JP2005213310A - ポリイミド膜の表面親水化方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被成膜処理物に成膜されるポリイミド膜の表面親水化方法であって、オゾン雰囲気に曝しながらポリアミド酸膜をイミド化してポリイミド膜を生成することを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
しかしながら、この方法では、親水化処理のために3時間以上もの時間がかかり、工業的に実施するには問題があった。
即ち、本発明の親水化方法は、請求項1に記載の通り、被成膜処理物に成膜されるポリイミド膜の表面親水化方法であって、オゾン雰囲気に曝しながらポリアミド酸膜をイミド化してポリイミド膜を生成することを特徴とする。
また、請求項2記載のポリイミド膜の表面親水化方法は、請求項1記載のポリイミド膜の表面親水化方法において、前記イミド化を200〜230℃の温度下で行うようにしたことを特徴とする。
また、請求項3記載のポリイミド膜の表面親水化方法は、請求項1または2記載のポリイミド膜の表面親水化方法において、前記イミド化を5分以上行うようにしたことを特徴とする。
また、請求項4記載のポリイミド膜の表面親水化方法は、請求項3記載のポリイミド膜の表面親水化方法において、前記イミド化を10分以上行うようにしたことを特徴とする。
また、請求項5記載のポリイミド膜の表面親水化方法は、請求項1乃至4の何れかに記載のポリイミド膜の表面親水化方法において、前記オゾン雰囲気を、10L/min以上の流量で供給されるオゾンによって形成するようにしたことを特徴とする。
また、請求項6記載のポリイミド膜の表面親水化方法は、請求項1乃至5の何れかに記載のポリイミド膜の表面親水化方法において、蒸着重合によりポリイミド膜を成膜することを特徴とする。
また、請求項7記載のポリイミド膜の表面親水化方法は、請求項1乃至5の何れかに記載のポリイミド膜の表面親水化方法において、溶液成膜法によりポリアミド酸膜を生成することを特徴とする。
また、前記イミド化を200〜230℃の温度下で行うようにした場合は、極めて良好な親水性を示す親水化処理を行うことができる。
また、前記イミド化を5分以上、好ましくは10分以上行うようにした場合は、良好な親水性を示すと共に、経時変化が少なく耐久性に優れた親水化処理を行うことができる。
また、前記オゾン雰囲気を、10L/min以上の流量で供給されるオゾンによって形成するようにした場合には、良好な親水性を示す親水化処理を行うことができる。
また、蒸着重合によりポリイミド膜を成膜するようにした場合は、蒸着重合の過程を利用して、親水化処理を行え、また、溶液成膜法によりポリアミド酸膜を生成するようにした場合も、このポリアミド酸膜のイミド化に必要な温度下での加熱処理を利用して親水化処理を行える
図1は、本発明方法を実施するために用いられる成膜装置の一例を示すもので、図中1は、真空処理室1を示し、この真空処理室1の一側には真空排気系2が接続されて任意の真空度に調整自在となっている。また、前記真空処理室1の天井側には、原料モノマーの無水ピロメリット酸(PMDA)の供給源3と、オキシジアニリン(ODA)の供給源4と、オゾン原料ガスである酸素の供給源5に接続されたオゾン発生装置6とが、それぞれ、流量コントロールバルブ7,8,9を介して連結されている。また、前記真空処理室1の中央部に支持部材10が配置され、この支持部材10の上には被成膜処理物であるシリコンウエハー20が設置され、また、前記支持部材10はその裏面側に配置されたヒーター11によって所定の温度に調整自在とされている。尚、図中30は、親水化処理を施されて成膜されたポリイミド膜を示す。
ポリイミド膜の成膜原料物質としては、前記した通り、無水ピロメリット酸(PMDA)と、オキシジアニリン(ODA)を用いた。また、被成膜処理物としては、8インチのシリコンウエハーを用いた。
そして、前記成膜装置を用いて、原料モノマーから生成されるポリアミド酸膜をシリコンウエハー上でイミド化してポリイミド膜に変化させる際に、種々の処理温度、処理時間、オゾン流量でオゾン処理を行うようにした。
即ち、前記シリコンウエハー20を真空処理室1の支持部材10上に設置し、真空排気系2を介して真空処理室1内を所定の真空度に設定し、原料モノマーの供給源3,4から流量調整バルブ7,8を調整しながら所定量の原料モノマーを導入し、ポリアミド酸膜を形成した。
具体的な成膜条件は、真空槽壁温180℃、PMDA蒸発温度200℃、ODA蒸発温度188℃、基板温度180℃の各温度条件で10分間成膜し、2μmのポリアミド酸膜を得た。成膜後、真空排気を停止し、ヒーター11によって基板温度を設定し、バルブ9を開いてオゾン流量を種々調整しながらオゾンを導入し、シリコンウエハー20の表面のポリアミド酸膜をイミド化しながらポリイミド膜30を親水化した。
尚、接触角については、接触角計(CA−X150型:協和界面科学株式会社製)を用いて測定した。
尚、前記オゾン処理に際しては、処理時間を10分、オゾン流量を20L/minとした。
尚、前記オゾン処理に際しては、処理温度を200℃、オゾン流量を20L/minとした。
尚、前記オゾン処理に際しては、処理温度を200℃、オゾン流量を20L/minとした。
尚、前記オゾン処理に際しては、処理温度を200℃、処理時間を10分とした。
