JPH02138788A - 印刷配線板用基板の製造法 - Google Patents
印刷配線板用基板の製造法Info
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- JPH02138788A JPH02138788A JP7322389A JP7322389A JPH02138788A JP H02138788 A JPH02138788 A JP H02138788A JP 7322389 A JP7322389 A JP 7322389A JP 7322389 A JP7322389 A JP 7322389A JP H02138788 A JPH02138788 A JP H02138788A
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は印刷配線板用基板の製造法に関する。
従来、電気絶縁材料、構造材料等に用いられているポリ
イミド接着剤としては、N、N’ −(4゜4′−ジフ
ェニルメタン)ビスマレイミドと4゜4′−ジアミノジ
ブエニルメタンからなる予備縮合物が知られている。こ
のポリイミドは、溶液状態では保存安定性が悪く、粉状
で取扱われており、印刷配線板用基板の製造に用いる場
合には一旦溶剤に溶解する必要がある。
イミド接着剤としては、N、N’ −(4゜4′−ジフ
ェニルメタン)ビスマレイミドと4゜4′−ジアミノジ
ブエニルメタンからなる予備縮合物が知られている。こ
のポリイミドは、溶液状態では保存安定性が悪く、粉状
で取扱われており、印刷配線板用基板の製造に用いる場
合には一旦溶剤に溶解する必要がある。
しかしながら上記の予備縮合物自体は、固くて脆いため
流延してフィルムとすることができなかった。従って、
上記予備縮合物のフィルムを用いて印刷配線板用基板を
得ることはできなかった。
流延してフィルムとすることができなかった。従って、
上記予備縮合物のフィルムを用いて印刷配線板用基板を
得ることはできなかった。
本発明は、一般式
〔ただし、式中、Arは、式(a)
又は式(b)
の基を示す〕で表わされる構成単位を有し、式(a)の
基と式(b)の基を後者/前者がモル比でO/100〜
90/10の割合で含むポリイミド(A) 及び一般式 (ただし、式中、mは2以上の整数であり、Rは炭素数
2以上のm価の基である)で表わされるポリマレイミド
(B) をポリイミド(A)に対してポリマレイミド(B)が1
0〜50重量%になるように含む組成物を流延成形して
なる熱硬化性接着フィルムを用いて、基材と銅箔を接着
することを特徴とする印刷配線板用基板の製造法に関す
る。
基と式(b)の基を後者/前者がモル比でO/100〜
90/10の割合で含むポリイミド(A) 及び一般式 (ただし、式中、mは2以上の整数であり、Rは炭素数
2以上のm価の基である)で表わされるポリマレイミド
(B) をポリイミド(A)に対してポリマレイミド(B)が1
0〜50重量%になるように含む組成物を流延成形して
なる熱硬化性接着フィルムを用いて、基材と銅箔を接着
することを特徴とする印刷配線板用基板の製造法に関す
る。
本発明においてポリイミド(A)はクレゾール、フェノ
ール、トルエン等の溶媒中でエチレンビストリメリテー
トニ無水物(以下EBTAと略す)とビス(4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル)スルホン(以下m −A
P P Sと略す)を加熱攪拌することによって得ら
れるが、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド
等の非プロトン性極性溶媒中で室温以下の温度で反応さ
せ、対応するポリアミド酸を合成し、無水酢酸−ピリジ
ン等の脱水剤を用いて脱水閉環させることによって得る
こともできる。
ール、トルエン等の溶媒中でエチレンビストリメリテー
トニ無水物(以下EBTAと略す)とビス(4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル)スルホン(以下m −A
P P Sと略す)を加熱攪拌することによって得ら
れるが、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド
等の非プロトン性極性溶媒中で室温以下の温度で反応さ
せ、対応するポリアミド酸を合成し、無水酢酸−ピリジ
ン等の脱水剤を用いて脱水閉環させることによって得る
こともできる。
上記において、ジアミンとして、m −A P P S
に加えて2,4−ジアミノトルエン(以下、2゜4−D
ATと略す)を併用することができる。
に加えて2,4−ジアミノトルエン(以下、2゜4−D
ATと略す)を併用することができる。
ポリイミド(A)中に、m −A P P Sと2,4
−DATはモル比で後者/前者がO/100〜90/1
0の割合になるように含まれるのが好ましく、2,4.
−DATが90モル%を越えるとポリイミド(A)が固
くなり成膜性が悪くなる。
−DATはモル比で後者/前者がO/100〜90/1
0の割合になるように含まれるのが好ましく、2,4.
