JPH02142485A - 高濃度トリグリセライドの製造法及び製造装置 - Google Patents
高濃度トリグリセライドの製造法及び製造装置Info
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- JPH02142485A JPH02142485A JP63296202A JP29620288A JPH02142485A JP H02142485 A JPH02142485 A JP H02142485A JP 63296202 A JP63296202 A JP 63296202A JP 29620288 A JP29620288 A JP 29620288A JP H02142485 A JPH02142485 A JP H02142485A
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Landscapes
- Fats And Perfumes (AREA)
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はモノグリセラード及び/又はジグリセライドと
脂肪酸を含む基質にリパーゼを作用させてトリグリセラ
ードを製造する方法及び装置に関するものである。
脂肪酸を含む基質にリパーゼを作用させてトリグリセラ
ードを製造する方法及び装置に関するものである。
[従来の技術]
食用油脂は主成分のトリグリセラード(TG)の他に、
TGの加水分解生成物である遊離脂肪酸(FFA)、モ
ノグリセラード(MG)及びジグリセライド(DG)を
含んでいる。これらは原料の集荷から油脂分抽用操作の
間に、原料中に含まれる酵素又は外的要因により、主成
分であるTGが加水分解を受は生成した物である。
TGの加水分解生成物である遊離脂肪酸(FFA)、モ
ノグリセラード(MG)及びジグリセライド(DG)を
含んでいる。これらは原料の集荷から油脂分抽用操作の
間に、原料中に含まれる酵素又は外的要因により、主成
分であるTGが加水分解を受は生成した物である。
これらの加水分解生成物のうちFFA及びMGは精製段
階で除去することができる。例えばアルカリ精製または
蒸留・脱酸などの方法によりTGからFFA及びMGの
かなりの割合を分離除去することが可能である。
階で除去することができる。例えばアルカリ精製または
蒸留・脱酸などの方法によりTGからFFA及びMGの
かなりの割合を分離除去することが可能である。
一方DGは沸点等の物理性状や化学的性質がTGと類似
しているため相互の分離が困難であり、DGの分離方法
は確立されていない。
しているため相互の分離が困難であり、DGの分離方法
は確立されていない。
TG中にDGが存在すると共融混合物を形成しSFI
(固体脂含有係数)の低下、結晶核生成の妨害、チョコ
レート製造工程におけるテンパリング操作を困難にする
等の問題が生じる。
(固体脂含有係数)の低下、結晶核生成の妨害、チョコ
レート製造工程におけるテンパリング操作を困難にする
等の問題が生じる。
このようにTG中にDGが含まれている場合にはその用
途に制限を受けることになるので、油脂中のDG含有量
を効果的に減少させる方法が必要とされる。
途に制限を受けることになるので、油脂中のDG含有量
を効果的に減少させる方法が必要とされる。
リパーゼを油脂に作用させ、加水分解、エステル合成及
びエステル交換反応を行わせることは広く知られている
。
びエステル交換反応を行わせることは広く知られている
。
このうち、脂肪酸エステルの加水分解及び合成は下式の
如き可逆反応である。
如き可逆反応である。
DG+FFA−TG+H20(]、)
(11式より、水分の多い系では加水分解側に、又水分
の少ない系ではTG合成側に反応が進むことは明らかで
あり、DGを減少させるためには水分を除去しつつ上記
反応を行わせることが有利であるが、いずれにしてもリ
パーゼは加水分解反応又は合成反応を促進する触媒とな
る。
の少ない系ではTG合成側に反応が進むことは明らかで
あり、DGを減少させるためには水分を除去しつつ上記
反応を行わせることが有利であるが、いずれにしてもリ
パーゼは加水分解反応又は合成反応を促進する触媒とな
る。
特公昭63−12599は水又は水及び低級アルコール
を排出する系において部分グリセリド及び遊離脂肪酸又
はその低級アルコールのエステルを含む基質にエステル
交換活性を有する脂質分解酵素を作用させるエステル化
法に関するもので、系外への水又は水及び低級アルコー
ルの排出法として減圧溜出やゼオライト、シリカゲルな
どの吸収剤を用いることが示されている。反応系内の水
分量としては0.18%程度以下と記載されている。
を排出する系において部分グリセリド及び遊離脂肪酸又
はその低級アルコールのエステルを含む基質にエステル
交換活性を有する脂質分解酵素を作用させるエステル化
法に関するもので、系外への水又は水及び低級アルコー
ルの排出法として減圧溜出やゼオライト、シリカゲルな
どの吸収剤を用いることが示されている。反応系内の水
分量としては0.18%程度以下と記載されている。
特開昭60−203196は、油脂類の加水分解反応に
続いてエステル合成反応を行うリパーゼによるエステル
交換方法に関するもので、エステル合成反応段階におい
て乾燥した不活性ガスを継続的に或は断続的に反応系内
に通気し、更に反応系外に排気して反応系内の水分を同
伴除去することにより水分を除去することが述べられて
いる。
続いてエステル合成反応を行うリパーゼによるエステル
交換方法に関するもので、エステル合成反応段階におい
て乾燥した不活性ガスを継続的に或は断続的に反応系内
に通気し、更に反応系外に排気して反応系内の水分を同
伴除去することにより水分を除去することが述べられて
いる。
特開昭62−19090は、グリセリンと04〜C0飽
和(不飽和)脂肪酸に、実質的に水を加えることなく、
更に反応によって副生ずる水を除きつつ、特定の性状を
有するキャンディダ、シリンドラセの変異菌の生成する
リパーゼを作用させてジグリセリドを製造する方法に関
するもので、反応系からの脱水法としては吸収剤を用い
るか、乾燥した空気や不活性ガスを反応槽中に通気撹拌
して系外へ排気して水分を除いて反応系の含水率を0.
