JPH02139714A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業−にの利用分野］ 本発明は磁気記録媒体に関する。更に詳細には、本発明
は磁気特性および耐久性が向上された磁気記録媒体に関
する。

［従来の技術］ 磁気記録媒体の高密度記録化を図る一手段として、バイ
ンダを使用しない強磁性薄膜型媒体が、磁気記録用媒体
として実用化されるか、もしくは、実用化に向は研究が
なされている。

強磁性薄膜としては、Ｃｏ　Ｎ　ｔ　＋　Ｃｏ　Ｃｒな
どの強磁性金属薄膜もしくは、γ酸化鉄あるいはＢａフ
ェライトなどの酸化物薄膜が用いられている。

［発明が解決しようとする課題］ 一般に、強磁性金属薄膜を用いた媒体は耐食性が悪く、
特に薄膜化したときに大きな問題となる。

また、金属薄膜媒体はヘッドのスライダ、コア材に用い
るフェライトや他のセラミックに比べて柔らかいうえ、
−・変信が入ると大きく成長するという問題がある。

一方、酸化物薄膜媒体では、酸化物強磁性体が強磁性金
属に比べて飽和磁化が小さいため、薄膜化したとき、出
力が強磁性金属媒体に比べて小さ（なる問題がある。

また、酸化物薄膜媒体は、硬く、かつ、剛性が高いため
、高分子フィルム基体上に成形したときは、ヘッドとの
摺動時にできる小さな媒体の折れでも傷が入り易く、ま
た、リジッドな基板に形成し、ハードディスクとして使
用したときは、媒体の硬さのため、ヘッドクラッシュを
起こし易い。

このような、強磁性金属もしくは強磁性酸化物薄膜を用
いる、いわゆる、連続薄膜型媒体の機械的耐久性、特に
、ヘッド摺動時の耐久性を改占するため、強磁性体を非
磁性基体上に柱状に成長させ、その隙間を有機ポリマー
で埋めた複合膜を記録磁性層として用いることが特公昭
５７−３１３７号公報に開示されている。

しかし、前記公報に教示され、ているように有機ポリマ
七強磁性体とを同時にペーパーデボジシジンしただけで
は、磁気記録媒体として望ましい保磁力をイｆする複合
磁性層が得られなかった。

この発明はＪ−記従来技術が持っていた連続薄膜型媒体
の低耐久力および複合型媒体の低保磁力という欠点を解
決し、以て磁気記録媒体として適する保磁力を持ち、ま
た、耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的
とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らが長年にわたり広範な実験と試作を続けた結
果、面心立方構造を有する強磁性体と、炭素＋Ｓｌ＋炭
化水素化合物および有機シリコン化合物からなる群から
選択される少なくとも一種類の物質とからなる磁性層が
高保磁力を示し、かつ、耐久性にも優れていることが発
見された。

この媒体では、強磁性体の周囲を炭素＋８１＋炭化水素
化合物および／またはシリコン化合物を含む非磁性物が
包囲するか、もしくは強磁性体拉の粒界に析出すること
により高保磁力になるものと思われる。

磁性層中の炭素原子および／またはＳｉ原子の含有率は
２ａｔ％以１〕３０ａｔ％以下の範囲内であることが好
ましい。炭化水素化合物および／またはシリコン化合物
として含有されている場合にも、前記のように炭素原子
および／またはシリコン原子に換算して含有率を規定す
る。炭素＋Ｓｉ＋炭化水素化合物およびシリコン化合物
の全てが磁性層中に含まれる場合、これらの全体の炭素
原子およびシリコン原子含有率が前記範囲内に収まるこ
とが必讐である。２　ａｔＸ未膚では保磁力が小さすぎ
、また、３０ａｔＸ超では非磁性体となるか、または、
軟磁性体となってしまい好ましくない。

この際、磁性層と非磁性基体との間に特定の中間層を設
けることにより保磁力が更に一層向ヒされることも発見
された。

また、少なくとも、（ａ）面心立方構造を有する強磁性
体；（ｂ）該強磁性体の炭化物および／またはシリコン
化物；の他に、（ｃ）アモルファス状カーボンおよび／
またはアモルフｒス１大シリコン；および／または（ｄ
）炭化水素化合物および／または何機シリコン化合物；
を含有する磁性層によっても高保磁力で、しかも、高耐
久性の磁気記録媒体が得られる。この磁性層中の炭素原
子および／またはＳｉ原子の含イ４率も２ａｔ％以上３
０ａｔ％以下の範囲内であることが好ましい。

Ｆｅ１Ｃｏ１Ｎｔなどは炭化物あるいはシリコン化物を
作ると硬度が増大する。そのため、媒体中に炭化物およ
び／またはシリコン化物が混在することにより、平均と
して硬さが増大し、機械的耐久性が連続薄膜のときに比
べて改善されるものと思われる。

この場合にも、磁性層と非磁性基体との間に特定の中間
層を設けることにより保磁力は一層向上される。

前記磁性層は面心立方構造を有する強磁性体と、炭素原
子、シリコン原子、炭化水素系有機ポリマーおよびシリ
コン系有機ポリマーからなる群から選択される少なくと
も一種類の物質とを同時ベーパーデポジションすること
により作製できる。

ペーパーデポジション法としては、４１空蒸若法、スパ
ッタ法、イオンブレーティング法、ＲＦイオンブレーテ
ィング法、イオン・クラスタ舎ビーム法、プラズマ重合
法、化学的気相成長法などがある。炭素原子および／ま
たはシリコン原子を蒸着する場合にはスパッタ法を使用
することが特に好ましい。

本発明の磁気記録媒体で使用できる有機ポリマーとして
は、ａ機市合体、即ち合成樹脂重合体の他、これらの重
合により生成する重合性モノマ。

オリゴマを含む。具体的には、ヒドロキシエチルアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート。

メチル−α−クロロアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ジペンタオールへキサアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリジエチレングリコー
ルアクリレート、ウレタンアクリレートなどのアクリル
系モノマー或はオリゴマなど紫外線、電子線硬化型樹脂
、或は、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、
ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリブタジェン、ポリ
カーボネイト、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン
、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリテトラフロロ
エチレンのようなフッ素系ポリマ、シリコン油などのシ
リコン系ポリマなどがあげられる。ポリマーはアルキル
鎖の側鎖に金属、ＯＨ。

ハロゲン、アルキル等の他の官能基を有することもでき
る。別法として、有機ポリマーは予めガス化し、ガスと
して導入し、基体上で重合させてもよい。蒸着に使用さ
れた重合体は、蒸着の際に分解され、低分子量ポリマー
に変化することもある。

