JPH0211768A - 真空用部材内部の真空接触面処理方法 - Google Patents
真空用部材内部の真空接触面処理方法Info
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- JPH0211768A JPH0211768A JP16066188A JP16066188A JPH0211768A JP H0211768 A JPH0211768 A JP H0211768A JP 16066188 A JP16066188 A JP 16066188A JP 16066188 A JP16066188 A JP 16066188A JP H0211768 A JPH0211768 A JP H0211768A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、例えばＣＶＤ装置等に使用される真空用配管
、真空用部品等の真空用部材の真空接触面に耐酸耐熱性
を付与するために該真空接触面を処理する方法に関する
。
、真空用部品等の真空用部材の真空接触面に耐酸耐熱性
を付与するために該真空接触面を処理する方法に関する
。
（従来の技術）
従来この種の真空用部材はステンレス鋼、鉄、ニッケル
をメツキした鉄、銅、アルミ合金、塩化ビニル等の材料
で構成されている。
をメツキした鉄、銅、アルミ合金、塩化ビニル等の材料
で構成されている。
（発明が解決しようとする課題）
このように、ステンレス鋼、鉄、ニッケルをメツキした
鉄、銅、アルミ合金、塩化ビニル等の材料で構成されて
いる真空用部材をＣＶＤ装置等の高温酸性雰囲気中で使
用すると、腐蝕するという不都合があった。
鉄、銅、アルミ合金、塩化ビニル等の材料で構成されて
いる真空用部材をＣＶＤ装置等の高温酸性雰囲気中で使
用すると、腐蝕するという不都合があった。
本発明は、かかる不都合を生じないように真空用部材の
真空接触面に耐酸耐熱性を付与するための真空接触面処
理方法を提供することを目的する。
真空接触面に耐酸耐熱性を付与するための真空接触面処
理方法を提供することを目的する。
（課題を解決するための手段）
本発明の真空用部材の真空接触面処理方法は、真空用配
管、真空用部品等の真空用部材の真空接触面に耐酸耐熱
性合成樹脂被膜を蒸着形成することを特徴とする。
管、真空用部品等の真空用部材の真空接触面に耐酸耐熱
性合成樹脂被膜を蒸着形成することを特徴とする。
また、真空用部材を装置に組立て後、該装置内を真空に
して該真空用部材の真空接触面に耐酸耐熱性合成樹脂被
膜を蒸着形成するようにすれば、能率良く且つ真空用部
材の継目にまで均一な耐酸耐熱性合成樹脂被膜を蒸着形
成することかできる。
して該真空用部材の真空接触面に耐酸耐熱性合成樹脂被
膜を蒸着形成するようにすれば、能率良く且つ真空用部
材の継目にまで均一な耐酸耐熱性合成樹脂被膜を蒸着形
成することかできる。
前記耐酸耐熱性合成樹脂被膜としては、例えばポリイミ
ド、ポリアミド、ポリイミドアミド等かあげられ、その
原料モノマーを１０−３〜１０Ｔｏｒｒの真空下で、８
０〜２００°Ｃ程度に加熱された真空用部材の真空接触
面に蒸着重合させる。
ド、ポリアミド、ポリイミドアミド等かあげられ、その
原料モノマーを１０−３〜１０Ｔｏｒｒの真空下で、８
０〜２００°Ｃ程度に加熱された真空用部材の真空接触
面に蒸着重合させる。
（作 用）
真空用部材の真空接触面に、真空中で蒸発した耐酸耐熱
性合成樹脂被膜の原料モノマーか接触し、該真空接触面
上で耐酸耐熱性合成樹脂被膜が蒸着形成される。
性合成樹脂被膜の原料モノマーか接触し、該真空接触面
上で耐酸耐熱性合成樹脂被膜が蒸着形成される。
また、真空用部材を装置に組立ててから耐酸耐熱性合成
樹脂被膜を蒸着形成する場合は、これら組立てられた真
空用部材のｍ Ｉ］にまで均一な耐酸耐熱性合成樹脂被
膜が能率良く蒸着形成される。
樹脂被膜を蒸着形成する場合は、これら組立てられた真
空用部材のｍ Ｉ］にまで均一な耐酸耐熱性合成樹脂被
膜が能率良く蒸着形成される。
（実施例）
以下、添附図面にしたがって、本発明真空用部材の真空
接触面処理方法につき説明する。
接触面処理方法につき説明する。
図示のものは、真空用配管の内面にポリイミド膜を蒸着
形成する場合の例を示す。
形成する場合の例を示す。
図面は本発明真空用部材の真空接触面処理方法を実施す
るための装置であって、図中１は被処理物であるステン
レス鋼製の真空配管を示し、その両端開口２．２には配
管３．３を介して真空排気系４か接続されており、更に
該各間口２の近傍において、各配管３にモノマー導入用
バルブ５を介して蒸発容器６が接続されている。
るための装置であって、図中１は被処理物であるステン
レス鋼製の真空配管を示し、その両端開口２．２には配
管３．３を介して真空排気系４か接続されており、更に
該各間口２の近傍において、各配管３にモノマー導入用
バルブ５を介して蒸発容器６が接続されている。
尚、図中７は加熱用ヒータ、８は真空配管１の支持ホル