1・%以下にすることが示されている。
和(不飽和)脂肪酸に、実質的に水を加えることなく、
更に反応によって副生ずる水を除きつつ、特定の性状を
有するキャンディダ、シリンドラセの変異菌の生成する
リパーゼを作用させてジグリセリドを製造する方法に関
するもので、反応系からの脱水法としては吸収剤を用い
るか、乾燥した空気や不活性ガスを反応槽中に通気撹拌
して系外へ排気して水分を除いて反応系の含水率を0.
1・%以下にすることが示されている。
上記のごと〈従来法においては反応系内を減圧にするか
、或は反応系内に乾燥ガスを通し系内の水分をガスに同
伴させて除去する方法が示されているが、反応系内を減
圧にするだけでは水分除去の効率が悪く、また乾燥ガス
を用いて水分を極限まで除去しようとすると大量のガス
を導入する必要があり、それに伴う撹拌作用により固定
化酵素の減耗が甚だしく、逆に固定化酵素が減耗しない
程度のガス量では水分を極限まで除去できず高濃度のト
リグリセラードが得られないと言う欠点があった。
、或は反応系内に乾燥ガスを通し系内の水分をガスに同
伴させて除去する方法が示されているが、反応系内を減
圧にするだけでは水分除去の効率が悪く、また乾燥ガス
を用いて水分を極限まで除去しようとすると大量のガス
を導入する必要があり、それに伴う撹拌作用により固定
化酵素の減耗が甚だしく、逆に固定化酵素が減耗しない
程度のガス量では水分を極限まで除去できず高濃度のト
リグリセラードが得られないと言う欠点があった。
[発明が解決しようとする課題]
本発明はモノグリセラード及び/又はジグリセライドと
脂肪酸にリパーゼを作用させてエステル合成反応を行う
に際し、反応系内の水分を極限まで除去することができ
、高濃度のトリグリセラードを効率よく製造することの
できる方法及び装置を提供するものである。
脂肪酸にリパーゼを作用させてエステル合成反応を行う
に際し、反応系内の水分を極限まで除去することができ
、高濃度のトリグリセラードを効率よく製造することの
できる方法及び装置を提供するものである。
[課題を解決するための手段]
本発明にかかわる高濃度トリグリセラードの製造法は、
担体に固定化したリパーゼを充填した固定床よりなる固
定化リパーゼ存在域と固定化リパーゼが充填されていな
い固定化リパーゼ不存在域とが内部に設置され、かつ固
定化リパーゼ不存在域にのみガスが導入された後排出さ
れる構造の反応槽にモノグリセラード及び/又はジグリ
セライドと脂肪酸を含有する基質を供給し、固定化リパ
ーゼ存在域において基質と固定化リパーゼを接触させて
エステル合成を行い、エステル合成で得られた反応生成
物を固定化リパーゼ不存在域に移動して乾燥したガスと
接触させ、反応生成物と接触した後のガスを反応槽外に
排出することにより反応生成物から水分を除去し、乾燥
したガスとの接触により水分を除去された反応生成物を
固定化リパーゼ存在域に循環させて再びエステル合成を
行わせることよりなる。
担体に固定化したリパーゼを充填した固定床よりなる固
定化リパーゼ存在域と固定化リパーゼが充填されていな
い固定化リパーゼ不存在域とが内部に設置され、かつ固
定化リパーゼ不存在域にのみガスが導入された後排出さ
れる構造の反応槽にモノグリセラード及び/又はジグリ
セライドと脂肪酸を含有する基質を供給し、固定化リパ
ーゼ存在域において基質と固定化リパーゼを接触させて
エステル合成を行い、エステル合成で得られた反応生成
物を固定化リパーゼ不存在域に移動して乾燥したガスと
接触させ、反応生成物と接触した後のガスを反応槽外に
排出することにより反応生成物から水分を除去し、乾燥
したガスとの接触により水分を除去された反応生成物を
固定化リパーゼ存在域に循環させて再びエステル合成を
行わせることよりなる。
本発明の高濃度トリグリセラードの製造法における基質
としては、脂肪酸の他にモノグリセラードとジグリセラ
イドのうちの少なくとも一種を含むものならばいずれで
も良い。油脂のエステル交換反応により得られるTGの
他にMG、DG、FFAなとの副生物を含むものにも応
用できる。また予め精製してMGやFFAを除去した後
のDG含有物に脂肪酸を添加するようにしても良い。
としては、脂肪酸の他にモノグリセラードとジグリセラ
イドのうちの少なくとも一種を含むものならばいずれで
も良い。油脂のエステル交換反応により得られるTGの
他にMG、DG、FFAなとの副生物を含むものにも応
用できる。また予め精製してMGやFFAを除去した後
のDG含有物に脂肪酸を添加するようにしても良い。
またグリセリンと脂肪酸のエステル化反応により得られ