従って、蒸着に使用された重合体と磁性膜中に存在する
有機ポリマーとは原子あるいは分子組成の点で一致しな
い場合もあり得る。

本発明の磁気記録媒体の磁性層を形成する面心立方構造
を有する強磁性体としてはＮｉまたはＮｉ基合金を使用
することが好ましい。このＮｉは、単体および合金の何
れの場合にも、針状であることが好ましい。

Ｎｉ基合金とは、Ｎｉ含有限が３０ａｔ％以七のものを
さす。Ｎ　ｉ　Ｄ有Ｍが３０ａｔ％以下では、磁気記録
媒体の記録磁性層中で磁性ＮｉもしくはＮｉ基合金の磁
気的分離を担っている非磁性体の碕が少な（なるため１
−分な磁気的分離が行われなくなり、望ましい保磁力が
得られなくなる。

Ｎｉ基合金の種類としてはＮ　Ｉ　　Ｆ　ｅｌ　Ｎ　ｉ
〜Ｃｏ、Ｎ１−Ｆｅ−Ｃｏｔ　Ｎｉ　−Ｍｎ＋　Ｎｉ　
−Ｖ＋Ｎｉ−ＴｉなどのＮｉ以外の遷移金属との合金、
Ｎｉ希１−類金属との合金、またＳ　ｉ＋　Ｇ　ｅなど
を含んだ合金その他、部分的に酸化、チッ化、リン化さ
れたＮ　１％　Ｎ　ｓ基合金などがある。

本発明により得られる磁性層は、主に、強磁性体および
強磁性体の炭化物および／またはシリコン化合物の他に
、アモルファス状カーボンおよび／またはアモルファス
状シリコンおよび／または炭化水素化合物および／また
は有機シリコン化合物からなり、ＸＰＳ　（光電子分光
分析）法により分析できる。

本発明の磁気記録媒体は、磁性層中にアモルファス状カ
ーボンおよび／またはアモルファス状シリコンおよび／
または炭化水素化合物および／またはｔ１″機シリコン
化合物を含有するので、摩擦係数が小さくなる。特に、
Ｃ９Ｓｉを導入するのにポリマーを使用すると、磁性層
中のポリマーが自己潤滑作用を示し、連続媒体およびＣ
＋Ｓｉを単体の原子として導入したときより摩擦係数は
小さくなる。

本発明の磁気記録媒体において使用することのできる中
間層は、磁性層との界面における格子定数が、その上に
設けられる磁性層内の針状Ｎｉもしくは釘状Ｎｉ基合金
の、中間層との界面における格子定数との差が３５％以
内である物質からなる。具体的には、中間層はＴｉｌＳ
Ｃ％　Ｚｒ５Ｔ　ａ　ｓ　Ｎ　ｌ　％　Ｎ　を合金、周
期率表■族の第５、第６周期の元素（例えば、Ｒｕｓ　
Ｒｈ１Ｐｄ１０ｓｓＩ　ｒ、Ｐｔ）および周期率表Ｉｂ
族の元素（例えば、ＣｕｌＡｇ５　Ａｕ）からなる群か
ら選択される。Ｔｉが特に好ましい。

この中間層を設けることにより磁気特性が向Ｆ。

する。特に保磁力が大きくなる原因については未だ解明
されていない。しかし、中間層を設けないと、透過型電
子顕微鏡で膜断面構造を観察した場合、その磁性層中の
基板に近い部分、すなわち、成長初期の部分は、各村の
粒界部分が明瞭でなく、また、その上部も針状部の境界
が明瞭でない。これに対して、中間層を設けると、成長
初期の部分から針状部分が明瞭で、かつ、磁性層の厚さ
方向全体で別状部分の境界が明瞭になっている。このこ
とより、中間層はそのＬに形成する磁性層内の針状部の
成長を助長しているものと思われる。

Ｔｉｓ　５ｃ１Ｚｒｓ　Ｔａｘ　Ｎｉｘ　Ｎｉ合金、周
期率表■族の第５、第６周期の元素（例えば、Ｒｕ１Ｒ
ｈｓ　Ｐｄｔ　ＯＳ％　　Ｉ　ｒｓ　Ｐｔ）および周期
率表Ｉｂ族の元素（例えば、ＣｕｌＡｇｔ　Ａｕ）を基
板上に形成すると、これらの元素はコラム（柱状）構造
を取り、この時のコラム径がその上の磁性層中の針状部
の径と近似するので、針状部の成長の核となり、針状部
の成長を促進するものと思われる。

本発明の磁気記録媒体における中間層の膜厚自体は本発
明の必須ｄ件ではないが、−・膜内には、５０人〜２０
００人の範囲内である。５０人未満では針状Ｎｉの結晶
成長促進効果が不十分になる恐れがあるので好ましくな
い。−・方、２０００人超になると結晶成長促進効果が
飽和するので、厚くするだけ不経済となる。

また、基本的には中間層は合金、化合物、酸化物、チッ
化物で構成することもできる。

中間層を有する磁気記録媒体を製造する場合、まず、ペ
ーパーデポジション法により非磁性基体りに中間層を形
成し、その−１−にＮｉまたはＮｉ基合金からなる強磁
性体と、ＣもしくはＳｉあるいはＣとＳｔまたは有機ポ
リマーを同時にペーパーデポジションする。

面心立方金属として、Ｎ　Ｉ　ＸＮ　ｓ基合金を用いる
と、Ｎｉ自体の耐食性の良さにより、耐食性には優れる
が、それにも拘わらず、実環境中で使用すると表面に薄
（腐食物、酸化物、水酸化物、硫化物、塩化物などが形
成される。これら腐食物が形成されるとヘッドの摺動特
性が劣化する。そのため、磁性居士、に固体保護膜を設
けることが望ましい。固体保護膜を設けると、摩擦係数
が大きくなるため、固体保護膜の上に潤滑層を設けるこ
とが好ましい。

固体保護層としてはカーボン、チタン、ケイ素酸化物（
例えば、酸化ケイ素）、ジルコニウム。

ホウ素、ホウ素窒化物（例えば、窒化ホウ素）。

ホウ素炭化物（例えば、炭化ホウ素）、ケイ素炭化物（
例えば、炭化ケイ素）、ケイ素窒化物（例えば、窒化ケ
イ素）などの他、磁性層に使用した金属（Ｎｉもしくは
Ｎｉ基合金）の酸化物、窒化物も使用できる。これらの
固体保護層は、真空蒸着法、スパッタ法、イオンブレー
ティング法、高周波イオンブレーティング法、化学的気
相成長法。

