JPH02136860A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真用感光体の改良に関する。

〔゛従来の技術〕

近年、電子写真複写機に使用される感光体として、低価
格、生産性及び無公害等の利点を有する有機系の感光材
料を用いたものが普及しはじめている。

有機系の電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール
（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂、ＰＶＫ−丁ＮＦ
（２，４，７−トリニトロフルオレノン）に代表される
電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表さ
れる顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組合
せて用いる機能分離型の感光体などが知られており、特
に機能分離型の感光体が注目されている。

この様な機能分離型の高感度感光体を、カールソンプロ
セスに適用した場合、帯電性が低く、電荷保持特性が悪
い（暗減衰が大きい）上、繰返し使用による、これら特
性の劣化が大きく、画像上に、濃度ムラ、カブリ、また
反転現像の場合、地汚れを生じるという欠点を有してい
る。

また一般に、高感度感光体は、前露光疲労によって帯電
性が低下する。この前露光疲労は主に電荷生材料が吸収
する光によって起こることがら、光吸収によって発生し
た電荷が移動可能な状態で感光体内に残留している時間
が長い程、またその電荷の数が多い程、前露光疲労によ
る帯電性の低下が著しくなると考えられる。即ち、光吸
収によって発生した電荷が残留している状態で帯電操作
をしても、残留しているキャリアの移動で表面電荷が中
和される為、残留電荷が消費されるまで表面電位゛は上
昇しない、従って、前露光疲労分だけ表面電位の上昇が
遅れることになり、見かけ上の帯電位は低くなる。

上述の欠点に対して、例えば、特開昭４７−６３４１゜
４８−３５４４および４８−１２０３４号には硝酸セル
ロース系樹脂中間層が、特開昭４８−４７３４４．５２
−２５６３８．５８−３０７５７．５８−６３９４５．
５８−９５３５１．５８−９８７３９および６〇−６６
２５８号にはナイロン系樹脂中間層が、特開昭４９−６
９３３２および５２−１０１３８号にはマレイン酸系樹
脂中間層が、そして特開昭５８−１０５１５５号にはポ
リビニルアルコール樹脂中間層がそれぞれ開示されてい
る。また、中間層の電気抵抗を制御すべく種々の導電性
添加物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている。

例えば、特開昭５１−６５９４２号にはカーボンまたは
カルコゲン系物質を硬化性樹脂に分散した中間層が、特
開昭５２−８２２３８号には四級アンモニウム塩を添加
してイソシアネート系硬化剤を用いた熱重合体中間層が
、特開昭５５−１１８０４５１号には抵抗調節剤を添加
した樹脂中間層が、特開昭５８−５８５５６号にはアル
ミニウムまたはスズの酸化物を分散した樹脂中間層が、
特開昭５８−９３０６２号には有機金属化合物を添加し
た樹脂中間層が、特開昭５８−９３０６３．６０−９７
３６３および６０−１１１２５５号には導電性粒子を分
散した樹脂中間層が、さらに特開昭５９−８４２５１．
５９−９３４５３および６０−３２０５４号にはＴｉｅ
、とＳｎＯ。

粉体とを分散した樹脂中間層が開示されている。

しかしながら、繰り返し使用による帯電性の低下、とり
わけ帯電４位の立上りの遅れに関しては未だに不充分で
あり、より一層の改善が望まれていた。

また、特開昭５３−２６１２８および５４−１０９４３
８号には、電荷発生層中に電子受容性物質を含む電子写
真感光体が開示されているが５これらは、構成ないし効
果が１本発明とは基本的に異なるものである。

さらに、また電気抵抗のかわりに電荷の移動性を制御し
ようという考え方から、マイナス電荷移動性の物質とし
ての電子受容性の有機化合物を含有した樹脂中間層が提
案されている。例えば、特開昭５３−８９４３３号には
多環芳香族ニトロ化合物を添加した有機高分子光導電体
中間層が、また特開昭５４−４１３４．５９−１６０１
４７および５９−１７０８４６号には電子受容性有機物
を含有する樹脂中間層が開示されている。必ずしも上記
諸要求を満足するものではなかった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、高感度であるとともに前露光疲労による帯電
性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返し
後においても帯電電位の立上りの遅れのない電子写真用
感光体を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば、導電性支持体上に少なくとも電荷発生
層と電荷輸送層を有する積層型有機電子写真感光体にお
いて、該電荷発生層中に下記一般式（Ｉ）で示される電
子受容性化合物を含有してなることを特徴とする電子写
真感光体が提供される。

