JPH02131849A - 円筒研磨装置 - Google Patents

円筒研磨装置

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JPH02131849A
JPH02131849A JP63282559A JP28255988A JPH02131849A JP H02131849 A JPH02131849 A JP H02131849A JP 63282559 A JP63282559 A JP 63282559A JP 28255988 A JP28255988 A JP 28255988A JP H02131849 A JPH02131849 A JP H02131849A
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center
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伊部 宏幸
Takashi Mori
隆 森
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [1上の利用分野》 本発明は、自動芯出し機能をイjする円憤研磨装置に関
する. (従来の技術) 例えば,半導体製造において、半導体ウェーハは.FZ
法又はCZ法によって引き上げられた中結晶インゴット
を軸直角方向に薄くスライスすることによって得られる
か、インゴットはスライス前にその外周を円筒研磨装置
によって研磨され、円柱状に成形される. ところで、インゴットは円筒研磨後に最大直径が得られ
るようにその芯出しかなされるか、斯かる芯出し方法は
既に種々提案されている(例えば、特公昭60−176
82号、同61−33446号公報参照). (発明か解決しようとする課題) しかしながら、従来はインゴットの芯出しは円筒研磨装
ごとは別の芯出し装置によってなされ,このインゴット
は,該芯出し装置によってその両端面に付された研磨中
心が円筒研磨装置の回転中心に一致するように別のセッ
ト装置を用いて研磨装駁にセットされていたため,装こ
の数が増えてこれら装この設置スペースが増すだけでな
く、インゴットの芯出しからセクトに要する作業工数が
増えるという問題があった.又,インゴットの芯出しを
高精度に行なっても、該インゴットは芯出し9置からセ
ット装置を経て円筒研磨装欝にセットされるため、その
間に誤差が不可避的に含まれ、インゴットは芯出し装置
によって算出された研磨中心を芯として高精度に研磨さ
れ得ないという問題がある. 本発明は上記問題に鑑みてなされたものて、その目的と
する処は、ワークの芯出しからセットまでを高精度に行
ない得る円筒研磨装置を提供するにある. (課題を解決するための手段) 上記目的を達成すべく本発明は、ワークの端面に当接し
て該ワークを回転自在に支持する円筒状のクランプ軸と
、該クランブ軸の内部に進退自在に配される調整軸とで
構成される支持部と、ワークの軸方向複数箇所における
断面形状を計測する計i!Il1部と,該計測部にて計
測されたワークの断面形状に基づいて研府中心を算出す
る演算部と、該演算部にて算出された研磨中心とワーク
の回転中心とのズレ量に応じて藺記クランプ軸の少なく
とも一方を回転駆動するクランプ軸回転手段と、前記調
整軸をワークの軸直角方向に移動せしめる調整軸移動手
段とで構成される芯出し部と、クランプ軸の少なくとも
一方をワークの軸方向に移動せしめるクランブ軸移動手
段と、調整軸をワークの軸方向に進退せしめるtlJ整
軸駆動手段とでa威される駆動部を含んで円筒研磨装置
を構成したことを特徴とする. (作用) 前記支持部を構成するクランブ軸にてワークの両端を支
持し、芯出し部のクランプ軸回転手段によってクランブ
軸及びワークを回転させながら計測部にてワークの軸方
向複数箇所における断面形状を計測し、この計測結果に
基づき演算部で例えば公知の最小断面内接求心法によっ
て研磨中心を求める. 上記のように、研磨中心か求められると、ワークを当該
円筒研磨922から取り外さないでそのまま芯出し部に
て研磨中心とワークの回転中心のズレが補正される.即
ち、両中心のズレ量は極座標(r, 0)にて表され、
このズレ量に基づいて先ずワークかクランプ軸に支持さ
れた状態てクランプ軸回転手段によって所定角度0だけ
回転せしめられる.その後、クランプ軸移動手段と調整
軸駆動手段か駆動されてワークの支持がクランプ軸から
yJgl軸に移され、次に調整軸移動手段によって調整
軸がワークの軸直角方向にrだけ移動せしめられると、
この調整軸に支持されたワークも同量だけ同方向へ移動
