭51−65942号にはカーボンまたはカ
ルコゲン系物質を硬化性樹脂に分散した中間層が、特開
昭52−82238号には四級アンモニウム塩を添加し
てインシアネート系硬化剤を用いた熱重合体中間層が、
特開昭55−1180451号には抵抗調節剤を添加し
た樹脂中間層が、特開昭58−58556号にはアルミ
ニウムまたはスズの酸化物を分散した樹脂中間層が、特
開昭58−93062号には有機金属化合物を添加した
樹脂中間層が、特開昭58−93063.60−973
63および50−111255号には導電性粒子を分散
した樹脂中間層が、さらに特開昭59−84257.5
9−93453および60−32054号にはTin2
とSnO2粉体とを分散した樹脂中間層が開示されてい
る。
48−3544および48−12034号には硝酸セル
ロース系樹脂中間層が、特開昭48−47344.52
−25638.58−30757.58−63945.
58−9535158−98739および60−662
58号にはナイロン系樹脂中間層が、特開昭49=69
332および52−10138号にはマレイン酸系樹脂
中間層が、そして特開昭58−105155号にはポリ
ビニルアルコール樹脂中間層がそれぞれ開示されている
。また、中間層の電気抵抗を制御すべく種々の導電性添
加物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている。例
えば、特開昭51−65942号にはカーボンまたはカ
ルコゲン系物質を硬化性樹脂に分散した中間層が、特開
昭52−82238号には四級アンモニウム塩を添加し
てインシアネート系硬化剤を用いた熱重合体中間層が、
特開昭55−1180451号には抵抗調節剤を添加し
た樹脂中間層が、特開昭58−58556号にはアルミ
ニウムまたはスズの酸化物を分散した樹脂中間層が、特
開昭58−93062号には有機金属化合物を添加した
樹脂中間層が、特開昭58−93063.60−973
63および50−111255号には導電性粒子を分散
した樹脂中間層が、さらに特開昭59−84257.5
9−93453および60−32054号にはTin2
とSnO2粉体とを分散した樹脂中間層が開示されてい
る。
しかしながら、繰り返し使用による帯電性の低下、とり
わけ帯電4位の立上りの遅れに関しては未だに不充分で
あり、より一層の改善が望まれていた。
わけ帯電4位の立上りの遅れに関しては未だに不充分で
あり、より一層の改善が望まれていた。
本発明は、高感度であるとともに前露光疲労による帯電
性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返し
後においても帯電電位の立トリの遅れがなく、暗減衰の
小さな電子写真用感光体を提供することを目的とする。
性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返し
後においても帯電電位の立トリの遅れがなく、暗減衰の
小さな電子写真用感光体を提供することを目的とする。
本発明によれば、導電性基体上に感光層を設けてなる電
子写真感光体において、酸化タングステン、酸化銅、酸
化セリウム、セレン化カドミニウム及びテルル化カドミ
ニウムから選ばれた少なくとも1種よりなる中間層を有
することを特徴とする電子写真感光体が提供される。
子写真感光体において、酸化タングステン、酸化銅、酸
化セリウム、セレン化カドミニウム及びテルル化カドミ
ニウムから選ばれた少なくとも1種よりなる中間層を有
することを特徴とする電子写真感光体が提供される。
高感度な感光層を有する電子写真感光体はくり返し使用
によって、帯電時の表面電位の立上りの遅れと、暗減衰
を生ずる傾向が非常に強い。
によって、帯電時の表面電位の立上りの遅れと、暗減衰
を生ずる傾向が非常に強い。
一方、一般に導電性基体と感光層の間に中間層を設けた
場合、とりわけ中間層が樹脂等の絶縁性物質であるとき
、残留電位を生じやすい。
場合、とりわけ中間層が樹脂等の絶縁性物質であるとき
、残留電位を生じやすい。
本発明者らは、これらの点に鑑み導電性基体上に感光層
を設けてなる電子写真感光体において。
を設けてなる電子写真感光体において。
導電性基体と感光層の間に、前記金属化合物よりなる中
間層を設けることによって上記問題点が解消されること
を見出し、本発明を完成させるに至った。
間層を設けることによって上記問題点が解消されること
を見出し、本発明を完成させるに至った。
以下、図面に沿って、本発明を説明する。
第1図は、本発明の電子写真感光体の構成例を示す断面
図であり、導電性基体11上に、中間層13、次いで感
光層15を設けた構成を採っている。
図であり、導電性基体11上に、中間層13、次いで感
光層15を設けた構成を採っている。
第2図では、本発明の別の構成例を示す断面図である。
感光層が、電荷発生層17と電荷輸送層19の順に積層
になっている。
になっている。
第3図では、更に別の構成例を示す断面図である。感光
層が、電荷輸送層19と電荷発生層17の順に積層にな
っている。
層が、電荷輸送層19と電荷発生層17の順に積層にな
っている。
第4図、第5図、第6図は、更に又、別の構成例を示す
断面図である。それぞれ、第1図、第2図、第3図の構
成の上に、保護層2】を設けたものである。
断面図である。それぞれ、第1図、第2図、第3図の構
成の上に、保護層2】を設けたものである。
次に、中間層13について説明する6
中間層13は前記したように酸化タングステン、酸化銅
、酸化セリウム、セレン化カドミニウム及びテルル化カ
ドミニウムから選ばれた少なくとも1種から構成され、
その膜厚は100人〜IOμs、好ましくはSOO八〜
へ4である。
、酸化セリウム、セレン化カドミニウム及びテルル化カ
ドミニウムから選ばれた少なくとも1種から構成され、
その膜厚は100人〜IOμs、好ましくはSOO八〜
へ4である。
酸化タングステンは、一般にwo、w2o、 、wo2
.u、o、 。
.u、o、 。
wOl等が知られおり、また真空薄膜作成法で形成され
た酸化タングステンには、化学量論的組成からずれた組
成の薄膜を作成されるが、いずれの酸化タングステン膜
も本発明の中間層として好適に使用できる。
た酸化タングステンには、化学量論的組成からずれた組
成の薄膜を作成されるが、いずれの酸化タングステン膜
も本発明の中間層として好適に使用できる。
酸化銅は、一般にCu2O、CuO1Cu203、Cu
40等が知られており、いずれの酸化銅も本発明の中間
層として好適に使用できる。
40等が知られており、いずれの酸化銅も本発明の中間
層として好適に使用できる。
また、酸化セリウムは、三価のCe2O3、四価のCe
O2がよく知られでいるが、真空薄膜作成法で形成され
た酸化セリウムにおいては、化学量論的組成からずれた
組成の薄膜も作成され得る。また出発材料の選択によっ
ては水素原子、炭素原子、ノλロゲン原子等をとりこん
だ膜が形成される場合があるし、Zr、 Ti、 Y、
Hf等が添加された材料を蒸発材料に用いれば、それ
らを含んだ酸化セリウム膜が形成される。以上の酸化セ
リウムはいずれも本発明の中間層として良好に使用でき
る。
O2がよく知られでいるが、真空薄膜作成法で形成され
た酸化セリウムにおいては、化学量論的組成からずれた
組成の薄膜も作成され得る。また出発材料の選択によっ
ては水素原子、炭素原子、ノλロゲン原子等をとりこん
だ膜が形成される場合があるし、Zr、 Ti、 Y、
Hf等が添加された材料を蒸発材料に用いれば、それ
らを含んだ酸化セリウム膜が形成される。以上の酸化セ
リウムはいずれも本発明の中間層として良好に使用でき
る。
セレン化カドミウムは、一般にCdSeが知られている
が、真空薄膜作成法で形成されたセレン化カドミウムに
おいては、化学量論的組成からずれた組成の薄膜も作成
され得る。また意図する。しないにかかわらず、真空薄
膜作成法においては、酸素原子をとり込んだセレン化カ
ドミウム薄膜が形成される場合もある。これらのセレン
化カドミニウム膜はいずれも、本発明の中間層として好
適に使用できる。
が、真空薄膜作成法で形成されたセレン化カドミウムに
おいては、化学量論的組成からずれた組成の薄膜も作成
され得る。また意図する。しないにかかわらず、真空薄
膜作成法においては、酸素原子をとり込んだセレン化カ
ドミウム薄膜が形成される場合もある。これらのセレン
化カドミニウム膜はいずれも、本発明の中間層として好
適に使用できる。
また、テルル化カドミウムは、一般にCdTeが知られ
ているが、真空薄膜作成法で形成されたテルル化カドミ
ウムにおいては、化学量論的組成からずれた組成の薄膜
も作成され得る。また意図する、しないにかかわず、真
空薄膜作成法においては、酸素原子をとり込んだテルル
化カドミウム薄膜が形成される場合もある。これらのテ
ルル化カドミウム膜は、いずれも、本発明の中間層とし
て好適に使用できる。
ているが、真空薄膜作成法で形成されたテルル化カドミ
ウムにおいては、化学量論的組成からずれた組成の薄膜
も作成され得る。また意図する、しないにかかわず、真
空薄膜作成法においては、酸素原子をとり込んだテルル
化カドミウム薄膜が形成される場合もある。これらのテ
ルル化カドミウム膜は、いずれも、本発明の中間層とし
て好適に使用できる。
本発明において、中間層を作成するには従来公知の方法
がいずれも適用されるが、真空薄膜作成法や湿式法が好
ましく採用される。
がいずれも適用されるが、真空薄膜作成法や湿式法が好
ましく採用される。
真空薄膜作成法としては、抵抗加熱・イオンビーム加熱
等による真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレー
ティング法、MEB、 CVD等が挙げられるが、抵抗
加熱、イオンビーム加熱等による真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法、CVD法を用いる
ことが望ましい。
等による真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレー
ティング法、MEB、 CVD等が挙げられるが、抵抗
加熱、イオンビーム加熱等による真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法、CVD法を用いる
ことが望ましい。
湿式法としては、ディッピング法、スプレーコート法、
スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、マ
イヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法、
ローラーコーティング法、カーテンコーティング法等が
挙げられる。
スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、マ
イヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法、
ローラーコーティング法、カーテンコーティング法等が
挙げられる。
この場合、塗工液としては、前記金属化合物を溶媒に分
散し、そのまま用いてもよいが、同時に結着剤樹脂を用
いてもかまわない。結着剤樹脂としては、その上に感光
層を塗布して設ける場合を考えると、一般の有機溶媒に
対して、耐溶剤性の高い樹脂が好ましい。
散し、そのまま用いてもよいが、同時に結着剤樹脂を用
いてもかまわない。結着剤樹脂としては、その上に感光
層を塗布して設ける場合を考えると、一般の有機溶媒に
対して、耐溶剤性の高い樹脂が好ましい。
このような樹脂としては、たとえばポリビニルアルコー
ル、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹
脂、共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナイロン等の
アルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、
アクリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬
化性樹脂が挙げられる。
ル、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹
脂、共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナイロン等の
アルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、
アクリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬
化性樹脂が挙げられる。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
導電性基体11としては、体積抵抗1010Ω備以下の
導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、
クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化
スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はス
パッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラ
スチック、紙等に被覆したもの、あるいは、アルミニウ
ム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板お
よびそれらをり、1..1.1.、押出し、引抜き等の
工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理し
た管等を使用することができる。
導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、
クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化
スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はス
パッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラ
スチック、紙等に被覆したもの、あるいは、アルミニウ
ム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板お
よびそれらをり、1..1.1.、押出し、引抜き等の
工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理し
た管等を使用することができる。
本発明における感光層15は、単層型でも積層型でもよ
いが、ここでは説明の都合上、先ず積層型について述に
る。
いが、ここでは説明の都合上、先ず積層型について述に
る。
電荷発生層17は、電荷発生物質を主成分とする層で、
必要に応じてバインダー樹脂を用いることもある。
必要に応じてバインダー樹脂を用いることもある。
電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用い
ることができる。無機系材料には結晶セレン、アモルフ
ァス・セレン、セレン−テルル、セレンーテルルーハロ
ゲン、セレン〜ヒ素化合物や。
ることができる。無機系材料には結晶セレン、アモルフ
ァス・セレン、セレン−テルル、セレンーテルルーハロ
ゲン、セレン〜ヒ素化合物や。
アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス
・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子
、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子