−DATが90モル%を越えるとポリイミド(A)が固
くなり成膜性が悪くなる。
本発明に用いることのできるポリマレイミド(B)の具
体例としてはN、N’ −(4,4’ジフエニルメタン
)ビスマレイミド、N、N’(4,4’−ジフェニルオ
キシ)ビスマレイミド、N、N’−p−フェニレンビス
マレイミド、N。
体例としてはN、N’ −(4,4’ジフエニルメタン
)ビスマレイミド、N、N’(4,4’−ジフェニルオ
キシ)ビスマレイミド、N、N’−p−フェニレンビス
マレイミド、N。
N’−m−フェニレンビスマレイミド、N、N’−2,
4,−トリレンビスマレイミド、N、N’2.6−トリ
レンビスマレイミド、N、N’ −エチレンビスマレイ
ミド、N、N’ −へキサメチレンビスマレイミド等、 ゝ−エデ′ 等の構造式で表わされるポリマレイミドがあり。
4,−トリレンビスマレイミド、N、N’2.6−トリ
レンビスマレイミド、N、N’ −エチレンビスマレイ
ミド、N、N’ −へキサメチレンビスマレイミド等、 ゝ−エデ′ 等の構造式で表わされるポリマレイミドがあり。
これらを単独あるいは二種以上混合して用いることがで
きる。
きる。
ポリイミド(A)とポリマレイミド(B)の混合は、ポ
リマレイミド(B)をポリイミド(A)に対して10〜
50重量%で用いるのが好ましい。
リマレイミド(B)をポリイミド(A)に対して10〜
50重量%で用いるのが好ましい。
ポリマレイミド(B)が10重量%より少ないと硬化が
十分でなく50重量%より多いと樹脂組成物がもろく成
形性がなくなる。
十分でなく50重量%より多いと樹脂組成物がもろく成
形性がなくなる。
ポリイミド(A)とポリマレイミド(B)の混合は粉状
で行なってもよいが1通常はジメチルホルムアミドのよ
うな溶剤に溶解したポリイミドワニスにポリマレイミド
を添加溶解することによって行なわれる。
で行なってもよいが1通常はジメチルホルムアミドのよ
うな溶剤に溶解したポリイミドワニスにポリマレイミド
を添加溶解することによって行なわれる。
このようにして得たポリイミドとポリマレイミドとの混
合ワニスをガラス板、ステンレス板等に流延、乾燥する
ことにより接着フィルムを得る。
合ワニスをガラス板、ステンレス板等に流延、乾燥する
ことにより接着フィルムを得る。
乾燥温度と時間は用いる溶剤、ポリマレイミドの種類に
よって異なるが、温度はポリマレイミドの反応が顕著に
なる温度よりも低く保つ必要があり、時間は残存溶剤量
が約1%以下になるようにしなければならない。
よって異なるが、温度はポリマレイミドの反応が顕著に
なる温度よりも低く保つ必要があり、時間は残存溶剤量
が約1%以下になるようにしなければならない。
得られた接着フィルムをアルミ板、ポリイミドのフィル
ム等の基材と銅箔の間にはさんで、軟化点以上の温度で
加熱加圧することによって耐熱性に優れ、良好な引剥し
強さを有する印刷配線板用基板を得ることができる。
ム等の基材と銅箔の間にはさんで、軟化点以上の温度で
加熱加圧することによって耐熱性に優れ、良好な引剥し
強さを有する印刷配線板用基板を得ることができる。
以下実施例によって本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1〜3及び比較例1〜2
EBTA41.Og、m−APP321.6g、2.4
−DAT6.Ig を攪拌機、温度計、窒素ガス導入
管、冷却管を備えた四つロフラスコに入れ、m−クレゾ
ール618g、トルエン108gを添加し、窒素ガスを
流しながら加熱攪拌した。
−DAT6.Ig を攪拌機、温度計、窒素ガス導入
管、冷却管を備えた四つロフラスコに入れ、m−クレゾ
ール618g、トルエン108gを添加し、窒素ガスを
流しながら加熱攪拌した。
150〜160℃で16時間反応させて、樹脂分19.