し、斯くてワークの芯ズレが補正され、その回転中心が
研磨中心に一致せしめられる. そして、上記状態を保ったままクランプ軸移動手段と調
整軸駆動手段を駆動してワークを再びクランプ軸にて支
持すれば,ワークの回転中心か研磨中心に一致した状態
で該ワークの円筒研磨がなされ、ワークにおいては研磨
後に最大直径が得られる. 以上のように本発明はそれ自体が自動芯出し機能を有す
るため、ワークの芯出しからセットまでの作業が能率良
く、高精度に行なわれる.(実施例) 以下に本発明の一実施例を添付図面に基づいて説明する
. 第1図は本発明に係る円筒研磨装この斜視図,第2図は
同装置の縦断側面図、第3図は同装置の作用説明のため
のプロセスチャート,第4図はワークの回転中心と研磨
中心との関係を示す図、第5図乃至第9図は円筒研磨装
置の作用説明図てある. 先ず,第1図及び第2図に基づいて円筒研磨装置lの構
成を説明するに,図中、2は基台3上に水平に設けられ
るベースであって、該ベース2上には主軸台ベース4と
副軸台ベースl4がHK1されている. 上記主軸台ベース4はベース2上に固定されており、副
軸台ベース14はベース2上を長さ方向(図中、左右方
向)に移動可能に設置されている.即ち、ベース2上に
は互いに平行な2本のレール5.5が長さ方向に敷設さ
れており、これらレール5.5上に副軸台ベースl4が
スライダ6・・・を介して摺動自在に載lされている.
そして、この副軸台ベースl4上にはクランプ用シリン
ダ7が設こされており、該クランブ用シリンダ7から延
出するロット7aの先部は前記レール5.5上に設置さ
れた固定ベース8に連結されており,この固定ベース8
は固定ネジ9によってレール5.5上に固定されている
. 又、上記主軸台ベース4、副軸台ベースl4には円筒状
の主軸側クランプ軸10.副軸側クランプ20が各々ベ
アリング11,11,21.21を介して回転自在に支
承されており,これらクランプ軸10.20内には、主
軸台ベース4、副軸台ベースl4上にそれぞれ設置され
たシリンダ12.22から延出する主軸側調整軸l3、
副軸側調整軸23か各々臨んている. 而して、図示状態においては、シリコン単結晶インゴッ
ト等のワークWがその両端面に当接するクランプ軸10
.20によって挟持されているか,前記シリンダ12.
22を駆動すれば、調整軸13.13はワークWの軸方
向に進退動する.ところで、第2図に示すように主軸台
ベース4、副軸台ベースl4上には紙面垂直方向に長い
レール15.25か各々敷設されており、各レール15
.25上には前記シリンダ12.22かそれぞれスライ
タl6、26を介してワークWの軸直角方向(第2l2
lの紙面垂直方向)に摺動自在に設置されている.従っ
て、各シリンダ12.22から延出する前記調整軸13
.23もワークWの軸直角方向に移動可能てある.そし
て、各スライダ16.26側方に突設されたアーム17
.27には主軸台ベース4、副軸台ベースl4に各々設
置された位置決め用モータ18,28から第2図の紙面
垂直方向に延出するボールネジ軸19,29が螺合挿通
している. 更に、主軸台ベース4には別の位置決め用モータ30か
設置されており、該モータ3oの出力軸端にはギャ3l
か結着されており、このギャ3lは主軸側クランプ軸l
Oの一端外周に嵌若されたギャ32に噛合している. 尚、以上説明したクランプ軸10.20及び調整軸13
.23かワークWの支持部を構成し、位置決め用モータ
18,28及び30か芯出し部を構成し、クランプ用シ
リンダ7及びシリンダ12.22か駆動部を構成してい
る. 又,第1図に示すように5該円筒研磨装置lの長さ方向
には左右2本の支柱33.33か立設されており、これ
ら支柱33.33に水モに架設された支持レハー34に
は3つのインシケータ35・・・か位置調整自在に支持
されている.これらインシケータ35・・・はワークW
の軸方向3箇所における断面形状を計測する計測部を構
成している. 更に、当該円筒研磨装ffllは上記計測部にて計測さ
れたワークWの断面形状に基づいて該ワークWの研磨中
心を演算する演算部か設けられるか、この演算部は第1
図に示すようにCPU36、CRT37等を含んて構成
される. 次に,本円筒研磨装置lにおけるワークWのクランブか
ら円筒研磨に至る作用を第3図乃至:jSQ図に基づい
て説明する. 先ず,第5図に示すようにワークWを両クランプ軸10
.20にてクランプしてこれを支持する(第3図のステ
ップl)が、これは第1図及び第2図に示すクランプ用
シリンダ7を駆動して副軸台ベースl4をレール5.5
上でワークW側へ移動せしめることによってなされる.