るトリグリセラード濃度の低いものでもよい。
るトリグリセラード濃度の低いものでもよい。
本発明において使用する酵素としては、リゾーブス属i
1’1hizopus)、アスペルギリュウス属[As
pergillusl、ペニシリウム属(Penici
llum)、キャンデイダ属(Candidal
シュードモナスff4 (Pseudomonasl
、ムコール属(Mucor)及びジョートリカム属(G
eotaricum)由来のリパーゼなどが挙げられる
。
1’1hizopus)、アスペルギリュウス属[As
pergillusl、ペニシリウム属(Penici
llum)、キャンデイダ属(Candidal
シュードモナスff4 (Pseudomonasl
、ムコール属(Mucor)及びジョートリカム属(G
eotaricum)由来のリパーゼなどが挙げられる
。
リパーゼは担体に固定化して使用することにより、基質
とリパーゼの接触面を広げることができるので好ましい
。担体としては、例えばイオン交換樹脂、スチレン・ジ
ビニルベンゼン共重合体、ポリメチルメタアクリレート
、光硬化成樹脂などの重合体やゼオライト、珪藻土、パ
ーライト、カオリン、シリカ、アルミナなどの無機系材
料が利用できる。特にマクロな細孔を有する多孔性担体
が好ましく、平均細孔径として600Å以上、好ましく
は800Å以上の物が良い。他方平均細孔径があまり高
過ぎると比表面積が低下してリパーゼの活性発現が悪(
なる傾向にあるので平均細孔径は500,000Å以下
が望ましい、リパーゼの固定化法としては担体にリパー
ゼを物理吸着法により固定化することが好ましい。
とリパーゼの接触面を広げることができるので好ましい
。担体としては、例えばイオン交換樹脂、スチレン・ジ
ビニルベンゼン共重合体、ポリメチルメタアクリレート
、光硬化成樹脂などの重合体やゼオライト、珪藻土、パ
ーライト、カオリン、シリカ、アルミナなどの無機系材
料が利用できる。特にマクロな細孔を有する多孔性担体
が好ましく、平均細孔径として600Å以上、好ましく
は800Å以上の物が良い。他方平均細孔径があまり高
過ぎると比表面積が低下してリパーゼの活性発現が悪(
なる傾向にあるので平均細孔径は500,000Å以下
が望ましい、リパーゼの固定化法としては担体にリパー
ゼを物理吸着法により固定化することが好ましい。
前述の基質に固定化リパーゼを作用させることによりエ
ステル合成反応を行う際の反応温度は、用いるリパーゼ
にもよるが、20〜75℃の範囲の温度が好ましい。
ステル合成反応を行う際の反応温度は、用いるリパーゼ
にもよるが、20〜75℃の範囲の温度が好ましい。
反応槽の固定化リパーゼ不存在域への乾燥したガスの通
気量としては、固定化リパーゼ不存在域と固定化リパー
ゼ不存在域とにそれぞれ存在する基質の容量比や、温度
その他の操業条件にもよるが、高濃度のトリグリセラー
ドを得るためには5〜20vvm[1分間あたりの通気
量(127分)/反応槽内の固定化リパーゼ不存在域に
おける油脂の容量(氾)]、好ましくは7〜20vvm
、さらに好ましくは10〜20vvmとするのが良い。
気量としては、固定化リパーゼ不存在域と固定化リパー
ゼ不存在域とにそれぞれ存在する基質の容量比や、温度
その他の操業条件にもよるが、高濃度のトリグリセラー
ドを得るためには5〜20vvm[1分間あたりの通気
量(127分)/反応槽内の固定化リパーゼ不存在域に
おける油脂の容量(氾)]、好ましくは7〜20vvm
、さらに好ましくは10〜20vvmとするのが良い。
通気量が5vvm以下では反応系内の水分を充分に低く
できないか、または所定の水分量になるまで長時間を要
するるため高濃度のトリグリセラードを効果的に得るこ
とができない。
できないか、または所定の水分量になるまで長時間を要
するるため高濃度のトリグリセラードを効果的に得るこ
とができない。
一方通気量を20vvm以上としてもトリグリセラード
濃度の向上はそれほど期待できず、また通気量が高すぎ
た場合には反応生成物の飛散等の問題も生じ、反応生成
物の収率の低下や回収のための操作付加等を招くことに
なる、上記範囲の通気量においては、乾燥ガスと反応生
成物との接触が有効に行われ、エステル合成反応が良好
に行われる。
濃度の向上はそれほど期待できず、また通気量が高すぎ
た場合には反応生成物の飛散等の問題も生じ、反応生成
物の収率の低下や回収のための操作付加等を招くことに
なる、上記範囲の通気量においては、乾燥ガスと反応生
成物との接触が有効に行われ、エステル合成反応が良好
に行われる。