2%、粘度16Pのポリイミドワニスを得た。このポリ
イミドワニスをアセント中に注いで再沈し、粉砕、洗浄
、乾燥することによってポリイミド粉末を得た。ポリイ
ミド粉末の還元粘度(a度0.1g/di、溶媒N、N
−ジメチルホルムアミド(DMF)、温度30.0℃)
は0.65d l/gであった。得られたポリイミド粉
末100gとN、N’ −(4,4’ −ジフェニルメ
タン)ビスマレイミド(BMI)LogをDMF400
gに溶解してワニスを得た。このワニスをガラス版上に
流延し、130℃10分乾燥した後、剥離LJIに止め
て200℃1時間乾燥して接着フィルムを得た。得られ
た接着フィルムは厚さ25μm、残存溶媒量1%、硬化
点220℃であり。
2%、粘度16Pのポリイミドワニスを得た。このポリ
イミドワニスをアセント中に注いで再沈し、粉砕、洗浄
、乾燥することによってポリイミド粉末を得た。ポリイ
ミド粉末の還元粘度(a度0.1g/di、溶媒N、N
−ジメチルホルムアミド(DMF)、温度30.0℃)
は0.65d l/gであった。得られたポリイミド粉
末100gとN、N’ −(4,4’ −ジフェニルメ
タン)ビスマレイミド(BMI)LogをDMF400
gに溶解してワニスを得た。このワニスをガラス版上に
流延し、130℃10分乾燥した後、剥離LJIに止め
て200℃1時間乾燥して接着フィルムを得た。得られ
た接着フィルムは厚さ25μm、残存溶媒量1%、硬化
点220℃であり。
180°に折曲げても割れず可撓性に優れたものであっ
た。
た。
このほか、BMI量を表1に示すように変更すること以
外は上記と同様にして接着フィルムを得た。
外は上記と同様にして接着フィルムを得た。
これらの接着フィルムの軟化点を表1に示す。
これらの接着フィルムをl+nm厚のアルミ板と35μ
m厚の片面粗化銅箔の間にはさんで50kgf/aJ、
275℃、30分の条件で積層して銅張基板を得た。基
板の特性を表1に示す。
m厚の片面粗化銅箔の間にはさんで50kgf/aJ、
275℃、30分の条件で積層して銅張基板を得た。基
板の特性を表1に示す。
以下余白
表1
軟化点は荷重25kgf/a#、昇温速度10℃/mi
nでペネトレーション法が測定した。
nでペネトレーション法が測定した。
銅箔引剥し強さは続張速度50 rm / minで9
0°C引剥し強さを測定した。
0°C引剥し強さを測定した。
はんだ耐熱性は20mn+角の試験片をはんだ浴上に銅
箔を下側にして浮べた後、ふくれの有無を観察し、ふく
れ無しを○として評価した。
箔を下側にして浮べた後、ふくれの有無を観察し、ふく
れ無しを○として評価した。
実施例4
50μm厚のポリイミドフィルムと35μm厚の片面粗
化銅箔の間に実施例1で得た接着フィルムを1枚はさん
で、275℃、50kgf/ci、30分の条件で積層
しフレキシブル印刷配線板用基板を得た。この基板の9
0’銅箔引剥し強さを引張速度50 rru / mi
nで測定したところ室温で2.7kg f / an、
150℃で2 、3 kg f / anであった。
化銅箔の間に実施例1で得た接着フィルムを1枚はさん
で、275℃、50kgf/ci、30分の条件で積層
しフレキシブル印刷配線板用基板を得た。この基板の9
0’銅箔引剥し強さを引張速度50 rru / mi
nで測定したところ室温で2.7kg f / an、
150℃で2 、3 kg f / anであった。
またこの基板を300℃のはんだ浴に1分間浸漬したが
ふくれは生じなかった。
ふくれは生じなかった。
実施例5
BMI量を30phrとする以外は実施例1と同様にし
て接着フィルムを作製した。50μm厚のポリイミドフ
ィルムの両側にこの接着フィルムと35μm片面粗化銅
箔を重ねて275℃、50kgfkJ、30分の条件で
積層しフレキシブル印刷配線板用基板を得た。
て接着フィルムを作製した。50μm厚のポリイミドフ
ィルムの両側にこの接着フィルムと35μm片面粗化銅
箔を重ねて275℃、50kgfkJ、30分の条件で
積層しフレキシブル印刷配線板用基板を得た。
この基板の90°銅箔引剥し強さは室温で2.3kg
f / cm、150°Cで2 、1 kg f /
cmであり、300℃のはんだ浴に1分間浸漬してもふ
くれは生じなかった。
f / cm、150°Cで2 、1 kg f /
cmであり、300℃のはんだ浴に1分間浸漬してもふ
くれは生じなかった。
実施例6
BMIのかわりにBMI−M(三井東圧化学製ポリマレ
イミド)15gを用いる以外は実施例1と同様にして作
製したフィルム状接着剤を用い実施例5と同様にしてフ
レキシブル印刷配線板用基板を得た。この基板の90°
銅箔引剥し強さは室温で2 、4 kg f / ry
t+、150’Cで1.9kgf/■であり、300℃
のはんだ浴に1分間浸漬してもふくれは生じなかった。
イミド)15gを用いる以外は実施例1と同様にして作
製したフィルム状接着剤を用い実施例5と同様にしてフ
レキシブル印刷配線板用基板を得た。この基板の90°
銅箔引剥し強さは室温で2 、4 kg f / ry
t+、150’Cで1.9kgf/■であり、300℃
のはんだ浴に1分間浸漬してもふくれは生じなかった。
比較例3
本発明に係る接着フィルムのかわりにバイララックス(
デュポン社製アクリル系フィルム状接着剤)を用い、実
施例6と同様の箭成で180℃、30kgf/J、60
分の条件で積層し、フレキシブル印刷配線板用基板を得
た。この基板の90゜銅箔引剥し強さは室温で2.2k
gf/■、150℃で0 、6 kg f / anで
あった。またこの基板を300℃のはんだ浴に1分間浸
漬したところふくれが生じた。
デュポン社製アクリル系フィルム状接着剤)を用い、実
施例6と同様の箭成で180℃、30kgf/J、60
分の条件で積層し、フレキシブル印刷配線板用基板を得
た。この基板の90゜銅箔引剥し強さは室温で2.2k
gf/■、150℃で0 、6 kg f / anで
あった。またこの基板を300℃のはんだ浴に1分間浸
漬したところふくれが生じた。
参考例
