JPH02123370A

JPH02123370A - ポリウレタン電荷ブロッキング層を有する感光性像形成部材

Info

Publication number: JPH02123370A
Application number: JP1250387A
Authority: JP
Inventors: Huoy-Jen Yuh; ヒューオイ　イェン　ユー; Beng S Ong; エスオンベン; W Spiewak John; ジョン　ダブリュー　スピーワク; J Thornton Constance; コンスタンス　ジェイ　ソーントン
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1988-10-03
Filing date: 1989-09-26
Publication date: 1990-05-10
Anticipated expiration: 2012-01-16
Also published as: EP0363078A3; EP0363078B1; DE68922955D1; JP2571284B2; EP0363078A2; DE68922955T2; US4921769A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、一般には像形成部材、より詳細には感光性像
形成部材、特に、幾つかの選択したポリウレタンから成
る電荷ブロッキング層を有する継目なし有機像形成部材
に関するものである。本発明は、一実施例として、支持
基層、導電性接地面層、ポリウレタンから成る電荷ブロ
ッキング層、接着層、光電層、及び電荷移送層で構成し
た像形成部材を提供する。また別の実施例として、正孔
移送層、光電層、接着層、ポリウレタンから成る正孔ブ
ロッキング層、及び導電性支持基層で構成した継目なし
像形成部材を提供する。これらの像形成部材は、電子写
真印刷プロセスや電子写真像形成プロセスにおいて有用
であり、特に、静電式像形成装置において静電潜像を形
成するのに使用することができる。本発明の像形成部材
に関連して、正孔ブロッキング層の主機能は、接地面層
又は導電性基層から光電層への電荷キャリヤの暗注入を
阻止することによって、像形成部材の暗減衰特性を大幅
に減らすことである。

ブロッキング層を有する積層像形成部材として、金属酸
化物又はシロキサンから成るプロ・ｙキング層を有する
積層像形成部材が知られている（米国特許筒４，５６４
，４５０号参照）。

本発明のポリウレタンは、ウレタン塗料と若干似ている
。詳しく述べると、本発明のポリウレタンは、かなり高
い軟質セグメントを含有しているので、ベルト形式の像
形成部材に塗布するのに望ましい柔軟性が得られる。ま
た、本発明のポリウレタン内に軟質セグメントが存在し
ていることは、普通の塗料溶剤、例えば芳香族炭化水素
、テトラヒドロフラン、塩素化炭化水素、等への溶解度
を改善するので、各種の溶剤で、浸漬塗装、吹付は塗装
など、さまざまな塗装技術によって塗装工程を実施でき
る。さらに重要なことは、ポリウレタン構造に軟質セグ
メントが含まれていると、より高い分子量のポリウレタ
ンの合成が容易になるので、機械的に強い、耐久性の大
きいポリウレタンブロッキング層が得られる。また、本
発明のポリウレタンは優れた接着性を示し、接地面層に
対する光電層の接着を改善する。

発明が解決しようとする課題米国特許出願筒１３８，８７１号に開示されている像形
成部材は、その意図した目的には適合しているが、機能
的にさらに優れた電荷ブロッキング層を有する積層感光
性像形成部材が要望されている。

詳しく述べると、接地面層から光電層への電荷キャリヤ
の暗注入を有効に阻止する電荷ブロッキング層が要望さ
れている。また、ベルト形式の有機像形成部材に使用す
ることができる柔軟性のある電荷ブロッキング層が要望
されている。また、電荷ブロッキング層を塗布する際、
塗装性を改善し、そして経済的な吹付は塗装や浸漬塗装
を選択することができるように、いろいろな溶剤に溶け
る有機電荷ブロッキング層材料が要望されている。また
、像形成部材の積層の完全性を改善するため、電荷ブロ
ッキング層を接地面層又は導電性基層に接着する望まし
い接着性をもつ電荷ブロッキング層を提供することが要
望されている。

本発明の目的は、上に述べた多くの利点を有する改良型
感光性像形成部材を提供することである。

課題を解決するための手段本発明の上記及び他の目的は、電荷ブロッキング層とし
て、ある種のポリウレタンを組み入れた感光性像形成部
材を提供することで達成される。

詳しく述べると、本発明は、第１の実施例として、次の
化学式のポリウレタンを電荷ブロッキング層として組み
入れた感光性像形成部材を提供する。

ここで、＾はジメチレンアルキル基など三価の基又はト
リエチレンアミン、八′はアルキレン、アリール、ポリ
エーテルのセグメントなど二価の基、それらの誘導体、
Ｒはアルキレン、アリーレン、それらの誘導体から成る
グループから選ばれる。