乾燥したガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリ
ウムガス等の如(油脂類に対して反応性のないものであ
ればよい。
ウムガス等の如(油脂類に対して反応性のないものであ
ればよい。
反応槽の固定化リパーゼ不存在域から排出されたガスは
冷却して水分を分離し、再度反応槽に循環し乾燥ガスと
して再利用することができる。
冷却して水分を分離し、再度反応槽に循環し乾燥ガスと
して再利用することができる。
固定化リパーゼ存在域と固定化リパーゼが充填されてい
ない固定化リパーゼ不存在域とが内部に設置され、かつ
固定化リパーゼ不存在域にのみガスが導入された後排出
される構造の反応槽の具体例としては、第1図に示すよ
うに、直立円筒状の反応槽1の外筒2にそれより高さの
低い内筒3を挿入して上下に空間を有するように設置さ
れた形状で、外筒2と内筒3との間に固定化したリパー
ゼの充填床4を設け、内筒3の直下にガスの吹込口6、
槽上部にガス排出ロアを有するものが挙げられる。記号
5は基質及び反応生成物の混合物、記号8は加熱用ジャ
ケットである。記号4の部分が固定化リパーゼ存在域、
反応槽底部及び内筒3の内部が固定化リパーゼ不存在域
となる。
ない固定化リパーゼ不存在域とが内部に設置され、かつ
固定化リパーゼ不存在域にのみガスが導入された後排出
される構造の反応槽の具体例としては、第1図に示すよ
うに、直立円筒状の反応槽1の外筒2にそれより高さの
低い内筒3を挿入して上下に空間を有するように設置さ
れた形状で、外筒2と内筒3との間に固定化したリパー
ゼの充填床4を設け、内筒3の直下にガスの吹込口6、
槽上部にガス排出ロアを有するものが挙げられる。記号
5は基質及び反応生成物の混合物、記号8は加熱用ジャ
ケットである。記号4の部分が固定化リパーゼ存在域、
反応槽底部及び内筒3の内部が固定化リパーゼ不存在域
となる。
ガスの吹込口6から内筒3に乾燥したガスな導入すると
、基質及び反応生成物の混合物は撹拌されながら脱水し
て内筒3を上昇し、水分を含んだガスはガス排出ロアか
ら系外に排気される。ガスに伴われて内筒を上昇した基
質及び反応生成物の混合物は内筒吐縁をオーバーフロー
して内筒と外筒との間に設けられた固定化リパーゼの充
填床4を下降しエステル合成反応が行われる。固定化リ
パーゼの充填床4を通った基質及び反応生成物は再び内
筒に導入され、乾燥されたガスと接触して脱水される。
、基質及び反応生成物の混合物は撹拌されながら脱水し
て内筒3を上昇し、水分を含んだガスはガス排出ロアか
ら系外に排気される。ガスに伴われて内筒を上昇した基
質及び反応生成物の混合物は内筒吐縁をオーバーフロー
して内筒と外筒との間に設けられた固定化リパーゼの充
填床4を下降しエステル合成反応が行われる。固定化リ
パーゼの充填床4を通った基質及び反応生成物は再び内
筒に導入され、乾燥されたガスと接触して脱水される。
内筒3の上下の空間は基質及び反応生成物の循環路とな
る。
る。
この形式の反応槽は、内筒内を乾燥ガスが上昇するに伴
って、ドラフト作用により、固定化リパーゼ存在域から
固定化リパーゼ不存在域への反応生成物の移動及び固定
化リパーゼ不存在域から固定化リパーゼ存在域への水分
を除去された反応生成物の循環が自動的に行われると言
う利点を有する。
って、ドラフト作用により、固定化リパーゼ存在域から
固定化リパーゼ不存在域への反応生成物の移動及び固定
化リパーゼ不存在域から固定化リパーゼ存在域への水分
を除去された反応生成物の循環が自動的に行われると言
う利点を有する。
連続操業を行う場合は、さらに基質の供給口と反応生成
物の排出口を設ける。
物の排出口を設ける。
図とは逆に内筒に固定化したリパーゼの充填床を設け、
乾燥したガスを内筒と外筒との間に導入することにより
、内筒側を反応域、内筒と外筒との間を脱水域としても
よい。
乾燥したガスを内筒と外筒との間に導入することにより
、内筒側を反応域、内筒と外筒との間を脱水域としても
よい。
また第2図に示すように、反応槽1を構成する筒状容器
の下半部に担体に固定化したリパーゼの存在域(充填層
)4゛を設け、該充填層を有しない上半部の固定化リパ
ーゼ不存在域9の下部に乾燥ガス吹込口6、上部にガス
排出ロア、上平部における前記乾燥ガス吹込口とガス排
出口との間の適当な位置(液面を形成すべき)から下半
部の担体に固定化したリパーゼの充填層4′の下部/\
の液循環管】0を設けるようにしても良い。
の下半部に担体に固定化したリパーゼの存在域(充填層
)4゛を設け、該充填層を有しない上半部の固定化リパ
ーゼ不存在域9の下部に乾燥ガス吹込口6、上部にガス