N、N’ −(4,4’−ジフェニルメタン)ビスマレ
イミドのかわりにBMI−M(三井東圧化学(株)製ポ
リマレイミド)20gを添加する以外は実施例1と同様
にして接着フィルムを得た。
イミドのかわりにBMI−M(三井東圧化学(株)製ポ
リマレイミド)20gを添加する以外は実施例1と同様
にして接着フィルムを得た。
得られた接着フィルムは厚さ25μm、残存溶媒量1.
1%、軟化点225℃であり、180°に折曲げても割
れず可撓性に優れたものであった。
1%、軟化点225℃であり、180°に折曲げても割
れず可撓性に優れたものであった。
比較参考例
ケルイミド6o1(日本ポリイミド(株)製ポリアミノ
ビスマレイミド樹脂)100gをDMFloogに溶解
したワニスをガラス板上に流延後130℃10分、つい
で170’C20分乾燥したが、もろくてフィルムとな
らなかった。
ビスマレイミド樹脂)100gをDMFloogに溶解
したワニスをガラス板上に流延後130℃10分、つい
で170’C20分乾燥したが、もろくてフィルムとな
らなかった。
本発明によって得られる印刷配線板用基板は、優れた引
剥し強さおよび耐熱性を有する。
剥し強さおよび耐熱性を有する。
Claims (1)
- 1.一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ただし、式中、Arは、式(a) ▲数式、化学式、表等があります▼ (a) 又は式(b) ▲数式、化学式、表等があります▼ (b) の基を示す〕で表わされる構成単位を有し、式(a)の
基と式(b)の基を後者/前者がモル比で0/100〜
90/10の割合で含むポリイミド(A) 及び一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、式中、mは2以上の整数であり、Rは炭素数
2以上のm価の基である)で表わされるポリマレイミド
(B) をポリイミド(A)に対してポリマレイミド(B)が1
0〜50重量%になるように含む組成物を流延成形して
なる熱硬化性接着フィルムを用いて、基材と銅箔を接着
することを特徴とする印刷配線板用基板の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7322389A JPH0671138B2 (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 印刷配線板用基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7322389A JPH0671138B2 (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 印刷配線板用基板の製造法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7732986A Division JPS62235383A (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 熱硬化性接着フイルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02138788A true JPH02138788A (ja) | 1990-05-28 |
JPH0671138B2 JPH0671138B2 (ja) | 1994-09-07 |
Family
ID=13511963
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7322389A Expired - Lifetime JPH0671138B2 (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 印刷配線板用基板の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0671138B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0552984A2 (en) * | 1992-01-22 | 1993-07-28 | Hitachi, Ltd. | Methods of making thin-film wiring boards, thin-film wiring boards made thereby, and adhesive materials |
WO2004045846A1 (ja) * | 2002-11-20 | 2004-06-03 | Tomoegawa Paper Co., Ltd. | フレキシブル金属積層体及び耐熱性接着剤組成物 |
-
1989
- 1989-03-24 JP JP7322389A patent/JPH0671138B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0552984A2 (en) * | 1992-01-22 | 1993-07-28 | Hitachi, Ltd. | Methods of making thin-film wiring boards, thin-film wiring boards made thereby, and adhesive materials |
EP0552984A3 (ja) * | 1992-01-22 | 1994-01-19 | Hitachi Ltd | |
WO2004045846A1 (ja) * | 2002-11-20 | 2004-06-03 | Tomoegawa Paper Co., Ltd. | フレキシブル金属積層体及び耐熱性接着剤組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0671138B2 (ja) | 1994-09-07 |
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