JPH02143906A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH02143906A JPH02143906A JP29705788A JP29705788A JPH02143906A JP H02143906 A JPH02143906 A JP H02143906A JP 29705788 A JP29705788 A JP 29705788A JP 29705788 A JP29705788 A JP 29705788A JP H02143906 A JPH02143906 A JP H02143906A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、薄膜磁気ヘッドに関し、導体コイル膜に導通
させた取出電極の、外部導体接続電極を結合させる部分
における最外層を、Fe、旧またはその合金の膜とし、
その上に外部導体接続電極を形成することにより、取出
電極に対する外部導体接続電極の密着強度を増大させ、
剥瀧等を防止できるようにしたものである。
させた取出電極の、外部導体接続電極を結合させる部分
における最外層を、Fe、旧またはその合金の膜とし、
その上に外部導体接続電極を形成することにより、取出
電極に対する外部導体接続電極の密着強度を増大させ、
剥瀧等を防止できるようにしたものである。
〈従来の技術〉
第3図は従来よりよく知られている薄11に磁気ヘッド
の要部の斜視図、第4図は同じく磁気ヘッド素子の部分
の拡大断面図、第5図は外部導体接続電極部分の拡大断
面図である。これらの図において、1はセラミックで構
成された基体、2は下部磁性膜、3はアルミナ等でなる
ギヤツブ肋、4は上部磁性膜、5は導体コイル膜、6は
ノボラック樹脂等の有機樹脂で構成された絶縁膜、7.
8は取出電極、9.10は外部導体接続電極、11は各
部を覆うアルミナ等の保護膜である下部磁性膜2及び上
部磁性膜4の先端部は、微小厚みのギャップ[3を隔て
て対向するボール部21.41となっており、ボール部
21.41において読み書きを行なう、22.42はヨ
ーク部であり、ボール部21.41とは反対側の端部を
互いに結合させである。
の要部の斜視図、第4図は同じく磁気ヘッド素子の部分
の拡大断面図、第5図は外部導体接続電極部分の拡大断
面図である。これらの図において、1はセラミックで構
成された基体、2は下部磁性膜、3はアルミナ等でなる
ギヤツブ肋、4は上部磁性膜、5は導体コイル膜、6は
ノボラック樹脂等の有機樹脂で構成された絶縁膜、7.
8は取出電極、9.10は外部導体接続電極、11は各
部を覆うアルミナ等の保護膜である下部磁性膜2及び上
部磁性膜4の先端部は、微小厚みのギャップ[3を隔て
て対向するボール部21.41となっており、ボール部
21.41において読み書きを行なう、22.42はヨ
ーク部であり、ボール部21.41とは反対側の端部を
互いに結合させである。
絶縁膜6は複数層の絶縁115j61〜63から構成さ
れていて、絶a膜61.62の上に、ヨーク部22.4
2の結合部のまわりを渦巻状にまわるように、導体コイ
ル膜5を形成しである。導体コイル膜5は、通常、Cu
刑として形成されるが、Cu膜の単独層の場合は、絶縁
膜61〜63との密着性がよくない。そこで、密着性を
よくするため、導体コイル膜5は下地膜51を有し、こ
の下地膜51の上に本来のCuでなるコイル膜52を形
成する。下地膜51は絶縁樹脂61〜63との密着性を
高めるTi膜と、コイル膜52の付着性を高めるCu膜
との2層構造となっていて、通常はスパッタリングによ
って形される。
れていて、絶a膜61.62の上に、ヨーク部22.4
2の結合部のまわりを渦巻状にまわるように、導体コイ
ル膜5を形成しである。導体コイル膜5は、通常、Cu
刑として形成されるが、Cu膜の単独層の場合は、絶縁
膜61〜63との密着性がよくない。そこで、密着性を
よくするため、導体コイル膜5は下地膜51を有し、こ
の下地膜51の上に本来のCuでなるコイル膜52を形
成する。下地膜51は絶縁樹脂61〜63との密着性を
高めるTi膜と、コイル膜52の付着性を高めるCu膜
との2層構造となっていて、通常はスパッタリングによ
って形される。
取出電極7.8は、導体コイル[5と同様に、Ti膜7
1.81及びCu1li 72.82の2層構造となっ
ている。
1.81及びCu1li 72.82の2層構造となっ
ている。
外部導体接続電極9、!0は、当業者間ではバンブと呼
ばれているものであって、後でリード線等の外部導体が
接続される。この外部導体接続電極9.10は、銅メツ
キによって、取出電極7.8の上に形成する。この銅メ
ツキに当っては、銅イオンCu”、ピロリン酸イオンP
20.’−もしくは硫酸イオン5042−を含む銅メツ
キ浴が一般的に使用される。
ばれているものであって、後でリード線等の外部導体が
接続される。この外部導体接続電極9.10は、銅メツ
キによって、取出電極7.8の上に形成する。この銅メ
ツキに当っては、銅イオンCu”、ピロリン酸イオンP
20.’−もしくは硫酸イオン5042−を含む銅メツ
キ浴が一般的に使用される。
〈発明が解決しようとする課題〉
ところが、従来の電極構造では、外部導体接続電極9.