排出ロア、上平部における前記乾燥ガス吹込口とガス排
出口との間の適当な位置(液面を形成すべき)から下半
部の担体に固定化したリパーゼの充填層4′の下部/\
の液循環管】0を設けるようにしても良い。
固定化リパーゼ存在域4°の下方から導入された基質は
、固定化リパーゼの充填層4°を上昇しエステル合成反
応が行われる。固定化リパーゼ充填H4°を出た基質及
び反応生成物の混合物は固定化リパーゼ不存在域9にお
いて乾燥ガス吹込口6からの乾燥したガスと接触しなが
ら脱水して上昇し、水分を含んだガスはガス排出ロアか
ら系外に排気される。ガスと接触した後の基質及び反応
生成物の混合物は液循環管10を通して再び固定化リパ
ーゼ充填層4゛に導入され再びエステル合成反応に供さ
れる。液の循環に際しては乾燥ガスの吹込みによる液の
ドラフト方式を利用しても良いが、ポンプ等を使用する
強制循環方式の反応槽を用いても良い。
、固定化リパーゼの充填層4°を上昇しエステル合成反
応が行われる。固定化リパーゼ充填H4°を出た基質及
び反応生成物の混合物は固定化リパーゼ不存在域9にお
いて乾燥ガス吹込口6からの乾燥したガスと接触しなが
ら脱水して上昇し、水分を含んだガスはガス排出ロアか
ら系外に排気される。ガスと接触した後の基質及び反応
生成物の混合物は液循環管10を通して再び固定化リパ
ーゼ充填層4゛に導入され再びエステル合成反応に供さ
れる。液の循環に際しては乾燥ガスの吹込みによる液の
ドラフト方式を利用しても良いが、ポンプ等を使用する
強制循環方式の反応槽を用いても良い。
本発明において使用するこのような反応槽は、反応を主
とする区域(固定化リパーゼ存在域)と脱水を主とする
区域(固定化リパーゼ不存在域)とが別々に設けられて
いるので、固定化リパーゼは吹き込まれたガスによる撹
拌作用を受けず減耗が著しく抑制される。
とする区域(固定化リパーゼ存在域)と脱水を主とする
区域(固定化リパーゼ不存在域)とが別々に設けられて
いるので、固定化リパーゼは吹き込まれたガスによる撹
拌作用を受けず減耗が著しく抑制される。
固定化リパーゼの形状としては粒状、膜状、ハニカム型
などのものが使用できる。
などのものが使用できる。
固定化リパーゼが細かすぎると基質及び反応生成物の流
れが遅くなり、荒すぎる場合には比表面積が低下しリパ
ーゼの活性発現が悪くなるので、粒状の固定化リパーゼ
を用いる際の粒径としては0.5〜5mmが好ましい。
れが遅くなり、荒すぎる場合には比表面積が低下しリパ
ーゼの活性発現が悪くなるので、粒状の固定化リパーゼ
を用いる際の粒径としては0.5〜5mmが好ましい。
固定化リパーゼ存在域と固定化リパーゼ不存在域との容
量比は5:1〜l:5程度の範囲が好ましい。
量比は5:1〜l:5程度の範囲が好ましい。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
[実施例1]
珪藻±(比表面積:0.8m’/g、細孔容積:1.0
8cc/g、平均細孔径:97200人)をシリカを主
成分とするバインダーを用いて粒径2〜3mmに成型し
た担体10重量部を調製し、これにシュードモナス属(
Pseudomonasl起源のリパーゼ0.3重量部
を水10重量部に溶解した溶液を含浸させて40℃、l
mmHg、4時間の条件で乾燥し、水分を0.1%以下
にした固定化酵素を調製した。
8cc/g、平均細孔径:97200人)をシリカを主
成分とするバインダーを用いて粒径2〜3mmに成型し
た担体10重量部を調製し、これにシュードモナス属(
Pseudomonasl起源のリパーゼ0.3重量部
を水10重量部に溶解した溶液を含浸させて40℃、l
mmHg、4時間の条件で乾燥し、水分を0.1%以下
にした固定化酵素を調製した。
内径20mm、高さ200mmの温水ジャケット付き外
管に、外径10mm、内径7mm、長さ180mmの内
管を設置した反応槽の内管と外管の間に上記固定化酵素
30gを充填し、固定化酵素が移動しないように固定化
酵素充填層の上下にステンレス製20メツシユの金網を
設けて固定して固定化リパーゼ存在域とした。(第1図
参照)基質としてトリグリセラード(TG)87.0重
量%、ジグリセライド(DG)7.3重量%、モノグリ
セラ・イド(MG)0.3重量%及び遊離脂肪酸(FF
A)5.4重量%よりなる組成のクルード・パームオレ
イン30gをこの反応槽に入れ内管の最下部より窒素ガ
スを吹き込み基質の撹拌と反応生成物の脱水を行った。
管に、外径10mm、内径7mm、長さ180mmの内
管を設置した反応槽の内管と外管の間に上記固定化酵素