尚、このとき、両調整軸13.23は第5図に示すよう
にワークWの端面から離れている. 次に、位ご決め用モータ30を駆動すれば,これの回転
はギヤ31.32を経てクランプ軸lOに伝達され、両
クランブ10.20及びこれらクランブ軸10.20に
挟持されたワークWか回転せしめられる.そして、この
ワークWか1回転する間にインジケータ35・・・によ
ってワークWの軸方向3箇所における断面形状か計測さ
れる(第3図のステップ2)か、この断面形状のデータ
は演算部のCPU36に送られ,ここで公知の最小断面
内接求心法算によってワークWの研磨中心が求められる
(第3図のステップ3)とともに、この演算結果かCR
T37に表示される. 上記のように研府中心か求められると,ワークWをち該
円筒研磨装21lから取り外さないてそのまま芯出し部
にて該ワークWの研磨中心と回転中心(クランプ軸10
.20の中心)のズレが補正されるか、この補正は次の
ようにしてなされる.即ち、第4図に示すようにワーク
Wの凹転中心0 (0.0)を原点とする極座標におい
て研磨中心が図示の点P (r,θ)にあるとすると、
先ず、第5図に示すようにワークWをクランブ軸lO、
20にて支持した状態で位置決め用モータ30か駆動さ
れ、ワークWが角θだけ回転せしめられて回転中心Oと
研磨中心Pとのズレのθ方向の補正かなされ(第3図の
ステップ4),研磨中心Pは第4図に示すX座標上の点
P′(r,0)へ移る. 次に、第5図に示す状態から副軸側のシリンダ22が駆
動されて副軸側の調整軸23がワークWに向かって移動
せしめられ、該調整軸23か第6図に示すようにワーク
Wの一方の端面(第6図の右端面)に押圧されると、第
1図及び第2図に示すクランプ用シリンダ7が駆動され
て副軸台ベース14全体がレール5.5上をワークWか
ら離れる方向(第2図の右方向)に移動せしめられる.
このとき,調整軸23はワークWの端而を押圧しており
,第6図に示すように副軸側のクランブ軸20がワーク
Wの端而から離れるため、ワークWの一端はクランプ軸
20によって支持されることとなって副軸側のクランプ
替えかなされる(第3図のステップ5). その後、主軸側のシリンダl2を駆動し、主軸側クラン
ブ軸lOをワークWの端面に当接せしめ,該クランブ軸
10を副軸側クランプ軸20に作用する推力P2よりも
大きな推力Plて抑圧すれば、第7図に示すようにワー
クW及び副軸側クランプ軸20か一体的に右動し,両ク
ランプ軸10.20かワークWの端面から離れ、ワーク
Wの主軸側のクランブ替えがなされ(第3図ステップ6
),該ワークWはその両端を調整軸13.23によって
支持されることとなる. 上記のようにワークWか調整軸13.23によって支持
されると、第1図及び第2図に示す両位置決め用モータ
18,28か駆動されてボールネジ19.29が回転駆
動され,これによって両シリンダ12.22かワークW
の軸直角方向(第2図の紙面垂直方向)に『たけ移動せ
しめられる.すると、両調整軸13.23とこれらに支
持されたワークWが同方向に同聞『たけ移動せしめられ
て中心のズレの『方向の補正がなされ(第3図のステッ
プ7)、第4図に示す点P” (r,O)にあった研磨
中心が回転中心0 (0.0)に一致せしめられる. 以上のように両中心のズレが補正されると,主軸側のシ
リンダl2が駆動されて調整軸l3が後退せしめられ,
ワークWは副軸側の調整軸23に押されて第8図に示す
ように左動し,やがて該ワークWの一端面がクランプ軸
lOに″5接し、調整軸l3がワークWの端而から離れ
た時点でワークWの一端か主軸側のクランプ軸lOに支
持されて主軸側のクランプ付えかなされる(第3図のス
テップ8). 次に、第1図及び第2図に示すクランブ用シリンダ7が
駆動されて副軸台ベース14全体がレール5.5上を図
中、左動せしめられ、副軸側クランプ軸20がワークW
の他端面を押圧する.その後、シリンダ22を駆動して
第9図に示すように副軸側の調整軸23をワークWの端
而から離せば,副軸側のクランプ任えか終了し(第3図
のステウプ9)、ワークWはクランプ軸to,20によ
って再び支持される. 上記のようにワークWをクランプ軸10.20にて支持
した状態て位置決め用モータ30を駆動すれば、ワーク
Wが回転駆動され,ワークWの回転中心が研府中心に一
