JPH02131436A - 棒状化合物の製造方法 - Google Patents

棒状化合物の製造方法

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JPH02131436A
JPH02131436A JP1207041A JP20704189A JPH02131436A JP H02131436 A JPH02131436 A JP H02131436A JP 1207041 A JP1207041 A JP 1207041A JP 20704189 A JP20704189 A JP 20704189A JP H02131436 A JPH02131436 A JP H02131436A
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alkyl
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JP1207041A
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Kenneth Johnson Dr Toyne
ケネス=ジヨンソン・トイン
Michael Dr Hird
マイケル・ハード
Simon Greenfield
シモン・グリーンフイールド
Eike Dr Poetsch
アイケ・ポーチユ
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Merck Patent GmbH
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機ホウ素化合物を用いることによって、下記
の式Iで示される化合物を製造する方法に関す企: R” − (A’ )k− (Z”−^”)m−A1)
m−(E)n−(A2)o−[,?2−^3)P−R2
I [式中、R1およびR2は、相互に独立してそれぞれ、
CNまたはハロゲンであるか、あるいは、それぞれ、1
8個までのC原子をそれぞれ有するアルキル基またはア
ルケニル基であり、この基はCNにより、あるいは少な
くとも1個のハロゲン原子により置換されていてもよく
、そしてこれらの基中に存在する1個のCH2基または
隣接していない2個のC#12基はまた、−O−  −
CO−.−O−CO−および(または> −CO−O−
により置き換えられていることができ、 ^0、^1、^2および^3は、相互に独立してそれぞ
れ、 a)  1.4−シクロヘキシレン基(この基中に存在
する1個のCH2基または隣接していない2個のCH2
基はまた、一〇−および(または)一S−により置き換
えられていてもよく、そして(あるいは)この基は1位
置で13により置換されていることができる》、 b)  1.4−シクロヘキセニレン、ピベリジン−1
.4−ジイルまたは1,4−ビシクロ−[2,2,2 
]オクチレン基、あるいはc)  1.4−フェニレン
基(この基はR3により置換されていてもよく、この基
中に存在するCH基の少なくとも1個はNにより!き換
えられ?いることができる) であり、 EはCR3=CR4またはCHR3−CUR’であり、
R3およびR4は、相互に独立してそれぞれ、トIであ
るか、あるいはC原子1〜6個を有するアルキル、F 
, CI、B『、CF3またはCMであり、lOは単結
合であるか、あるいはC原子1〜4個を有するアルキレ
ンであり、このアルキレン中に存在する1個または2個
のCH2基は−CIl(CN)−、−CH(F)一また
は一CH(Ci))一基により散き換えられていること
ができ、 Z1およびl2は、それぞれ、−CO−0−、−O−C
O−、一C11■CH2−、−CHCN−Ctlz−、
−C}+2−CHCN−、− C H = C H −
−OCI+2−、−CH■0−、−CH=N−、−N=
CH−、−NO=N−,−N=NO−または単結合であ
り、 mおよびpは、それぞれ、0、1または2であり、そし
て n,oおよびkは、それぞれ、Oまたはlである]. 式Iで示される化合物の従来公知の製造方法はいずれも
、不充分な結果を導く方法である.その理由は、中でも
、収率が低いことおよび場合により原料化合物の入手が
困錐であることにある.すなわち、たとえば、EP 0
、119,756によれば、相当する1−アセチル化合
物から式■で示される化合物である1−シアノ−2−フ
ルオロ−4−(トランス−4−ヘプチルシク口ヘキシル
)一ベンゼンを製造する場合、その収率は、理論値の約
1%にすぎない. 米国特許4,405,488に記截されている方法によ
って1−フルオロー2−(トランス−4−アルキルシク
口ヘキシル》化合物を製造する場合においても合成上格
別の費用が必要であり、かつまた目的生成物の収率は全
く不充分なものにすぎない. さらにまた、DE 36 32 410に記載されてい
る方法においては有機亜鉛化合物を、遷移金属触媒を介
して、ハロゲン化合物とカップリングさせることができ
る.しかしながら、この有機亜鉛化合物のカップリング
においては2つの重要な問題を伴なう.第一に、非常に
低温で操作する必要があるか、あるいは超音波を使用す
る必要があるが、これはこれらの化合物を製造するため
のアルカリ金属誘導体が高温でβ一脱離を受ける傾向を
有するからである.従って、これらの方法は安全な反応
容器中で、あるいは非常に少量で行なわざるを得ない.