プラズマ重合法、などの方法の他、酸化ケイ素は化学反
応を用いたスピンコード法、スプレーコート法でも形成
できる。

潤滑層を形成するのに使用する潤滑剤としては、脂肪族
系、フッ素系潤滑剤などが使用できる。

脂肪族系潤滑層としては、カプリン酸、ステアリン酸、
ベヘニン酸、ｎ−ヘントリアコンタン酸などの飽和直鎮
脂肪酸、リンデル酸、オレイン酸。

リノール酸などの不飽和脂肪酸、１ユ記脂肪酸の金属地
（金属石けん）、アルコール、脂肪酸などがある。脂肪
酸アミドは、第１級、第２級、第３級。

第４級とあるが、いずれも使用できる。また、」二記脂
肪酸と、−価アルコールや多価アルコールとのエステル
（脂肪酸エステル）も使用できる。また、これらの各種
潤滑剤を混合して使用してもよい。

フッ素系潤滑剤としてはフロロカーボン系、特に、パー
フロロポリエーテルが望ましい。

潤滑剤は、デイツプ法、スピンコード法、スプレーコー
ト法、ラングミュア・ブロジェット膜法。

グラビア印刷法などの湿式法により形成できるし、また
、真空蒸着法によっても形成できる。また、ＶＴＲテー
プなどに使用する場合は、テープ裏面にあらかじめ潤滑
剤の層を形成しておき、リールに巻き取ったときの転写
により、表面側に、すなわち、固体保護層の−Ｈに潤滑
層を形成することもできる。

固体保護層の膜厚は、５０Å以上、潤滑層の膜厚は、１
０Å以上が望ましい。また、固体保護層と、潤滑層を合
わせた膜厚は、５００Å以下が望ましい。

固体保護層の膜厚が５０Å以下もしくは、潤滑層の膜厚
が１０Å以下では、各層の耐久性が乏しくなり、また、
両者の膜厚の和が５００人を超えるとスペーシング損失
が大きくなり望ましくない。

また、潤滑層と、固体保護層間の接着力を４−げるため
、固体保護層表面部分を酸化もしくはチツ化することが
好ましい。

本発明の磁気記録媒体の概念的な断面構造を第１図〜第
３図に示す。

第１図に示されるように、非磁性基体１の」−に磁性層
２が形成されている。この磁性層２は基体１からほぼ垂
直に立設された面心立方構造を有する釦状強磁性体粒３
Ａからなり、この側杖強磁性体粒間にＣ，Ｓｉ＋炭素化
合物およびシリコン化合物からなる群から選択される少
なくとも−・種類の非磁性物４が析出している。また、
前記針状強磁性体粒３Ａの基板界面部分には強磁性金属
の微小結晶粒３Ｂが生成されている。

第２図は中間層を有する場合で、非磁性基体−［−に中
間層５が設けられ、この中間層の上に前記と同様な磁性
層２が形成されている。図示されているように、中間層
５を介して磁性層２を形成すると、第１図と比較すれば
明らかなように、磁性層２の底部（成長初期部分）にお
いて、第１図のような強磁性金属の微小結晶粒３Ｂの発
生が抑制され、良好な針状結晶３Ａが形成される。

第３図は第１図の磁気記録媒体に固体保護層６と潤滑層
７が積層された断面図である。

本発明の磁気記録媒体に使用される非磁性基板としては
、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート等の高分子
フィルム、ガラス類、セラミック。

アルミ、陽極酸化アルミ、黄銅などの金属板。

Ｓｉ単結晶板１表面を熱酸化処理したＳｉ単結晶板など
がある。この非磁性基体は必要に応じて、甲面研磨やテ
クスチャリング加工を行うためのニッケル・リン系合金
層やアルマイト処理層等の下地研磨層を設けることもで
きる。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープや磁気ディスク、合成樹脂フィルム、アル
ミニウム板およびガラス板等からなる円盤やドラムを基
体とする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと
摺接する構造の種々の形態を包含する。

［実施例コ 以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。

光胤旌上二１ 第４図に示す高周波スパッタ装置を用い、以下に示す条
件で、Ｎ　ｉＣ（実施例１）＊Ｎｔ−３ｉ（実施例２）
、（ＮｉＣｏ）−Ｃ（実施例３）（ＮｉＣｏ）−５ｉ　
（実施例４Ｌ　　ＣＮ１Ｆｅ）−Ｃ（実施例５）および
（ＮｉＦｅ）−８ｉ　（実施例６）の各校を作製した。

１、ターゲット：（ａ）Ｎｉ （ｂ）Ｎｉａｏ　Ｃ０２６ （ｃ）　Ｎｉ１Ｆｏ　Ｆｅｌ。

（ａ）〜（ｃ）の各ターゲット上には、Ａｒスパッタガ
スに曝される表面積の比ｓ：ｓ’がｌ：２となるように
、２ｍｍｘ２ｍｍ（厚さ１ｍｍ）のＣもしくはＳｉチッ
プを配置した。なお、Ｓは強磁性金属ターゲットの表面
積であり、Ｓ′はＣまたはＳｉチップの表面積である。

２、基板ニガラス ３、スパッタガス及び圧カニＡｒガス＋　　１０ｍＴｏ
ｒｒ４、投入型カニ　１．５ｋＷ（１３，５ＭＨｚ）５
、基板温度ニスバッタ前に室温に設定６、膜厚：０．５
μｍ 夷五健り 第５図に示した真空蒸着装置によりＮｉ　−Ｃ膜を作製
した。Ｎｉは電子銃加熱により、また、Ｃはアーク放電
法によりそれぞれ真空蒸着した。蒸着条件は以下の通り
である。

■。基板ニガラス ２、基板温度＝１００℃ ３．７Ａ；着レート：Ｎｉ　　　　２０人／５ｅｃＣ５
，０人７ｓｅｃ ４．１１空度：ＶＡ着時　１．０ｘ　１Ｏ−５Ｔｏｒｒ
５、膜厚：０．５μｍ 天遊１１罎 第６図に示したｆ〔空蒸着装置によりＮｉ−８ｉ膜を作
製した。ＮｉおよびＳｉは何れも電子銃加熱により１°
Ｌ空蒸着した。蒸着条件をド記に／Ｉ＜す。

