JPH02117187A - パルスレーザー装置 - Google Patents

パルスレーザー装置

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Publication number
JPH02117187A
JPH02117187A JP26932788A JP26932788A JPH02117187A JP H02117187 A JPH02117187 A JP H02117187A JP 26932788 A JP26932788 A JP 26932788A JP 26932788 A JP26932788 A JP 26932788A JP H02117187 A JPH02117187 A JP H02117187A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
capacitors
discharge
thyratron
capacitor
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26932788A
Other languages
English (en)
Inventor
Etsuo Noda
悦夫 野田
Setsuo Suzuki
鈴木 節雄
Osamu Morimiya
森宮 脩
Kazuo Hayashi
和夫 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP26932788A priority Critical patent/JPH02117187A/ja
Publication of JPH02117187A publication Critical patent/JPH02117187A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、金属蒸気等のレーザー媒質をパルス放電によ
り励起し、共振器を用いてレーザー発振を行なう金属蒸
気レーザー等のパルスレーザ−装置に関する。
(従来の技術) 従来、金属蒸気レーザー等の高繰返しパルスレーザ−は
共振充電と呼ばれる充電方式と容量移行型と呼ばれる放
電方式が用いられている。その概略回路図を第5図に示
す。以下、第5図に従って動作を説明する、直流または
インバータ・タイプの充電用電源からクリッパ用ダイオ
ード11と共振コイル6を通してコンデンサC1に充電
する。
スイッチング素子であるサイラトロン10を導通するこ
とによりコンデンサC1を放電する。このときコンデン
サC1に蓄えられた電荷の一部がコンデンサC3に移り
電極2.3の間で放電が起き、レーザー発振が行なわれ
る。ここで、C3<CIの条件が満たされていると、立
上がりの速い放電が得られる。しかしながら、この放電
方式ではサイライトロンの立上がり時間に大きく制約さ
れ、レーザー放電のような大電流放電を行なうことがで
きるサイラトロンでは、立上がり時間を100ns以下
にすることは困難となる。一方、発振の効率を上げるた
めには、立上がりの速い放電が必要である。
また、従来の充放電方式では、高繰返し動作を行なった
場合、レーザー放電によりコンデンサC1の電圧が下が
るとサイラトロンが導通状態のままで充電が始まり、サ
イラトロンは導通状態になってしまいレーザー発振が停
止してしまうという欠点があった。この欠点を無くす方
式としてコマンド充電方式と呼ばれる、レーザー放電の
後暫く休止時間を置いて充電を始める方式が提案されて
いるが充電部が複雑になってしまうとともに、信頼性も
低いものになってしまう。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は、前述したような欠点を改良したもので、大出
力で、高繰返し動作可能で、発振効率が高く、信頼性の
高いパルスレーザ−装置を提供することを目的としてい
る。
[発明の構成〕 (課題を解決するための手段) 本発明は、2つの電極即ち陽極・陰極間にコンデンサC
1、C2が直列に接続されており、その一方のコンデン
サC1に並列にサイラトロン等のスイッチング素子が接
続されており、共振コイル(または共振トランス)とク
リッパ用ダイオードを通して、コンデンサC1、C2に
並列に共振充電を行なった後、サイラトロンを導通させ
コンデンサC1を逆充電することにより陽極・陰極間に
高電圧を発生させ、立上がりの速い放電を行なわせるよ
うにしたものである。この放電式を用いることにより、
高繰返し動作に於いてサイラトロンが導通状態になりっ
ばなしになる現象が防止できるとともに、発振効率を高
めることもできる。
(作  用) 本発明は、2つの電極即ち陽極・陰極間にコンデンサC
1、C2が直列に接続されており、その一方のコンデン
サC1にはサイラトロン等のスイッチング素子が並列に
接続されており、共振インダクタンス、例えば、共振コ
イル(または共振トランス)とクリッパ用ダイオードを
通して、コンデンサC1、C2に並列に共振充電を行な
った後、サイラトロンを導通させコンデンサC1を放電
し、更に逆充電することにより陽極・陰極間に高電圧を
発生させ、立上がりの速いパルス放電を行なわせるよう
にしたものである。こ9様にすると、サイラトロン放電
の逆転が必ず起きるため、サイラトロンが導通状態にな
ることはない。また、主放電回路にサイラトロンが無い
ため、立上がりの速い放電が得られる。
(実施例) 第1図に、本発明の一実施例を示す。ここでは、レーザ
ー電極として縦型放電電極を、スイッチング素子として
サイラトロンを用いて以下に動作を説明する。充電用電
源14からクリッパーダイオード11、共振コイルL1
、L2、L3を通して、コンデンサC1、C2に共振充
電を行なう。
充電完了後、スイッチング素子であるサイラトロン10
にトリガー信号を加えるとサイラトロンは導通状態にな
りコンデンサC1が放電し、更に逆向きに充電されるこ
とにより、放電管1内に対向して置かれた2つの円筒型
電極2.3間に高電圧が発生する。この結果、コンデン
サC1、C2と放電管を閉回路とする主放電が始まる。
この主放電回路にはサイラトロンが無いため立上がりの
速い放電が得られる。また、主放電が始まる時には、コ
ンデンサC1が逆方向に充電されているためサイラトロ
ンには逆電圧が加わり、充電電流によりサイラトロンが
導通状態になりっばなしになることはない。
以上は縦型放電レーザーについて説明したが、横型励起
(放電電流の向きが光軸と直角になっている)の金属蒸
気レーザー、エキシマレーザ−等にも適用でき、その実
施例を第2図に示しておく。
図中の番号や動作に関しては第1図の場合と同じである
第3図は放電電極に並列に小容量のピーキングコンデン
サC3を取付けたもので、C3の容量C3が、C1、C
2の1/2よりも小さければ、放電の立上がり時間は更
に速くなる。第4図は主放電回路中に、過飽和リアクタ
Lsを挿入したもので、更に放電の立上がりの速度が速
くなり、レーザーの発振効率が向上する。
以上述べたように、放電は縦型方式、横型方式のどちら
でもよく、また、スイッチング素子として、サイラトロ
ン以外のもの、例えば、半導体素子やスパークギャップ
を用いてもよい。また、金属蒸気レーザーや金属イオン
レーザ−以外のエキシマレーザ−等の放電励起レーザー
にも適用できる。また、共振コイルを用いた共振充電以
外にも、昇圧用の共振トランスとトランスの1次側で充
電制御するサイリスタ等を用いたコマンド充電方式%式
% 以上、本発明の効果を逸脱しない範囲で、本発明はいろ
いろなレーザーに対して、適用可能である。
[発明の効果] 本発明を用いることによって、大出力で、発振効率が高
く、高繰返し動作可能で信頼性の高いレーザー装置を提
供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例による金属蒸気レーザー装
置の概略回路図、第2図乃至第4図は本発明の他の実施
例を示す回路図、第5図は、従来の金属蒸気レーザー装
置の概略回路図である。 1・・・・・・放電管 2.3・・・・・・電極 4.5・・・・・・コンデンサ 6.7.8・・・・・・共振コイル 9・・・・・・ピーキングコンデンサ 10・・・・・・サイラトロン 11・・・・・・クリッパーダイオード12・・・・・
・充電抵抗 13・・・・・・過飽和リアクタ 14・・・・・・充電用電源