M二の問題は生成する亜鉛化合物を反応溶液から分離す
ることが非常に困難であるということである.この場合
に、これらの亜鉛化合物は排出液中に達し、環境を汚染
することがある. もう一つの公知の方法はフエニルホウ素酸をパラジウム
ー触媒による交さ一カップリング反応により、塩基の存
在の下で、ハロアレン化合物とカップリングさせる方法
である[たとえば、N.Hiyaura , T.Ya
nagi、^.SuzukiによるSynth.Con
in. 11、 513〜519頁( 1981年)]
.また、アルケニルボラン化合物とアルケニルー、アル
キニルー、アリールー、アリルーおよびペンジルハライ
ド化合物との交さ一カップリング反応が知られている[
たとえば、^.Suzuki等によるTetrahed
ron Lett.  、3437頁(1979)  
; A.Su−zuki等による上記文献、2865頁
(1980) ] .本発明の目的は、前記の方法につ
いて上記した欠点を有せず、また、有していたとしても
、低度に有するのみの、式■で示される化合物の製造方
法を見出すことにある. 本発明者らは、驚くべきことに、有機ホウ素化合物か、
金属触媒の存在の下で、式Iで示される化合物を製造す
るのに格別に適することが見い出した. 従って、本発明は式Iで示される化合物の製造方法に関
するものであり、この方法は式IIR1iA’ )k−
(1” −A”) r@− A1)m−B(Y)2  
    IIE式中1{1、^0、^1、70.Z1、
kおよびmは式Iに係り前記した意味を有し、そしてY
はOHであるか、またはC原子1〜6個をそれぞれ有す
るアルキルまたはO−アルキルであり、あるいはYはc
!l−ar、■または上記意味を有する基R’ − (
A0)i − (Z’−^Jr*−Z〇一であり、ある
いは(Y)2は下記の式a,bまたはぐ a         b              
c(各式中、qは1、2、3または4であり、そしてr
およびSはそれぞれ、2、3、4または5である) で示される基を表わす] で示される有機ホウ素化合物を、金属化合物の存在の下
に、式■ X− ([)n − (A2)o − (Z2−A3)
 p− R2m[式中R2、F..A2、A3、Z2、
n,oおよびρは式■に係り前記した意味を有し、そし
てXはCf!、B『、IまたはOSO2−(CF2> 
q−CF3  (式中、qはO〜10である)である.
たたし、 a)m.o,pおよびkの合計は2、3、4、5または
6であり、 b)  n 十o = Oの場合に、l2は−c++,
−CH2−CHCN−Cl4,−  −C}+2−CH
CN ,−CH=CH−または単結合であり、そして C)  A0、A1、A2およびA3のうちの少なくと
も一つがフッ素またはCNで置換されている1,4フエ
ニレン基である場合に、R2はCNである]で示される
化合物とカッグリングさせる方法である. 従来、既知のC−Cカップリング反応においては、カツ
フ゜リンク位置に隣接するCH基からのβ一脱離が有機
金属化合物の製造中に、あるいはまた、有機金属化合物
それ自体から、副反応として生じ、これが立体的な挙動
および収率に影響を及ぼすことからみて、脂肪族有機ホ
ウ素化合物と芳香族、脂肪族または脂環族のハロゲン化
合物またはスルホネート化合物とのこのような立体運択
的カップリングが生起することは全く驚くべきことであ
った. 本発明による方法は原料化合物として、容易に入手でき
る、式■で示される金属化可能な化合物を使用する二 R” − (A0)k− (Z’−^1)n−A1)m
−X″       ■[式中R1、A0、A1、z0
、kおよびmは式工に係り前記した意味を有し、そして
X゜は容易に分離することができる塩素、臭素、ヨー素
または水素原子であるか、あるいはX゜は金属一エチレ
ン基に容易に変換することができるビニル基である]6 .: h ラ(1) 化合物は、たとえば、lloub
en − IAeyによるHethoden der 
organischen Chenie Geo−rg
−Thieie−出版社、Stutt(lart市、V
olume13/’3aに記載されているような、既知
の方法により、式■で示される相当する有機ホウ素化合
物に変換される.この場合に使用される方法は、好まし
くは、式■で示される金属化可能な化合物中に存在する
官能性基の種類にあわせる.すなわち、たとえば、入手
が困鉗である有機ホウ素化台物の製造は、たとえばBr
own等によりTetrahedron Lett. 