ダを示す。
ダを示す。
前記装置を用いて真空用部材の真空接触面を処理する方
法につき説明すれば、ます、一方の蒸発容器Ｇ内にポリ
イミドの原料モノマーａであるピロメリット酸二無水物
１０ｇと、他方の蒸発容器６内に同しくポリイミドの原
料モノマｂである４、４−ジアミノジフェニルエーテル
１０ｇとを充填する。次いで、加熱用ヒータ７によって
真空配管１を１８０°Ｃ近くに加熱するとともに、原料
モノマーａ、ｂを夫々１８０°Ｃと１７０℃近くに加熱
する。かかる温度設定下で、真空排気系４を介して真空
配管１内を１×１Ｏ−２Ｔｏｒｒに設定して原料モノマ
ーａ、ｂを昇化させる。
法につき説明すれば、ます、一方の蒸発容器Ｇ内にポリ
イミドの原料モノマーａであるピロメリット酸二無水物
１０ｇと、他方の蒸発容器６内に同しくポリイミドの原
料モノマｂである４、４−ジアミノジフェニルエーテル
１０ｇとを充填する。次いで、加熱用ヒータ７によって
真空配管１を１８０°Ｃ近くに加熱するとともに、原料
モノマーａ、ｂを夫々１８０°Ｃと１７０℃近くに加熱
する。かかる温度設定下で、真空排気系４を介して真空
配管１内を１×１Ｏ−２Ｔｏｒｒに設定して原料モノマ
ーａ、ｂを昇化させる。
かくして、原料モノマーａ、ｂ各単独では真空配管１の
内面である真空接触面１上には付着しないため、原料モ
ノマーａ、ｂは真空配管１内に均一に分散されることに
なり、該原料モノマーａ、ｂが反応した場合に真空配管
１の内面である真空接触面１上に均一な膜厚てしかも化
学量論的な組成比でもってポリアミック酸の合成樹脂被
膜が形成される。ポリアミック酸の合成樹脂被膜が所定
の膜厚に達したならば、モノマー導入用バルブ５．５を
閉じるとともに真空配管１を大気圧に戻し、真空配管１
を支持ホルダ８．８から外し、大気中の図示しない加熱
炉で３００℃近くまで加熱しイミド化処理を施し、ポリ
イミド合成樹脂被膜を得る。
内面である真空接触面１上には付着しないため、原料モ
ノマーａ、ｂは真空配管１内に均一に分散されることに
なり、該原料モノマーａ、ｂが反応した場合に真空配管
１の内面である真空接触面１上に均一な膜厚てしかも化
学量論的な組成比でもってポリアミック酸の合成樹脂被
膜が形成される。ポリアミック酸の合成樹脂被膜が所定
の膜厚に達したならば、モノマー導入用バルブ５．５を
閉じるとともに真空配管１を大気圧に戻し、真空配管１
を支持ホルダ８．８から外し、大気中の図示しない加熱
炉で３００℃近くまで加熱しイミド化処理を施し、ポリ
イミド合成樹脂被膜を得る。
尚、イミド化は、真空配管１を直接加熱することによっ
て行うようにしてもよい。
て行うようにしてもよい。
この様に本発明の真空用部材の真空接触面処理方法によ
れば、耐酸耐熱性合成樹脂被膜の薄層形成によって真空
用部材の真空接触面処理面に簡単に均一な耐酸耐熱性合
成樹脂被膜か形成され、耐酸耐熱性に優れた真空用部材
が簡単に得られる効果を有する。
れば、耐酸耐熱性合成樹脂被膜の薄層形成によって真空
用部材の真空接触面処理面に簡単に均一な耐酸耐熱性合
成樹脂被膜か形成され、耐酸耐熱性に優れた真空用部材
が簡単に得られる効果を有する。
また、真空用部材を装置に組立ててから耐酸耐熱性合成
樹脂被膜を蒸着形成する場合は、これら組立てられた真
空用部材の継目にまで均一な耐酸耐熱性合成樹脂被膜が
能率良く形成された耐酸耐熱性に優れた真空用部材か得
られる効果を有する。
樹脂被膜を蒸着形成する場合は、これら組立てられた真
空用部材の継目にまで均一な耐酸耐熱性合成樹脂被膜が
能率良く形成された耐酸耐熱性に優れた真空用部材か得
られる効果を有する。
図面は本発明真空用部材の真空接触面処理方法の一実施
例を示すため説明線図である。 １・・・真空配管 ４・・・真空排気系 ６・・蒸発容器 ７・・加熱用ヒータ ａｌ ｂ・・・原料モノマ 特 許 出 願 人 日本真空技術株式会社 代 理 人 北 村 欣 外３名 平成 年 月 日
例を示すため説明線図である。 １・・・真空配管 ４・・・真空排気系 ６・・蒸発容器 ７・・加熱用ヒータ ａｌ ｂ・・・原料モノマ 特 許 出 願 人 日本真空技術株式会社 代 理 人 北 村 欣 外３名 平成 年 月 日
Claims (2)
- （１）真空用配管、真空用部品等の真空用部材の真空接
触面に耐酸耐熱性合成樹脂被膜を蒸着形成することを特
徴とする真空用部材の真空接触面処理方法。 - （２）真空用部材を装置に組立て後、該装置内を真空に
して、該真空用部材の真空接触面に耐酸耐熱性合成樹脂
被膜を蒸着形成することを特徴とする真空用部材の真空
接触面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63160661A JPH0668151B2 (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 真空用部材内部の真空接触面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63160661A JPH0668151B2 (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 真空用部材内部の真空接触面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0211768A true JPH0211768A (ja) | 1990-01-16 |