！、基板ニガラス ２、基板温度：１００℃ ３、蒸着レート：Ｎｉ　　　　２０人／５ｅｅＳｉ３，
０人／５ｅｅ ４、真空度：蒸着時　１．５ｘｌＯ−５Ｔｏｒｒ５、膜
厚：０．５μｍ 前記の実施例１〜８で得られた各磁気記録媒体の磁気特
性を試料振動型磁力計により測定し、また、磁性膜膜組
成をＸＰＳ分析法により測定した。

４ａｊ定結果を下記の表１に要約して示す。

（以下余白） 人工Ｌ （注）木表中の磁性膜組成において、 （ａ）はＮ１０．９ＧＯ，Ｉ； （ｂ）は旧０．８５ＳｉＯ，ｌ５ｉ （ｃ）は（Ｆｆｌｏ、７８ＣｏＯ，２２）０．８７Ｇ０
．１３；（ｄ）は（Ｎ１０．７９Ｇｏ０．２１）０．８
５Ｓ１０．１５ｉ（ｅ）は（ＮｆＯ，８ＧＦｅＯ，Ｉ４
）０．９ＣＯ，ｌ；（ｆ）　は（Ｎ１０．８７ＦｅＯ，
Ｉ３）０．８８ＳＩＯ，Ｉ２；（ｇ）はＮｉＯ，８ＢＣ
Ｇ、Ｉ４；および（ｈ）は旧０．８７Ｓ１０．１３であ
る。これらの組成は何れも構成原子の原子数比で示され
ている。

表１に示された結果から明らかなように、実施例１〜８
で得られた本発明の各磁気記録媒体は取直磁気記録媒体
であることが理解される。

丈止阻に上２ 第７図に示した真空蒸着装置により、ＣおよびＳｉをポ
リマー七して導入し、Ｎ　ｓ−ポリマー同時蒸着膜を以
下の条件で作製した。Ｎｉは電子銃加熱により、ポリマ
ーは抵抗加熱により蒸着した。

１、ポリマー：ポリエチレン（実施例９）；変性ポリエ
チレン（Ｈ（７）−Ｒ［− −ＣＯＯＨおよび−ＯＨで置換した もの）（実施例１０）； ポリプロピレン（実施例１１）； シリコン油（実施例１２） ２、基板ニガラスおよびポリエチレンテレフタレー）　
（ＰＥＴ）フィルム（厚さ：５０ＩＺｍ）３、基板温度
：５０℃ ４、蒸着レート：Ｎｉ　　　　　　２５人／ｓｅｅポリ
マー　１．０人／５ｅｃ ５．１°〔空度：蒸着時　２．　Ｏｘ　１０−５Ｔｏｒ
ｒ前記の実施例９〜１２で得られた各磁気記録媒体の磁
気特性および磁性膜組成を調べた。測定結果を下記の表
１に要約して示す。なお、磁気特性は試料振動型磁力計
により、また、磁性膜組成はＸＰＳ分析法により測定し
た。下記の表において、磁性膜組成は構成原子のＮｔ、
ＣおよびＳｉの原子数比で示されている。

（以下余白） 表２に示された結果から明らかなように、実施例９〜１
２で得られた本発明の各磁気記録媒体は和尚磁気記録媒
体であることが確認できる。また、ＸＰＳ分析による各
磁気記録媒体の磁性膜中のＣおよびＳｉは（ａ）　Ｎｉ
　−Ｃ＋　Ｎｉ　−８ｉおよび（ｂ）炭化水素化合物、
シリコン化合物という形で存在していた。

第８図に示した高周波イオンブレーティング装置により
ＮｉＣｏ−ポリマー同時蒸着膜を以下に示す蒸着条件で
作製した。ＮｉＣｏ合金は電ｒ−銃加熱により蒸着し、
ポリマーは抵抗加熱により蒸着した。

１、強磁性金属：Ｎ１ａｏＣｏ２ｏインゴツト使用ポリ
マー　：ポリエチレン（実施例１３）ポリスチロール（
実施例１４） ２、基板ニガラスおよびポリエチレンテレフタレート（
ＰＥＴ）フィルム（厚さ：ｌＯμｍ）３、基板温度：室
温 ４、蒸着レート：ＮｉＣｏ　　　３０人／ｓｅｅポリマ
ー　２．０人／５ｅｅ ５、真空度：蒸着時　２．０ｘｌＯ−５Ｔｏｒｒ６、基
板印加電圧ニー５００Ｖ 実施例１３および１４と同じ装置を使用し、同じ蒸着条
件で蒸着膜を作製した。ただし、ポリマーの代わりに七
ツマ−をガス導入口から送入し、その場で重合させてポ
リマーを形成させた。

導入したモノマーは、ベンゼン（実施例１５）およびエ
チレン（実施例１６）であった。

前記の実施例１３〜１６で得られた各磁気記録媒体の磁
気特性および磁性膜膜組成を下記の表３に示す。磁気特
性は試料振動型磁力計により、また、磁性膜組成はＸＰ
Ｓ分析法により測定した。

なお、磁性膜組成はＮｉとＣの原子数比で示した。

（以上余白） 前記の結果より、実施例１３〜１６で得られた本発明の
各磁気記録媒体は垂直磁気記録媒体であることが確認で
きる。

また、ＸＰＳ分析により、膜中のＣは実施例１３および
１４の磁気記録媒体では（ａ）ＮｉＣｏ合金との炭化物
と（ｂ）炭化水素化合物として荏在し、実施例１５およ
び１６では（ａ）ＮｉＣｏ合金との炭化物、（ｂ）炭化
水素化合物と（ｃ）アモルファス状カーボンとして存在
していた。

実［ヱユＪ− 前記の実施例１および２に示したＮｉ　−Ｃ膜とＮｉ−
３ｉ膜および実施例９に示したＮｉ−ポリエチレン膜を
、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム基板
（厚さ４０μｍＬｈに、長さ５　ｃｍ。

幅１ｃ１ｍの短冊状に各蒸着条件に従って作製した。

止水１１− 第７図に示した「を空蒸着装置を用いてＣｏＣｒ膜を以
下の条件で膜厚０．２μＩｎの厚さで作製した。ＣｏＣ
ｒは電ｒ銃加熱により蒸着した。

１、インゴット：Ｃｏａｏ　　Ｃｒ２ｏ　　（ｗｔ％　
）２、基板：ポリイミドフィルム（厚さ４０μｍ）（サ
イズ５ｃｌｌｘ１ｃｍ） ３、前行レート：２０人／５ｅｃ ４゜真空度：５．０ｘｌＯ−６Ｔｏｒｒ５、基板４度：
１５０°Ｃ 止改匠１ 第８図に示した真空蒸着装置により、比較例１と同じよ
うに蒸７を膜を作製した。ただし、基板１−に先ずＣｒ
を０．０５μｍ作製し、その上にＣ。