Ｘとｙは数モル分率であり、それらの和は１に等しい、
詳しくは、Ｘとｙはモル分率の数（約０．０５〜０．９
５＞である。上記のポリウレタンとその製法は、米国特
許出願第１５０，８７１号に記載されている。

電荷ブロッキング層として選んだポリウレタンの例は、
次の化学式ｒ、ｎ、ｍで表されるものである。

Ｑ＝（ここで、＾は三価の基、Ｒはアルキレン、アリレンなど
二価の基、置換アルキレン、又はメチレン、ジメチレン
、トリメチレン、テトラメチレン、フェニレン、トリレ
ンなど置換アリレン基、Ｒ′はアルキル、又は置換アル
キル置換基、アリール又は置換アリール置換基、Ｘとｙ
は数モル分率（約０．０５〜０．９５で、それらの和は
１．０に等しい）、ｍとｎは１〜２０の正の整数である
。アルキル置換基の例は、約１〜２５個の炭素原子を有
するアルキル置換基、例えばメチル、エチル、プロピル
、ブチル、ペンチル、ドデシル、等である。他方アリー
ル置換基の例は、約６〜２４個の炭素原子を有するアリ
ール置換基、例えばフェニルとナフチルである。

特に、本発明の像形成部材用に選んだポリウレタンの例
を、第１図〜第１０図に化学式で示す。

ｘ、ｙなど置換基は、前に定義した通りである。

本発明の像形成部材用のポリウレタンは反応図解１に従
って合成することができる。すなわち、ジヒドロキシ機
能化単量体（１ａ）と、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、オクタンジオールなどのジオール＜２）
と、若干多いジイソシアネート（３）を、不活性反応溶
媒の中で、通常は１００’Ｃ以下（５０〜８５°Ｃが好
ましい）で反応させて合成する。一般に、第三アミン、
ジブチル錫ジアセテート又はジブチル錫ジラウレートな
と適当な触媒を使用して重合速度を高めることができる
。

反応図解１ＸＨＯ−Ａ−ＯＨｙ　ＨＯ−Ａ’−０Ｈ（ｘ　＋　ｙ）　ＯＣＮ　−Ｒ−ＮＣＯここで、＾、八
′、ｘ、ｙ、及びＲは、前に定義した通りである。

上の重合反応に適した溶媒の例は、酢酸エチル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルアセトアミド、及びジメチルホルムアミドである
。また、上の重合反応は、般に、試薬の性質と反応条件
に応じて約２〜２４時間行われる。

コポリウレタンを製造するとき選択できるジイソシアネ
ートの例は、メタンジイソシアネート、１．２−エタン
ジイソシアネート、１．３−プロパンジイソシアネート
、１，６−ヘキサンジイソシアネート、１．４−シクロ
ヘキサンジイソシアネート、１，４−ジメチレンシクロ
ヘキサンジイソシアネート、ベンゼンジイソシアネート
、トルエンジインシアネート、メチレン−ビス（４−フ
ェニルイソシアネート）、等である。

ポリウレタンを製造するとき選択できるジヒドロキシ機
能化単量体（１ａ）の具体例を、以下に挙げる。

２．２−ビス（ヒドロシキメチル）ブチル９−ジシアノ
メチレンフルオロレンカルボキシレート；３．５ジヒドロシキフェニル９−ジシアノメチレンフルオロレン−４カルボキシレート；＼ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ２−［ビス（２−ヒドロシキメチル）アミノコエチル９
−ジシアノメチレンフルオロレン−４−カルボキシレー
ト；３−ヒドロキシ−２−二トロー２−ヒドロキシメチルプ
ロピル９−ジシアノメチレンフルオロレン−４−カルポ
キシレー１〜；２．３ジヒドロシキプメビル９−ジシアノメチレンフルオロレンカルボキシレート；２−［ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ」エチルジシアノメチレンフルオロレンー４−カルボキシレート
；ｃｏ２　ｃｈ２　ｃ　−ＣＨ３ＣＨ２０）（２，２−ビス（ヒドロキシエチル）プロピル９−ジシア
ノメチレンフルオロレン−４−カルボキシレート特定の
プロセスに従って合成された上記のポリウレタンは、分
光分析法、ＧＰＣ１蒸気圧浸透圧法、等を含む、各種の
分析技術によって特性を決定することができる。ポリウ
レタンは、本発明の目的を達成する厚さで、像形成部材
に塗布することができる。一般に、ポリウレタン層の厚
さは約０．０１〜２ミクロンで、好ましい厚さは約０．
１〜２ミクロンである。

