JPH02117187A - パルスレーザー装置 - Google Patents
パルスレーザー装置Info
- Publication number
- JPH02117187A JPH02117187A JP26932788A JP26932788A JPH02117187A JP H02117187 A JPH02117187 A JP H02117187A JP 26932788 A JP26932788 A JP 26932788A JP 26932788 A JP26932788 A JP 26932788A JP H02117187 A JPH02117187 A JP H02117187A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- capacitors
- discharge
- thyratron
- capacitor
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 35
- 208000019300 CLIPPERS Diseases 0.000 claims abstract description 8
- 208000021930 chronic lymphocytic inflammation with pontine perivascular enhancement responsive to steroids Diseases 0.000 claims abstract description 8
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、金属蒸気等のレーザー媒質をパルス放電によ
り励起し、共振器を用いてレーザー発振を行なう金属蒸
気レーザー等のパルスレーザ−装置に関する。
り励起し、共振器を用いてレーザー発振を行なう金属蒸
気レーザー等のパルスレーザ−装置に関する。
(従来の技術)
従来、金属蒸気レーザー等の高繰返しパルスレーザ−は
共振充電と呼ばれる充電方式と容量移行型と呼ばれる放
電方式が用いられている。その概略回路図を第5図に示
す。以下、第5図に従って動作を説明する、直流または
インバータ・タイプの充電用電源からクリッパ用ダイオ
ード11と共振コイル6を通してコンデンサC1に充電
する。
共振充電と呼ばれる充電方式と容量移行型と呼ばれる放
電方式が用いられている。その概略回路図を第5図に示
す。以下、第5図に従って動作を説明する、直流または
インバータ・タイプの充電用電源からクリッパ用ダイオ
ード11と共振コイル6を通してコンデンサC1に充電
する。
スイッチング素子であるサイラトロン10を導通するこ
とによりコンデンサC1を放電する。このときコンデン
サC1に蓄えられた電荷の一部がコンデンサC3に移り
電極2.3の間で放電が起き、レーザー発振が行なわれ
る。ここで、C3<CIの条件が満たされていると、立
上がりの速い放電が得られる。しかしながら、この放電
方式ではサイライトロンの立上がり時間に大きく制約さ
れ、レーザー放電のような大電流放電を行なうことがで
きるサイラトロンでは、立上がり時間を100ns以下
にすることは困難となる。一方、発振の効率を上げるた
めには、立上がりの速い放電が必要である。
とによりコンデンサC1を放電する。このときコンデン
サC1に蓄えられた電荷の一部がコンデンサC3に移り
電極2.3の間で放電が起き、レーザー発振が行なわれ
る。ここで、C3<CIの条件が満たされていると、立
上がりの速い放電が得られる。しかしながら、この放電
方式ではサイライトロンの立上がり時間に大きく制約さ
れ、レーザー放電のような大電流放電を行なうことがで
きるサイラトロンでは、立上がり時間を100ns以下
にすることは困難となる。一方、発振の効率を上げるた
めには、立上がりの速い放電が必要である。
また、従来の充放電方式では、高繰返し動作を行なった
場合、レーザー放電によりコンデンサC1の電圧が下が
るとサイラトロンが導通状態のままで充電が始まり、サ
イラトロンは導通状態になってしまいレーザー発振が停
止してしまうという欠点があった。この欠点を無くす方
式としてコマンド充電方式と呼ばれる、レーザー放電の
後暫く休止時間を置いて充電を始める方式が提案されて
いるが充電部が複雑になってしまうとともに、信頼性も