30gを充填し、固定化酵素が移動しないように固定化
酵素充填層の上下にステンレス製20メツシユの金網を
設けて固定して固定化リパーゼ存在域とした。(第1図
参照)基質としてトリグリセラード(TG)87.0重
量%、ジグリセライド(DG)7.3重量%、モノグリ
セラ・イド(MG)0.3重量%及び遊離脂肪酸(FF
A)5.4重量%よりなる組成のクルード・パームオレ
イン30gをこの反応槽に入れ内管の最下部より窒素ガ
スを吹き込み基質の撹拌と反応生成物の脱水を行った。
60℃の温水をジャケットに通液し、窒素ガス通気量1
0vvmで24時間反応を行ったところ基質中のトリグ
リセラード(TG)の濃度は95重量%になった。また
DG、MG、FFAの濃度はそれぞれ2.6重量%、0
.1重量%、2.4重量%、反応系内の水分はlOpp
m以下であった。
0vvmで24時間反応を行ったところ基質中のトリグ
リセラード(TG)の濃度は95重量%になった。また
DG、MG、FFAの濃度はそれぞれ2.6重量%、0
.1重量%、2.4重量%、反応系内の水分はlOpp
m以下であった。
[実施例2]
内径80mm、高さ800mmののジャケット付き反応
槽に外径45mm、内径44mm、高さ200mmのの
内管を取り付け、実施例1で使用したのと同じ固定化酵
素200gを内管と外管の間に充填し、前記クールド・
パームオレイン900mβ(810g)を入れ、実施例
1と同様に60℃で10vvmの乾燥窒素ガスを導入し
たところ24時間でTG濃度は95重量%に達した。反
応系内の水分は10ppm以下であった。
槽に外径45mm、内径44mm、高さ200mmのの
内管を取り付け、実施例1で使用したのと同じ固定化酵
素200gを内管と外管の間に充填し、前記クールド・
パームオレイン900mβ(810g)を入れ、実施例
1と同様に60℃で10vvmの乾燥窒素ガスを導入し
たところ24時間でTG濃度は95重量%に達した。反
応系内の水分は10ppm以下であった。
また窒素ガス流315 v v mの条件で反応を行っ
たところ、24時間でTG濃度は93重量%と、10v
vmの時よりは低かった。反応系内の水分は19ppm
以下であった。
たところ、24時間でTG濃度は93重量%と、10v
vmの時よりは低かった。反応系内の水分は19ppm
以下であった。
[実施例3]
実施例2で用いた反応槽の内管と外管の間に実施例1で
使用したのと同じ固定化酵素を100gを充填し、実施
例1で使用したのと同じクールド・パームオレインを1
.OOOmJ2 (900g)使用し、反応槽への窒素
ガスの送入量を2.5.7.10または14vvmの各
速度に変化させて温度60°Cでエステル合成反応を行
った。24時間後のトリグリセラード濃度を第3図に示
した。
使用したのと同じ固定化酵素を100gを充填し、実施
例1で使用したのと同じクールド・パームオレインを1
.OOOmJ2 (900g)使用し、反応槽への窒素
ガスの送入量を2.5.7.10または14vvmの各
速度に変化させて温度60°Cでエステル合成反応を行
った。24時間後のトリグリセラード濃度を第3図に示
した。
第3図において横軸はガス流速(vvm) 、縦軸はト
リグリセラード濃度(重量%)を示す。
リグリセラード濃度(重量%)を示す。
第3図より高トリグリセラード濃度を得るには5〜20
v v m 、特に7〜20vvmのガス速度が適当
であることがわかる。
v v m 、特に7〜20vvmのガス速度が適当
であることがわかる。
[実施例4]
実施例2で用いたのと同じ反応槽の内管と外管との間に
、実施例1で使用したのと同じ固定化酵素100gを充
填した固定化リパーゼ存在域を設け、実施例1で使用し
たのと同じクールド・パームオレイン1000mI2(
9100Oを仕込み10vvmのガス流速で乾燥した窒
素ガスを送入して攪拌・液循環及び脱水を行い温度60
℃で合成反応を行った。
、実施例1で使用したのと同じ固定化酵素100gを充
填した固定化リパーゼ存在域を設け、実施例1で使用し
たのと同じクールド・パームオレイン1000mI2(
9100Oを仕込み10vvmのガス流速で乾燥した窒
素ガスを送入して攪拌・液循環及び脱水を行い温度60
℃で合成反応を行った。
反応は41.7mρ/h(滞留時間24時間に相当)の
速度で連続的に基質の送入と反応生成物の抜き出しなが
ら行った。反応槽から連続的に抜き出される反応生成物
中のトリグリセラード濃度を定期的に分析測定したとこ
ろ48時間後に安定した。その時の反応生成物中のトリ
グリセラード濃度は93.3重量%、反応系内の水分量
は19ppmであった。さらに反応を続けたところ第1