1988、2631頁に記載されている方法でアルカリ
金属誘導体を金属交換させることにより、あるいはSL
IZuki等によりTetra−hedron Let
t. 1986 、6369 〜6372頁に記載され
ている方法で、ジアルキルボラン化合物、たとえば9−
ボラビシク口[3.3.1 ]ノナンを式■において、
X゛がビニル基を表わす相当する化合物に付加すること
により、行なわれる.式■で示される金属化可能な化合
物の反応は、好ましくは不活性忍媒、たとえばジエチル
エーテル、ジメトキシエタン、テトラヒド口フランまた
はジオキサンのようなエーテル、ヘキサン、シクロヘキ
サン、ベンゼンまたはトルエンのような炭化水素、ある
いはこれらの溶媒の混合物中で、金属リチウム、マグネ
シウム片、t−ブチルリチウム、リチウムナフタレニド
または強有機塩基、たとえばリチウムジイソプ口ビルア
ミド、カリウムへキサメチルジシラゾンまたはリチウム
2,2,6.6−テトラメチルピベリジドなどを用いて
行なう. 金属化の完了後に、ホウ素化合物を−50℃〜+50℃
、好ましくは0℃〜+30℃で加える.好適なホウ素化
合物は三塩化ホウ素または三臭化ホウ素のようなホウ素
トリハライド、あるいはトリメチルボラートまたはトリ
イソブロピルボラートのようなトリアルキルボラートで
ある.これらの条件の下に、式■で示される金属化可能
な化合物の、式■で示される有機ホウ素化合物への変換
は通常、約1〜60時間内に終了する. 式■で示されるカップリング成分および適当な金属触媒
を次いで、式■で示される有機ホウ素化合物の溶液に加
えると選択的カップリングが生じ、式■で示される化合
物が生成する.式■で示される有機ホウ素化合物の製造
に係り前記にあげたものと同一の溶媒が上記温度で好ま
しく使用される.必要な反応時間は一般に、約1〜50
時間である. 原料化合物として、式■で示される金属化可能な化合物
および式■で示される化合物を使用する.使用すること
かできるハロゲン化合物は有機ホウ素化合物に変換する
ことができるハライドの全部である.プロマイド化合物
、さらにまたクロライド化合物またはヨーダイド化合物
か好ましく使用される. 下記の式■a〜■1は一群の特に好適な原料化合物を示
すものであり、これらの化合物において、芳香族基はF
,Cβ、CNまたはC■3で置換されていることができ
、そしてシクロヘキシル基はその1位置でF , CI
、CF3、CNまたは自〜C4アルキルにより置換され
ていることができる:R’−Br ■a これらの式において、1《1は好ましくは、C原子1〜
18個を有するアルキル基であり、この基中に存在する
1涸の0112基または隣接していない21[!lのC
H2基はまた、一〇−および(または)一CO−および
(または) −CO−O−により置き換えられているこ
とができる. 式工、式■、式■および式■において、R1およびR2
は、好ましくは、C原子1〜18個、好ましくはC原子
2〜10個を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキルで
あり、従って、好ましくは、エチル、プロビル、ブチル
、ベンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルま
たはデシルであり、あるいはさらにまた、メチル、ウン
デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシルまたはペ
ンタデシルである.イン1口ピル、2ーブチル、インベ
ンチル、l−メチルベンチル、2−メチルベンチル、1
−メチルヘキシルまたは1−メチルへプチルのような分
枝鎖状基もまた、好ましい RlおよびR2は好ましく
は、また、エトキシ、1ロボキシ、ブトキシ、ベントキ
シ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、オクトキシ、ノノキシま
たはデコキシであり、あるいはさらにまた、メトキシ、
ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデコキシまたはペンタ
デコキシであり、あるいはまた、イン1ロボキシ、イソ
ベントキシ、2−プトキシまたはl−メチルベントキシ
である.式■で示される化合物はいずれも、式■で示さ
れる有機ホウ素化合物とのカップリングに使用すること
ができる.好ましくは、ブロマイド(X=Br)を使用
し、さらにまた、夕ロライド( X = CiJ >お
よびパーフルオロアルカンスルホネート( X = 0
502 − (CF2) O− 10 −CHa )を
使用する.中でも、パーフルオロアルカンスルホネート
、トリフルオロメタンー、バーフルオロエタンーおよび
パーフルオロプロパンスルホネートは特に好ましい. 下記の式1[a〜■0は一群の特に好ましい原料化合物
を示すものであり、これらの化合物において、芳香族基
はF,CI,CNまたはCH3で置換されていることが
でき、そしてシクロヘキシル基はその1位置でF , 
IJ)、CF, 、CNまたは一〜C4アルキルにより
置換されていることができる: 8r−R2 1[a 8「0ハロゲン mb a r@CN 11rc B r−C)− R 2 1[[m B rOR 1 1[[e ar(×}Rλ If a r%CH2CI12@−82 mh a r@−CI12 CH2@−n2 IIi Br−CI,CH20−1’l2 Jio これらの式において、R2は好ましくは、C原子1〜1
5個を有するアルキル基であり、この基中に存在する1
個のCH2基または隣接していない2個のCH2基はま
た、一〇−および(または)−CO−および(または>
 −CO−O−により置き換えられていることができる
. 好ましく使用される金属触媒はパラジウムおよび(また
は)ニッケルの化合物である.適当な銘体を形成するこ
とができるリガンドは、たとえば、トリフエニルホスフ
イン、トリトリルホスフィン、トリスー(4−ジメチル
アミノフエニル)−ホスフインまたは1.2−ビスー(
ジフエニルホスフイノ)一エタンあるいは1,1゜一ビ
ス=(ジフエニルホスフイノ)−フエロセンのようなホ
スフインの群、あるいはアセチルアセトンまたはオクタ
フルオロアセチルアセトンのようなジケトンの群に見い
出される.上記金属の塩、たとえばLiPdCtl3 
または相当するニッケル塩を使用することもできる.ビ
スー(トリフエ゛ニルホスフィン》一ニッケルジクロラ
イドのような混合錯体はまた、適当である.本発明の特
に好ましい態様では、触媒として、テトラキス−《トリ
フエニルホスフイン》−パラジウムまたは[1.1゜−
ビス−(ジフエニルホスフィン)フエロセニル]一パラ
ジウムを使用する. 原料化合物として使用される、式■で示されるハロゲン
化合物は既知であるか、あるいは、たとえばtloub
en − WeylによるHethoden der 
Or−ganischen Chen+ie、573巻
および5/4巻に記載されているような既知方法により
製造することができる.従って、たとえば式■において
、X゛がヒドロキシル基である相当するアルコール化合
物は三ハロゲン化リンまたはトリフエニルホスフイン/
′四ハロゲン化炭素により、相当するハライドに変換す
ることができる. カップリング成分として使用される式■で示される化合
物は同様に、既知であるか、または既知の方法により得
られる. たとえば、式■において、Xが8『またはIであり、n
がOであり、そしてQが芳香族基である相当するハライ
ドは、相当するジアゾニウム塩に存在するジアゾニウム
基を8rまたはIにより置き換えることにより得ること
ができる.式■において、XがOSO。−(CFz)q
−CF3である相当するパーフルオロアルキルスルホネ
ート化合物は、式■において、Xがヒドロキシル基であ
る相当するアルコール化合物をパーフルオロアルカンス
ルホン酸またはそれらの反応性誘導体でエステル化する