Ｃｒを０．２μｍ作製した。Ｃｒ蒸着条件はド記の通り
である。

皿、蒸着レート＝２０人／５ｅｅ ２、基板温度：１５０℃ ３、真空度：５．０ｘｌＯ−６Ｔｏｒｒ比較例１および
２で得られた磁気記録媒体の磁気特性を試料振動型磁力
計により測定した。測定結果を下記の表４に示す。

（以下余白） 表コ［ 前記の結果より、比較例１および２の磁気記録媒体は、
Ｃｏ　Ｃｒを用いた垂直磁気記録媒体および市内磁気記
録媒体であることが理解される。

実施例１７〜１９．比較例１および２で得られた各磁気
記録媒体の走行性および耐久性を、ステンレス製ビン（
φ４９表面粗さ＃２０００の研磨材で研磨）に荷重２０
ｇ重で、速さ１　、７　ｃｍ／ｓｅｃで１００回摺動し
、摺動中の摩擦力および摺動後の傷の有無を測定した。

実施例１７〜１９．比較例１および２の各磁気記録媒体
の摩擦係数の変化を下記の表５に示す。

（以下余白） 表ｊ− （注）表中のｍ−は測定不能を示す。「実」は実施例、
「比」は比較例を意味する。

また、１００回摺動後の傷の程度は、実施例１７の磁気
記録媒体で摺動部に１本のスジ状の傷、実施例１８の磁
気記録媒体で摺動部に１本のスジ伏の傷と別の小さな傷
、実施例１９の磁気記録媒体で摺動部に３木のスジ状の
傷が確認された。

方、比較例１および２の磁気記録媒体は両方とも摺動回
数１０回で磁性層が剥離し、摩擦係数の測定自体も不可
能となった。

以上の結果から、本発明により得られる磁気記録媒体は
走行性および機械的耐久性に優れていることが理解でき
る。

−・　　　　　　　　　〜 第７図に示す真空蒸着装置を用い、以下に示す条件でＮ
ｉＣｏ合金とポリエチレンの同時真空蒸着法により、（
ＮｉＣｏ）−ポリエチレン膜を作製した。

Ｌ強磁性体：ＮｉＣｏ合金 ２、ポリマ：ポリエチレン（平均分子量１０００）３、
基板ニガラス ４、基板温度：１５０°Ｃ ５、蒸着レート：ＮｉＣｏ　　　　　２０人／ｓｅｅポ
リエチレン　１．０人／５ｅｃ ６、真空度：到達真空度５．ＯＸ　１０−７Ｔｏｒｒ蒸
着中１．０〜２．　ＯＸ　１０−５ＴｏｒｒＮｉＣｏは
電子銃加熱により、ポリエチレンは抵抗加熱により真空
蒸着した。また、蒸着に用いるＮｉＣｏ合金の組成を変
化させることにより、（Ｎｉｌ−ｘＣｏｘ）−ポリエチ
レン膜でＸ＝０゜２．０．４，０．６のものを作製した
。炭素ｌ農度は５ａｔ％であった。

比佼肚１扛り芝生 実施例２０〜２２に記載された条件と同じ条件で、ただ
し真空蒸着時に用いる強磁性体インゴットの組成を変更
し、（Ｎｉｌ　−ｘＣｏｘ）−ポリエチレン膜でｘ＝０
．８，１．０のものを作製した。膜中の炭素７３１度は
５ａｔ％であった。

実ｍ支二、２１ 実施例２０〜２２に記載された条件と同じ条件で、ただ
し、強磁性金属をＮｉとし、ポリマの蒸着レートを変化
させ、磁性層中の炭素濃度が２゜４．６．８．１０．２
０．３０ａｔ％のものを作製した。

比致ＩＩし：釦 実施例２３〜２９と同じ条件で、ただし、ポリマの蒸着
レートを変化させ、炭素濃度が０．５゜１、４０．　Ｅ
３０ａｔ％のものを作製した。

実施例２０〜２２および比較例３〜４で得られた磁気記
録媒体の磁気特性を試料振動型磁力計で測定した。結果
を下記の表６に示す。

表コト （注）表中の「実」および「比」はそれぞれ「実施例」
および「比較例」を意味する。また、「Ｘ」はＮｉ１−
ｘＦｅｘにおけるＸである。

同様に、実施例２３〜２９および比較例５〜８で得られ
た磁気記録媒体の磁気特性を試料振動型磁力計で測定し
た。結果を下記の表７に示す。

（以下余白） 六二Ｌ （注）表中の「実」および「比」はそれぞれ「実施例」
および「比較例」を意味する。炭素濃度の単位はａｔ％
である。

前記の表６および表７に示された結果から明らかなよう
に、Ｎｉ含有量が３０ａｔ％以上のものを用い、磁性層
中の炭素濃度を２　ａｔＸ以上３０ａｔ％以下にするこ
とにより磁気記録媒体としてふされしい保磁力を有する
磁気記録媒体が得られる。

実ｍ頭二Ａ」工 第９図に示す真空蒸着装置を用い、中間層の形成物質と
してＴａｒ　Ｓ　Ｃ＋　Ｚ　ｒ＋　Ｔ　ｌ＋　Ｒｕ＋Ｒ
ｈ＋　Ｐｄ＋　Ｏｓ＋　　Ｉ　ｒ＋　Ｐｔ、　Ｃｕｔ　
Ａｇ＋Ａｕ、Ｎｉを使用し、中間層の上にＮｉとポリエ
チレンを同時真空蒸着し、Ｎｉ−ポリエチレン膜を作製
した。以下に成膜条件を示す。

１、強磁性体：Ｎｉ ２、ポリマー：ポリエチレン ３、中間層形成物質：　Ｔ　ａ＋　Ｓ　Ｃ＋　Ｚ　ｒ＋
　Ｔ　ｉ＋Ｒｕｔ　Ｒｈｔ　　ＰｃＬ　　Ｏｓ＋　　Ｉ
　ｒ＋　　ｐｔ、Ｃｕ＋Ａ　ｇ　ｒ　Ａ　ｕ　＋　Ｎ　
ｉ ４、基板：ポリイミド（厚さ：５０μｍ）５、基板温度
：室温 ６、蒸着レート：中間層　　　　２０人／　ｓ　ｅ　ｃ
Ｎｉ　　　　　　　２０人／　ｓ　ｅ　ｃポリマー　　
１．０人／５ｅｅ ７、真空度：中間層形成時５．　ＯＸ　１０−　”　Ｔ
ｏｒｒＮｉ−ポリエチレン膜形成時 １　、０〜２．　ＯＸ　１０−　”　ＴｏｒｒＮｉおよ
び中間層形成物質は電ｒ銃加熱により真空蒸着し、ポリ
エチレンは抵抗加熱により真空蒸着した。