、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子
、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子
、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
一方、有機系材料には、フタロシアニン系顔料。
ナフタロシアニン系顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系
顔料、キナクリドン系顔料、キノン系縮合多環化合物、
スクアリック酸系染料、アズレニウム塩系染料、モノア
ゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料等が挙げられ用
いられる。
顔料、キナクリドン系顔料、キノン系縮合多環化合物、
スクアリック酸系染料、アズレニウム塩系染料、モノア
ゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料等が挙げられ用
いられる。
これら電荷発生物質の中でも、とりわけ次に示す構造式
で表されるジスアゾ又はトリスアゾ顔料が、好ましく用
いられる。
で表されるジスアゾ又はトリスアゾ顔料が、好ましく用
いられる。
(ただしCpはカップラー残基、
以下同様)
(ただしAは、
一■−1
−い、
−S−を表わす。
(ただしRは、水素原子、
置換又は非置換の
(ただしnは。
1〜5の間の整数を表わす。
アルキル基を表わす。)
(ただしRは、水素原子、
アルキル基。
ハロ
Cp−一χl0LN=N−Cp
へ
ゲン原子を表わす。
これらのカップラー残基Cpとしては、たとえばフェノ
ール類、ナフトール類などのフェノール性水酸基を有す
る化合物、アミノ基を有する芳香族アミノ化合物あるい
はアミノ基とフェノール性水酸基を有するアミノナフト
ール類、脂肪族もしくは芳香族のエノール性ケトン基を
有する化合物(活性メチレン基を有する化合物)などが
用いられ、好ましくは下記−能代(1)〜(11)で表
わされるものである。
ール類、ナフトール類などのフェノール性水酸基を有す
る化合物、アミノ基を有する芳香族アミノ化合物あるい
はアミノ基とフェノール性水酸基を有するアミノナフト
ール類、脂肪族もしくは芳香族のエノール性ケトン基を
有する化合物(活性メチレン基を有する化合物)などが
用いられ、好ましくは下記−能代(1)〜(11)で表
わされるものである。
〔上記式(1)、 (2) 、 (3)および(4)中
、X+YxeZ+llおよびnはそれぞれ以下のものを
表わす。
、X+YxeZ+llおよびnはそれぞれ以下のものを
表わす。
7R・
XニーOH,−N または −NHSO2−R。
(R□およびR2は水素または置換もしくは無置換のア
ルキル基を表わし、R1は置換もしくは無置換のアルキ
ル基または置換もしくは無置換のアリール基を表わす。
ルキル基を表わし、R1は置換もしくは無置換のアルキ
ル基または置換もしくは無置換のアリール基を表わす。
)
Y、二水素、ハロゲン、W換もしくは無置換のアルキル
基、置換もしくは無置換のアルコキシ基カルボキシ基、
スルホン基、置換もしくは無置換のスルファモイル基ま
たは −CON−Y2(R4は水素、アルキル基またそ
の置換体、フェニル基またはその置換体を表わし、Y2
は炭化水素環基またはその置換体、複素環基また/Rs はその置換体、あるいは −N=C(但し、ゝR。
基、置換もしくは無置換のアルコキシ基カルボキシ基、
スルホン基、置換もしくは無置換のスルファモイル基ま
たは −CON−Y2(R4は水素、アルキル基またそ
の置換体、フェニル基またはその置換体を表わし、Y2
は炭化水素環基またはその置換体、複素環基また/Rs はその置換体、あるいは −N=C(但し、ゝR。
R5は炭化水素環基またはその置換体、複素環基または
その置換体あるいはスチリル基またはその置換体、R5
は水素、アルキル基、フェニル基またはその置換体を表
わすか、あるいはR5及びR6はそれらに結合する炭素
原子と共に環を形成してもよい。)を示す。) 2:炭化水素環またはその置換体あるいは複素環または
その置換体 nilまたは2の整数 Ill alまたは2の整数〕 C式(5)および(6)中、R7は置換もしくは無置換
の炭化水素基を表わし、Aは芳香族炭化水素の2価また
は窒素原子を環内に含む複素環の2価基を表わす(これ
らの環は置換されていてもよい)。
その置換体あるいはスチリル基またはその置換体、R5
は水素、アルキル基、フェニル基またはその置換体を表
わすか、あるいはR5及びR6はそれらに結合する炭素
原子と共に環を形成してもよい。)を示す。) 2:炭化水素環またはその置換体あるいは複素環または
その置換体 nilまたは2の整数 Ill alまたは2の整数〕 C式(5)および(6)中、R7は置換もしくは無置換
の炭化水素基を表わし、Aは芳香族炭化水素の2価また
は窒素原子を環内に含む複素環の2価基を表わす(これ
らの環は置換されていてもよい)。
Xは前記に同じである。〕
紐、
〔式中、R,はアルキル基、カルバモイル基、カルボキ
シ基またはそのエステルを表わし、Ar1は炭化水素環
基またはその置換体を表わし、Xは前記と同じである。
シ基またはそのエステルを表わし、Ar1は炭化水素環
基またはその置換体を表わし、Xは前記と同じである。
〕
〔上記式(8)および(9)中、Rgは水素または置換
もしくは無置換の炭化水素基を表わし、Ar、は炭化水
素環基またはその置換体を表わす。〕前記一般式(1)
、(2)、(3)または(4)の2の炭化水素環として
はベンゼン環、ナフタレン環などが例示でき、また複素
環(W換を持っていてもよい)としてはインドール環、
カルバゾール環、ベンゾラン環、ジベンゾフラン環など
が例示できる。Zの環における置換基としては塩素原子
、臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。
もしくは無置換の炭化水素基を表わし、Ar、は炭化水
素環基またはその置換体を表わす。〕前記一般式(1)
、(2)、(3)または(4)の2の炭化水素環として
はベンゼン環、ナフタレン環などが例示でき、また複素
環(W換を持っていてもよい)としてはインドール環、
カルバゾール環、ベンゾラン環、ジベンゾフラン環など
が例示できる。Zの環における置換基としては塩素原子
、臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。
Y2またはR9における炭化水素環基としては、フェニ
ル基、ナフチル基、アントリル基、ピレニル基などが、
また、複素環基としてはピリジル基、チエニル基、フリ
ル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基、ジベンゾフラニル基などが例示でき、さらに、R9
およびR5が結合して形成する環としては、フルオレン
環などが例示できる。
ル基、ナフチル基、アントリル基、ピレニル基などが、
また、複素環基としてはピリジル基、チエニル基、フリ
ル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基、ジベンゾフラニル基などが例示でき、さらに、R9
およびR5が結合して形成する環としては、フルオレン
環などが例示できる。
Y2またはR5の炭化水素環基または複素環基あるいは
R9およびR6によって形成される環における置換基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
どのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原
子などのハロゲン原子、ジメチルアミノ基、ジエチルア
ミノ基などのジアルキルアミノ基、トリフルオロメチル
基などのハロメチル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキ
シル基またはそのエステル、水酸基、−5o、 Naな
どのスルホン酸塩基などが挙げられる。
R9およびR6によって形成される環における置換基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
どのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原
子などのハロゲン原子、ジメチルアミノ基、ジエチルア
ミノ基などのジアルキルアミノ基、トリフルオロメチル
基などのハロメチル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキ
シル基またはそのエステル、水酸基、−5o、 Naな
どのスルホン酸塩基などが挙げられる。
R4のフェニル基の置換体としては塩素原子または臭素
原子などのハロゲン原子が例示できる。
原子などのハロゲン原子が例示できる。
R7またはR,における炭化水素基の代表例としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアル
キル基、フェニル基などのアリール基またはこれらの置
換体が例示できる。
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアル
キル基、フェニル基などのアリール基またはこれらの置
換体が例示できる。
R7またはR9の炭化水素基における置換基としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアル
キル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などの
ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基などが例示できる。
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアル
キル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などの
ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基などが例示できる。
Ar、またはAr、における炭化水素環基としては、フ
ェニル基、ナフチル基などがその代表例であり、また、
これらの基における置換基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアル
コキシ基、ニトロ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲ
ン原子、シアノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基などのジアルキルアミノ基などが例示できる。
ェニル基、ナフチル基などがその代表例であり、また、
これらの基における置換基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアル
コキシ基、ニトロ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲ
ン原子、シアノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基などのジアルキルアミノ基などが例示できる。
また、Xの中では特に水酸基が適当である。
上記カップラー残基の中でも好ましいのは上記−能代(
2) 、 (5) 、 (6) 、 (7) 、 (8
)および(9)で示されるものであり、この中でも一般
式におけるXが水酸基のものが好ましい。また、この中
でも一般式(10)%式% (Y、および2は前記に同し。) で表わされるカップラー残基が好ましく、さらに好まし
くは一般式 (Z、Y2およびR2は前記に同じ。)で表わされるカ
ップラー残基である。
2) 、 (5) 、 (6) 、 (7) 、 (8
)および(9)で示されるものであり、この中でも一般
式におけるXが水酸基のものが好ましい。また、この中
でも一般式(10)%式% (Y、および2は前記に同し。) で表わされるカップラー残基が好ましく、さらに好まし
くは一般式 (Z、Y2およびR2は前記に同じ。)で表わされるカ
ップラー残基である。
さらにまた、上記好ましいカップラー残基の中でも一般
式(12)または(13) ’ z ’ S ゛・Z・′ (Z、R,、R,および札は前記に同じであり、またR
8.。
式(12)または(13) ’ z ’ S ゛・Z・′ (Z、R,、R,および札は前記に同じであり、またR
8.。
としては上記のY2の置換基が例示できる。)で表わさ
れる。
れる。
必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリ
アミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、
ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アク
リル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる
。
アミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、
ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アク
リル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる
。
電荷発生層17を形成する方法には、真空薄膜作成法と
溶液分散系からの、キャスティング法とが大きく挙げら
れる。
溶液分散系からの、キャスティング法とが大きく挙げら
れる。
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオ
ンブレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッ
タリング法、CVD法等が用いられ、電荷発生層17と
して、上述した無機系材料、有機系材料層が良好に形成
できる。
ンブレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッ
タリング法、CVD法等が用いられ、電荷発生層17と
して、上述した無機系材料、有機系材料層が良好に形成
できる。
また、後者のキャスティング法によって電荷発生層を設
けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質
を、必要ならばバインダー樹脂とともにテトラヒドロフ
ラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロルエタン
、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アトライター
、サントミルなどにより分散し、分散液を適度に希釈し
て塗布することにより、形成できる。塗布は、浸漬塗工
法やスプレーコート、ビードコート法などを用いて行な
うことができる。
けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質
を、必要ならばバインダー樹脂とともにテトラヒドロフ
ラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロルエタン
、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アトライター
、サントミルなどにより分散し、分散液を適度に希釈し
て塗布することにより、形成できる。塗布は、浸漬塗工
法やスプレーコート、ビードコート法などを用いて行な
うことができる。
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、0.