実施例第１１［Ｊは、アルミニウムなど自由に選べる支持基層
１、厚さ約０．１〜１５０ミクロンのポリフッ化ビニル
、ポリエステルなど適当な結合剤に分散したカーボンブ
ラック又は沃化銀の接地面Ｍ３、厚さ約０．００１〜２
５ミクロン（０，１〜３ミクロンが好ましい）の電荷ブ
ロッキング層５、厚さ約０．００１〜０．５ミクロンの
自由に選べる接着層６、厚さ約０．１〜２ミクロンの光
電層７、及び不活性樹脂状結合剤１１内に分散した厚さ
約５〜５０ミクロンの電荷移送層９で構成される本発明
の感光性像形成部材を示す。

第１２図は、高分子材料の基層１５、厚さ約０．０５ミ
クロンの沃化銀の接地面層１７．２．２−ビス（ヒドロ
シキエチル）ブチル９−ジシアノミチメンフルオレンー
４−カルポジキレートとトルエンイソシアネートを有す
る　し−ブチルビス（２−ヒドロシキエチル）アミンの
重縮合から誘導した厚さ０．３ミクロンのポリウレタン
（第３図）から成る電荷ブロッキング層１９、Ｇｏｏｄ
ｙｅａｒ　Ｃｈｅｍｉｃａ１社から入手できるＰＥ４９
０００、フェノキシ樹脂、シリコンポリマービニルポリ
マーなどのポリエステルから成る厚さ約０．０５ミクロ
ンの接着層２０、厚さ約０．８ミクロンの三方晶系セレ
ンから成る光電層２１、及び厚さ３０ミクロンの不活性
樹脂状結合剤２５内に分散したＮ、Ｎ’−ジフェニル−
Ｎ、Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）１．１’−ビフ
ェニル−４，４′−ジアミンなどのジアミン２４から成
るアリールアミン正孔移送層２３で構成される本発明の
感光性像形成部材を示す。

次に第１１図と第１２図を参照して、感光性像形成部材
について詳細に説明する。支持基層は、必要な機械的性
質を有する適当な任意の材料で作ることができる。した
がって、厚さ約５〜５，０００ミクロンの基層は、通常
、市販されているマイラーポリエステル、ポリウレタン
、ポリアミドなど高分子材料の層で作ることができる。

基層は、軟質でも、硬質でもよく、板、円筒形ドラム、
スクロール、エンドレス可視ベルトなど、多くの異なる
形態をとることができる。好ましい基層の形態は、可撓
性のエンドレスベルトか、剛体のドラムである。

本発明の像形成部材（第１１図及び第１２図）の光導電
性層すなわち光電層は、通常、厚さ約５〜３５ミクロン
の既知の光導電性物質、例えば非晶質セレン、非晶質セ
レン合金、ハロゲンをドープした非晶質セレン、ハロゲ
ンをドープした非晶質セレン合金、三方晶系セレン、三
方晶系セレンを有するセレン化物と炭酸塩（米国特許筒
４，２３２，１０２号と同第４，２３３，２８３号参照
）；硫化カドミウム、セレン化カドミウム、テルル化カ
ドミウム、セレン化硫黄カドミウム、テルル化硫黄カド
ミウム、テルル化セレンカドミウム、塩素をドープした
硫化カドミウムと銅、等で作ることができる。本発明の
範囲に包含されるセレン合金としては、セレンテルル合
金、セレンヒ素合金、セレンテルル合金合金があり、約
７０〜９９゜５％（重量）のセレンと、約５０〜２００
　ｐｐｍの量の任意のハロゲン物質、例えば塩素を含む
合金が好ましい。また、この光電層は、米国特許筒４，
２６５，９９０号に記載されている金属フタロシアニン
や無金属フタロシアニン、米国特許筒３，８１６，１１
８号に開示されているその他のフタロシアニン、バナジ
ルフタロシアニン、スクアライン、ペリレン、等で作る
こともできる。