ことにより製造することができる.相当するバーフルオ
ロアルカンスルホン酸化合物は既知化合物である. 上記にあげたパーフルオロアルカンスルホン酸の適当な
反応性誘導体は、特に、酸ハライド、中でも、夕ロライ
ドおよびブロマイドであり、さらにまた、酸無水物、た
とえばまた、混合酸無水物、アジトまたはエステル、特
にアルキル基中に(Jj子1〜4個を有するアルキルエ
ステルである. 従って、本発明は式工で示される化合物の高収率で、簡
単な、立体選択的製造に対して非常に有利な方法を提供
する. 式Iで示される化合物は、たとえば DE 32 17 597およびDE 26 36 6
84に記載されているような、液晶物質として使用する
のに適しており、あるいは別種の液晶化合物を製造する
ための中間生成物として使用することができる.次例は
本発明を制限することなく、さらに詳細に説明しようと
するものである.l.p.=融点、C=結晶、N=ネマ
テイツク、■=等方性.本明細書の全体を通して、パー
センテージデータは重量によるパーセンテージである. 下記の「慣用の方法で仕上げる」は次の意味を有するも
のとする二弱酸性水およびトルエンで抽出し、有機相を
乾燥させ、蒸発させ、次いでクロマトグラフイにより精
製する. 例  1 工程(i) 3−ベンチルビフエニル−4゜−ホウ素酸の製造 4−プロモー4゛−ベンチルビフエニル(この化合物は
ビフエニルから、ペンタノイルクロライドによるフリー
デルクラフツアシル化、ヒドラジンヒドレートによるH
uang Hinlon還元、digol中の水酸化カ
リウム、次いでクロロホルム中における臭素による臭素
化により得られる)の乾燥テトラヒド口フラン(35−
)中の溶液の数tle ( 0. 033 モAy )
を、マグネシウム片(0. 036モル》とテトラヒド
口フラン( 5 tst )との懸濁液に加える.混合
物を75〜80℃に温め、緩かな還流を生じさせる.反
応が開始した時点で、アリールブロマイド溶液を、緩か
な還流が維持されるような一定の状態の速度で滴下して
加える.反応が完了した時点で、混合物を15゜Cに冷
却させ、次いで窒素雰囲気中で、15℃で、トリメチル
ボラート( 0. 0363モル)に加える.僅かに発
熱性の反応が生じる.反応混合物を室温で16時間、撹
拌する.反応混合物に20%塩酸溶液(5〇一)をゆっ
くり加え、混合物を次いで、分離させる.水性溶液はジ
エチルエーテル(2x50J)で抽出し、集めた有Ia
層を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで
蒸発させ、固形物を得る。
工程(11) 4−シアノー4′−ローペンチルーp一ターフエニルの
製造 工程(i)からの生成物、4−プロモベンゾニトリル(
0.0275モル)、テトラキス(トリフェニルホスフ
イン)パラジウム(0.64g ) 、炭酸ナトリウム
(2モルの32−)、トルエン溶液(64ml!)オよ
びメチル変性7”ル:l  lk<20rpe)を激し
く撹拌しながら、5時間、加熱還流させる.冷却後に、
有機層を分離し、水で洗浄し、硫酸ナ1・リウム上で乾
燥させ、次いで蒸発乾燥させる.粗生成物を短いクロマ
トグラフイ力ラム(15gシリカ)に通し、石油スピリ
ットとジクロ口メタンとの1:1混合物を用いることに
より精製し、次いで酢酸エチルから結晶化させる、C1
30゜ N239″′I. 同様にして、下記の化合物が得られる:4−シアノー4
”−n−プロビルーp一ターフエニル、0182° N
257@1 4−シアノー4”−n−ブチルーp一ターフエニル、C
154゜ N242”1 4−シアノー4”−n−ヘキシルーρ一ターフエニル、
C 125”  8 228”  14−シアノー4”
−n−へプチルーρ一ターフエニル、C134゜ N2
22゜ I 例  2 シスー4−(トランス−4゜−プロピルシクロヘキシル
》−シクロヘキシルブロマイド( 0. 02モル、こ
の化合物は相当するトランスアルコールから、アルコー