（式中の各記号は以下のものを示す。

Ｒ：アルキル基、アルコキシ基、ハロゲンａ＋、ｎ二〇
〜４の整数 Ａｒ：置換もしくは非置換の芳香環 ｐ、ｑ、ｒ、ｔ、ｕ、ｖ：０−４の整数）上述したよう
に、高感度の積層型有機電子写真感光体は、くり返し使
用によって、帯電の立上りの遅れを生じ、その結果、帯
電性の低下をまねくが５本発明者らは、積層型有機電子
写真感光体の電荷発生層に特定の電子受容性化合物を含
有させることによって、くり返し使用後の帯電４位の立
上りの遅れのない電子写真感光体が得られることを見い
出し１本発明を完成するに到った。

以下、図面に沿って、本発明を説明する。

第１図は１本発明の電子写真感光体の構成例を示す断面
図であり、感電性支持体１１上に電荷発生層２１、次い
で電荷輸送層２２よりなる感光層】５を設けたものであ
る。

第２図は、本発明の別の構成例を示す断面図であり、導
電性支持体１１上に先ず電荷輸送層２２、次いで電荷発
生Ｍ２１よりなる感光層１５を設けたものである。

第３図および第４図は、更に別の構成例を示す断面図で
あり、第３図は導電性支持体１１と感光層１５の間に下
引層１３を設けたものであり、また第４図は感光層１５
の上に保護Ｍ１７を設けたものである。

導電性支持体１１としては、体積抵抗１０１０Ω口以下
の導電性を示すもの１例えば、アルミニウム、ニッケル
、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸
化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又は
スパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプ
ラスチック、紙等に被覆したもの、あるいは、アルミニ
ウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板
およびそれらをり、１．．１．１．、押出し、引抜き等
の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理
した管等を使用することができる。

次に、電荷発生層２１について説明する。

電荷発生Ｎ２１は、電荷発生物質と一般式（１）で示さ
れる電子受容性化合物を主成分とする層で、必要に応じ
てバインダー樹脂を用いることもある。

バインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、
ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボ
ネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、
ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリア
クリルアミドなどが用いられる。

一般式（［）で示される電子受容性化合物には次に示す
化学ｈη造式のものが好ましく用いられる。

凰ｈ ＮすＺ 電荷発生物質としては、 公知の材料を用いるこ とができるが、 とりわけ以下に示すジスアゾある いはトリスアゾ顔料が好適に用いられる。

（ただしＣＰはカップラー残基、 以下同様） （ただしＡは、 −ＮＨ−１ −）、 −８−を表わす。

（ただしＲは、水素原子、 置換又は非置換の （ただしｎは、 １〜５の間の整数を表わす。

アルキル基を表わす。

（ただしＲは、水素原子、 アルキル基。

ハロ ゲン原子を表わす。

これらのカップラー残基Ｃρとしては、たとえばフェノ
ール類、ナフトール類などのフェノール性水酸基を有す
る化合物、アミノ基を有する芳香族アミノ化合物あるい
はアミノ基とフェノール性水１１基を有するアミノナフ
トール類、脂肪族もしくは芳香族のエノール性ケトン基
を有する化合物（活性メチレン基を有する化合物）など
が用いられ、好ましくは下記−取代（１）〜（１１）で
表わされるものである。

Ｈ」 −ｒ し−ｙ Ｏす１１ 〔上記式（１）、　（２）　、　（３）および（４）中
、Ｘ、Ｙｌ、Ｚ、ｍおよびｎはそれぞれ以下のものを表
わす。

（Ｒ，およびＲ２は水素または置換もしくは無置換のア
ルキル基を表わし、Ｒ３は置換もしくは無置換のアルキ
ル基または置換もしくは無置換のアリール基を表わす、
） Ｙｌ：水素、ハロゲン、置換もしくは無置換のアルキル
基、置換もしくは無置換のアルコキシ基。