表に示す結果を得た。
速度で連続的に基質の送入と反応生成物の抜き出しなが
ら行った。反応槽から連続的に抜き出される反応生成物
中のトリグリセラード濃度を定期的に分析測定したとこ
ろ48時間後に安定した。その時の反応生成物中のトリ
グリセラード濃度は93.3重量%、反応系内の水分量
は19ppmであった。さらに反応を続けたところ第1
表に示す結果を得た。
[比較例1]
実施例4で用いた反応槽において、固定化酵素の固定床
を設けることなく、固定化酵素を基質に分散させて流動
層とした以外は実施例4と同様にして同量の乾燥ガスを
送入してエステル合成反応を行った。反応を開始して4
8時間後に安定し、その時の反応生成物中のトリグリセ
ラード濃度は93.5重量%、反応系内の水分量は19
ppmであった。さらに反応を続けたところ第1表に示
す結果を得た。
を設けることなく、固定化酵素を基質に分散させて流動
層とした以外は実施例4と同様にして同量の乾燥ガスを
送入してエステル合成反応を行った。反応を開始して4
8時間後に安定し、その時の反応生成物中のトリグリセ
ラード濃度は93.5重量%、反応系内の水分量は19
ppmであった。さらに反応を続けたところ第1表に示
す結果を得た。
(以下余白)
第1表
比較例1の場合、短期間では実施例4と同等の成績を示
したが、長期操業では固定化酵素の漏出が甚だしく固定
化酵素の寿命に差があることが判った・ 即ち固定化酵素を基質に分散させた流動層形式の比較例
1では20日間の連続操業で45%の固定化酵素が漏出
して活性が低下しトリグリセラード濃度は低下するのに
対して、実施例4の固定床方式の方は若干の固定化酵素
の漏出は認められるものの40日間安定して活性が発現
され高トリグリセラード濃度が維持されることが確認さ
れた。
したが、長期操業では固定化酵素の漏出が甚だしく固定
化酵素の寿命に差があることが判った・ 即ち固定化酵素を基質に分散させた流動層形式の比較例
1では20日間の連続操業で45%の固定化酵素が漏出
して活性が低下しトリグリセラード濃度は低下するのに
対して、実施例4の固定床方式の方は若干の固定化酵素
の漏出は認められるものの40日間安定して活性が発現
され高トリグリセラード濃度が維持されることが確認さ
れた。
なお固定床方式においても初期に若干の固定化酵素の漏
出が認められるのは、担体の製造過程で原料粒子に粉末
が付着している為に、酵素固定化の際この粉末にも酵素
が固定化され、反応時間が長くなるにつれて反応生成物
と共に粉末状の固定化酵素が漏出した為であると推定さ
れる。
出が認められるのは、担体の製造過程で原料粒子に粉末
が付着している為に、酵素固定化の際この粉末にも酵素
が固定化され、反応時間が長くなるにつれて反応生成物
と共に粉末状の固定化酵素が漏出した為であると推定さ
れる。
固定床の場合の固定化酵素漏出量は20日間の連続操業
で僅かに7%であったが、この量は初期固定化酵素の担
体製造時の担体付着粉末量に相当する。
で僅かに7%であったが、この量は初期固定化酵素の担
体製造時の担体付着粉末量に相当する。
また流動層の場合は、同様に粉末状固定化酵素が速やか
に漏出するばかりではな(、粒状固定化酵素同志が衝突
し合う為の摩耗により粉末化して固定床方式に比べ固定
化酵素の漏出量が大きくなり活性の低下が早まったもの
と推定される。
に漏出するばかりではな(、粒状固定化酵素同志が衝突
し合う為の摩耗により粉末化して固定床方式に比べ固定
化酵素の漏出量が大きくなり活性の低下が早まったもの
と推定される。
[発明の効果]
反応系から水分を有効に除去し、水分を低く維持できる
のでジグセライト及び/又はモノグリセラードと脂肪酸
からリパーゼの作用により高濃度のトリグリセラードを
得ることができ、しかも長時間連続操業しても活性が低
下しない。
のでジグセライト及び/又はモノグリセラードと脂肪酸
からリパーゼの作用により高濃度のトリグリセラードを
得ることができ、しかも長時間連続操業しても活性が低
下しない。
また本発明の装置は、簡単な構造で固定化リパーゼの損
失を防ぎ、長時間の連続操業を可能にする。
失を防ぎ、長時間の連続操業を可能にする。
第1図は実施例で使用した固定床型反応槽の説明図、第
2図は本発明方法を実施するに適した他の形式の反応槽
の説明図、第3図は反応槽への窒素ガスの送入量を変化
させてエステル合成反応を行った場合の24時間後のト
リグリセラード濃度を示す図で、横軸はガス流速(vV
m)、縦軸はトリグリセラード濃度(重量%)を示す。
2図は本発明方法を実施するに適した他の形式の反応槽