ルの臭素化に係り公知の方法により、アセトニトリル中
でトリフェニルホスフイン/′臭素を用いて製造される
)をテトラヒド口フラン50Ilj中のマグネシウム片
(0.022モル)で処理する.反応が完了した後に、
混合物を15℃に冷却させ、次いでトリイングロピルボ
ラート( 0. 022モル)に加える.反応混合物を
室温で20時間撹拌した後に、テトラキス−(トリフエ
ニルホスフィン)一パラジウム(0)0.16gおよび
4−ブロモー2−フルオロベンゾニトリル(0.02モ
ル》を加え、混合物をさらに10時間、還流の下に、撹
拌加熱する.次いで、弱酸性水およびトルエンで抽出し
、有機相をH(IsO4上で乾燥させ、次いで蒸発させ
る。蒸発残留物をシリカゲル上で石油エーテル/′ジエ
チルエーテル(9:l)を用いてクロマトグラフイ処理
し、次いでエタノールから結晶化させ、4−シアノー3
−フルオロ−1−[トランスー4゜−(トランス−4゛
一プロビルシク口ヘキシル)シクロへキシル]ベンゼン
(理論■の54%)を得る、融点二54.3℃および透
明点=203゜C.同様の方法で、シスー4−(トラン
ス−4゛ブチルシク口ヘキシル)一シクロヘキシルブロ
マイド(0.02モル)および4−トリフルオロメタン
スルホニル−2−フルオロベンゾニトリル(0.02モ
ル)から、4−シアノー3−フルオロ1−しトランス−
4’−(トランス−4゛′−ブチルシクロヘキシル)一
シクロへキシル]一ベンゼンが得られる、C/N 67
’   N/1 197.4’同様にして、下記の化合
物を製造することができる[示されている転移温度は結
晶/′ネマテイツク(C/N)およびネマテイツク/′
等方性(N/■)転移に関するものである]. 4−[トランス−4゜一(トランス−4゜゛−アルキル
シク口ヘキシル)一シクロへキシル]一ハロゲノベンゼ
ン化合物 アルキル  Hal H7 C3     F HsCa     F H13C6        Cl C/N (″C)     N/I(’C)87.9 
     158.5 ?9.5       152.1 57.8       173.2 4−[トランス−4’−(トランス−4゛−アルキルシ
クロヘキシル)一シクロへキシルコーアルコキシベンゼ
ン化合物およびーアルキルベンゼン化合物 アルキル H7C3 H9C4 H7 C3 H1 tc S H7 C3 R4 0 C ll3 OCg}{ 1s CH3 C3 H7 C5Hi1 C/N(’C ) 79.5 70.0 64.6 48.6 <20 N/I(’C) 186.3 179.8 181.0 172.0 4−(トランス−4−アルキルシク口ヘキシル)−フエ
ニルーホウ素酸と2−ハロー5−アルキルビリミジンと
のカップリングによる2−[4−(1・ランスー4−ア
ルキルシクロヘキシル)一フエニル]−5−アルキルビ
リミジン化合物4−[トランス−4゜一(トランス−4
′゛−アルキルシク口ヘキシル)一シクロへキシル]一
アリール誘導体 C2H5 C2H5 c285 C3 H7 C3 H7 C3 H7 C5Hr1 csll1s C5H11 C2Hs C3 H, C5H11 C2H5 C3H7 C5H11 C2H5 c3H7 CSHII アルキル C3 H7 C2HS C3 H7 例  3 1−ブロモ−2−(トランス−4−ベンチルシクロヘキ
シル)一エタン(0.02モル)およびマグネシウム(
 0. 02モル)からテトラヒド口フラン40Ilj
中で製造したグリニャール化合物を例1の工程(1)に
記載の方法と同様の方法で、2−(トランス−4−ペン
チルシクロヘキシル)−エチルホウ素酸に変換する.テ
トラヒド口フラン20 m.l!中の4−プロモー2−
フルオロベンゾニトリル(0.02モル)およびテトラ
キスー(トリフエニルホスフイン)一パラジウム(0)
0.25g (0.02モル)を次いで加える.還流の
下で一夜にわたり撹拌した後に、混合物を蒸発させ、残
留物を水およびジエチルエーテルで抽出する.有機相を