即ち、無水ピロメリット酸(PMDA)と、オキシジアニリン(ODA)とを、ジメチルホルムアミド(DMF)・エヌメチルピロリロン(NMP)等の極性溶媒中に添加して溶液重合を行い、ポリアミド酸溶液(PAA)を得、このポリアミド酸溶液をシリコンウエハー上にスピンコートし、80℃の温度で30分加熱することにより、溶媒を除去し、シリコンウエハー上に残ったポリアミド酸膜に対しても、前記と同様にして、オゾン雰囲気に曝しながらイミド化することで、前記蒸着重合の場合と同様に極めて短時間のオゾン処理によって親水化処理を行えることが確認された。
2 真空排気系
3 モノマー供給源
4 モノマー供給源
5 酸素供給源
6 オゾン発生装置
7 流量調整バルブ
8 流量調整バルブ
9 流量調整バルブ
10 支持部材
11 ヒーター
20 シリコンウエハー(被処理物)
30 ポリイミド膜
Claims (7)
- 被成膜処理物に成膜されるポリイミド膜の表面親水化方法であって、オゾン雰囲気に曝しながらポリアミド酸膜をイミド化してポリイミド膜を生成することを特徴とするポリイミド膜の表面親水化方法。
- 前記イミド化を200〜230℃の温度下で行うようにしたことを特徴とする請求項1記載のポリイミド膜の表面親水化方法。
- 前記イミド化を5分以上行うようにしたことを特徴とする請求項1または2記載のポリイミド膜の表面親水化方法。
- 前記イミド化を10分以上行うようにしたことを特徴とする請求項3記載のポリイミド膜の表面親水化方法。
- 前記オゾン雰囲気を、10L/min以上の流量で供給されるオゾンによって形成するようにしたことを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載のポリイミド膜の表面親水化方法。
- 蒸着重合によりポリイミド膜を成膜することを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載のポリイミド膜の表面親水化方法。
- 溶液成膜法によりポリアミド酸膜を成膜することを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載のポリイミド膜の表面親水化方法。
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Cited By (5)
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JP2007269866A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着重合高分子膜被覆体の表面親水化方法 |
US20140347585A1 (en) * | 2013-05-27 | 2014-11-27 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
US9655587B2 (en) | 2010-05-24 | 2017-05-23 | General Electric Company | Handheld X-ray system interface with tracking feature |
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006224033A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Ulvac Japan Ltd | 多孔質部材の抗菌処理方法及び抗菌性フィルター |
JP4669714B2 (ja) * | 2005-02-18 | 2011-04-13 | 株式会社アルバック | 多孔質部材の抗菌処理方法及び抗菌性フィルター |
JP2007269866A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着重合高分子膜被覆体の表面親水化方法 |
US9655587B2 (en) | 2010-05-24 | 2017-05-23 | General Electric Company | Handheld X-ray system interface with tracking feature |
US20140347585A1 (en) * | 2013-05-27 | 2014-11-27 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
US9927660B2 (en) * | 2013-05-27 | 2018-03-27 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
US20180180947A1 (en) * | 2013-05-27 | 2018-06-28 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
EP3476464A1 (en) | 2017-10-31 | 2019-05-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Surface treatment method, surface treatment liquid, and surface-treated article |
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