低いものになってしまう。
場合、レーザー放電によりコンデンサC1の電圧が下が
るとサイラトロンが導通状態のままで充電が始まり、サ
イラトロンは導通状態になってしまいレーザー発振が停
止してしまうという欠点があった。この欠点を無くす方
式としてコマンド充電方式と呼ばれる、レーザー放電の
後暫く休止時間を置いて充電を始める方式が提案されて
いるが充電部が複雑になってしまうとともに、信頼性も
低いものになってしまう。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、前述したような欠点を改良したもので、大出
力で、高繰返し動作可能で、発振効率が高く、信頼性の
高いパルスレーザ−装置を提供することを目的としてい
る。
力で、高繰返し動作可能で、発振効率が高く、信頼性の
高いパルスレーザ−装置を提供することを目的としてい
る。
[発明の構成〕
(課題を解決するための手段)
本発明は、2つの電極即ち陽極・陰極間にコンデンサC
1、C2が直列に接続されており、その一方のコンデン
サC1に並列にサイラトロン等のスイッチング素子が接
続されており、共振コイル(または共振トランス)とク
リッパ用ダイオードを通して、コンデンサC1、C2に
並列に共振充電を行なった後、サイラトロンを導通させ
コンデンサC1を逆充電することにより陽極・陰極間に
高電圧を発生させ、立上がりの速い放電を行なわせるよ
うにしたものである。この放電式を用いることにより、
高繰返し動作に於いてサイラトロンが導通状態になりっ
ばなしになる現象が防止できるとともに、発振効率を高
めることもできる。
1、C2が直列に接続されており、その一方のコンデン
サC1に並列にサイラトロン等のスイッチング素子が接
続されており、共振コイル(または共振トランス)とク
リッパ用ダイオードを通して、コンデンサC1、C2に
並列に共振充電を行なった後、サイラトロンを導通させ
コンデンサC1を逆充電することにより陽極・陰極間に
高電圧を発生させ、立上がりの速い放電を行なわせるよ
うにしたものである。この放電式を用いることにより、
高繰返し動作に於いてサイラトロンが導通状態になりっ
ばなしになる現象が防止できるとともに、発振効率を高
めることもできる。
(作 用)
本発明は、2つの電極即ち陽極・陰極間にコンデンサC
1、C2が直列に接続されており、その一方のコンデン
サC1にはサイラトロン等のスイッチング素子が並列に
接続されており、共振インダクタンス、例えば、共振コ
イル(または共振トランス)とクリッパ用ダイオードを
通して、コンデンサC1、C2に並列に共振充電を行な
った後、サイラトロンを導通させコンデンサC1を放電
し、更に逆充電することにより陽極・陰極間に高電圧を
発生させ、立上がりの速いパルス放電を行なわせるよう
にしたものである。こ9様にすると、サイラトロン放電
の逆転が必ず起きるため、サイラトロンが導通状態にな
ることはない。また、主放電回路にサイラトロンが無い
ため、立上がりの速い放電が得られる。
1、C2が直列に接続されており、その一方のコンデン
サC1にはサイラトロン等のスイッチング素子が並列に
接続されており、共振インダクタンス、例えば、共振コ
イル(または共振トランス)とクリッパ用ダイオードを
通して、コンデンサC1、C2に並列に共振充電を行な
った後、サイラトロンを導通させコンデンサC1を放電
し、更に逆充電することにより陽極・陰極間に高電圧を
発生させ、立上がりの速いパルス放電を行なわせるよう
にしたものである。こ9様にすると、サイラトロン放電
の逆転が必ず起きるため、サイラトロンが導通状態にな
ることはない。また、主放電回路にサイラトロンが無い
ため、立上がりの速い放電が得られる。
(実施例)
第1図に、本発明の一実施例を示す。ここでは、レーザ
ー電極として縦型放電電極を、スイッチング素子として
サイラトロンを用いて以下に動作を説明する。充電用電
源14からクリッパーダイオード11、共振コイルL1
、L2、L3を通して、コンデンサC1、C2に共振充
電を行なう。
ー電極として縦型放電電極を、スイッチング素子として
サイラトロンを用いて以下に動作を説明する。充電用電
源14からクリッパーダイオード11、共振コイルL1
、L2、L3を通して、コンデンサC1、C2に共振充
電を行なう。
充電完了後、スイッチング素子であるサイラトロン10