01〜5癖程度が適当であり、好ましくは0.05〜2
癖である。
01〜5癖程度が適当であり、好ましくは0.05〜2
癖である。
電荷輸送層19は、電荷輸送物質およびバインダー樹脂
を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥す
ることにより形成できる。また、必要により可塑剤やレ
ベリング剤等を添加することもできる。
を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥す
ることにより形成できる。また、必要により可塑剤やレ
ベリング剤等を添加することもできる。
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがあ
る。
る。
電子輸送物質としては、たとえば、クロルアニル、ブロ
ムアニル、テトラシアノエチレン、デトラシアノキノン
ジメタン、 2,4.7−トリニトロ−9フルオレノン
、2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン、
2,4,5.7−チトラニトロキサントン、2,4゜8
−トリニドロチオキサントン、2,6.8−トリニトロ
4H−インデノ[1,2−b]チオフェン−4−オン、
1,3.7−ドリニトロジベンゾチオフエノンー5,5
−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられる。
ムアニル、テトラシアノエチレン、デトラシアノキノン
ジメタン、 2,4.7−トリニトロ−9フルオレノン
、2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン、
2,4,5.7−チトラニトロキサントン、2,4゜8
−トリニドロチオキサントン、2,6.8−トリニトロ
4H−インデノ[1,2−b]チオフェン−4−オン、
1,3.7−ドリニトロジベンゾチオフエノンー5,5
−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられる。
正孔輸送物質としては、以下の一般式で表わされる電子
供与性物質等が挙げられ、良好に用いられる。
供与性物質等が挙げられ、良好に用いられる。
(但し、R1は低級アルキル基、低級アルコキシ基又は
ハロゲン原子を表わし、nは0〜4の整数を表わし、R
2,R,は同一でも異なっていてもよく、水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表
わす、) (式中、R1,R,、R,およびR4は水素原子、置換
もしくは無置換のアリール基を表わし、Ar1は置換又
は無置換のアリール基を表わし、Ar□とR1は共用で
環を形成してもよく、またnは0又は1の整数である。
ハロゲン原子を表わし、nは0〜4の整数を表わし、R
2,R,は同一でも異なっていてもよく、水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表
わす、) (式中、R1,R,、R,およびR4は水素原子、置換
もしくは無置換のアリール基を表わし、Ar1は置換又
は無置換のアリール基を表わし、Ar□とR1は共用で
環を形成してもよく、またnは0又は1の整数である。
)
(式中、Rユは炭素数1〜11のアルキル基、置換又は
非置換のフェニル基あるいは複素環残基を表わし、 R
2,R,はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素
原子、低級アルキル基、01〜c4のヒドロキシアルキ
ル基、01〜C4のクロルアルキル基、あるいは置換又
は非置換のアラルキル基を表わし、またR2とR3は共
同で窒素を含む複素環を形成してもよく、R,、R,は
それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
す。) ノ基を表わし、R7は水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ハロゲン原子あるいはニトロ基を表わし
、nはO又は1を表わす。)(式中、R1は水素原子又
はハロゲン原子を表わし、R2は置換または非置換の芳
香族残基あるいは複素環残基(但し前記置換基はハロゲ
ン、シアノ、ジ低級アルキルアミノ、置換又は非置換の
ジアラルキルアミノ基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基及びニトロ基よりなる群から選ばれる。)を表わす
。) (式中、Rはカルバゾリル基、ピリジル基、チエニル基
、インドリル基又はフリル基、あるいはそれぞれ置換ま
たは非置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基又は
アントリル基(但し前記置換基はジ低級アルキルアミノ
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子
、アラルキルアミノ基又は、アミノ基からなる群から選
ばれる)を表わす。) K。
非置換のフェニル基あるいは複素環残基を表わし、 R
2,R,はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素
原子、低級アルキル基、01〜c4のヒドロキシアルキ
ル基、01〜C4のクロルアルキル基、あるいは置換又
は非置換のアラルキル基を表わし、またR2とR3は共
同で窒素を含む複素環を形成してもよく、R,、R,は
それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
す。) ノ基を表わし、R7は水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ハロゲン原子あるいはニトロ基を表わし
、nはO又は1を表わす。)(式中、R1は水素原子又
はハロゲン原子を表わし、R2は置換または非置換の芳
香族残基あるいは複素環残基(但し前記置換基はハロゲ
ン、シアノ、ジ低級アルキルアミノ、置換又は非置換の
ジアラルキルアミノ基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基及びニトロ基よりなる群から選ばれる。)を表わす
。) (式中、Rはカルバゾリル基、ピリジル基、チエニル基
、インドリル基又はフリル基、あるいはそれぞれ置換ま
たは非置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基又は
アントリル基(但し前記置換基はジ低級アルキルアミノ
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子
、アラルキルアミノ基又は、アミノ基からなる群から選
ばれる)を表わす。) K。
(式中、Ro、R3は水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、あるいはジ低級アルキルアミに3 (式中、R工9R2WR3は同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、フ
ェニル基、フェノキシ基、またはハロゲン原子を表わす
。) (式中、R工は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、低
級アルキル基を表わし、Arは (ただし、R2,R,、R,は水素原子、置換又は無置
換の低級アルキル基あるいは置換又は無置換のベンジル
基を表わし、R4,R,は水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル基あるいは低級アルコキシ基又はジ低級アル
キルアミノ基を表わす。)を表わす。) (式中、R,、R2,R3,R,、RGは水素原子、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換
又は無置換のジ低級アルキルアミノ基又はジベンジルア
ミノ基を表わし、R9は低級アルキル基又はベンジル基
を表わす。) (式中、Arはナフタレン環、アントラセン環、スチリ
ル基及びそれらの置換体、あるいはピリジン環、フラン
環、チオフェン環を表わし、Rは低級アルキル基又はベ
ンジル基を表わす。)酊 (式中、R1は低級アルキル基、2−ヒドロキシエチル
基又は2−クロロエチル基を表わし、R2は低級アルキ
ル基、ベンジル基又はフェニル基を表わし、R1は水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ジ低級アルキルアミノ基又はニトロ基を表わす、) R1 (式中、R□は水素原子、低級アルキル基、クロルエチ
ル基又はヒドロキシエチル基を表わし、R2は水素原子
又はハロゲン原子を表わし、R:lは低級アルキル基、
ジ低級アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、置換又
は無置換のスチリル基、置換又は無置換の芳香環残基(
芳香環又はベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環
等)、置換又は無置換の複素環残基(複素環はピリジン
環、キノキサリン環、カルバゾール環等)を表わす。) 換又は無置換の複素環残基(複素環はピリジン環、キノ
キサリン環、カルバゾール環等)を表わす。) (式中、R4,R2は同一でも異なっていてもよく、水
素原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、
クロル低級アルキル基、アルキルの炭素数1〜2のアシ
ル基、アルキルの炭素数5〜6のシクロアルキル基、あ
るいは置換又は非置換のアラルキル基を表わす。) (式中、R工は低級アルキル基を表わし、R2は低級ア
ルキル基、ジ低級アルキルアミノ基、ジアリールアミノ
基、I!換又は無置換のスチリル基。
アルコキシ基、あるいはジ低級アルキルアミに3 (式中、R工9R2WR3は同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、フ
ェニル基、フェノキシ基、またはハロゲン原子を表わす
。) (式中、R工は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、低
級アルキル基を表わし、Arは (ただし、R2,R,、R,は水素原子、置換又は無置
換の低級アルキル基あるいは置換又は無置換のベンジル
基を表わし、R4,R,は水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル基あるいは低級アルコキシ基又はジ低級アル
キルアミノ基を表わす。)を表わす。) (式中、R,、R2,R3,R,、RGは水素原子、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換
又は無置換のジ低級アルキルアミノ基又はジベンジルア
ミノ基を表わし、R9は低級アルキル基又はベンジル基
を表わす。) (式中、Arはナフタレン環、アントラセン環、スチリ
ル基及びそれらの置換体、あるいはピリジン環、フラン
環、チオフェン環を表わし、Rは低級アルキル基又はベ
ンジル基を表わす。)酊 (式中、R1は低級アルキル基、2−ヒドロキシエチル
基又は2−クロロエチル基を表わし、R2は低級アルキ
ル基、ベンジル基又はフェニル基を表わし、R1は水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ジ低級アルキルアミノ基又はニトロ基を表わす、) R1 (式中、R□は水素原子、低級アルキル基、クロルエチ
ル基又はヒドロキシエチル基を表わし、R2は水素原子
又はハロゲン原子を表わし、R:lは低級アルキル基、
ジ低級アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、置換又
は無置換のスチリル基、置換又は無置換の芳香環残基(
芳香環又はベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環
等)、置換又は無置換の複素環残基(複素環はピリジン
環、キノキサリン環、カルバゾール環等)を表わす。) 換又は無置換の複素環残基(複素環はピリジン環、キノ
キサリン環、カルバゾール環等)を表わす。) (式中、R4,R2は同一でも異なっていてもよく、水
素原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、
クロル低級アルキル基、アルキルの炭素数1〜2のアシ
ル基、アルキルの炭素数5〜6のシクロアルキル基、あ
るいは置換又は非置換のアラルキル基を表わす。) (式中、R工は低級アルキル基を表わし、R2は低級ア
ルキル基、ジ低級アルキルアミノ基、ジアリールアミノ
基、I!換又は無置換のスチリル基。
置換又は無置換の芳香環残基(芳香環はベンゼン環、ナ
フタレン環、アントラセン環等)、置(式中、R” 、
R’及びR4は水素原子、アミノ基、アルコキシ基、チ
オアルコキシ基、アリールオキシ基、メチレンジオキシ
基、置換もしくは無置換のアルキル基、ハロゲン原子又
は置換もしくは無置換のアリール基を、R2は水素原子
、アルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキル基又は
ハロゲンを表わす。但し、R” 、R” 、R3および
R4がすべて水素原子である場合は除く。またに、Q、
m及びnは1.2.3又は4の整数であり、各々が2,
3又は4の整数の時は前記R1,R2,R3およびR4
は同一でも異なっていてもよい。
フタレン環、アントラセン環等)、置(式中、R” 、
R’及びR4は水素原子、アミノ基、アルコキシ基、チ
オアルコキシ基、アリールオキシ基、メチレンジオキシ
基、置換もしくは無置換のアルキル基、ハロゲン原子又
は置換もしくは無置換のアリール基を、R2は水素原子
、アルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキル基又は
ハロゲンを表わす。但し、R” 、R” 、R3および
R4がすべて水素原子である場合は除く。またに、Q、
m及びnは1.2.3又は4の整数であり、各々が2,
3又は4の整数の時は前記R1,R2,R3およびR4
は同一でも異なっていてもよい。
A−CH2CH7−Ar”−CH2CH2−A(式中、
Ar1は置換もしくは無置換の芳香族炭化水素基または
複素環基を表わし、Aは置換もしくは無置換のN−置換
力ルバゾリル基または−Ar2−N (ただし、Ar
2は置換もしくは無置換ゝR・ の芳香族炭化水素基または複素環基であり、R1及びR
2は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もし
くは無置換のアリール基である6)を表わす。) これらの電荷輸送物質は、単独又は2種以上混合して用
いられる。
Ar1は置換もしくは無置換の芳香族炭化水素基または
複素環基を表わし、Aは置換もしくは無置換のN−置換
力ルバゾリル基または−Ar2−N (ただし、Ar
2は置換もしくは無置換ゝR・ の芳香族炭化水素基または複素環基であり、R1及びR
2は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もし
くは無置換のアリール基である6)を表わす。) これらの電荷輸送物質は、単独又は2種以上混合して用
いられる。
バインダー樹脂としてはポリスチレン、スチレン−アク
リロニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体
、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポリ
酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ボリアリレート樹脂
、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース
樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N
−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂
、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノ
ール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性
樹脂が挙げられる。
リロニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体
、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポリ
酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ボリアリレート樹脂
、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース
樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N
−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂
、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノ
ール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性
樹脂が挙げられる。
溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トル
エン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチ
レンなどが用いられる。
エン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチ
レンなどが用いられる。
電荷輸送層19の厚さは5〜1oolIIn程度が適当
である。また、本発明において電荷輸送層17中に可塑
剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、
ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の
樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用
でき、その使用量は、バインダー樹脂に対してO〜30
重量%程度が適当である。
である。また、本発明において電荷輸送層17中に可塑
剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、
ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の
樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用
でき、その使用量は、バインダー樹脂に対してO〜30
重量%程度が適当である。
レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メ
チルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル
類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー
あるいはオリゴマーが使用され、その使用量はバインダ
ー樹脂に対して、0〜1重量x程度が適当である。
チルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル
類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー
あるいはオリゴマーが使用され、その使用量はバインダ
ー樹脂に対して、0〜1重量x程度が適当である。
次に、感光層15がm層構成の場合について述べる。
無機感光層は、上述したアモルファス・セレン、セレン
合金、アモルファス・シリコン感光層等をこれも上述し
た真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンブレーティン
グ法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、C
VD法等の真空薄膜形成法で設けることができる。また
、これらの無機物質層を二層以上積層した感光体も本発
明の範躊に属するものである。
合金、アモルファス・シリコン感光層等をこれも上述し
た真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンブレーティン
グ法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、C
VD法等の真空薄膜形成法で設けることができる。また
、これらの無機物質層を二層以上積層した感光体も本発
明の範躊に属するものである。
キャスティング法で、単層感光層を設ける場合、多くは
電荷発生物質と電荷輸送物質よりなる機能分離型のもの
が挙げられる。即ち、電荷発生物質ならびに電荷輸送物
質には前出の材料を用いることができる。
電荷発生物質と電荷輸送物質よりなる機能分離型のもの
が挙げられる。即ち、電荷発生物質ならびに電荷輸送物
質には前出の材料を用いることができる。
単層感光層は、電荷発生物質および電荷輸送物質および
バインダー樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これ
を塗布、乾燥することによって形成できる。また、必要
により、可塑剤やレベリング剤等を添加することもでき
る。
バインダー樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これ
を塗布、乾燥することによって形成できる。また、必要
により、可塑剤やレベリング剤等を添加することもでき
る。
バインダー樹脂としては、先に電荷輸送層19で挙げた
バインダー樹脂をそのまま用いるほかに、電荷発生層1
7で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。
バインダー樹脂をそのまま用いるほかに、電荷発生層1
7で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。
単層感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質およびバイ
ンダー樹脂をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロ
ルエタン、シクロヘキサノン等の溶媒を用いて、分散機
等で分散した塗工液を、浸漬塗工法やスプレーコート、
ビードコートなどで塗工して形成できる。
ンダー樹脂をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロ
ルエタン、シクロヘキサノン等の溶媒を用いて、分散機
等で分散した塗工液を、浸漬塗工法やスプレーコート、
ビードコートなどで塗工して形成できる。
ピリリウム系染料、ビスフェノールA系ポリカーボネー
トから形成される共晶錯体に電荷輸送物質を添加した感
光体も、適当な塗工液から同様な塗工法で形成できる。
トから形成される共晶錯体に電荷輸送物質を添加した感
光体も、適当な塗工液から同様な塗工法で形成できる。
単層感光層の膜厚は、5〜1 ooAts程度が適当で
ある。
ある。
なお、本発明において感光層の」二にさらに保護N21
を設けることも可能である。
を設けることも可能である。
保護層21は感光体の表面保護の目的で設けられ、これ
に使用される材料としてはABS樹脂、AC5樹脂、オ
レフィンルビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテ
ル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、ポ
リアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポリ
アリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンチレフタ
レ−1〜、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、
ポリエチレン。
に使用される材料としてはABS樹脂、AC5樹脂、オ
レフィンルビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテ
ル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、ポ
リアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポリ
アリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンチレフタ
レ−1〜、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、
ポリエチレン。
ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、アクリル樹
脂、ポリメチルペンテン、ポリプロピレン、ポリフェニ
レンオキシド、ポリスルホン、ポリスチレン、AS樹脂
、ブタジェン−スチレン共重合体、ポリウレタン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキシ樹脂等の樹
脂が挙げられる。保護層にはその他、耐摩耗性の向上す
る目的でポリテトラフルオロエチレンのような弗素樹脂
、シリコーン樹脂、及びこれら樹脂に酸化チタン、酸化
錫、チタン酸カリウム等の無機材料を分散したもの等を
添加することができる。保護層の形成法としては通常の
塗布法が採用される。なお保護層の厚さは0.5〜10
岬程度が適当である。
脂、ポリメチルペンテン、ポリプロピレン、ポリフェニ
レンオキシド、ポリスルホン、ポリスチレン、AS樹脂
、ブタジェン−スチレン共重合体、ポリウレタン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキシ樹脂等の樹
脂が挙げられる。保護層にはその他、耐摩耗性の向上す
る目的でポリテトラフルオロエチレンのような弗素樹脂
、シリコーン樹脂、及びこれら樹脂に酸化チタン、酸化
錫、チタン酸カリウム等の無機材料を分散したもの等を
添加することができる。保護層の形成法としては通常の
塗布法が採用される。なお保護層の厚さは0.5〜10
岬程度が適当である。
本発明においては、感光層と保護層の間に別の中間層(
図示せず)を設けることも可能である。
図示せず)を設けることも可能である。
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とり
わけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、酸
化防止剤を添加することができる。
わけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、酸
化防止剤を添加することができる。
酸化防止剤は、有機物を含む層ならばいずれに添加して
もよいが、電荷輸送物質を含む層に添加すると良好な結
果が得られる。
もよいが、電荷輸送物質を含む層に添加すると良好な結
果が得られる。
本発明に用いることができる酸化防止剤として下記のも
のが挙げられる。
のが挙げられる。
モノフェノール系
2.6−ジーt−ブチル−P−クレゾール、ブチル化ヒ
トロキシアニゾール、2,6−ジーt−ブチル−4−エ
チルフエノール、スチアリル〜β−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートなど
。
トロキシアニゾール、2,6−ジーt−ブチル−4−エ
チルフエノール、スチアリル〜β−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートなど
。
ビスフェノール系化合物
2.2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス−(4−
エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−チオ
ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4
,4′−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)など。
チルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス−(4−
エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−チオ
ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4
,4′−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)など。
高分子型フェノール系化合物
1.1.3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−
5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3.5−)−リ
スチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[
メチレン−3−(3’ 、 5’−ジ−t−ブチルー4
′−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン、ビ
ス[3,3’−ビス(4′−ヒドロキシ−3′−t−ブ
チルフェニル)ブチリックアシッドコグリコールエステ
ル、トコフェロール類など。
5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3.5−)−リ
スチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[
メチレン−3−(3’ 、 5’−ジ−t−ブチルー4
′−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン、ビ
ス[3,3’−ビス(4′−ヒドロキシ−3′−t−ブ
チルフェニル)ブチリックアシッドコグリコールエステ
ル、トコフェロール類など。
パラフェニレンジアミン類
N−フェニル−N′−イソプロピル−p−フェニレンジ
アミン、N、N’−ジー5ee−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−P−
フェニレンジアミン、N、N’−ジイソプロピル−P−
フェニレンジアミン、N、N’−ジメチル−N、N’−
ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。
アミン、N、N’−ジー5ee−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−P−
フェニレンジアミン、N、N’−ジイソプロピル−P−
フェニレンジアミン、N、N’−ジメチル−N、N’−
ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。
ハイドロキノン類
2.5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジ
トデシルハイトロキノン、2−ドデシルハイトロキノン
、2−ドデシル−5−タロロハイドロキノン、2−tオ
クチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタ
デセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
トデシルハイトロキノン、2−ドデシルハイトロキノン
、2−ドデシル−5−タロロハイドロキノン、2−tオ
クチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタ
デセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
有機硫黄化合物類
ジラウリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シルー3,3′−チオジプロピオネートなど。
アリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シルー3,3′−チオジプロピオネートなど。
有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホス
フィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキシ
)ホスフィンなど。
フィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキシ
)ホスフィンなど。
これらの化合物はゴム、プラスチック、油脂類等の酸化
防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる
。
防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる
。
本発明における酸化防止剤の添加量は電荷輸送物質10
0重量部に対して0.1〜100重量部、好ましくは、
2〜30重量部である。
0重量部に対して0.1〜100重量部、好ましくは、
2〜30重量部である。
次に、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明は以下の実施例によって限定されるものではな