既知の接地面層の例としては、アルミニウム、クロム、
ニッケル、黄銅、沃化銀などの無機材料、アルミニウム
被覆マイラーなどの導電性高分子材料、又はカーボンブ
ラック含浸高分子フィルムがある。

正孔移送層は、その組成物質が正孔を移送することがで
きれば、いろいろな配合物を選ぶことができる。この正
孔移送層の厚さは、一般に、約５〜５０ミクロン（約２
０〜４０ミクロンが好ましい）である。正孔移送層は、
例えば米国特許筒４，６５２゜１３２号に記載されてい
るように、ポリカーボネートなどの高絶縁性透明有機樹
脂材料に分散した次の化学式のアリールアミン分子から
成っている。

ここで、Ｘはアルキルとハロゲン（メチルと塩素が好ま
しい）から成る基から選ばれる。電荷移送層は、使用を
意図するスペクトル領域において実質上光を吸収しない
が、すなわち光を透過するが、光電層から生じた正孔の
注入を許すという点で活性である。また、上記の樹脂は
、約１０〜７５％（重量）の上記化学式に相当する置換
Ｎ、Ｎ、Ｎ”、Ｎ’−テトラフェニルベンジジンを含む
と電気的に活性になる。この化学式に相当する化合物と
しては、例えばＮ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス
−（アルキルフェニル）ベンジジンがある。アルキルは
、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、Ｎ、
Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−メチルフェニ
ル）ベンジジン；Ｎ、Ｎ”−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビ
ス（３−メチルフェニル）１．１′−ビフェニル−４，
４′−ジアミン；等から成るグループから選ばれる。ハ
ロゲン置換すれば、化合物は、Ｎ、Ｎ”−ジフェニル−
Ｎ、Ｎ’−ビス（ハロフェニル）ベンジジンである。

電気的に不活性樹脂に分散させて正孔を移送する層を作
ることができるその他の電気的活性小分子としては、ト
リフェニルアミン、ビス−（４−ジエチルアミノ−２−
メチルフェニル）フェニルメタン、及びビス−（４−ジ
エチルアミノフェニル）フェニルメタンがある。

発明の効果本発明の像形成部材は、優秀な解像度を有する像を形成
できることと、２００，０００回を越える非常に多くの
像形成サイクルを行っても背景領域にトナーが堆積しな
いことを含む幾つかの利点を備えている。さらに、感光
性部材、特にカーボンブラック含浸透明接地面層を有す
る継目なし感光性部材を、ポリウレタン接地面層の後方
から照射てきるので、光導電性ベルトルーズの内側に消
去ランプを組み入れることができるなどの構造上の幾つ
かの利点が得られる。さらに、ポリウレタン接着層に結
合して電荷ブロッキング層を付加したことにより、像形
成部材の受容電位が改善されると同時に、暗導電率が有
効に減少した結果、背景領域のトナーの堆積が極めて少
ないか又は無い状態で、望ましいコントラスト電位を容
易に実現することができる。また接着層の存在は、湿度
や温度の変化など、環境の変化に対する像形成部材の耐
久性を強化する。湿度や温度の変化は、一般に感光性像
形成部材の電気的性能に悪い影響を与え、暗導電率や残
留電圧が高くなる原因となる。これらの望ましくない電
気的影響で、通例、像のぼやけなど、コピーの品質が低
下する。また、像形成部材が湿度や温度に対し過敏であ
れば、コピーの品質が環境条件に左右されることになる
。

本発明に関連して、像形成部材の上に静電潜像を形成し
、その潜像を、スチレン重合体などの樹脂粒子、カーホ
ンフラッフなどの顔料粒子、セチル塩化ピリジニウムな
どの電荷増強剤、コロイド状シリカや金属塩などの外部
添加剤及びステアリン酸亜鉛を含む脂肪酸の金属塩から
成る配合現像剤（例えば、米国特許筒４　、２９８　、
６７２号、同第４．３３８３９０号、同第４，５６０，
６３５号、同第３，５９０，０００号、同第３，９００
，５８８号、同第３　、９８３　、０４５号、及び米国
特許出願第１３６，７９２号、同第１３６，７９１号参
照）を用いて現像し、現像した像を適当な支持体例えは
コピー用紙へ転写した後、加熱その他の工程で用紙へ永
久的に定着する像形成／印刷プロセスがある。

