JPH02137249A - 半導体装置 - Google Patents
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- JPH02137249A JPH02137249A JP63292982A JP29298288A JPH02137249A JP H02137249 A JPH02137249 A JP H02137249A JP 63292982 A JP63292982 A JP 63292982A JP 29298288 A JP29298288 A JP 29298288A JP H02137249 A JPH02137249 A JP H02137249A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、放熱効果の大きい半導体装置に関するもの
である。
である。
第5区は従来のこの種表面実装型の半導体装置を示す。
即ち第5図において、1は半導体素子、2は半導体素子
1が載置されるアイランド、3は半導体素子1に金属細
線4を介して接続されるインナーリード、5は半導体素
子1、アイランド2、インナーリード3、および金属細
線4を封止する封止部材である。
1が載置されるアイランド、3は半導体素子1に金属細
線4を介して接続されるインナーリード、5は半導体素
子1、アイランド2、インナーリード3、および金属細
線4を封止する封止部材である。
この従来の半導体装置は以上のように構成されているの
で、半導体素子1から発せられる熱が十分放熱されず、
高発熱半導体素子には適していない構造であった。
で、半導体素子1から発せられる熱が十分放熱されず、
高発熱半導体素子には適していない構造であった。
この発明は、このような従来のものの問題点を解消する
ためになされたもので、高発熱半導体素子に対して放熱
効果を高めることが可能な半導体装置を得ることを目的
とする。
ためになされたもので、高発熱半導体素子に対して放熱
効果を高めることが可能な半導体装置を得ることを目的
とする。
この発明に係る半導体装置は、アイランドに載置された
半導体素子と、この半導体素子に金属細線を介して接続
されるリードと、半導体装置の近傍にこれに所定間隙隔
てて配置された熱伝導体とを一体に封止部材によって封
止したものである。
半導体素子と、この半導体素子に金属細線を介して接続
されるリードと、半導体装置の近傍にこれに所定間隙隔
てて配置された熱伝導体とを一体に封止部材によって封
止したものである。
この発明における半導体装置には、熱伝導体が半導体素
子の近傍に埋設されているので、放熱効果が大きくなる
。
子の近傍に埋設されているので、放熱効果が大きくなる
。
以下第1図〜第4図にもとづいてこの発明の一実施例を
説明する。
説明する。
即ち第1図〜第4図において、6は貫通穴61を有する
リードフレーム、7は封止!材5の内部に配設された熱
伝導体、8はキャビティ内部に支柱81が設けられた成
形用上金型、9はキャビティ内部に支柱91が設けられ
た成形用下金型である。なおその他の構成は第5図に示
す従来のものと同様であるので説明を省略する。
リードフレーム、7は封止!材5の内部に配設された熱
伝導体、8はキャビティ内部に支柱81が設けられた成
形用上金型、9はキャビティ内部に支柱91が設けられ
た成形用下金型である。なおその他の構成は第5図に示
す従来のものと同様であるので説明を省略する。
このように構成されたものでは、まず第4図に示すよう
に成形用下金型9の支柱91の上に熱伝導体7を配置し
、リードフレーム6を成形用下金型9に載置する。
に成形用下金型9の支柱91の上に熱伝導体7を配置し
、リードフレーム6を成形用下金型9に載置する。
次に上金型8を下金型9に合わせる。ここで上金型8の
支柱81がリードフレーム6の貫通穴61を貫通して熱
伝導体7に当接して支持する。しかる後、周知の方法に
よって上下金型間に封止部材を注入し、半導体素子1、
アイランド2、インナーリード3、金属細線4等を封止
する。
支柱81がリードフレーム6の貫通穴61を貫通して熱
伝導体7に当接して支持する。しかる後、周知の方法に
よって上下金型間に封止部材を注入し、半導体素子1、
アイランド2、インナーリード3、金属細線4等を封止
する。
この場合、熱伝導体7は支柱81.91によって位置決
めされ、封止部材を注入しても、位置ずれを起こすこと
がなく、封止部材内部に確実に内蔵されることになる。
めされ、封止部材を注入しても、位置ずれを起こすこと
がなく、封止部材内部に確実に内蔵されることになる。
また、支柱81.91を上下可動式にしておけば、板厚
の異なる熱伝導体7に対しても、あるいは封止材内部に
おける熱伝導体7の位置を変えることに対しても適用で
きる。
の異なる熱伝導体7に対しても、あるいは封止材内部に
おける熱伝導体7の位置を変えることに対しても適用で
きる。
このようにして形成された半導体装置は、封止部材5に
穴51が設けられ、熱伝導体7の一部が穴51に露出さ
れることになり、熱伝導体の放熱効果が増大する。
穴51が設けられ、熱伝導体7の一部が穴51に露出さ
れることになり、熱伝導体の放熱効果が増大する。
上記のようにこの発明による半導体装置は、半導体素子
の近傍に熱伝導体が配置されているので、高発熱半導体
素子に対して放熱効果が大きくなる。
の近傍に熱伝導体が配置されているので、高発熱半導体
素子に対して放熱効果が大きくなる。
第1図〜第4図はこの発明の一実施例を示す図で、第1
図は断面図、 第2図は斜視図、第3図は製造工程を示
す分解斜視図、第4図は製造工程を示す断面図、第5図
は従来のこの種半導体装置を示す断面図である。 図中、1は半導体素子、2はアイランド、3はインナー
リード、4は金属細線、5は封止部材、6はリードフレ
ーム、61は貫通穴、7は熱伝導体、8は成形用上金型
、9は成形用下金型、81.91は支柱である。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
図は断面図、 第2図は斜視図、第3図は製造工程を示
す分解斜視図、第4図は製造工程を示す断面図、第5図
は従来のこの種半導体装置を示す断面図である。 図中、1は半導体素子、2はアイランド、3はインナー
リード、4は金属細線、5は封止部材、6はリードフレ
ーム、61は貫通穴、7は熱伝導体、8は成形用上金型
、9は成形用下金型、81.91は支柱である。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- アイランドと、このアイランドに載置された半導体素子
と、この半導体素子に金属細線を介して接続されるリー
ドと、上記半導体素子の近傍に所定間隙隔てて配置され
た熱伝導体を一体に封止する封止部材を備えた半導体装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63292982A JPH02137249A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63292982A JPH02137249A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02137249A true JPH02137249A (ja) | 1990-05-25 |
Family
ID=17788939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63292982A Pending JPH02137249A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02137249A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0445563A (ja) * | 1990-06-13 | 1992-02-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
WO1993006621A1 (en) * | 1991-09-27 | 1993-04-01 | Vlsi Technology, Inc. | Exposed die-attach heatsink package |
US5384286A (en) * | 1991-08-16 | 1995-01-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Process for encapsulating a semiconductor chip, leadframe and heatsink |
US5891759A (en) * | 1993-12-16 | 1999-04-06 | Seiko Epson Corporation | Method of making a multiple heat sink resin sealing type semiconductor device |
-
1988
- 1988-11-17 JP JP63292982A patent/JPH02137249A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0445563A (ja) * | 1990-06-13 | 1992-02-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2604054B2 (ja) * | 1990-06-13 | 1997-04-23 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US5384286A (en) * | 1991-08-16 | 1995-01-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Process for encapsulating a semiconductor chip, leadframe and heatsink |
WO1993006621A1 (en) * | 1991-09-27 | 1993-04-01 | Vlsi Technology, Inc. | Exposed die-attach heatsink package |
US5891759A (en) * | 1993-12-16 | 1999-04-06 | Seiko Epson Corporation | Method of making a multiple heat sink resin sealing type semiconductor device |
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