い。尚、実施例中に使用する部はすべて重量部を表わす
。
、本発明は以下の実施例によって限定されるものではな
い。尚、実施例中に使用する部はすべて重量部を表わす
。
実施例1
アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸送
層を順次積層し、各々0.2Ilsの中間層、0.3趨
の電荷発生層、24pmの電荷輸送層を形成し、本発明
の電子写真感光体を作成した。
ィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸送
層を順次積層し、各々0.2Ilsの中間層、0.3趨
の電荷発生層、24pmの電荷輸送層を形成し、本発明
の電子写真感光体を作成した。
酸化タングステンをスパッタリングにより製膜した。
下記構造式の電荷発生物質
4部
シグロへキサノン 100部4−
メチル−2−ペンタノン 100部〔電
荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部塩化メ
チレン 70部1.2−ジク
ロロエタン 30部実施例2 実施例Iと同じ支持体上に、下記組成の中間層塗工液、
電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々0.3岬の中間層、0.2癖の電荷発生
層および20psの電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
メチル−2−ペンタノン 100部〔電
荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部塩化メ
チレン 70部1.2−ジク
ロロエタン 30部実施例2 実施例Iと同じ支持体上に、下記組成の中間層塗工液、
電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々0.3岬の中間層、0.2癖の電荷発生
層および20psの電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
水
メタノール
酸化タングステン
〔電荷発生層塗工液〕
下記構造式の電荷発生物質
トルイレン−2,4−ジイソシアネートシクロヘキサノ
ン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 150部 200部 100部 6部 0.05部 200部 100部 9部 ポリカーボネート (今人化成■製パンライトL−1250) 10
部テトラヒドロフラン 81部実施
例3 ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層し、各々、500人の中間層、1部mの
電荷発生層、20部mの電荷輸送層を形成し1本発明の
電子写真感光体を作成した。
ン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 150部 200部 100部 6部 0.05部 200部 100部 9部 ポリカーボネート (今人化成■製パンライトL−1250) 10
部テトラヒドロフラン 81部実施
例3 ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層し、各々、500人の中間層、1部mの
電荷発生層、20部mの電荷輸送層を形成し1本発明の
電子写真感光体を作成した。
酸化タングステンをイオンブレーティング法しこより製
膜した。
膜した。
ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷発生物質 8部テトラヒ
ドロフラン 82部実施例4 厚さ0.2mmのアルミニウム板上に、下記組成の中間
層、電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し、1癖の中間
層、0.1μsの電荷発生層、19癖の電荷輸送層を形
成し、本発明の電子写真感光体を作成した。
ドロフラン 82部実施例4 厚さ0.2mmのアルミニウム板上に、下記組成の中間
層、電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し、1癖の中間
層、0.1μsの電荷発生層、19癖の電荷輸送層を形
成し、本発明の電子写真感光体を作成した。
酸化タングステンを真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷発生物質 3部シクロヘ
キサノン 4−メチル−2−ペンタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 90部 30部 10部 塩化メチレン 100部実施例
5 厚さ0.1m++の電鋳ニッケル板上に、下記組成の中
間層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液およ
び保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々0.3声
の中間層、 0.2部mの電荷発生層、28部mの電荷
輸送層および3部mの保護層を形成し、本発明の電子写
真感光体を作成した。
キサノン 4−メチル−2−ペンタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 90部 30部 10部 塩化メチレン 100部実施例
5 厚さ0.1m++の電鋳ニッケル板上に、下記組成の中
間層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液およ
び保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々0.3声
の中間層、 0.2部mの電荷発生層、28部mの電荷
輸送層および3部mの保護層を形成し、本発明の電子写
真感光体を作成した。
下記構造式の電荷発生物質
100部
100部
4部
3部
ポリエステル
(東洋紡績:バイロン300)
テトラヒドロフラン
〔電荷輸送層塗工液〕
下記構造式の電荷輸送物質
3部
200部
10部
導電性酸化チタン 90部トルエ
ン 220部n−ブタノ
ール 60部実施例6 実施例4と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷輸
送層、電荷発生層を順次積層し、各々0.3趨の中間層
、19声の電荷輸送層、2癖の電荷発生層を形成し、本
発明の電子写真感光体を作成した。
ン 220部n−ブタノ
ール 60部実施例6 実施例4と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷輸
送層、電荷発生層を順次積層し、各々0.3趨の中間層
、19声の電荷輸送層、2癖の電荷発生層を形成し、本
発明の電子写真感光体を作成した。
酸化タングステンを真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷輸送物質 10部ポリカ
ーボネート (今人化成■製パンライトに−1300)テトラヒドロ
フラン 〔保護層塗工液〕 スチレン−メチルメタクリレート 10部 75部 70部 ポリエステル (東洋紡績■製バイロン200) 10
部テトラヒドロフラン 80部〔電
荷発生層〕 ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
ーボネート (今人化成■製パンライトに−1300)テトラヒドロ
フラン 〔保護層塗工液〕 スチレン−メチルメタクリレート 10部 75部 70部 ポリエステル (東洋紡績■製バイロン200) 10
部テトラヒドロフラン 80部〔電
荷発生層〕 ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
実施例7
実施例4と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷輸
送層、電荷発生層、保護層を順次積層し、0.5癖の中
間層、21癖の電荷輸送層、0.24の電荷発生層、5
碑の保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成し
た。
送層、電荷発生層、保護層を順次積層し、0.5癖の中
間層、21癖の電荷輸送層、0.24の電荷発生層、5
碑の保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成し
た。
酸化タングステンをスパッタリングにより製膜した。
170部
80部
酸化錫 80部トルエ
ン 170部2−ブタ
ノン 100部比較例】 実施例1において、中間層を設けない以外はすべて同様
にして比較用の電子写真感光体を作成した。
ン 170部2−ブタ
ノン 100部比較例】 実施例1において、中間層を設けない以外はすべて同様
にして比較用の電子写真感光体を作成した。
比較例2
実施例2において、中間層の酸化タングステンを用いな
い以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体を作
成した。
い以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体を作
成した。
比較例3〜4
実施例3〜4において、中間層を設けない以外はすへて
同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
比較例5
実施例5において、中間層の酸化タングステンを用いな
い以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体を作
成した。
い以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体を作
成した。
比較例6〜7
実施例6〜7において、中間層を設けない以外はすべて
同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
以上の各感光体の特性を、静電複写紙試験装置(川口電
機製作新製5P−428型)を用いて次のように評価し
た。
機製作新製5P−428型)を用いて次のように評価し
た。
まず、 −5,4KV(もしくは)+5.4KVの放電
々圧にて、コロナ帯電を20秒間行ない、次いで暗減衰
させて表面電位が一800Vもしくは+800vになっ
たところで、5.3121JXのタングステン光を照射
した。
々圧にて、コロナ帯電を20秒間行ない、次いで暗減衰
させて表面電位が一800Vもしくは+800vになっ
たところで、5.3121JXのタングステン光を照射
した。
この時の帯電開始後2秒および20秒の表面電位V2(
V)、V2.(V)また光照射の際、表面電位が一40
0Vもしくは、+400Vになるのに必要な露光量E4
0Q(12ux−sec)を測定した。
V)、V2.(V)また光照射の際、表面電位が一40
0Vもしくは、+400Vになるのに必要な露光量E4
0Q(12ux−sec)を測定した。
更に、この感光体に色温度2856°にのタングステン
光を7800Qux−sec照射して光疲労させた後、
再び前記と同様にしてV、、 V、、、E4aaを測定
した。
光を7800Qux−sec照射して光疲労させた後、
再び前記と同様にしてV、、 V、、、E4aaを測定
した。
評価結果を表−1に示す。
表−1
実施例8
アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸送
層を順次積層し、各々0.2癖の中間層、0.3癖の電
荷発生層、24癖の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
ィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸送
層を順次積層し、各々0.2癖の中間層、0.3癖の電
荷発生層、24癖の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
酸化網をスパッタリングにより製膜した。
下記構造式の電荷発生物質 5部シクロヘ
キサノン 200部 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部 * 800V帯電せず測定不可 塩化メチレン 70部1,2
−ジクロロエタン 30部実施例
9 実施例8と同じ支持体上に、下記組成の中間層塗工液、
電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々0.3癖の中間層、0.2癖の電荷発生
層および20声の電荷輸送層を形成し、本発明の電子写
真感光体を作成した。
キサノン 200部 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部 * 800V帯電せず測定不可 塩化メチレン 70部1,2
−ジクロロエタン 30部実施例
9 実施例8と同じ支持体上に、下記組成の中間層塗工液、
電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々0.3癖の中間層、0.2癖の電荷発生
層および20声の電荷輸送層を形成し、本発明の電子写
真感光体を作成した。
水
メタノール
酸化網
〔電荷発生層塗工液〕
下記構造式の電荷発生物質
150部
200部
25部
5部
トルイレン−2,4〜ジイソシアネートシクロヘキサノ
ン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 0.1部 250部 100部 9部 ポリカーボネート (今人化成■製パンライトL−1250) 10
部テトラヒドロフラン 81部実施
例10 ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層し、各々、500人の中間層、1μsの
電荷発生層、20声の電荷輸送層を形成し、本発明の電
子写真感光体を作成した。
ン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 0.1部 250部 100部 9部 ポリカーボネート (今人化成■製パンライトL−1250) 10
部テトラヒドロフラン 81部実施
例10 ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層し、各々、500人の中間層、1μsの
電荷発生層、20声の電荷輸送層を形成し、本発明の電
子写真感光体を作成した。
酸化網をイオンブレーティング法により製膜した。
ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷発生物質 8部テトラ
ヒドロフラン 82部実施例]1 厚さ0.2m+のアルミニウム板上に、下記組成の中間
層、電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し、1癖の中間
層、0.1趨の電荷発生層、19癖の電荷輸送層を形成
し、本発明の電子写真感光体を作成した。
ヒドロフラン 82部実施例]1 厚さ0.2m+のアルミニウム板上に、下記組成の中間
層、電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し、1癖の中間
層、0.1趨の電荷発生層、19癖の電荷輸送層を形成
し、本発明の電子写真感光体を作成した。
酸化網を真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷発生物質
4部
シクロへキサノン 300部4−
メチル−2−ペンタノン 200部〔電
荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部ポリカ
ーボネート (GE社製 レキサン−141)
10部塩化メチレン 100部
実施例12 厚さ0.11aの電鋳ニッケル板」二に、下記組成の中
間層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液およ
び保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々0.3.
の中間層、0.2癖の電荷発生層、28癖の電荷輸送層
および3閾の保rs/wを形成し5本発明の電子写真感
光体を作成した。
メチル−2−ペンタノン 200部〔電
荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部ポリカ
ーボネート (GE社製 レキサン−141)
10部塩化メチレン 100部
実施例12 厚さ0.11aの電鋳ニッケル板」二に、下記組成の中
間層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液およ
び保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々0.3.