ｆｉ２．１　ｋｇのトリエチロルプロパン、１７３ｇのフル
オレノン−４−カルボン酸、及び８　ｍｌの硫酸の混合
物を機械的に撹拌し、５！フラスコの中で１００°Ｃで
５時間加熱した。この混合物を約８°Ｃまで冷却し、１
１のメタノールを追加した。次に、得られた溶液を、１
７！の３％重炭酸ナトリウム水溶液に連続撹拌しながら
ゆっくり注いだ。得られた粗生成物を濾過し、水で数回
洗浄し、乾燥させた。酢酸エチルからの再結晶で精製し
て、融点が１３４〜１３５．５°Ｃの純粋な２．２−ビ
ス（ヒドロシキメチルブチル）フルオレノン−４−カル
ポジキレートを１８７ｇ得た。

２．３１の純メタノールの中に、２４０　［？の上記の
エステル、９３　ｇのマロノニトリル、及び５　ｍｌの
とベリジンを含む溶液を、窒素雰囲気の中で５時間、還
流加熱した。反応後、混合物を約５０°Ｃまで冷却し、
固形生成物を濾過した。得られた化学式（ａ）の生成物
をメタノールで２回洗浄し、真空内で、１００°Ｃで乾
燥させて、融点が　２０８〜２０９°Ｃの純粋な（ａ）
を２２９ｇ得た。

Ｃ２１１１１２０４の分析計算：Ｃ，７１，１２、Ｈ，５，１９・Ｎ、７．１２実
測：　　　　　　　　Ｃ，７１，２３、＋（，５，２１
・Ｎ　７．１３ＩＲ（ＫＢｒ）　、ｃ＋ｎ−１：　　　
　３４２０　・２２３０　・１７３０゜ｉｌｌ　ＨＭＲ
（ＤＭＳＯ−ｄ６）　。

ｐｐ＋ｎ　；　　　　　　　　０．８５（ｔ、３Ｈ）　
：１．４（ｑ、２Ｈ）　’３．４（ｄ、４８）　；４．
３（ｓ、２Ｈ）　；４．４（ｔ、２Ｈ）；７．４〜８．
６（ｍ、７Ｈ）。

３００ｍ１２のジクロロメタンの中に３０．０　ｇのフ
ロログルシノールと、７０ｍ１のピリジンを含む溶液を
、窒素雰囲気の中で室温で撹拌した。続いてその溶液に
、４００ｍｊ！のジクロロメタンの中に８．Ｏｇの（４
−クロロホルミル−９−フルオレノンデン）マロンニト
リル）を含む溶液を１時間にわたって追加した、追加後
、反応混合物をさらに１時間撹拌した。混合物を、希釈
水性１１Ｃ１溶液で３回、希釈水性ＮａＨＣＯ３溶液で
２回、水で１回洗浄した。

溶液を乾燥させ、濾過し、減圧蒸発させて粗生成物を得
た。メタノールからの再結晶により、融点が２５５．５
〜２５７°Ｃの（ｂ）を６，１ｇを得た。

Ｃ２：１Ｈ１２０４の分析計算；実測：ＩＲ（ＫＢｒ）　、ａｍ−１：ＩＨＭＭＲ（アセトン−ｄ６）ｐｐｍ　；　　　　　　　　　３．２５（ｂｒ　ｓ、２
ｔｌ）　；６．８（ｓ、３Ｈ）７．６〜９．０（＋＋＋
、７Ｈ）。

Ｃ７２，６３・ＩＩ　　３．１８・Ｎ　　７．３７Ｃ，
７２，４１、１１，３，１２、Ｎ、７．１７３．４１０
　、２，２３０　、１，７３０゜３５０　ｍｌの乾燥ジ
クロロメタンの中に１００．０　ｇのトリエタノールア
ミンと５８　ｍｌの乾燥とリジンを含む溶液を、窒素雰
囲気の中で室温で撹拌した。その後、その溶液に、４０
０　ｍｌの乾燥ジクロロメタンの中に８．０ｇの（４−
クロロホルミル−９フルオレニリデン）マロノニトリル
〉を含む溶液を、１時間にわたって追加した、追加後、
反応混合物をさらに１時間撹拌した。混合物を水で数回
洗浄して過剰なアミンと対応する塩酸塩を除去し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過した。ｒ液を蒸発さ
せて、５Ｆｉの粗生成物を得た。イン１０パノールから
の再結晶による精製で、融点が１５５．５〜１５６．５
’Ｃの純粋な（ｃ）を４．５ｇ得た。