乾燥させ、次いで蒸発させ、残留物をシリカゲル上で石
油エーテル/′ジエチルエーテル(9:1)を用いて、
クロマトグラフイ処理する.−20℃で、活性炭を使用
し、メタノールから2回、結晶化させた後に、主留分か
ら1−(4−シアノー3−フルオロフエニル)−2− 
(トランス−4゜−ベンチルシクロヘキシル)一エタン
が得られる.融点=16゜透明点:21゜ 同様にして、下記の化合物を製造することができる: 1−アリールー2−(トランス−4“−アルキルシクロ
ヘキシル)一エタン化合物 アルキルー アリール アルキル  アリール  κ/’N(’C )  N/
I(’C )相当する1−アリールー2−[トランス−
4−アルキルシクロヘキシル)一トランス−4゜゛シク
ロヘキシル]一エタン化合物が相当する[化合物のトリ
イソプロビルボラートによる金属交換によって得られる
二 アルキルoo’ゝアリール アルキル   アリール H7C3@−CHa K/N  (’C) HyC3   6CN 71.5 87C3 {}cs H!C4 @−CN H,C, 〆CN HILC5 {}F }1ucs {}oCH3 N/I  (’C) κ65 575 N191  1 164.2 κ39 S107 N140 1 881 3158 N175.5 1 例  4 トランス−4−(トランス−4゜−ペンチルシクロヘキ
シル)−シクロヘキサンー力ルポニトリル(0.02モ
ル)をテトラヒド口フラン7. 5nJ中に溶解し、こ
の溶液を−75゜〜−65℃で、リチウムジイソプ口ビ
ルアミドの溶液(この溶液はテトラヒド口フラン7.5
nJ中で、ジイソプ口ビルアミン2. 7nJおよびブ
チルリチウムの15%ヘキサン溶液12.5 ijから
製造する)に滴下して加える.添加後に、混合物を引続
いて、さらに30分間撹拌し、次いでテトラヒド口7ラ
ン10IIeに溶解したトリメチルボラート(0.02
2モル)を、さらに撹拌しながら滴下して加える.混合
物を引続いて、50℃で16時間撹拌し、次いでテトラ
ヒド口フラン15 njに溶解した、1.2−ビスジフ
エニルホスフイノエタノニッケルジクロライド5011
1rおよび4−プロモベンゾニトリル( 0. 02モ
ル》を加え、冷却手段を取り除いた後に、混合物を還流
の下に5時間撹拌する.次いで、氷水で分解し、蒸発さ
せ、次いで残留物を水/′石油エーテルで抽出し、石油
エーテル相を乾燥させ、次いで蒸発させ、残留物をシリ
カゲル上で石油エーテル/′ジエチルエーテル(9:l
)を用いてクロマトグラフイ処理する.酢酸エチルから
2回、再結晶させた後に、主留分がらトランス−4−[
トランス−4゜一(プロピルシク口ヘキシル)一シクロ
ヘキシル]一ベンゾニトリルが得られる, NiC12
( (PPhs)zを使用し、その他は同一の条件の下
で、匹敵する収率が得られる. 融点:  113.3゜C、透明点:  135.6℃
、Δε=2.3 同様にして、下記の化合物がトランス−4−(トランス
−4゜−ベンチルシクロヘキシル)一シクロヘキサン力
ルポニトリルのホウ素誘導体から得られる二 H,.CS()−C人歩謬C7H15 HoCsffメひCO2C2N5 融 点℃ 85.1 86.0 透明点℃ 211.2 116.2 −0.3 −6.6 例  5 例2に記載の方法で、シスー4−(トランス−4−ペン
チル》−シクロヘキシル)−1−プロモシクロヘキサン
を4゜−ベンチルビシクロへキシル−4−イルホウ素酸
に変換する.[1.1゜ービスー(ジフエニルホスフィ
ン)フエロセニル]バラジウム(0)(この化合物は[
(ジフエニルホスフィン)フエロセニルコパラジウム−
(If)クロライド0.57gおよびジイソブチルアル
ミニウムヒドリドのトルエン溶液(20%)0.95 
malから製造する》およびテトラヒド口フラン5oI
lj中のトランスー4−《トランス−4−プロビルシク
ロヘキシル)−1−プロモシクロヘキサン(0.02モ
ル)を加え、混合物を10時間、還流の下で撹拌する.