′！゛　　　　　　　　　ッ 強磁性体としてＮ１Ｃｏ（インゴツトとして９Ｑｗｔ％
Ｎ　ｉ　−１０ｗｔ％　Ｃｏ）合金を使用し、中間層形
成物質としてＴ　ｉ＋　Ｔ　ａ＋　Ｓ　Ｃ＋　Ｃｕｌ　
Ｎ　ｔＣｏを使用し、それ以外は実施例３０と同じ条件
で磁気記録媒体を作製した。

旧佼計１ 中間層を設けない以外は実施例３０と同じ条件で、基板
上にＮｉ−ポリエチレン膜を直接成膜し、磁気記録媒体
を作製した。

止佼肚１１ 中間層を設けない以外は実施例４４と同じ条件で、基板
、、ににＮｉＣｏ−ポリエチレン膜を直接成膜し、磁気
記録媒体を作製した。

実施例３０〜４３および比較例９で作製した磁気記録媒
体の磁気特性を試料振動型磁力計（ｖｓＭ）で測定した
。結果をド記の表８に要約して示す。

表」Ｌ （注）表中の「実」および「比」はそれぞれ「実施例」
および「比較例」を意味する。

表８に示された結果から明らかなように、中間層が設け
られた磁気記録媒体は東向方向の保磁力が大きくなり、
磁気記録媒体としての特性が向１−されている。中間層
としてＮｉを用いたものはＮｉが面内磁化膜であるため
、面内の保磁力が大きくなるが、垂直方向の保磁力は大
きくなっていることから、磁気記録層自体の磁気特性は
改廊されている。

実施例４４〜４８および比較例１Ｏで得られた磁気記録
媒体の磁気特性を前記と同様に測定した。

測定結果を下記の表９に示す。

表４に示された結果から明らかなように、ＮｉＣｏ−ポ
リエチレン磁性層の下部に中間層が設けられた磁気記録
媒体は垂直方向の保磁力が大きくなり、磁気記録媒体と
しての特性が向上されている。中間層としてＮｉＣｏ合
金を用いたものはＮｉＣｏ合金が面内磁化膜であるため
、面内の保磁力が大きくなるが、垂直方向の保磁力は大
きくなっていることから、磁気記録層自体の磁気特性は
改Ｒされている。

以、Ｆ、の結果から、特定の物質からなる中間層を基板
」ユに設け、この上に強磁性体とポリマーとの同時蒸着
磁性層を形成させると、強磁性体の結晶成長が促進され
、垂直磁気特性に優れた磁気記録媒体が得られることが
理解される。

実１ｊ（Ｌ１二５Ｊ工 第１０図に示した真空蒸着装置を用い、以下に示した条
件でポリエチレンテレフタレー）　（ＰＥＴ）基板（厚
さ２０μｍ、サイズ１０　ｃｍｘ　１　ｃｍ）上に、Ｎ
ｉ−ポリエチレン垂直磁化膜を厚さ０゜２μｍ形成し、
そのにに連続して固体保護層を厚さ２００人形成した。

固体保護層としては、ホウ素、窒化ホウ素、酸化ニッケ
ル、窒化ニッケルおよび酸化ケイ素（順に実施例３０〜
３４）を形成した。チッ化物、酸化物は、チッ素ガス雰
囲気中、酸素ガス雰囲気中で蒸着することにより作製し
た。

この上にデイツプ法でステアリン酸カルシウムの脂肪族
潤滑層を５０人形成した。

作１じ１ｔ （Ｉ）Ｎｉ−ポリエチレン垂直磁化層 （１）蒸着レート：Ｎｉ　　　　　　　２０人／　ｓ　
ｅ　ｃポリエチレン１．０人／　ｓ　ｅ　ｃ （２）真空度：　　　１．０ｘｌＯ−５Ｔｏｒｒ（３）
基板Ｉみλ度二　室温 （ＩＩ）固体保護層 （１）蒸着レート＝５人／５ｅｅ （２）真空度：　　　５．０ｘｌＯ−６Ｔｏｒｒ（酸素
ガス雰囲気のとき、酸素分圧： ５、　Ｏｘ　１０−５Ｔｏｒｒ） （チッ素ガス雰囲気のとき、チッ素分圧：５、　Ｏｘ　
ｌ　Ｏ−５Ｔｏｒｒ） （３）基板温度：　室／Ｕ Ｌ１肚１１ 第１１図に示したプラズマ重合装置を用い、実施例４９
に示した条件で作製したＮｉ−ポリエチレン垂直磁化層
上にプラズマ重合法でカーボン膜を２００人形成し、そ
の上にデイツプ法でステアリン酸カルシウムの潤滑層を
５０人形成した。

プラズマ１八　　・ （＋）ガス圧：　　　１０ｍＴｏｒｒ （２）ガス種：　　エチレン （３）ガス流眼：　　ｌｓｅｃｍ （４）投入型カニ　　　ＩＷ／ｃｍ’ 実［口り二１ 実施例４９で作製したＮｉ−ポリエチレン昨直磁化膜十
、にＢ保護膜を形成したトに、脂肪族潤滑層を真空蒸着
法により５０人形成した。

脂肪族潤滑剤としては、ステアリン酸、ステアリルアル
コール、ステアリルアミド、ステアリン酸カルシウムお
よびステアリン酸とブチルアルコールとのエステル（ス
テアリン酸ブチル）を使用した。

止孜ｍご−り釦 実施例４９〜５３で作製したＮｉ−ポリエチレン垂直磁
化膜ト、に各固体保護層のみを形成しただけの磁気記録
媒体を作製した。

止校珪１１ 実施例４９〜５３で作製したＮｉ−ポリエチレン垂直磁
化膜上に固体保護層は設けず、ステアリン酸カルシウム
潤滑層をデイツプ法で形成しただけの磁気記録媒体を作
製した。