10の下地膜となるCu膜72.82が、銅メツキ工程
において、エツチングされてしまうことが分った。CI
JM72.82がエツチングされると、Ti[72,8
2が露出するようになる。Ti膜72.82に対しては
、銅メツキによっては、外部導体接続電Vi9、!0を
強固に付着させることができない。このため、取出電極
7.8に対する外部導体接続電極9.10の密着強度が
低下し、剥離する等の問題点を生じていた。
10の下地膜となるCu膜72.82が、銅メツキ工程
において、エツチングされてしまうことが分った。CI
JM72.82がエツチングされると、Ti[72,8
2が露出するようになる。Ti膜72.82に対しては
、銅メツキによっては、外部導体接続電Vi9、!0を
強固に付着させることができない。このため、取出電極
7.8に対する外部導体接続電極9.10の密着強度が
低下し、剥離する等の問題点を生じていた。
銅メツキ工程におけるCu膜72.82の溶解機構は次
のように説明でざる。銅メツキ浴を、銅イオンCu”及
びピロリン酸イオンP、O,’−を含む組成とした場合
、 Cu膜 2 P20y’−=lu(PzOy)z’−+
2 C2H+ 2 e M H2 の化学反応が起こる。この化学反応式に示すように、銅
メツキ工程において、取出電極7.8の表面層を形成し
ている銅が、C1(P2O7)2’−としてメツキ浴中
に溶解し、Cu膜72.82が実質的にエツチングされ
た状態になる。銅メツキ処理は、導体コイル膜5を形成
する際に繰返し行なわれるので、上述の銅溶解メカニズ
ムがその度に発生し、エツチングが進行してしまうこと
になる。
のように説明でざる。銅メツキ浴を、銅イオンCu”及
びピロリン酸イオンP、O,’−を含む組成とした場合
、 Cu膜 2 P20y’−=lu(PzOy)z’−+
2 C2H+ 2 e M H2 の化学反応が起こる。この化学反応式に示すように、銅
メツキ工程において、取出電極7.8の表面層を形成し
ている銅が、C1(P2O7)2’−としてメツキ浴中
に溶解し、Cu膜72.82が実質的にエツチングされ
た状態になる。銅メツキ処理は、導体コイル膜5を形成
する際に繰返し行なわれるので、上述の銅溶解メカニズ
ムがその度に発生し、エツチングが進行してしまうこと
になる。
そこで本発明の課題は、上述する従来の問題点を解決し
、取出電極に対する外部導体接続電極の密着強度を増大
させ、剥離を防止し得るようにした薄膜磁気ヘッドを提
供することである。
、取出電極に対する外部導体接続電極の密着強度を増大
させ、剥離を防止し得るようにした薄膜磁気ヘッドを提
供することである。
く課題を解決するための手段〉
上述する課題を解決するため、本発明は、第1図及び第
2図に示すように、磁性膜2.4及び導体コイル膜5に
よる磁気回路を有する磁気ヘッド素子と、前記導体コイ
ル膜5に導通させた取出電極7.8と、前記取出電極7
.8の上に形成された外部導体接続電極9.10とを有
する薄膜磁気ヘッドであって、前記取出電極7.8は、
少なくとも前記外部導体接続電極9.10を形成する部
分の最外層が、Fe%Niまたはその合金の膜73.8
3となっており、前記外部導体接続電極9.10は、前
記Fe、 Niまたはその合金の膜73.83の上に形
成されていることを特徴とする。
2図に示すように、磁性膜2.4及び導体コイル膜5に
よる磁気回路を有する磁気ヘッド素子と、前記導体コイ
ル膜5に導通させた取出電極7.8と、前記取出電極7
.8の上に形成された外部導体接続電極9.10とを有
する薄膜磁気ヘッドであって、前記取出電極7.8は、
少なくとも前記外部導体接続電極9.10を形成する部
分の最外層が、Fe%Niまたはその合金の膜73.8
3となっており、前記外部導体接続電極9.10は、前
記Fe、 Niまたはその合金の膜73.83の上に形
成されていることを特徴とする。
〈作用〉
第1図は本発明に係る薄膜1+Ii気ヘツドの要部にお
ける斜視図、第2図は外部導体接続電極部分の拡大断面
図である。図において、第3図〜第5図と同一の参照符
号は同一性ある構成部分を示している。取出電極7.8
は、少なくとも、外部導体接続電極9.10を形成する
部分の最外層が、Fe、 Niまたはその合金でなる膜
73.83となるように形成する。膜73.83の代表
例はパーマロイである。膜73.83の下には、従来と
同様に、Ti膜71.81を形成させる。これらの膜7
1.81は従来と同様にスパッタリングによって形成で
きる。膜73.83は外部導体接続電極9.10の形成
領域に限ってもよいし、取出電極7.8の全体に亙って
形成してもよい。また取出電極7.8はTi膜とCu膜
の2層膜の上に膜73.83を形成した構造であっても
よい。
ける斜視図、第2図は外部導体接続電極部分の拡大断面
図である。図において、第3図〜第5図と同一の参照符
号は同一性ある構成部分を示している。取出電極7.8
は、少なくとも、外部導体接続電極9.10を形成する
部分の最外層が、Fe、 Niまたはその合金でなる膜
73.83となるように形成する。膜73.83の代表
例はパーマロイである。膜73.83の下には、従来と