致した状態で該ワークWの円簡研磨かなされ(第3図の
ステップlO)、ワークWにおいては研府後に最大直径
か得られる.以上説明したように、本発明に係る円筒研
磨装211自体か自動芯出し,セット機能を有するため
、当該円筒研唐装211に一旦ワークWをセットすると
、以後はこれを取り外すことなく芯出しから加工までの
作業を行なうことかでき、能率良く,高精度に研磨加工
を行なうことができる.(発明の効果) 以上の説明て明らかな如く本発明によれば、該円筒研磨
装tはそれ自体が芯出し、セクト機能を有するため、ワ
ークの芯出しから加Tまての作業を渣率良く,且つ高精
度に行なうことがてきるという効果が得られる.
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る円筒研磨装惹の斜視図,第2図は
同装置の縦断側面図,第3図は同装置の作用説明のため
のプロセスチャート、第4図はワークの回転中心と研磨
中心との関係を示す図、第5UA乃〒第9図は円筒研磨
装置の作用説明図である. l・・・円筒研磨装置,7・・・クランプ用シリンダ(
クランプ軸移動千段)、10.20・・・クランプ軸、
12.22・・・シリンダ(調整軸駆動手段)、13.
23・・・調整軸、18.28・・・位置決め用モータ
(調整軸移動手段),30・・・位置決め用モータ(ク
ランプ軸回転手段)、35・・・インジケータ(計測部
)、36・・・CPU (演算部)、W・・・ワーク. 特許出願人   信越半導体株式会社 代理人 弁理士     山  下  亮第3図 第4図 リ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ワークの端面に当接して該ワークを回転自在に支持する
    円筒状のクランプ軸と、該クランプ軸の内部に進退自在
    に配される調整軸とで構成される支持部と、ワークの軸
    方向複数箇所における断面形状を計測する計測部と、該
    計測部にて計測されたワークの断面形状に基づいて研磨
    中心を算出する演算部と、該演算部にて算出された研磨
    中心とワークの回転中心とのズレ量に応じて前記クラン
    プ軸の少なくとも一方を回転駆動するクランプ軸回転手
    段と、前記調整軸をワークの軸直角方向に移動せしめる
    調整軸移動手段とで構成される芯出し部と、クランプ軸
    の少なくとも一方をワークの軸方向に移動せしめるクラ
    ンプ軸移動手段と、調整軸をワークの軸方向に進退せし
    める調整軸駆動手段とで構成される駆動部を含んで構成
    されることを特徴とする円筒研磨装置。
JP63282559A 1988-11-10 1988-11-10 円筒研磨装置 Expired - Lifetime JPH0683957B2 (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63282559A JPH0683957B2 (ja) 1988-11-10 1988-11-10 円筒研磨装置
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EP89311583A EP0368648B1 (en) 1988-11-10 1989-11-09 External cylindrical grinding unit
DE68913431T DE68913431T2 (de) 1988-11-10 1989-11-09 Aussenzylindrische Schleifeinheit.

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JP63282559A JPH0683957B2 (ja) 1988-11-10 1988-11-10 円筒研磨装置

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ID=17654053

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EP (1) EP0368648B1 (ja)
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