| JPH0668151B2 JPH0668151B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=15719760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63160661A Expired - Lifetime JPH0668151B2 (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 真空用部材内部の真空接触面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0668151B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0637635U (ja) * | 1992-10-21 | 1994-05-20 | 日清紡績株式会社 | ドラムブレーキの間隙調整停止装置 |
| JP2005251975A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理室用表面構造 |
| WO2006101171A1 (ja) * | 2005-03-24 | 2006-09-28 | Ulvac, Inc. | 真空部品の製造方法、樹脂被膜形成装置及び真空成膜システム |
| JP2007005545A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Tokyo Electron Ltd | 半導体処理装置の表面処理方法 |
| JP2019192790A (ja) * | 2018-04-25 | 2019-10-31 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス供給管のクリーニング方法および処理システム |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6148569A (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-10 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | プラズマｃｖｄ装置 |
-
1988
- 1988-06-30 JP JP63160661A patent/JPH0668151B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6148569A (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-10 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | プラズマｃｖｄ装置 |
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| JP4593945B2 (ja) * | 2004-03-04 | 2010-12-08 | 株式会社アルバック | 真空処理室用表面構造 |
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| JP4986845B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2012-07-25 | 株式会社アルバック | 真空成膜システム |
| JP2007005545A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Tokyo Electron Ltd | 半導体処理装置の表面処理方法 |
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| CN110400735A (zh) * | 2018-04-25 | 2019-11-01 | 东京毅力科创株式会社 | 气体供给管的清洁方法和处理系统 |
| CN110400735B (zh) * | 2018-04-25 | 2024-04-16 | 东京毅力科创株式会社 | 气体供给管的清洁方法和处理系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0668151B2 (ja) | 1994-08-31 |
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