Ｃ２，Ｈ，２０，の分析計算：　　　　　　　　Ｃ，６８，４８、Ｈ，５，２５
、Ｎ、１０．４２実測：Ｃ，６８，３１、Ｈ，５，３３
、Ｎ、１０．３５ＩＲ（ＫＢｒ）　、ａｍ−１：　　　
　　３，３６０　；　２，２２５　；　１，７３０゜１
１Ｉ　ＭＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）。

ｐｐｍ；　　　　　　　　　　　２．６（ｔ　、４！Ｉ
）　；２．８（ｔ、２ｔｌ）　；３．２５（ｂｒ　ｓ、
２Ｈ）；３．４（ｔ、４Ｈ）；４．４（ｔ、２８）　；
７．４〜８．６（ｍ、７Ｈ）　、　。

０．０３０モルのジオール単量体（ａ）、０．０３０モ
ルのジエチレングリコール、０．０６３モルのトルエン
ジイソシアネート（２，４−ジイソシアネートと２．６
−ジイソシアネートの混合物）、及び０．０５　ｇのジ
ブチル錫シラ゛ウレートを、１００ｍＮの乾燥ジメチル
スルホキシドに溶解した。混合物を不活性雰囲気の下で
７１〜７５°Ｃで４時間加熱し、その後、５ｍｌのエタ
ノールを加えた。次に、反応混合物をさらに１時間加熱
した後、室温まで冷却させた。

この混合物を、３βの撹拌中のメタノールにゆっくり注
いで、得られたポリウレタンを沈でんさせた。ポリウレ
タン生成物を濾過し、５００　ｍｌのメタノールで２回
洗浄した。真空内で、６５°Ｃで２４時間乾燥させた後
、第１図に表した化学式を有するコポリウレタンの収率
は８６％、ＤＰ（重合度）は１０３、Ｔｇは１２１°Ｃ
（中点）、ＩＲ（ＫＢｒ）は１，７２９　。

２．２２０　ａｍ−１であった。

０．０３６モルのジオール単量体（ａ）、０．０２４モ
ルのジエチレングリコール、０．０６３モルのジイソシ
アン酸トルエンを使用し、そして反応を６時間実施した
ことを除いて、実例■の手順に従って、第１図のコポリ
ウレタンを製造した。

コポリウレタンの収率は８８％、ＤＰは１０３、Ｔｇは
１３４°Ｃ、ＩＲ（ＫＢｒ）は１，７３０　；　２，２
２１　ｃｍ−１であった。

０．１５０モルのジオール単量体（、）、０．１５０モ
ルのし一ブチルビス（２−ヒドロシキエチルアミン）、
０．３１６モルのトリレンジイソシアネート、及びｏ、
ｚ　ｇのジブチル錫ジラウレートを、７００ｍｆの乾燥
ジメチルスルホキシドに溶解した。混合物を窒素雰囲気
の下で７０〜７５°Ｃで１０時間加熱した。

続いて、１０ｍ１の無水エタノールを添加し、反応をさ
らに１時間同じ温度で継続した。室温まで冷却させた後
、反応混合物を、５１のメタノールに撹拌しながらゆっ
くり注ぎ、得られたポリウレタン生成物を沈でんさせた
。沈でん物を濾過し、メタノールで洗浄し、真空内で、
６０°Ｃで、２４時間乾燥させた。コポリウレタンの収
率は９１％、ＤＰは１２１、Ｔｇは１３４°Ｃ−ＩＲ（
ＫＢｒ）は１，７３０゜２．２２２　ａｍ−１であった
。

０．０３０モルのジオール単量体（ａ）、０．０３０モ
ルの１．８−オクタンジオール、０．０６３モルのトル
エンジイソシアネート、及び０．０５　ｇのジブチル錫
ジラウレートの混合物を用いて、実例■の手順に従って
コポリウレタンを合成した。コポリウレタンの収率は８
４％、ＤＰは９９、Ｔｇは１１８°Ｃ、ＩＲ（ＫＢｒ）
は１，７３０　；　２，２２２　ｃｍ−１であった。

火徊二１単量体（ｃ）、１，５−ベンタンジオール、トルエンジ
イソシアネートを使用し、反応を乾燥ジメチルホルムア
ミドの中で行わせたことを除いて、実例■の手順に従っ
てコポリウレタンを合成しな。コポリウレタンの収率は
９２％、ＤＰは１０３、Ｔｇは１０７″Ｃ、ＩＲ（ＫＢ
ｒ）は１，７３０　；　２，２２２　ａｍ−１であった
。