Ｌ佼匠１１ 非磁性基体上にＮｉ−ポリエチレン垂直磁化膜のみを有
する磁気記録媒体を作製した。

前記の実施例４９〜５９および比較例１１〜１８で得ら
れた各磁気記録媒体に、φ４のステンレス製ピン（表面
粗さ＃２０００の研磨材で研磨）を荷重２ｇで押付け、
摺動速度１　、８　ａｍ／ｓｅｃで１００回往復摺動し
、その間の摩擦係数および１００回摺動後の表面の傷に
ついて調べた。結果をＦ記の表１０に示す。なお、摩擦
係数のデータ中の「−一」は膜が剥離し、測定不能とな
ったことを示す。

（以下余白） 表１０に示された結果から明らかなように、固体保護層
を設けたときには、潤滑層を併せて設ける必要がある。

次に、実施例４９〜５９および比較例１７〜１８で得ら
れた各磁気記録媒体を屋外に２週間放置し、その後、前
記と同じ摺動試験を行った。結果をＦ記の表１１に示す
。

（以下余白） 屋外に放置した比較例１７および１８の磁気記録媒体の
表面は白く変色していた。また、この変色部をオージェ
分光分析法により分析すると、Ｎ１−Ｃの他に、Ｓ、Ｃ
Ｊ！、Ｏが観測され、媒体が腐食されていることが確認
された。この腐食は、Ｓ、ＣＪ！、０について深さ方向
に分析すると、表面から２００〜３００人で観測されな
（なることから、表面部分だけの腐食であると思われる
。

−・方、本発明の実施例により得られた磁気記録媒体で
は、表面には目視では変色は観測されなかった。

また、摺動試験を行うと、比較例の媒体では腐食部分が
剥離し、摩耗粉が生じる。この摩耗粉により磁性層が剥
離し、摩擦係数が試験開始後すぐに大きくなった。これ
に対して、本発明の実施例の媒体では摩擦係数は試験開
始から終了まで殆ど変化せず、耐久性も劣化しない。

以上の結果から、実使用環境ドでの使用を考慮した場合
、表面に固体保護層を設け、その上に潤滑層を設けるこ
とが望ましい。

一０゛　　　　　　　　〜 第１０図に示した真空蒸着装置を用い、以下に示した条
件でポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板（厚さ
２０μｍ、゛サイズ１０　ｃｍｘ　ｌ　ｃｍ）上に、Ｎ
ｉ−ポリエチレン垂直磁化膜を厚さ０゜２　ａ　ｍ形成
し、その、Ｆ、に連続して固体保護層を厚さ２００人形
成した。固体保護層としては、ボロン、チタン、チッ化
ボロン、酸化ニッケルおよびチッ化ニッケル（順に、実
施例４１〜４５）を形成した。チフ化物、酸化物は、チ
ッ素ガス雰囲気中、酸素ガス雰囲気中で蒸着することに
より作製した。このヒにデイツプ法でパーフルオロポリ
エーテルのフッ素潤滑層を５０人形成した。

作髪策１ （Ｉ）Ｎｉ−ポリエチレン垂直磁化層 （１）蒸着レート：Ｎｉ　　　　　　　２０人／ｓｅｅ
ポリエチレン１．０人／５ｅｃ （２）真空度：　　　１．０ｘｌＯ”−”Ｔｏｒｒ（３
）基板温度二　室温 （ＩＩ）固体保護層 （１）蒸着レート：１０人／５ｅｅ （２）　１７ｃ空度：　　　５．０ｘｌＯ−ＢＴｏｒｒ
（酸素ガス雰囲気のとき、酸素分圧： ５、　Ｏｘ　１０−５Ｔｏｒｒ） （チッ素ガス雰囲気のとき、チン素分圧＝５、０　ｘ　
１０−５Ｔｏｒｒ） （３）基板温度二　室温 χ息匠１足 実施例６０〜６４に示した条件で予め作製したＮｉ−ポ
リエチレン垂直磁化膜」二に、第１１図に示したプラズ
マ重合装置を用い、プラズマ重合法でカーボン膜を２０
０人形成し、その上にデイツプ法でフッ素系潤滑層を５
０人形成した。

プラズマ重合八　− （１）ガス圧：　　　ｌ　ＯｍＴｏｒｒ（２）ガス種：
　　エチレン （３）ガス流け：　　ｌｓｅｃｍ （４）没入電カニ　　　ＩＷ／ｃ／ Ｌ佼肚Ｐ１ 実施例６０で作製したＮｉ−ポリエチレン垂直磁化膜上
に固体保護層を設けず、フッ素系潤滑層を直接形成した
磁気記録媒体を作製した。

比ｎ九２カー 非磁性基体上にＮｉ−ポリエチレン垂直磁化膜のみをａ
する磁気記録媒体を作製した。

前記の実施例６０〜６５および比較例１９′〜２０で得
られた各磁気記録媒体を屋外に２週間放置し、その後、
前記と同様な摺動試験を行った。、測定結果を下記の表
１２に示す。

（以下余白） 前記の結果から明らかなように、磁性層のＬに固体保護
層を設け、そのｌ−に更にフッ素系潤滑層を設けること
により耐久性に優れた磁気記録媒体が得られる。

［発明の効果コ 以１ユ説明したように、面心立方構造を有する強磁性体
と、Ｃ＋　　８１　＋炭化水素化合物および／リコン化
合物からなる群から選択される少なくとも一種類の物質
とからなる磁性層を非磁性基体１−に設けることにより
、ヘッドの走イＪ性および耐久性に優れた高保磁力の磁
気記録媒体が得られる。

また、非磁性基体」−に特定の中間層を設け、この中間
層のＬに前記磁性層を形成することにより、強磁性体の
針状成長が促進され、−層の高保磁力の磁気記録媒体が
得られる。

磁性層を形成するとき、ＣおよびＳｉはψ体厚ｒとして
導入することもでき、あるいはポリマーもしくはポリマ
ーを構成するモノマーとしても導入することができる。

また、これら磁気記録媒体の磁性層の１〕に固体保護層
と潤滑層とを積層させることにより耐食性および耐久性
に優れた磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の概念的断面図であり、
第２図は中間層を汀する本発明の磁気記録媒体の概念的
断面図であり、第３図は固体保護膜と潤滑層をイｒする
磁気記録媒体の概念的断面図であり、第４図、第５図、
第６図、第７図、第８図、第９図、第１０図および第１
１図はそれぞれ本発明の磁気記録媒体の作製に使用され
る装置の一例を示す概要図である。 １・・・非磁性基体、２・・・磁性層、３Ａ・・・強磁
性体針状粒、３Ｂ・・・微小結晶粒、４・・・非磁性粒
界。 ５・・・中間層、６・・・固体保護層、７・・・潤滑層
第 第 図 図４（＃、うい、