の中間層、0.2癖の電荷発生層、28癖の電荷輸送層
および3閾の保rs/wを形成し5本発明の電子写真感
光体を作成した。
水
メタノール
酸化網
〔電荷発生層塗工液〕
下記構造式の電荷発生物質
100部
100部
6部
2部
ポリカーボネート
(帝人化成■製)(ンライトに−1300)テトラヒド
ロフラン 〔保護層塗工液〕 導電性酸化チタン 10部 75部 90部 テトラヒドロフラン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 250部 10部 n−ブタノール 60部実
施例13 実施例11と同じ支持体1こ、下記組成の中間層、電荷
輸送層、電荷発生層を順次積層し、各々0.3声の中間
層、19部mの電荷輸送層、2−の電荷発生層を形成し
、本発明の電子写真感光体を作成した。
ロフラン 〔保護層塗工液〕 導電性酸化チタン 10部 75部 90部 テトラヒドロフラン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 250部 10部 n−ブタノール 60部実
施例13 実施例11と同じ支持体1こ、下記組成の中間層、電荷
輸送層、電荷発生層を順次積層し、各々0.3声の中間
層、19部mの電荷輸送層、2−の電荷発生層を形成し
、本発明の電子写真感光体を作成した。
酸化銅を真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷輸送物質
10部
■
C8,012Cfl
テトラヒドロフラン 80部〔電荷
発生層〕 ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
発生層〕 ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
実施例14
実施例11と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷
輸送層、電荷発生層、保護層を順次積層し、0.5μs
の中間層、21−の電荷輸送層、0.2−の電荷発生層
、5趨の保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作
成した。
輸送層、電荷発生層、保護層を順次積層し、0.5μs
の中間層、21−の電荷輸送層、0.2−の電荷発生層
、5趨の保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作
成した。
酸化銅をスパッタリングにより製膜した。
下記構造式の電荷輸送物質 7部塩化メチ
レン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 シクロヘキサノン シクロヘキサン 〔保護層塗工液〕 スチレン−メチルメタクリレート 80部 150部 100部 酸化錫 80部トルエ
ン 170部2−ブタ
ノン 100部比較例8 実施例8において、中間層を設けない以外はすべて同様
にして比較用の電子写真感光体を作成した。
レン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 シクロヘキサノン シクロヘキサン 〔保護層塗工液〕 スチレン−メチルメタクリレート 80部 150部 100部 酸化錫 80部トルエ
ン 170部2−ブタ
ノン 100部比較例8 実施例8において、中間層を設けない以外はすべて同様
にして比較用の電子写真感光体を作成した。
比較例9
実施例9において、中間層の酸化銅を用いない以外はす
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
比較例10〜11
実施例1O〜11において、中間層を設けない以外はす
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
比較例12
実施例12において、中間層の酸化銅を用いない以外は
すべて同様にして比較例の電子写真感光体を作成した。
すべて同様にして比較例の電子写真感光体を作成した。
比較例13〜14
実施例13〜14において、中間層を設けない以外はす
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
以上の各感光体の特性を、静電複写紙試験装置(川口電
機製作所層5P−428型)を用いて次のように評価し
た。
機製作所層5P−428型)を用いて次のように評価し
た。
まず、−6,0KV(もしくは)+5,8KVの放電々
圧にて、コロナ帯電を20秒間行ない、次いで暗減衰さ
せて表面電位が一800νもしくは+800vになった
ところで。
圧にて、コロナ帯電を20秒間行ない、次いで暗減衰さ
せて表面電位が一800νもしくは+800vになった
ところで。
6Quxのタングステン光を照射した。
この時の帯電開始後1秒および15秒の表面電位V工(
V)、Vよ、(V)また光照射の際、表面電位が一40
0■もしくは、 +400Vになるのに必要な露光量E
4゜。
V)、Vよ、(V)また光照射の際、表面電位が一40
0■もしくは、 +400Vになるのに必要な露光量E
4゜。
(Qux−5ec)を測定した。
更に、この感光体に色温度2856°にのタングステン
光を650(lQux−sec照射して光疲労させた後
、再び前記と同様にしてvl、ν□5、E4゜。を測定
した6評価結果を表−2に示す。
光を650(lQux−sec照射して光疲労させた後
、再び前記と同様にしてvl、ν□5、E4゜。を測定
した6評価結果を表−2に示す。
表−2
実施例15
アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレート・
フィルム上に、蒸着材料にceo2を用い、電子ビーム
加熱式の真空蒸着法によって、厚さ1.0癖の酸化セリ
ウムよりなる中間層を設けた。
フィルム上に、蒸着材料にceo2を用い、電子ビーム
加熱式の真空蒸着法によって、厚さ1.0癖の酸化セリ
ウムよりなる中間層を設けた。
この上に下記組成の電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工
液を順次、塗布・乾燥して各々0.2/a厚の電荷発生
層および22碑厚の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
液を順次、塗布・乾燥して各々0.2/a厚の電荷発生
層および22碑厚の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
下記構造式の電荷発生物質 4部* 80
0V帯電せず測定不可 シクロへキサノン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 250部 150部 下記構造式の電荷輸送物質 25部 !1.シ ポリカーボネート (帝人化成■製パンライトL−1250) 30
部テトラヒドロフラン 230部実
施例16 厚さ0.2m++++のアルミニウム板上に、ターゲッ
トにCeO7を用い、真空槽内にアルゴンガスを導入し
、スパッタリング法により厚さ0.5/Jll+の酸化
セリウムよりなる中間層を設けた。この上に、下記組成
の電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗
布・乾燥して各々0.1声の電荷発生層および17癖の
電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成し
た。
0V帯電せず測定不可 シクロへキサノン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 250部 150部 下記構造式の電荷輸送物質 25部 !1.シ ポリカーボネート (帝人化成■製パンライトL−1250) 30
部テトラヒドロフラン 230部実
施例16 厚さ0.2m++++のアルミニウム板上に、ターゲッ
トにCeO7を用い、真空槽内にアルゴンガスを導入し
、スパッタリング法により厚さ0.5/Jll+の酸化
セリウムよりなる中間層を設けた。この上に、下記組成
の電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗
布・乾燥して各々0.1声の電荷発生層および17癖の
電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成し
た。
下記構造式の電荷発生物質 5部ポリエス
テル 2部 (東洋紡績##バイロン3oo) テトラヒドロフラン 250部 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 25部 しり。
テル 2部 (東洋紡績##バイロン3oo) テトラヒドロフラン 250部 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 25部 しり。
ポリカーボネート
、いイ、ワ17.アうイ、。〜1400) 2”
部塩化メチレン 250部実施
例17 厚さ0.2mのニッケル板上に、下記組成の中間層塗工
液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々2.5μsの中間層、0.3趨の電荷発
生層、19趨の電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真
感光体を作成した。
部塩化メチレン 250部実施
例17 厚さ0.2mのニッケル板上に、下記組成の中間層塗工
液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々2.5μsの中間層、0.3趨の電荷発
生層、19趨の電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真
感光体を作成した。
CeO□粉末
20部
トルエン
20部
〔電荷発生層塗工液〕
下記構造式の電荷発生物質
3部
シクロヘキサノン
テトラヒドロフラン
〔電荷輸送層塗工液〕
下記構造式の電荷輸送物質
150部
100部
25部
テトラヒドロフラン 280部実施
例18 厚さ0.5m+のアルミニウム板上に、下記組成の中間
層塗工液を塗布・乾燥して、膜厚1.5/Xnの中間層
を作成した。
例18 厚さ0.5m+のアルミニウム板上に、下記組成の中間
層塗工液を塗布・乾燥して、膜厚1.5/Xnの中間層
を作成した。
Ce2O,粉末 5部ポ
リビニルアルコール (電気化学工業■製デンカポバールH−20) 2部
水
80部メタノール 8
0部この上に下記組成の塗工液を塗布・乾燥して、乾燥
膜厚20μsの共晶錯体感光体を設け5本発明の電子写
真感光体を作成した。
リビニルアルコール (電気化学工業■製デンカポバールH−20) 2部
水
80部メタノール 8
0部この上に下記組成の塗工液を塗布・乾燥して、乾燥
膜厚20μsの共晶錯体感光体を設け5本発明の電子写
真感光体を作成した。
下記構造式の電荷発生物質
4部
ポリカーボネート
(帝人化成■製パンライトL−1225)塩化メチレン
下記構造式で示される化合物
28部
650部
25部
シクロヘキサノン
2−ブタノン
〔電荷輸送層塗工液〕
下記構造式の電荷輸送物質
150部
100部
20部
実施例19
厚さ70碑の電鋳ニッケル上に、CeO2を蒸発材料と
し、抵抗加熱方式の真空蒸着法により、厚さ0゜8癖の
酸化セリウムよりなる中間層を設けた。この上に、下記
組成の電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次
、塗布・乾燥して各々0.2癖の電荷発生層および20
癖の電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を作
成した。
し、抵抗加熱方式の真空蒸着法により、厚さ0゜8癖の
酸化セリウムよりなる中間層を設けた。この上に、下記
組成の電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次
、塗布・乾燥して各々0.2癖の電荷発生層および20
癖の電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を作
成した。
塩化メチレン 220部実施例
20 厚さ0.211fllのニクロム板」二に、ターゲット
にCeO2を用い、アルゴンと酸素の分圧比が1となる
雰囲気下でスパッタリング法により、膜厚0.3戸の酸
化セリウムよりなる中間層を形成した。この上に、下記
組成の電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次
、塗布・乾燥して各々0.3癖の電荷発生層および18
癖の電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を作
成した。
20 厚さ0.211fllのニクロム板」二に、ターゲット
にCeO2を用い、アルゴンと酸素の分圧比が1となる
雰囲気下でスパッタリング法により、膜厚0.3戸の酸
化セリウムよりなる中間層を形成した。この上に、下記
組成の電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次
、塗布・乾燥して各々0.3癖の電荷発生層および18
癖の電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を作
成した。
下記構造式の電荷発生物質 5部ボリカー
ボネー!− (今人化成■製パンライl−K−1,300)
32部テトラヒドロフラン 270
部実施例21 厚さ0.5anのアルミニウム板上に、実施例17と同
じ中間層を用い実施例17と同様に厚さ2.0声の中間
層を設けた。この上に、下記組成の電荷輸送層塗工液、
電荷発生層塗工液および保護層塗工液を順次、塗布・乾
燥して各々20.の電荷輸送層、0.3癖の電荷発生層
および3癖の保護層を形成し。
ボネー!− (今人化成■製パンライl−K−1,300)
32部テトラヒドロフラン 270
部実施例21 厚さ0.5anのアルミニウム板上に、実施例17と同
じ中間層を用い実施例17と同様に厚さ2.0声の中間
層を設けた。この上に、下記組成の電荷輸送層塗工液、
電荷発生層塗工液および保護層塗工液を順次、塗布・乾
燥して各々20.の電荷輸送層、0.3癖の電荷発生層
および3癖の保護層を形成し。
本発明の電子写真感光体を作成した。
下記構造式の電荷輸送物質 25部シクロ
ヘキサノン テトラヒドロフラン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 150部 120部 25部 テトラヒドロフラン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 240部 4部 シクロヘキサノン テトラヒドロフラン 100部 150部 〔保護層塗工液〕 保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成した。
ヘキサノン テトラヒドロフラン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 150部 120部 25部 テトラヒドロフラン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 240部 4部 シクロヘキサノン テトラヒドロフラン 100部 150部 〔保護層塗工液〕 保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成した。
CeO2粉末 10部ポ
リビニルアルコール (種水化学工業■製エスレックBL−1) 5部
トルイレン−2,4−ジイソシアネート0.1部2−ブ
タノン 100部〔電荷輸
送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 30部導電性
酸化チタン 90部トルエン
220部n−ブタノール
60部実施例22 厚さ0.4mmのニクロム板上に、下記組成の中間層塗
工液、電荷輸送層塗工液、電荷発生層塗工液、中間層塗
工液および保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して各々2
.5Ilaの中間層、20趨の電荷輸送層、0.2.の
電荷発生層、0.2.の中間層および5plaの塩化メ
チレン 1.2−ジクロロエタン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 180部 60部 4部 ポリエステル (東洋紡積■製バイロン200) トルイレン−2,4−ジイソシアネートテトラヒドロフ
ラン 4−メチル−2−ペンタノン 〔中間層塗工液〕 1部 0.1部 190部 70部 メタノール n−ブタノール 70部 40部 〔保護層塗工液〕 酸化錫 トルエン 2−ブタノール 80部 170部 100部 実施例23 厚さ0,3Iのアルミニウム板上に蒸発材料にCe2O
3用い、電子ビーム加熱方式の真空蒸着法で膜厚0.6
岬の酸化セリウムよりなる中間層を作成した。
リビニルアルコール (種水化学工業■製エスレックBL−1) 5部
トルイレン−2,4−ジイソシアネート0.1部2−ブ
タノン 100部〔電荷輸
送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 30部導電性
酸化チタン 90部トルエン
220部n−ブタノール
60部実施例22 厚さ0.4mmのニクロム板上に、下記組成の中間層塗
工液、電荷輸送層塗工液、電荷発生層塗工液、中間層塗
工液および保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して各々2
.5Ilaの中間層、20趨の電荷輸送層、0.2.の
電荷発生層、0.2.の中間層および5plaの塩化メ
チレン 1.2−ジクロロエタン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 180部 60部 4部 ポリエステル (東洋紡積■製バイロン200) トルイレン−2,4−ジイソシアネートテトラヒドロフ
ラン 4−メチル−2−ペンタノン 〔中間層塗工液〕 1部 0.1部 190部 70部 メタノール n−ブタノール 70部 40部 〔保護層塗工液〕 酸化錫 トルエン 2−ブタノール 80部 170部 100部 実施例23 厚さ0,3Iのアルミニウム板上に蒸発材料にCe2O
3用い、電子ビーム加熱方式の真空蒸着法で膜厚0.6
岬の酸化セリウムよりなる中間層を作成した。
この上に、下記組成の電荷輸送層塗工液、電荷発生層塗
工液および保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々
22癖の電荷輸送層、0.3岬の電荷発生層および3I
sの保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成し
た。
工液および保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々
22癖の電荷輸送層、0.3岬の電荷発生層および3I
sの保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成し
た。
下記構造式の電荷輸送物質 27部ボリカ
ーボネー ト (今人化成■製パンライトCi、400)塩化メチレン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 26部 260部 5部 ポリビニルブチラール (積水化学工業課製エスレックBM−5)トルイレン−
2,4−ジイソシアネートシクロへキサノン 2−ブタノン 〔保護層塗工液〕 3部 0.2部 170部 80部 ポリカーボネート (今人化成■製パンライトL−1250)塩化メチレン 下記構造式で示される化合物 30部 650部 20部 酸化チタン 50部酸化ス
ズ(II) 40部トルエ
ン 250部2−ブタ
ノン 70部実施例24 ハステロイを導電層として有するポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に、実施例20と同じ方法で厚さ0.