カルボキシ基、スルホン基、置換もしくは無置換のスル
ファモイル基または　−ＣＯＮ−Ｙ。

（Ｒ４は水素、アルキル基またその置換体、）工二ル基
またはその置換体を表わし、Ｙ２は炭化水素環基または
その置換体、複素環基またＲ５は炭化水素環基またはそ
の置換体、複素環基またはその置換体あるいはスチリル
基またはその置換体、Ｒ６は水素、アルキル基、フェニ
ル基またはその置換体を表わすか、あるいはＲ６及びＲ
６はそれらに結合する炭素原子と共に環を形成してもよ
い。）を示す。） ２：炭化水素環またはその置換体あるいは複素環または
その１α換体 ｎ　：１または２の整数 ｍ　：１または２の整数〕 〔式（５）および（６）中、Ｒ７は置換もしくは無置換
の炭化水素基を表わし、Ｘは前記に同じである。〕ｒ１ 〔式中、Ｒ，ｌはアルキル基、カルバモイル基、カルボ
キシ基またはそのエステルを表わし、Ａｒ１は炭化水素
環基またはその置換体を表わし、Ｘは前記と同じである
。〕 〔上記式（８）および（９）中、Ｒ９は水素または置換
もしくは無置換の炭化水素基を表わし、Ａｒ、は炭化水
素環基またはその置換体を表わす。〕前記一般式（１，
）、　（２）　、　（３）または（４）の２の炭化水素
環としてはベンゼン環、ナフタレン環などが例示でき、
また複素環（置換を持っていてもよい）としてはインド
ール環、カルバゾール環、ベンゾラン環、ジベンゾフラ
ン環などが例示できる。２の環における置換基としては
塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。

Ｙ２またはＲ９における炭化水素環基としては、フェニ
ル基、ナフチル基、アントリル基、ピレニル基などが、
また、複素環基としてはピリジル基。

チエニル基、フリル基、インドリル基、ベンゾフラニル
基、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基などが例示で
き、さらに、Ｒ６およびＲ６が結合して形成する環とし
ては、フルオレン環などが例示できる。

Ｙ２またはＲ７の炭化水素環７５または複素環基あるい
はＲＳおよびＲ６によって形成される環における置換基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素
原子などのハロゲン原子、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基などのジアルキルアミノ基、トリフルオロメチ
ル基などのハロメチル基、ニトロ基、シアノ基、カルボ
キシル基またはそのエステル、水酸基、−５ｏ、　Ｎａ
などのスルホン酸塩基などが挙げられる。

Ｒ１のフェニル基の置換体としては塩素原子または臭素
原子などのハロゲン原子が例示できる。

Ｒ７またはＲ３における炭化水素基の代表例としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアル
キル基、フェニル基などのアリール基またはこれらの置
換体が例示できる。

Ｒ１またはＲ９の炭化水素基における置換基としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアル
キル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などの
ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基などが例示できる。

Ａｒ、またはＡｒ、における炭化水素環基としては、フ
ェニル基、ナフチル基などがその代表例であり、また、
これらの基における置換基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアル
コキシ基、ニトロ基。

塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキルア
ミノ基などが例示できる。

また、Ｘの中では特に水酸基が適当である。

上記カップラー残基の中でも好ましいのは上記一般式（
２）　、　（５）　、　（６）　、　（７）　、　（８
）および（９）で示されるものであり、この中でも一般
式におけるＸが水酸基のものが好ましい、また、この中
でも一般式（１０）（ＹｌおよびＺは前記に同じ。） で表わされるカップラー残基が好ましく、さらに好まし
くは一般式 （Ｚ、Ｖ、およびＲ２は前記に同じ。）で表わされるカ
ップラー残基である。

さらにまた、上記好ましいカップラー残への中でも一般
式（１２）または（１３） ゛・２・′ Ｒ５ ′Ｚ°′ （ｚ　、Ｒ２、ＲＳおよびＲＧは前記に同じであり、ま
たＲ１゜とじては上記のＹ２の置換基が例示できる。）
で表わされる。

以上に示した電子受容性化合物および電荷発生物質は各
々単独であるいは２種以上併用して用いられる。

前記一般式（Ｉ）で示される電子受容性化合物は電荷発
生物質１重量部に対して０．０１〜１００重量部用いる
のが適用であり、好ましくは０．１−１０重量部である
。

バインダー樹脂は、電荷発生物質１００重量部に対して
０〜１００重量部用いるのが適当であり、好ましくは０
〜５０重量部である。

電荷発生層は、（Ｉ）式で示される電子受容性化合物と
電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂とともに、テ
トラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジ
クロルエタン等の溶媒を用いてボールミル、アトライタ
ー、サンドミルなどにより分散し５分散液を適度に希釈
して塗布することにより形成できる。塗布は、浸漬塗工
法やスプレーコート、ビードコート法などを用いて行な
うことができる。