０．０４２モルのジオール単量体（ｂ）、０．０１８モ
ルのｔ−ブチルビス（２−ヒドロキシエチル）アミン、
０．０６３モルの１．４−ベンゼンジイソシアネート、
及び０．０５　ｇのジブチル錫ジラウレートの混合物を
用いて、実例Ｖの手順に従ってコポリウレタンを合成し
た。反応は、乾燥したテトラヒドロフランの中で行わせ
た。コポリウレタンの収率は８７％、ＤＰは８９、Ｔｇ
は１３８°Ｃ１ＩＲ（ＫＢｒ）は１７３０　２２２２ｃ
ｍ−１であった。

火倒−＼以下述べるやり方で２つの実質上同一の感光性像形成部
材を作った。第１の像形成部材は、第１１図に示した構
成の６層構造であり、第２の像形成部材は、制御層とし
て機能するポリウレタンブロッキング層を持たない５層
構造である。

市販の沃化第一銅から成る導電性接地面層は、以下のよ
うにして作った。２．３ｇの超純度の沃化第一銅を１０
０　ｍｌのブチロニトリルの中で４〜１６時間撹拌し、
続いて多孔率０．４ミクロンのフィルタで濾過して、ブ
チロニトリル内に飽和した沃化第一銅溶液を作った。引
き棒（Ｄｒａｗｂａｒ）技術を用い、６ミルの棒間隔で
、透明な炉液をマイラー基板の上に塗布した。続いて、
接地面膜を対流型オーブンの中で１００°Ｃで、１０分
間乾燥させた。

膜の乾煤厚さは、約０．５ミクロンであった。

上に述べた引き棒技術を用いて、上の４つの層（第１１
図）を該当する溶液から塗布した。最も上の電荷移送層
を除いて、次の層を塗布する前に、各層を１時間乾燥さ
せた。厚さ０．２５ミクロンのブロッキング層は、１０
　ｍｌのテトラヒドロフランの中に０．１５　ｇのコポ
リウレタン（第１図）を含む溶液から、０．５ミルの棒
間隔を用いて塗布した。

このブロッキング層の上に、２０　ｍｆｌのイソブタノ
ールと２ｍｌのイソプロパツールの中に、０．１２　ｇ
のＲｅ１ｌｌｅｎ　４２００　　（ポリビニルピリジン
）を含む溶液から得た厚さ０．０６ミクロンの接着層を
重ねて塗布した。厚さ約１ミクロンの三方晶系セレンの
光電層は、テトラヒドロフランとトルエンの混合物の中
に、三方晶系セレンを２８．５、Ｎ、Ｎ’−ジフェニル
−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−ベンジジン
を１６、ポリ（ビニルカルバゾル割合で含む分散液を塗布して作った。厚さ２５ミクロン
の最も上の電荷移送層は、塩化メチレンの中にＮ，Ｎ′
−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）
ベンジジンを４０　、、Ｍａｋｒｏｌｏｎポリカーボネ
ートを６０の割合で含む溶液から作った。電荷移送層の
皮膜を５０’Ｃで３０分間乾燥させた後、１１０。

Ｃでさらに１０分間乾燥させた。

２つの像形成部材、すなわちポリウレタンブロッキング
層を有する像形成部材と、有しない像形成部材を、コロ
トロンで負に帯電させた後、タングステン白色光で露光
して放電させることによって電気的試験を実施した。遮
へいしたシリンダに入っているワイヤループプローブを
像形成部材の表面に直装置いて、これらの像形成部材の
帯電後の受容電位と、白色光に対する露光後の残留電位
を測定した。シリンダは接地し、ワイヤループは、像形
成部材の表面電位に容量結合した。次表は、像形成部材
の電気的性能を要約したもので、ブロッキング層により
電荷注入が有効に阻止されることを示す。

実例ＸＩ基本的には実例Ｘの手順を繰り返して、接地面として導
電性基層を用いｆＳ５層構造の感光性像形成部材を作っ
た。

導電性基層は、Ｅ、１．Ｄｕｐｏｎｔ社がら入手できる
厚さ３ミルのカーボンブラック含浸熱可塑性プラスチッ
クシートである。熱可塑性プラスチックは約２５％のカ
ーボンブラック分散液を添加したポリ（フッ化ビニル）
である。この接地面の抵抗率は、１０４Ω／ａｍ２であ
った。第１図のコポリウレタンの代わりに第２図のコポ
リウレタンを選んだことを除いて、実例Ｘの手順に従っ
て、厚さ約０．８ミクロンのブロッキング層を接地面の
上に塗布した。