5戸の酸化セリウムよりなる中間層を設けた。この上に
下記組成の塗工液を塗布・乾燥して、乾燥膜厚15.の
共晶錯体感光層を設け、本発明の電子写真感光体を作成
した。
ーボネー ト (今人化成■製パンライトCi、400)塩化メチレン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 26部 260部 5部 ポリビニルブチラール (積水化学工業課製エスレックBM−5)トルイレン−
2,4−ジイソシアネートシクロへキサノン 2−ブタノン 〔保護層塗工液〕 3部 0.2部 170部 80部 ポリカーボネート (今人化成■製パンライトL−1250)塩化メチレン 下記構造式で示される化合物 30部 650部 20部 酸化チタン 50部酸化ス
ズ(II) 40部トルエ
ン 250部2−ブタ
ノン 70部実施例24 ハステロイを導電層として有するポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に、実施例20と同じ方法で厚さ0.
5戸の酸化セリウムよりなる中間層を設けた。この上に
下記組成の塗工液を塗布・乾燥して、乾燥膜厚15.の
共晶錯体感光層を設け、本発明の電子写真感光体を作成
した。
J13
比較例15,20,21,23,24
実施例15,20,21,23.24において、各々、
中間層を設けなかった他は、実施例15,20,21,
23,24と同様にして、比較例15,20,21.2
3,24の感光体を作成した。
中間層を設けなかった他は、実施例15,20,21,
23,24と同様にして、比較例15,20,21.2
3,24の感光体を作成した。
比較例16
実施例16において、中間層塗工液を下記組成の中間層
塗工液に代え、かつ膜厚を0.5−とした他は、実施例
16と同様にして比較例16の感光体を作成した。
塗工液に代え、かつ膜厚を0.5−とした他は、実施例
16と同様にして比較例16の感光体を作成した。
メタノール 60部n−ブ
タノール 40部比較例1
7,18.22 実施例17,18.22において、中間層に酸化セリウ
ム粉末を添力几ない他は、実施例17,18.22と同
様にして比較例17.18.22の感光体を作成した。
タノール 40部比較例1
7,18.22 実施例17,18.22において、中間層に酸化セリウ
ム粉末を添力几ない他は、実施例17,18.22と同
様にして比較例17.18.22の感光体を作成した。
比較例19
実施例19において、中間層塗工液を下記組成の中間層
塗工液に代え、膜厚を0.5Aunとした他は、実施例
19と同様にして比較例19の感光体を作成した。
塗工液に代え、膜厚を0.5Aunとした他は、実施例
19と同様にして比較例19の感光体を作成した。
水
150部メタノール 2
00部以上の各感光体の特性を、静電複写紙試験装置(
川口電機製作所層5P−428型)を用いて次のように
評価した。
150部メタノール 2
00部以上の各感光体の特性を、静電複写紙試験装置(
川口電機製作所層5P−428型)を用いて次のように
評価した。
まず、−5,2XVI L < 4!+5.6KV)(
7)放電” ff &、: r 。
7)放電” ff &、: r 。
コロナ帯電を20秒間行ない、次いで10秒間暗減衰さ
せ、その後10Quxのタングステン光を照射した。
せ、その後10Quxのタングステン光を照射した。
この時の帯電開始後2秒と20秒の表面電位VZ(V)
、v2゜(ν)および暗減衰10秒後の表面電位V30
(V)を測定し、また、v2゜を半分の電位に光減衰さ
せるのに必要な露光量E工、2(ρUχ・5ec)を測
定した。なお、暗減衰率(D、D)は、次式で定義され
る。
、v2゜(ν)および暗減衰10秒後の表面電位V30
(V)を測定し、また、v2゜を半分の電位に光減衰さ
せるのに必要な露光量E工、2(ρUχ・5ec)を測
定した。なお、暗減衰率(D、D)は、次式で定義され
る。
D、D=V、。/V、。
また上記露光20秒後の表面電位を残留電位VRとして
定義した。
定義した。
更に、上記条件の帯電と露光を同時に30分間行なって
疲労させた後、再び前記と同様の測定を行なった。評価
結果を表−3に示す。
疲労させた後、再び前記と同様の測定を行なった。評価
結果を表−3に示す。
表−3
実施例25
アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸送
層を順次積層し、各々0.2−の中間層、0.3趨の電
荷発生層、24μsの電荷輸送層を形成し、本発明の電
子写真感光体を作成した。
ィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸送
層を順次積層し、各々0.2−の中間層、0.3趨の電
荷発生層、24μsの電荷輸送層を形成し、本発明の電
子写真感光体を作成した。
セレン化カドミニウムをスパッタリングにより製膜した
。
。
下記構造式の電荷発生物質 5部シクロヘ
キサノン 4−メチル−2−ペンタノン 200部 50部 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 io部 セレン化カドミウム 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 50部 4部 ポリカーボネート (三菱瓦斯化学■製ポリカーボネートZ)12部塩化メ
チレン 70部1.2−ジク
ロロエタン 30部実施例26 実施例25と同じ支持体上に、下記組成の中間層塗工液
、電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗
布・乾燥して各々0.3癖の中間層、0.2−の電荷発
生層および20趨の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
キサノン 4−メチル−2−ペンタノン 200部 50部 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 io部 セレン化カドミウム 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 50部 4部 ポリカーボネート (三菱瓦斯化学■製ポリカーボネートZ)12部塩化メ
チレン 70部1.2−ジク
ロロエタン 30部実施例26 実施例25と同じ支持体上に、下記組成の中間層塗工液
、電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗
布・乾燥して各々0.3癖の中間層、0.2−の電荷発
生層および20趨の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
トルイレン−2,4−ジイソシアネー1〜シクロヘキサ
ノン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 0.01部 250部 100部 9部 水 メタノール 150部 200部 テトラヒドロフラン 81部 実施例27 ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層し、各々、500人の中間層、1趨の電
荷発生層、20声の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
ノン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 0.01部 250部 100部 9部 水 メタノール 150部 200部 テトラヒドロフラン 81部 実施例27 ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層し、各々、500人の中間層、1趨の電
荷発生層、20声の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
セレン化カドミウムをイオンブレーティング法により製
膜した。
膜した。
ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷発生物質 8部中間層、
電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し、1声の中間層、
0.1部mの電荷発生層、19−の電荷輸送層を形成し
、本発明の電子写真感光体を作成した。
電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し、1声の中間層、
0.1部mの電荷発生層、19−の電荷輸送層を形成し
、本発明の電子写真感光体を作成した。
セレン化カドミウムを真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷発生物質 4部シクロへ
キサノン 300部4−メチル−
2−ペンタノン 100部〔電荷輸送
層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 1部部テトラ
ヒドロフラン 82部実施例28 厚さ0.2■のアルミニウム板上に、下記組成の塩化メ
チレン 100部実施例29 厚さ0.1画の電鋳ニッケル板上に、下記組成の中間層
塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液および保
護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々0.31Aの
中間層、 0.2.の電荷発生層、28碑の電荷輸送層
および3Aaaの保護層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。
キサノン 300部4−メチル−
2−ペンタノン 100部〔電荷輸送
層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 1部部テトラ
ヒドロフラン 82部実施例28 厚さ0.2■のアルミニウム板上に、下記組成の塩化メ
チレン 100部実施例29 厚さ0.1画の電鋳ニッケル板上に、下記組成の中間層
塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液および保
護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々0.31Aの
中間層、 0.2.の電荷発生層、28碑の電荷輸送層
および3Aaaの保護層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。
ポリビニルアルコール(電気化学
工業■製デンカポバール1(−20)
水
メタノール
セレン化カドミウム
〔電荷発生層塗工液〕
下記構造式の電荷発生物質
2部
100部
100部
10部
5部
テトラヒドロフラン 300部〔電
荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部テトラ
ヒドロフラン 〔保護層塗工液〕 75部 導電性酸化チタン 90部トルエ
ン 220部n−ブタ
ノール 60部実施例30 実施例28と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷
輸送層、電荷発生層を順次積層し、各々0.3μsの中
間層、19Mの電荷輸送層、21Jaの電荷発生層を形
成し、本発明の電子写真感光体を作成した。
荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部テトラ
ヒドロフラン 〔保護層塗工液〕 75部 導電性酸化チタン 90部トルエ
ン 220部n−ブタ
ノール 60部実施例30 実施例28と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷
輸送層、電荷発生層を順次積層し、各々0.3μsの中
間層、19Mの電荷輸送層、21Jaの電荷発生層を形
成し、本発明の電子写真感光体を作成した。
セレン化カドミニウムを真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷輸送物質 1部部〔中間
層〕 セレン化カドミウムをスパッタリングにより製膜した。
層〕 セレン化カドミウムをスパッタリングにより製膜した。
下記構造式の電荷輸送物質 7部ポリエス
テル (東洋紡績■製バイロン200) 10部
テトラヒドロフラン 80部〔電荷
発生層〕 ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
テル (東洋紡績■製バイロン200) 10部
テトラヒドロフラン 80部〔電荷
発生層〕 ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
実施例31
実施例28と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷
輸送層、電荷発生層、保護層を順次積層し。
輸送層、電荷発生層、保護層を順次積層し。
0.54の中間層、21.の電荷輸送層、0.2.の電
荷発生層、5−の保護層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。
荷発生層、5−の保護層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。
CH。
ポリカーボネート
(今人化成■製パンライトC−1400)塩化メチレン
〔電荷発生層塗工液〕
下記構造式の電荷発生物質
10部
80部
3部
シクロヘキサノン
シクロヘキサン
200部
150部
〔保護層塗工液〕
酸化錫 80部トルエ
ン 170部2−ブタ
ノン 170部比較例25 実施例25において、中間層を設けない以外はすべて同
様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
ン 170部2−ブタ
ノン 170部比較例25 実施例25において、中間層を設けない以外はすべて同
様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
比較例26
実施例26において、中間層のセレン化カドミウムを用
いない以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体
を作成した。
いない以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体
を作成した。
比較例27〜28
実施例27〜28において、中間層を設けない以外はす
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
比較例29
実施例29において、中間層のセレン化カドミウムを用
いない以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体
を作成した。
いない以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体
を作成した。
比較例30〜31
実施例30〜31において、中間層を設けない以外はす
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
以上の各感光体の特性を、静電複写紙試験装置(川口電
機製作新製5P−428型)を用いて次のように評価し
た。
機製作新製5P−428型)を用いて次のように評価し
た。
まず、 −5,3KV(もしくは)+5,0KV(7)
放電々圧ニテ。
放電々圧ニテ。
コロナ帯電を20秒間行ない、次いで暗減衰させて表面
電位が−aoovもしくは+800■になったところで
、8Ωuxのタングステン光を照射した。
電位が−aoovもしくは+800■になったところで
、8Ωuxのタングステン光を照射した。
この時の帯電開始後2秒および15秒の表面電位V2(
ν)、V、5(V)また光照射の際5表面室位が一40
0vもしくは、+400Vになるのに必要な露光量E4
゜。
ν)、V、5(V)また光照射の際5表面室位が一40
0vもしくは、+400Vになるのに必要な露光量E4
゜。
(ρux−sec)を測定した。