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)レーザー管内に対向配置された2つの電極即ち陽
    極と陰極の間でパルス放電を行うことにより、レーザー
    媒質を励起してレーザー発振を行なうパルスレーザー装
    置に於いて、該2つの電極にコンデンサC1,C2が直
    列に接続されており、該一方のコンデンサC1に並列に
    スイッチング素子が接続されており、共振インダクタン
    スとクリッパ用ダイオードを通してコンデンサC1,C
    2に並列に共振充電を行なった後、前記スイッチング素
    子を導通させコンデンサC1を逆充電することにより陽
    極・陰極間に高電圧を発生させパルス放電を行なわせる
    ようにしたことを特徴とするパルスレーザー装置。 (2)前記レーザー媒質に金属蒸気または金属イオン蒸
    気を用い、該金属原子または金属イオンを励起してレー
    ザー発振を行なうようにしたことを特徴とする請求項1
    記載のパルスレーザー装置。 (3)前記2つの電極に並列にコンデンサC3を接続し
    、かつ、該容量C3が前記コンデンサC1、C2の容量
    C1、C2よりも小さいことを特徴とする請求項1また
    は請求項2記載のパルスレーザー装置。 (4)前記コンデンサC1、C2と前記2つの電極の間
    に過飽和インダクタを挿入接続したことを特徴とする請
    求項1または請求項2記載のパルスレーザー装置。 (5)前記スイッチング素子としてサイラトロンを用い
    たことを特徴とする請求項1ないし請求項4のうちのい
    ずれかに記載のパルスレーザー装置。 (3)前記スイッチング素子としてアバランシェ型半導
    体素子を用いたことを特徴とする請求項1ないし請求項
    4のうちのいずれかに記載のパルスレーザー装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02146785A (ja) * 1988-11-28 1990-06-05 Komatsu Ltd パルス放電型ガスレーザの充放電回路

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61212080A (ja) * 1985-03-18 1986-09-20 Nec Corp パルスガスレ−ザ励起回路
JPS6471190A (en) * 1987-09-11 1989-03-16 Nikon Corp Discharge type excimer laser device

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