の説明図、第3図は反応槽への窒素ガスの送入量を変化
させてエステル合成反応を行った場合の24時間後のト
リグリセラード濃度を示す図で、横軸はガス流速(vV
m)、縦軸はトリグリセラード濃度(重量%)を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 担体に固定化したリパーゼを充填した固定床よりな
る固定化リパーゼ存在域と固定化リパーゼが充填されて
いない固定化リパーゼ不存在域とが内部に設置され、か
つ固定化リパーゼ不存在域にのみガスが導入された後排
出される構造の反応槽にモノグリセラード及び/又はジ
グリセライドと脂肪酸を含有する基質を供給し、固定化
リパーゼ存在域において基質と固定化リパーゼを接触さ
せてエステル合成を行い、エステル合成で得られた反応
生成物を固定化リパーゼ不存在域に移動して乾燥したガ
スと接触させ、反応生成物と接触した後のガスを反応槽
外に排出することにより反応生成物から水分を除去し、
乾燥したガスとの接触により水分を除去された反応生成
物を固定化リパーゼ存在域に循環させて再びエステル合
成を行わせることを特徴とする高濃度トリグリセラード
の製造法。 2 反応槽を構成する外筒の内部に、外筒より高さの低
い内筒がその上下に空間を有するように設置されており
、外筒と内筒との間又は内筒内部のいずれか一方の側に
担体に固定化したリパーゼの充填層を有し、且つ上記固
定化したリパーゼの充填層を有しない側に乾燥ガス吹込
口、上部にガス排出口を有することを特徴とする高濃度
トリグリセラードの製造装置。 3 反応槽を構成する筒状容器の下半部に担体に固定化
したリパーゼの充填層を有し、該充填層を有しない上半
部の下部に乾燥ガス吹込口、上部にガス排出口を有し、
且つ上半部における前記乾燥ガス吹込口とガス排出口と
の間の位置から下半部の担体に固定化したリパーゼの充
填層の下部への液循環管が設けられていることを特徴と
する高濃度トリグリセラードの製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63296202A JPH02142485A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 高濃度トリグリセライドの製造法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63296202A JPH02142485A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 高濃度トリグリセライドの製造法及び製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02142485A true JPH02142485A (ja) | 1990-05-31 |
JPH0430837B2 JPH0430837B2 (ja) | 1992-05-22 |
Family
ID=17830494
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63296202A Granted JPH02142485A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 高濃度トリグリセライドの製造法及び製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02142485A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009225692A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Adeka Corp | 油脂のエステル交換反応方法 |
-
1988
- 1988-11-25 JP JP63296202A patent/JPH02142485A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009225692A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Adeka Corp | 油脂のエステル交換反応方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0430837B2 (ja) | 1992-05-22 |
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