電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５声程度であり、好ま
しくは０．１〜２μｍである。

′１α荷輸送層２２は、電荷輸送物質およびバインダー
樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾
燥することにより形成できる。

電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがあ
る。

電子輸送物質としては、たとえば、クロルアニル、ブロ
ムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノン
ジメタン、２，４．７−ドリニトロー９−フルオレノン
、２，４，５．７−テトラニトロ−９−フルオレノン、
２，４，５．７−チトラニトロキサントン、２，４゜８
−トリニドロチオキサントン、２，６，１ｌｌ−トリニ
トロ−４１１−インデノ（１、２−ｂ）チオフェン−４
−オン、１，３．７−ドリニトロジベンゾチオフエノン
ー５，５−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げら
れる。

正孔輸送物質としては、以下の一般式で表わされる電子
供与性物質等が挙げられ、良好に用いられる。

（式中、Ｒ１，Ｒ，、Ｒ，およびＲ４は水素原子、置換
もしくは無置換のアリール基を表わし、Ａｒ１は置換又
は無７１換のアリール基を表わし、　Ａｒ１とＲ□は共
用で環を形成してもよく、またｎは０又は１の整数であ
る。） （式中、Ｒ１は炭素数１〜１１のアルキル基、置換又は
非置換のフェニル基あるいは複素環残基を表わし、Ｒ２
，Ｒ３はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基、Ｃ１−Ｃ４のヒドロキシアルキル
基、０１〜０４のクロルアルキル基、あるいは置換又は
非置換のアラルキルＪ！を表わし、またＲ２とＲ３は共
同で窒素を含む複素環を形成してもよく、ｌ１１４．Ｒ
，はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を
表わす。） （但し、Ｒ１は低級アルキル基、低級アルコキシ基又は
ハロゲン原子を表わし、ｎは０〜４の整数を表わし、Ｒ
，、Ｒ３は同一でも異なっていてもよく、水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表
わす。） Ｋ？ （式中、Ｒ１，Ｒ，は水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、あるいはジ低級アルキルアミノ基を表わ
し、Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子あるいはニトロ基を表わし、ｎは０又
は１を表わす。）（式中、Ｒはカルバゾリル基、ピリジ
ル基、チエニル基、インドリル基又はフリル基、あるい
はそれぞれ置換または非置換のフェニル基、スチリル基
、ナフチル基又はアントリル基（但し前記置換基はジ低
級アルキルアミノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、アラルキルアミノ基又は、アミノ基
からなる群から選ばれる）を表わす。） （式中、Ｒ□は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、低
級アルキル基を表すし、Ｒ，、Ｒ１，Ｒ，は水素原子、
置換又は無置換の低級アルキル基あるいは置換又は無置
換のベンジル基を表わし、Ｒ４１Ｒ５は水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基あるいは低級アルコキシ基又
はジ低級アルキルアミノ基を表わす。） ＋１３ （式中、Ｒ工＋Ｒ２１Ｒ３は同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、フ
ェニル基、フェノキシ基、またはハロゲン原子を表わす
、） （式中、ＲｏＩＲＺ　ＩＲ３ｔＲ４１ＲＧは水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、置
換又は無置換のジ低級アルキルアミノ基又はジベンジル
アミノ基を表わし、Ｒ７は低級アルキル基又はベンジル
基を表わす。） Ａｒ−ＣＩＩ＝Ｎ−１；Ｊ＠ （式中、Ａｒはナフタレン環、アントラセン環、スチリ
ル基及びそれらの置換体、あるいはピリジン環、フラン
環、チオフェン環を表わし、Ｒは低級アルキル基又はベ
ンジル基を表わす。）町 （式中、Ｒ工は低級アルキル基、２−ヒドロキシエチル
基又は２−クロロエチル基を表わし、Ｒ２は低級アルキ
ル基、ベンジル基又はフェニル基を表わし、Ｒ３は水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ジ低級アルキルアミノ基又はニトロ基を表わす。） Ｒｏ （式中、Ｒ□は水素原子、低級アルキル基、クロルエチ
ル基又はヒドロキシエチル基を表わし。