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）面心立方構造を有する強磁性体と、炭素、Ｓｉ、
   炭化水素化合物および有機シリコン化合物からなる群か
   ら選択される少なくとも一種類の物質とからなる磁性層
   を有することを特徴とする磁気記録媒体。 （２）面心立方構造を有する強磁性体がＮｉまたはＮｉ
   基合金である請求項１記載の磁気記録媒体。 （３）Ｎｉ基合金は、Ｎｉ含有量が３０ａｔ％以上であ
   ることを特徴とする請求項２記載の磁気記録媒体。 （４）磁性層中の炭素原子および／またはＳｉ原子の含
   有率が２ａｔ％以上３０ａｔ％以下の範囲内であること
   を特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 （５）炭化水素化合物および有機シリコン化合物はそれ
   ぞれポリマーであることを特徴とする請求項１記載の磁
   気記録媒体。 （６）面心立方構造を有する強磁性体のＮｉまたはＮｉ
   基合金は針状であることを特徴とする請求項２記載の磁
   気記録媒体。 （７）前記磁性層の上に更に、固体保護膜が設けられ、
   かつ、その上に脂肪族系またはフッ素系潤滑層が設けら
   れていることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体
   。 （８）固体保護層は炭素、ホウ素、チタン、ジルコニウ
   ム、ケイ素、ホウ素炭化物、ケイ素炭化物、ホウ素窒化
   物、ケイ素窒化物またはケイ素酸化物から構成されてい
   ることを特徴とする請求項７記載の磁気記録媒体。 （３）脂肪族系潤滑層を形成する脂肪族系潤滑剤が、脂
   肪酸、脂肪酸金属塩、脂肪族アルコール、脂肪酸アミド
   および脂肪酸エステルからなる群から選択されることを
   特徴とする請求項７記載の磁気記録媒体。 （１０）フッ素系潤滑層を形成するフッ素系潤滑剤はフ
   ロロカーボン系潤滑剤であることを特徴とする請求項７
   記載の磁気記録媒体。 （１１）面心立方構造を有する強磁性体と、炭素、Ｓｉ
   、炭化水素化合物および有機シリコン化合物からなる群
   から選択される少なくとも一種類の物質とからなる磁性
   層と非磁性基体との間に中間層が設けられていることを
   特徴とする磁気記録媒体。 （１２）面心立方構造を有する強磁性体がＮｉまたはＮ
   ｉ基合金であることを特徴とする請求項１１記載の磁気
   記録媒体。 （１３）Ｎｉ基合金は、Ｎｉ含有量が３０ａｔ％以上で
   あることを特徴とする請求項１２記載の磁気記録媒体。 （１４）炭化水素化合物および有機シリコン化合物はそ
   れぞれポリマーであることを特徴とする請求項１１記載
   の磁気記録媒体。 （１５）磁性層中の炭素原子および／またはＳｉ原子の
   含有率が２ａｔ％以上３０ａｔ％以下の範囲内であるこ
   とを特徴とする請求項１１記載の磁気記録媒体。 （１６）面心立方構造を有する強磁性体のＮｉまたはＮ
   ｉ基合金は針状であることを特徴とする請求項１２記載
   の磁気記録媒体。 （１７）中間層は、磁性層との界面における格子定数が
   、その上に設けられる磁性層内の針状Ｎｉもしくは針状
   Ｎｉ基合金の、中間層との界面における格子定数との差
   が３５％以内である物質からなることを特徴とする請求
   項１１記載の磁気記録媒体。 （１８）中間層はＴｉ、Ｓｃ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｎｉ
   合金、周期率表VIII族の第５、第６周期および周期率表
   I ｂ族の元素からなる群から選択されることを特徴と
   する請求項１１または１７記載の磁気記録媒体。 （１３）少なくとも、 （ａ）面心立方構造を有する強磁性体； （ｂ）該強磁性体の炭化物および／またはシリコン化物
   ；の他に、 （ｃ）アモルファス状カーボンおよび／またはアモルフ
   ァス状シリコン；および／または （ｄ）炭化水素化合物および／または有機シリコン化合
   物； を含有する磁性層を有する磁気記録媒体。 （２０）面心立方構造を有する強磁性体がＮｉまたはＮ
   ｉ基合金である請求項１９記載の磁気記録媒体。 （２１）Ｎｉ基合金は、Ｎｉ含有量が３０ａｔ％以上で
   あることを特徴とする請求項１９記載の磁気記録媒体。 （２２）磁性層中の炭素原子および／またはＳｉ原子の
   含有率が２ａｔ％以上３０ａｔ％以下の範囲内であるこ
   とを特徴とする請求項１９記載の磁気記録媒体。 （２３）少なくとも、 （ａ）面心立方構造を有する強磁性体； （ｂ）該強磁性体の炭化物および／またはシリコン化物
   ；の他に、 （ｃ）アモルファス状カーボンおよび／またはアモルフ
   ァス状シリコン；および／または （ｄ）炭化水素化合物および／または有機シリコン化合
   物； を含有する磁性層と、非磁性基体との間に中間層が設け
   られていることを特徴とする磁気記録媒体。 （２４）面心立方構造を有する強磁性体がＮｉまたはＮ
   ｉ基合金である請求項２３記載の磁気記録媒体。 （２５）Ｎｉは針状である請求項２４記載の磁気記録媒
   体。 （２６）Ｎｉ基合金は、Ｎｉ含有量が３０ａｔ％以上で
   あることを特徴とする請求項２４記載の磁気記録媒体。 （２７）磁性層中の炭素原子および／またはＳｉ原子の
   含有率が２ａｔ％以上３０ａｔ％以下の範囲内であるこ
   とを特徴とする請求項２３記載の磁気記録媒体。 （２８）中間層は、磁性層との界面における格子定数が
   、その上に設けられる磁性層内の針状Ｎｉもしくは針状
   Ｎｉ基合金の、中間層との界面における格子定数との差
   が３５％以内である物質からなることを特徴とする請求
   項２３記載の磁気記録媒体。 （２９）中間層はＴｉ、Ｓｃ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｎｉ
   合金、周期率表VIII族の第５、第６周期および周期率表
   I ｂ族の元素からなる群から選択されることを特徴と
   する請求項２３または２８記載の磁気記録媒体。