更に、この感光体に色温度2856°にのタングステン
光を8000fiux−sec照射して光疲労させた後
、再び前記と同様にして■2、V工9、E411nを測
定した。
光を8000fiux−sec照射して光疲労させた後
、再び前記と同様にして■2、V工9、E411nを測
定した。
評価結果を表−4に示す。
表−4
実施例32
アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸送
層を順次積層し、各々0.2/alの中間層、0..3
4の電荷発生層、24Ijaの電荷輸送層を形成し、本
発明の電子写真感光体を作成した。
ィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸送
層を順次積層し、各々0.2/alの中間層、0..3
4の電荷発生層、24Ijaの電荷輸送層を形成し、本
発明の電子写真感光体を作成した。
テルル化カドミウムをスパッタリングにより製膜した。
下記構造式の電荷発生物質 5部* 80
0V帯電せず測定不可 シクロヘキサノン シクロヘキサン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 150部 100部 50部 10部 下記構造式の電荷発生物質 5部 ポリカーボネート (三菱瓦斯化学■製ポリカーボネー)−Z) 12部
塩化メチレン 70部1.2
−ジクロロエタン 30部実施例
33 実施例32と同じ支持体上に、下記組成の中間層塗工液
、電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗
布・乾燥して各々0.3−の中間層、0.2碑の電荷発
生層および20癖の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
0V帯電せず測定不可 シクロヘキサノン シクロヘキサン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 150部 100部 50部 10部 下記構造式の電荷発生物質 5部 ポリカーボネート (三菱瓦斯化学■製ポリカーボネー)−Z) 12部
塩化メチレン 70部1.2
−ジクロロエタン 30部実施例
33 実施例32と同じ支持体上に、下記組成の中間層塗工液
、電荷発生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗
布・乾燥して各々0.3−の中間層、0.2碑の電荷発
生層および20癖の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
トルイレン−2,4−ジイソシアネートシクロヘキサノ
ン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 0.2部 230部 70部 9部 水 メタノール テルル化カドミウム 〔電荷発生層塗工液〕 150部 200部 25部 テトラヒドロフラン 81部実施例
34 ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層し、各々、500人の中間層、1趨の電
荷発生層、20趨の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
ン 2−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 0.2部 230部 70部 9部 水 メタノール テルル化カドミウム 〔電荷発生層塗工液〕 150部 200部 25部 テトラヒドロフラン 81部実施例
34 ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の中間層、電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層し、各々、500人の中間層、1趨の電
荷発生層、20趨の電荷輸送層を形成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。
テルル化カドミウムをイオンブレーティング法により製
膜した。
膜した。
ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷発生物質 8部ボリアリ
レート (ユニチカ■製U−100) 10
部テトラヒドロフラン 82部実施
例35 厚さ0.2++mのアルミニウム板上に、下記組成の中
間層、電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し、1−の中
間層、0.1−の電荷発生層、194の電荷輸送層を形
成し、本発明の電子写真感光体を作成した。
レート (ユニチカ■製U−100) 10
部テトラヒドロフラン 82部実施
例35 厚さ0.2++mのアルミニウム板上に、下記組成の中
間層、電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し、1−の中
間層、0.1−の電荷発生層、194の電荷輸送層を形
成し、本発明の電子写真感光体を作成した。
テルル化カドミウムを真空蒸着法により製膜した。
下記構造式の電荷発生物質 1部シクロヘ
キサノン 80部4−メチル−2
−ペンタノン 20部〔電荷輸送層塗
工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部塩化メ
チレン 実施例36 ioo部 厚さ0.1mの電鋳ニッケル板上に、下記組成の中間層
塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液および保
護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々0.3−の中
間層、0.27aの電荷発生層、28μsの電荷輸送層
および31naの保護層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。
キサノン 80部4−メチル−2
−ペンタノン 20部〔電荷輸送層塗
工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 10部塩化メ
チレン 実施例36 ioo部 厚さ0.1mの電鋳ニッケル板上に、下記組成の中間層
塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液および保
護層塗工液を順次、塗布・乾燥して、各々0.3−の中
間層、0.27aの電荷発生層、28μsの電荷輸送層
および31naの保護層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。
ポリビニルアルコール(電気化学
工業■製デンカポバールH−20)
水
メタノール
テルル化カドミウム
〔電荷発生層塗工液〕
下記構造式の電荷発生物質
2部
100部
ioo部
8部
3部
ポリエステル
(東洋紡績:バイロン300)
テトラヒドロフラン
1部
200部
〔電荷輸送層塗工液〕
下記構造式の電荷輸送物質 10部ポリカ
ーボネート (帝人化成■製パンライトに−1300) IO
部テトラヒドロフラン 75部〔保
護層塗工液〕 導電性酸化チタン 90部トルエ
ン 220部n−ブタ
ノール 60部実施例37 実施例35と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷
輸送層、電荷発生層を順次積層し、各々0.3声の中間
層、19戸の電荷輸送層、2癖の電荷発生層を形成し、
本発明の電子写真感光体を作成した。
ーボネート (帝人化成■製パンライトに−1300) IO
部テトラヒドロフラン 75部〔保
護層塗工液〕 導電性酸化チタン 90部トルエ
ン 220部n−ブタ
ノール 60部実施例37 実施例35と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷
輸送層、電荷発生層を順次積層し、各々0.3声の中間
層、19戸の電荷輸送層、2癖の電荷発生層を形成し、
本発明の電子写真感光体を作成した。
テルル化カドミウムを真空蒸着法により製膜した6
〔電荷輸送層塗工液〕
下記構造式の電荷輸送物質 10部膜した
。
。
下記構造式の電荷輸送物質
7部
ポリエステル
(東洋紡績■製バイロン200) 10部
テトラヒドロフラン 80部〔電荷
発生層〕 ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
テトラヒドロフラン 80部〔電荷
発生層〕 ヒ素セレンを真空蒸着法により製膜した。
実施例38
実施例35と同じ支持体上に、下記組成の中間層、電荷
輸送層、電荷発生層、保護層を順次積層し。
輸送層、電荷発生層、保護層を順次積層し。
0.54の中間層、21声の電荷輸送層、0.21の電
荷発生層、5癖の保護層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。
荷発生層、5癖の保護層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。
テルル化カドミウムをスパッタリングにより製塩化メチ
レン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 80部 4部 シクロヘキサノン シクロヘキサン 〔保護層塗工液〕 スチレン−メチルメタクリレート 200部 200部 〜3−メタクリロキシプロピルトリ メトキシシラン共重合体 80部酸化錫
80部トルエン
170部2−ブタノン
100部比較例32 実施例32において、中間層を設けない以外はすへて同
様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
レン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 80部 4部 シクロヘキサノン シクロヘキサン 〔保護層塗工液〕 スチレン−メチルメタクリレート 200部 200部 〜3−メタクリロキシプロピルトリ メトキシシラン共重合体 80部酸化錫
80部トルエン
170部2−ブタノン
100部比較例32 実施例32において、中間層を設けない以外はすへて同
様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
比較例33
実施例33において、中間層のテルル化カドミウムを用
いない以外はすへて同様にして比較用の電子写真感光体
を作成した5 比較例34〜35 実施例34〜35において、中間層を設けない以外はす
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
いない以外はすへて同様にして比較用の電子写真感光体
を作成した5 比較例34〜35 実施例34〜35において、中間層を設けない以外はす
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
比較例36
実施例36において、中間層のテルル化カドミウムを用
いない以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体
を作成した。
いない以外はすべて同様にして比較用の電子写真感光体
を作成した。
比較例37〜38
実施例37〜38において、中間層を設けない以外はす
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
べて同様にして比較用の電子写真感光体を作成した。
以上の各感光体の特性を、静電複写紙試験装置(川口電
機製作新製5P−428型)を用いて次のように評価し
た。
機製作新製5P−428型)を用いて次のように評価し
た。
まず、−5,4KV(もしくは)+5,6KV(7)放
電々圧ニテ、コロナ帯電を20秒間行ない、次いで暗減
衰させて表面電位が一800vもしくは+800vにな
ったところで、4.5Quxのタングステン光を照射し
た。
電々圧ニテ、コロナ帯電を20秒間行ない、次いで暗減
衰させて表面電位が一800vもしくは+800vにな
ったところで、4.5Quxのタングステン光を照射し
た。
この時の布置開始後1秒および20秒の表面電位V1(
V)、V、、(V)また光照射の際、表面電位が一40
0Vもしくは、 +400Vになるのに必要な露光量E
4゜。
V)、V、、(V)また光照射の際、表面電位が一40
0Vもしくは、 +400Vになるのに必要な露光量E
4゜。
(Qux−sec)を測定した。
更に、この感光体に色温度2856°にのタングステン
光を12000Qux−sec照射して光疲労させた後
、再び前記と同様にしてV工、v2゜、E4゜。を測定
した。
光を12000Qux−sec照射して光疲労させた後
、再び前記と同様にしてV工、v2゜、E4゜。を測定
した。
評価結果を表−5に示す。
表−5
goov帯電せず測定不可
〔発明の効果〕
本発明によれば、感光体のくり返し使用後の帯電特性の
劣化を防ぐことが可能となる。
劣化を防ぐことが可能となる。
すなわち、複写機、プリンター等の画像濃度低下1画像
濃度ムラ、カブリあるいは、反転現像時においては、地
肌汚れのない良好な画像を得ることができる。
濃度ムラ、カブリあるいは、反転現像時においては、地
肌汚れのない良好な画像を得ることができる。
第1図〜第6図は本発明に係る電子写真感光体の模式断
面図である。 特許出願人 株式会社 リ コ
面図である。 特許出願人 株式会社 リ コ
Claims (1)
- (1)導電性基体上に感光層を設けてなる電子写真感光
体において、酸化タングステン、酸化銅、酸化セリウム
、セレン化カドミニウム及びテルル化カドミニウムから
選ばれた少なくとも1種よりなる中間層を有することを
特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12039690A JPH0415657A (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12039690A JPH0415657A (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0415657A true JPH0415657A (ja) | 1992-01-21 |
Family
ID=14785174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12039690A Pending JPH0415657A (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0415657A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5972550A (en) * | 1996-01-18 | 1999-10-26 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor and method of manufacturing same |
JP2009235863A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Kubota Corp | 運転者保護装置 |
-
1990
- 1990-05-09 JP JP12039690A patent/JPH0415657A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5972550A (en) * | 1996-01-18 | 1999-10-26 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor and method of manufacturing same |
JP2009235863A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Kubota Corp | 運転者保護装置 |
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