続いて、ブロッキング層の上に、実例Ｘと同じ光電層と
電荷移送層を塗布した。ブロッキング層の無い像形成部
材も、上記のプロセスを繰り返して作った。

次に、２つの像形成部材をサイクリックスキャナで２０
０回以上電気的に試験した。スキャナは、像形成表面に
９　Ｘ　１０−”クーロン／ｃｍ２の電荷を堆積させる
単ワイヤコロトロン装置を備えたものである。円周７６
．５　ｃｍのアルミニウムドラムの周囲に像形成部材を
巻き付けて、１２　ｒｐｍの速度で回転させ、毎秒６イ
ンチの表面速度にしな。

像形成部材をタングステン白色光源で露光し放電させた
。ブロッキング層を有する像形成部材は、２００回以上
にわたり安定した受容性を示し、残留電位は３０〜５０
ボルトであった。ブロッキング層の無い像形成部材の受
容電位はかなり低く、帯電と放電を２００回繰り返しな
後不安定になった。

次表は、その試験結果である。

実例■ 実例Ｘの手順を繰り返して、マイラー基層、ポリエステ
ルＰＥ−４９００００（デュポン社）内に１５％のカー
ボンブラック（Ｃａｂｏｔ社から入手できるＢｌａｃｋ
Ｐｅａｒｌｓ　２０００）を含む厚さ８ミクロンの導電
層、第３図のコポリウレタンのブロッキング層、接着層
、光電層、及び電荷移送層から成る実例Ｘに類似した感
光性像形成部材を作った。導電層用の溶液は、３２５社
の塩化メチレンの中に５．３２　ｇのポリエステルＰＥ
　４９００００を含む溶液に、０．９４゜のカーボンブ
ラックを撹拌し分散させて作った。

実例Ｘと実例℃の手順を繰り返して像形成部材を電気的
に試験し、はぼ同じ試験結果を得な６実例ＸＩＩＩ導電層としてカーボンブラック含浸ポリエステル膜の代
わりにボール木目アルミニウム板を用いたことを除いて
、実例■の手順を繰り返して、実例■の像形成部材に類
似した感光性像形成部材を作った。実例Ｘの手順に従っ
て電気的試験を行い、同様な結果を得た。

実例ＸＩＶ沃化第一銅の代わりにポリピロール導電性塗膜を用いた
ことを除いて、実例Ｘの手順を繰り返して実例Ｘの像形
成部材に類似する感光性像形成部材を作った。ポリピロ
ール導電層は、２ミル間隔の開口をもつ引き棒を使用し
て、ＩＣＰ−１１７ボリピロ一ル分散液（Ｐｏｌａｒｏ
ｉｄ社）の５％溶液を塗布して作った。塗膜を１００’
Ｃで１０分間乾燥させた後、実例Ｘの手順に従って電気
試験を行い、はぼ同様な結果を得た。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第１０図は、本発明の像形成部材のポリウレタ
ン電荷ブロッキング層を表す化学式、第１１図は、本発
明の感光性像形成部材の断面図、第１２図は、本発明の
好ましい感光性像形成部材の断面図である。符号の説明１・・・支持基層、３・・・接地面層、５・・・電荷ブ
ロッキング層、６・・・接着層、７・・・光電層、９・
・・電荷移送層、１１・・・不活性樹脂状結合剤、１５
・・・高分子材料の基層、１７・・・接地面層、１９・
・・電荷ブロッキング層、２０・・・接着層、２１・・
・光電層、２３・・・正孔移送層、２４・・・ジアミン
、２５・・・不活性樹脂状結合剤。ｃ＋２ＯＨｍ（＝０ＦＩＧ。ＦＩＧ。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）自由に選べる支持基層、接地面層、ブロッキング
層、自由に選べる接着層、光電層、及び電荷移送層で構
成され、前記ブロッキング層が次の化学式のポリウレタ
ンから成ることを特徴とする感光性像形成部材。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Ａは三価の基、Ａ′は二価の基、Ｒはアルキレ
ン、置換アルキレン、アリレン、及び置換アリレンから
成るグループから選ばれ、ｘとｙは数モル分率で、その
和は１．０である。