同様に、Ti膜71.81を形成させる。これらの膜7
1.81は従来と同様にスパッタリングによって形成で
きる。膜73.83は外部導体接続電極9.10の形成
領域に限ってもよいし、取出電極7.8の全体に亙って
形成してもよい。また取出電極7.8はTi膜とCu膜
の2層膜の上に膜73.83を形成した構造であっても
よい。
Fe、 Niまたはその合金でなる膜73.83は、銅
メツキ浴によってエツチングを受けることがない。従っ
て、錆メツキ処理により、膜73.83に対して外部導
体接続電極9.10を強固に密着させ、その剥離を防止
できる。
メツキ浴によってエツチングを受けることがない。従っ
て、錆メツキ処理により、膜73.83に対して外部導
体接続電極9.10を強固に密着させ、その剥離を防止
できる。
〈発明の効果〉
以上述べたように、本発明は、磁性膜及び導体コイル膜
による磁気回路を有する磁気ヘッド素子と、前記導体コ
イル膜に導通させた取出電極と、前記取出電極の上に形
成された外部導体接続電極とを有する薄膜6fl気ヘツ
ドであって、前記取出電極は、少なくとも前記外部導体
接続電極を形成する部分の最外層が、Fe1Niまたは
その合金の膜となっており、前記外部導体接Ta電極は
、前記Fe、Niまたはその合金の膜の上に形成したこ
とを特徴とするから、取出電極に対する外部導体接続電
極の密着強度を増大させ、その剥離等を防止し得るよう
にした薄膜6n気ヘツドを提供できる。
による磁気回路を有する磁気ヘッド素子と、前記導体コ
イル膜に導通させた取出電極と、前記取出電極の上に形
成された外部導体接続電極とを有する薄膜6fl気ヘツ
ドであって、前記取出電極は、少なくとも前記外部導体
接続電極を形成する部分の最外層が、Fe1Niまたは
その合金の膜となっており、前記外部導体接Ta電極は
、前記Fe、Niまたはその合金の膜の上に形成したこ
とを特徴とするから、取出電極に対する外部導体接続電
極の密着強度を増大させ、その剥離等を防止し得るよう
にした薄膜6n気ヘツドを提供できる。
第1図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの要部における断
面図、第2図は同じく外部導体接続電極部分における拡
大断面図、第3図は従来の薄膜ra気ヘッドの要部にお
ける斜視図、第4図は同じく磁気ヘッド素子の部分にお
ける拡大断面図、第5図は同じく外部導体接続電極部に
おける拡大断面図である。 1・・・基体 2・・・下部1iil性膜4
・・・上部磁性膜 5・・・導体コイル膜7.8・
・・取出型5極 9.10・・・外部導体接続電極
面図、第2図は同じく外部導体接続電極部分における拡
大断面図、第3図は従来の薄膜ra気ヘッドの要部にお
ける斜視図、第4図は同じく磁気ヘッド素子の部分にお
ける拡大断面図、第5図は同じく外部導体接続電極部に
おける拡大断面図である。 1・・・基体 2・・・下部1iil性膜4
・・・上部磁性膜 5・・・導体コイル膜7.8・
・・取出型5極 9.10・・・外部導体接続電極
Claims (2)
- (1)磁性膜及び導体コイル膜による磁気回路を有する
磁気ヘッド素子と、前記導体コイル膜に導通させた取出
電極と、前記取出電極の上に形成された外部導体接続電
極とを有する薄膜磁気ヘッドであって、前記取出電極は
、少なくとも前記外部導体接続電極を形成する部分の最
外層が、Fe、Niまたはその合金の膜となっており、
前記外部導体接続電極は、前記Fe、Niまたはその合
金の膜の上に形成されていることを特徴とする薄膜磁気
ヘッド。 - (2)前記取出電極は、前記Fe、Niまたはその合金
の膜の下にTi膜を有することを特徴とする特許請求の
範囲第1項に記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29705788A JPH02143906A (ja) | 1988-11-24 | 1988-11-24 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29705788A JPH02143906A (ja) | 1988-11-24 | 1988-11-24 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02143906A true JPH02143906A (ja) | 1990-06-01 |
Family
ID=17841657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29705788A Pending JPH02143906A (ja) | 1988-11-24 | 1988-11-24 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02143906A (ja) |
-
1988
- 1988-11-24 JP JP29705788A patent/JPH02143906A/ja active Pending
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