Ｒ２は水素原子又はハロゲン原子を表わし、Ｒ８は低級
アルキル基、ジ低級アルキルアミノ基、ジアリールアミ
ノ基、置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換の
芳香環残基（芳香環又はベンゼン環、ナフタレン環、ア
ントラセン環等）、置換又は無置換の複素環残基（ｍ素
環はピリジン環、キノキサリン環、カルバゾール環等）
を表わす。） （式中、Ｒ工は低級アルキル基を表わし、Ｒ２は低級ア
ルキル基、ジ低級アルキルアミノ基、ジアリールアミノ
基、置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換の芳
香環残基（芳香環はベンゼン環、ナフタレン環、アント
ラセン環等）、置換又は無置換の複素環残基（複素環は
ピリジン環、キノキサリン環、カルバゾール環等）を表
わす。） バ２ （式中、　Ｒ１，Ｒ２は同一でも異なっていてもよく、
水素原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基
、クロル低級アルキル基、アルキルの炭素数１〜２のア
シル基、アルキルの炭素数５〜６のシクロアルキル基、
あるいは置換又は非置換のアラルキル基を表わす。） これらの電荷輸送物質は、単独又は２種以上混合して用
いられる。

バインダー樹脂としてはポリスチレン、スチレン−アク
リロニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体
、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポ
リ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ボリアリレート樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロー
ス樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール
、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹
脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェ
ノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化
性樹脂が挙げられる。

溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トル
エン、モノクロルベンゼン、ジグロルエタン、塩化メチ
レンなどが用いられる。

電荷輸送層２２の厚さは５〜］、００μｍ程度が適当で
ある。また、本発明において電荷輸送層２２中に可塑剤
やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジ
ブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の樹
脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用で
き、その使用量は、バインダー樹脂に対し２てＯ〜３０
重量％程度が適当である。

レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メ
チルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル
類が使用され、その使用量はバインダー樹脂に対して、
０〜１重量２程度が適当である。

支持体１１と感光層１５との間に設けられる下引層１３
は本発明の効果をいっそう向上すると共に、接着性を向
上する目的で設けられ、その材料としては５ｊＯ１ＡＱ
２０３、シランカップリングｊ￥ｌＪ、チタンカップリ
ング剤、クロムカップリング剤等の無機材料やポリアミ
ド樹脂、アルコール可溶性ポリアミド樹脂、水溶性ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ＰＶＡ等の
接着性の良いバインダー樹脂などが使用される。その他
、前記接着性の良い樹脂にＺｎＯ，ＴｉＯ，、ＺｎＳ等
を分散したものも使用できる。下引層の形成法としては
無機材料単独の場合はスパッタリング、蒸着等の方法が
、また有機材料を用いた場合は通常の塗布法が採用され
る。

なお下引層の厚さは５μｓ以下が適当である。

保護層１７は感光体の表面保護の目的で設けられ。

これに使用される材料としてＡＢＳ樹脂、ＡＣ５樹脂、
オレフィンルビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエー
テル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポ
リアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、
ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミ
ド、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン、ポリプロピレ
ン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリスチ
レン、ＡＳ樹脂、ブタジェン−スチレン共重合体、ポリ
ウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニデン、エポキ
シ樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層にはその他、耐摩
耗性を向上する目的でポリテトラフルオロエチレンのよ
うな弗素樹脂、シリコーン樹脂、及びこれら樹脂に酸化
チタン、酸化錫、チタン酸カリウム等の無機材料を分散
したもの等を添加することができる。保護層の形成法と
しては通常の塗布法が採用される。なお保護層の厚さは
０．５〜１０ｐｍ程度が適当である。

更に本発明では感光層１５と保護層１７との間に別の中
間層（図示せず）を設けることも可能である。

〔実施例〕

次に、実施例によって、本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

なお、実施例中使用する部は、すべて重量部を表わす。

実施例１ アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に、下記組成の電荷発生層塗工液、電荷輸送層
塗工液を順次、塗布、乾燥して各々０．２声厚の電荷発
生層および２２μｌ厚の電荷輸送層を形成し、本発明の
電子写真感光体を作成した。