慣用の方法で仕上げ処理し、トランス−4−(トランス
−4−(トランス〜4−プロビルシク口ヘキシル)一シ
クロヘキシル)一シクロヘキシル)−1−ペンチルシク
ロヘキサンを得る. 例  6

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)式 I R^1−(A^0)_k−(Z^1−A^1)_m−Z
    ^0−(E)_n−(A^2)_o−(Z^2−A^3
    )_p−R^2  I [式中、R^1およびR^2は、それぞれ相互に独立し
    て、CNまたはハロゲンであるか、あるいは、18個ま
    でのC原子を有するアルキル基またはアルケニル基であ
    り、これらの基はCNにより、または少なくとも1個の
    ハロゲン原子により置換されていてもよく、そして、こ
    れらの基中に存在する1個のCH_2基または隣接して
    いない2個のCH_2基はまた、−O−、−CO−、−
    O−CO−および(または)−CO−O−により置き換
    えられていてもよく、A^0、A^1、A^2およびA
    ^3は、それぞれ、相互に独立して、 a)1,4−シクロヘキシレン基(この基中に存在する
    1個のCH_2基または隣接していない2個のCH_2
    基はまた、−O−および(または)−S−により置き換
    えられていてもよく、そして(あるいは)この基は1位
    置でR^3により置換されていてもよい)、 b)1,4−シクロヘキセニレン基、ピペリジン−1,
    4−ジイル基または1,4−ビシクロ−[2,2,2]
    オクチレン基、あるいは c)1,4−フェニレン基(この基はR^3により置換
    されていてもよく、そしてこの基中に存在するCH基の
    少なくとも一つはまた、Nにより置き換えられていても
    よい) であり、 EはCR^3=CR^4またはCHR^3−CHR^4
    であり、R^3およびR^4は、それぞれ、相互に独立
    して、Hであるかあるいは、C原子1〜6個を有するア
    ルキル、F、Cl、Br、CF_3またはCNであり、
    Z^0は、単結合であるか、あるいは、C原子1〜4個
    を有するアルキレンであり、このアルキレン中に存在す
    る1個または2個のCH_2基は−CH(CN)−、−
    CH(F)−または−CH(Cl)−基により置き換え
    られていてもよく、 Z^1およびZ^2は、それぞれ、−CO−O−、−O
    −CO−、−CH_2CH_2−、−CHCN−CH_
    2−、−CH_2−CHCN−、−CH=CH−、−O
    CH_2−、−CH_2O−、−CH=N−、−N=C
    H−、−NO=N−、−N=NO−または単結合であり
    、 mおよびpは、それぞれ、0、1または2であり、そし
    て n、oおよびkは、それぞれ、0または1である] で示される化合物の製造方法であつて、式II R^1−(A^0)_k−(Z^1−A^1)_m−Z
    ^0−B(Y)_2 II [式中R^1、A^0、A^1、Z^0、Z^1、kお
    よびmは式 I において記した意味を有し、そしてYは
    OHであるか、あるいは、それぞれC原子1〜6個を有
    するアルキルまたはO−アルキルであるか、Cl、Br
    、Iまたは基R^1−(A^0)_k−(Z^1−A^
    1)_m−Z^0−であり、あるいは(Y)_2は次式
    a、b、cのうちの1つの基を表わす。 ▲数式、化学式、表等があります▼a ▲数式、化学式
    、表等があります▼b ▲数式、化学式、表等がありま
    す▼c (式中、qは1、2、3または4であり、そしてvおよ
    びsは、それぞれ、2、3、4、または5である)] で示される有機ホウ素化合物を、金属化合物の存在の下
    に、式III X−(E)_n−(A^2)_o−(Z^2−A^3)
    _p−R^2 III [式中R^2、E、A^2、A^3、Z^2、n、oお
    よびpは式 I において記した意味を有し、そしてXは
    Cl、Br、IまたはOSO_2−(CF_2)_q−
    CF_3(式中、qは0〜10である)である。ただし
    、 a)m、o、pおよびkの合計は2、3、4、5または
    6であり、 b)n+o=0である場合に、Z^2は、−CH_2−
    CH_2−、CHCN−CH_2−、−CH_2−CH
    CN、−CH=CH−または単結合であり、そして c)A^0、A^1、A^2およびA^3のうちの少な
    くとも一つがフッ素またはCNにより置換されている1
    ,4−フェニレン基である場合に、R^2はCNである
    ] で示される化合物とカップリングさせることを特徴とす
    る製造方法。 2)前記金属化合物として、パラジウムおよび(または
    )ニッケルの化合物を使用することを特徴とする、請求
    項1に記載の方法。 3)式IIで示される有機ホウ素化合物を、式III’ ▲数式、化学式、表等があります▼ III’ (式中、Xは前記の意味を有し、tは0、1または2で
    あり、そしてuおよびvは、それぞれ、0、1または2
    である) で示される化合物とカップリングさせることを特徴とす
    る、請求項1または2に記載の方法。 4)式II1 R^1−(A^0)_k−(Z^1−A^1)_m−Z
    ^0−B(OH)_2 II1 (式中R^1、A^0、A^1、Z^1、Z^0、kお
    よびmは前記の意味を有する) で示される有機ホウ素化合物を、弱塩基の存在の下に、
    式III1 F_3C−S(O)_2−O−(E)_n−(A^2 
    )_o−(Z^2−A^3)_p−R^2 III1 (式中R^2、A^2、A^3、E、Z^2、n、oお
    よびpは前記の意味を有する) で示される化合物とカップリングさせることを特徴とす
    る、請求項1または2に記載の方法。
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