〔電荷発生層塗工液〕

下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　４部シクロへ
キサノン　　　　　　　　　　　３００部２−ブタノン
　　　　　　　　　　　　　　１００部〔電荷輸送Ｊｎ
塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質　　　　　　　１部部下記構
造式の電子受容性物質 １部 テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　７５部実施例
２ 実施例■と同じ支持体上に、下記組成の下引Ｊ〜塗工液
、電荷発生Ｍ塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗
布・乾燥して各々０．３μｍの下引層、０．２４の電荷
発生層および２ｏ趨の電荷輸送層を成し、本発明の電子
写真感光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

水 １５０部 メタノール 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 下記構造式の電子受容性物質 ＮＩＪ。

シクロヘキサノン ２−ブタノン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 下記構造式の電荷発生物質 下記構造式の電子受容性物質 シクロヘキサノン テトラヒドロフラン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 （ユニチカ曲製Ｕ−１００） ２００部 ５部 ２部 １５０部 ５０部 ９部 テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　７０部実施例
３ ハステロイ導電層を設けたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の下引層塗工液、電荷発生層塗
工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布・乾燥して、
各々２．ｃｌｍの下引層、０．３μＩの電荷発生層およ
び１８癖の電荷輸送層を形成し、本発明の電子写真感光
体を作成した。

〔下引層塗工液〕

二酸化チタン　　　　　　　　　　　　　１０部ポリエ
ステル　　　　　　　　　　　　　　１部（東洋紡績■
バイロン２００） トルイレン−２，４−ジイソシアネート　　　０．２部
２−ブタノン　　　　　　　　　　　　　　１００部４
−メチル−２−ペンタノン　　　　　　　　　７０部〔
電荷発生層塗工液〕 ３部 １部 テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　８０部実施例
４ 厚さ０．２ｍのアルミニウム板上に、下記組成の電荷発
生層塗工液および電荷輸送層塗工液を順次、塗布乾燥し
て各々０，２μｍの電荷発生層および１７μｌの電荷輸
送層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成した。

〔電荷発生層塗工液〕

下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　５部１００部 ５０部 下記構造式の電子受容性物質 ２部 １１部 １０部 テトラヒドロフラン 〔電荷輸送層塗工液〕 ３００部 下記構造式の電荷輸送物質 ９部 塩化メチレン　　　　　　　　　　　　　８１部実施例
５ 厚さ０．１ｎｎの電鋳ニッケル板上に、下記組成の下引
層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液および
保護層塗工液を順次、塗布・乾燥して各々０．３部ｍの
下引層、０．２７ｍの電荷発生層および１８μｓの電荷
輸送層および３Ｉｓの保護層を形成し、本発明の電子写
真感光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

ポリビニルアルコール　　　　　　　　　　２部（電気
化学工業■製デンカポバールＨ−２０）水　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００部メタ
ノール　　　　　　　　　　　　　　１００部〔電荷発
生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　４部下記構造
式の電子受容性物質 勲 ポリサルホン（日産化学■製 シクロヘキサノン テトラヒドロフラン 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 しｎ３ Ｐ−１７００） ポリカーボネート （帝人化学■製パンライトに−１３００）２００部 １００部 １０部 １０部 塩化メチレン 〔保護層塗工液〕 ９０部 〔電荷輸送層塗工液〕 下記構造式の電荷輸送物質 酸化錫　　　　　　　　　　　　　　　　　８０部トル
エン　　　　　　　　　　　　　　　１７０部２−ブタ
ノン　　　　　　　　　　　　　　１００部実施例６ 実施例１と同じ支持体上に、下記組成の下引層塗工液、
電荷輸送層塗工液および電荷発生層塗工液を順次、塗布
・乾燥して各々２−の下引層、２２癖の電荷輸送層およ
び０．４岬の電荷発生層を形成し、本発明の電子写真感
光体を作成した。

〔下引層塗工液〕

二酸化チタン　　　　　　　　　　　　　　１部塩化メ
チレン １．２−ジクロロエタン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の′電荷発生物質 下記構造式の電子受容性物質 ５０部 ３０部 １０部 ２−ブタノン 酢酸エチル １５部 ５部 （東洋紡績曲製バイロンＺＬＩυ） トルイレン−２，４−ジイソシアネート　　　　１部テ
トラヒドロフラン　　　　　　　　　　９００部４−メ
チル−２−ペンタノン　　　　　　　　１００部実施例
７ 実施例４と同じ支持体上に、下記組成の電荷輸送層塗工
液、電荷発生層塗工液、中間層塗工液および保護層塗工
液を順次、塗布・乾燥して、各々２０μｍの電荷輸送層
、０．２．の電荷発生層、０．２癖の中間層および５μ
ｌの保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成し
た。

〔電荷輸送層塗工液〕

下記構造式の電荷輸送物質　　　　　　　９部下記構造
式の電子受容性物質 １部 シクロヘキサノン ２００部 ４−メチル−２−ペンタノン ５０部 〔中間層塗工液〕 メタノール ７０部 ｎ−ブタノール 〔保護層塗工液〕 ４０部 塩化メチレン　　　　　　　　　　　　　１０部〔電荷
発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質　　　　　　　２部導電性酸
化チタン ９０部 トルエン　　　　　　　　　　　　　　　２２０部ｎ−
ブタノール　　　　　　　　　　　　　　６０部実施例
８ 厚さ０．２＋ｒｎのニクロム板上に、下記組成の電荷輸
送層塗工液、電荷発生層塗工液および保護層塗工液を順
次、塗布乾燥して各々１９ｐｒａの電荷輸送層、０．３
μｍの電荷発生層および２μｍの保護層を形成し、本発
明の電子写真感光体を作成した。

〔電荷輸送層塗工液〕

下記構造式の電荷輸送物質　　　　　　　１部部下記構
造式の電子受容性物質 ４部 トルイレン−２，４−ジイソシアネートシクロヘキサノ
ン ２−ブタノン 〔保護層塗工液〕 １部 １０００部 ５００部 テトラヒドロフラン 〔電荷発生層塗工液〕 下記構造式の電荷発生物質 ８２部 ２０部 酸化錫　　　　　　　　　　　　　　　　　９０部１−
ルエン　　　　　　　　　　　　　　　２５０部２−ブ
タノン　　　　　　　　　　　　　　　７０部比較例１
〜８ 以上の様に作成した実施例１〜８の感光体において、各
々の電荷発生層に電子受容性物質を含有させない他はす
べて実施例１〜８と同様にして感光体を形成し、比較例
１〜８の感光体とした。

以上の各感光体の特性を、静電複写紙試験装置（川口電
機製作新製５Ｐ−４２８型）を用いて次のように評価し
た。

まず、−６，２ＫＶ（もしくは、＋５．８にＶ）（７）
放電々圧にて、コロナ帯電を２０秒間行ない、次いで１
０秒間暗減衰させ、その後、８Ｑｕｘのタングステン光
を照射した。

この時の帯電開始後１秒と２０秒の表面電位■□（Ｖ）
。

ｖ２゜（Ｖ）および暗減衰１０秒後の表面電位Ｖ□。（
Ｖ）を測定し、また５ＶｆｆＤを半分の電位に光減衰さ
せるのに必要な露光量Ｅｌ／２（１２ｕｘ−ｓａｃ）を
測定した。なお。

暗減衰率（Ｄ、Ｄ）は、次式で定義される。

Ｄ　、　Ｄ”Ｖ３　。／　Ｖ２　。

更に、上記条件の帯電と露光を同時に９０分間行なって
疲労させた後、再び前記と同様の測定を行なった。評価
結果を表−１に示す。

表−１ 〔発明の効果〕 本発明の高感度を有する積層型有機電子写真感光体は、
くり返し使用後の帯電電位の立上りの遅れを防止するこ
とが可能となる。

したがって１本発明によれば、複写機、プリンター等の
画像濃度低下、画像濃度ムラ、カブリあるいは反転画像
時においては、地肌汚れのない良好な画像を得ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は各々本発明に係る電子写真感光体の模
式断面図である。 第１図 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸
   送層を有する積層型有機電子写真感光体において、該電
   荷発生層中に下記一般式（ I ）で示される電子受容性
   化合物を含有してなることを特徴とする電子写真感光体
   。 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中の各記号は以下のものを示す。 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ Ｒ：アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン ｍ，ｎ：０〜４の整数 Ａｒ：置換もしくは非置換の芳香環 ｐ、ｑ、ｒ、ｔ、ｕ、ｖ：０〜４の整数）