にトリガー信号を加えるとサイラトロンは導通状態にな
りコンデンサC1が放電し、更に逆向きに充電されるこ
とにより、放電管1内に対向して置かれた2つの円筒型
電極2.3間に高電圧が発生する。この結果、コンデン
サC1、C2と放電管を閉回路とする主放電が始まる。
にトリガー信号を加えるとサイラトロンは導通状態にな
りコンデンサC1が放電し、更に逆向きに充電されるこ
とにより、放電管1内に対向して置かれた2つの円筒型
電極2.3間に高電圧が発生する。この結果、コンデン
サC1、C2と放電管を閉回路とする主放電が始まる。
この主放電回路にはサイラトロンが無いため立上がりの
速い放電が得られる。また、主放電が始まる時には、コ
ンデンサC1が逆方向に充電されているためサイラトロ
ンには逆電圧が加わり、充電電流によりサイラトロンが
導通状態になりっばなしになることはない。
速い放電が得られる。また、主放電が始まる時には、コ
ンデンサC1が逆方向に充電されているためサイラトロ
ンには逆電圧が加わり、充電電流によりサイラトロンが
導通状態になりっばなしになることはない。
以上は縦型放電レーザーについて説明したが、横型励起
(放電電流の向きが光軸と直角になっている)の金属蒸
気レーザー、エキシマレーザ−等にも適用でき、その実
施例を第2図に示しておく。
(放電電流の向きが光軸と直角になっている)の金属蒸
気レーザー、エキシマレーザ−等にも適用でき、その実
施例を第2図に示しておく。
図中の番号や動作に関しては第1図の場合と同じである
。
。
第3図は放電電極に並列に小容量のピーキングコンデン
サC3を取付けたもので、C3の容量C3が、C1、C
2の1/2よりも小さければ、放電の立上がり時間は更
に速くなる。第4図は主放電回路中に、過飽和リアクタ
Lsを挿入したもので、更に放電の立上がりの速度が速
くなり、レーザーの発振効率が向上する。
サC3を取付けたもので、C3の容量C3が、C1、C
2の1/2よりも小さければ、放電の立上がり時間は更
に速くなる。第4図は主放電回路中に、過飽和リアクタ
Lsを挿入したもので、更に放電の立上がりの速度が速
くなり、レーザーの発振効率が向上する。
以上述べたように、放電は縦型方式、横型方式のどちら
でもよく、また、スイッチング素子として、サイラトロ
ン以外のもの、例えば、半導体素子やスパークギャップ
を用いてもよい。また、金属蒸気レーザーや金属イオン
レーザ−以外のエキシマレーザ−等の放電励起レーザー
にも適用できる。また、共振コイルを用いた共振充電以
外にも、昇圧用の共振トランスとトランスの1次側で充
電制御するサイリスタ等を用いたコマンド充電方式%式
% 以上、本発明の効果を逸脱しない範囲で、本発明はいろ
いろなレーザーに対して、適用可能である。
でもよく、また、スイッチング素子として、サイラトロ
ン以外のもの、例えば、半導体素子やスパークギャップ
を用いてもよい。また、金属蒸気レーザーや金属イオン
レーザ−以外のエキシマレーザ−等の放電励起レーザー
にも適用できる。また、共振コイルを用いた共振充電以
外にも、昇圧用の共振トランスとトランスの1次側で充
電制御するサイリスタ等を用いたコマンド充電方式%式
% 以上、本発明の効果を逸脱しない範囲で、本発明はいろ
いろなレーザーに対して、適用可能である。
[発明の効果]
本発明を用いることによって、大出力で、発振効率が高
く、高繰返し動作可能で信頼性の高いレーザー装置を提
供することができる。
く、高繰返し動作可能で信頼性の高いレーザー装置を提
供することができる。
第1図は、本発明の一実施例による金属蒸気レーザー装
置の概略回路図、第2図乃至第4図は本発明の他の実施
例を示す回路図、第5図は、従来の金属蒸気レーザー装
置の概略回路図である。 1・・・・・・放電管 2.3・・・・・・電極 4.5・・・・・・コンデンサ 6.7.8・・・・・・共振コイル 9・・・・・・ピーキングコンデンサ 10・・・・・・サイラトロン 11・・・・・・クリッパーダイオード12・・・・・
・充電抵抗 13・・・・・・過飽和リアクタ 14・・・・・・充電用電源
置の概略回路図、第2図乃至第4図は本発明の他の実施
例を示す回路図、第5図は、従来の金属蒸気レーザー装
置の概略回路図である。 1・・・・・・放電管 2.3・・・・・・電極 4.5・・・・・・コンデンサ 6.7.8・・・・・・共振コイル 9・・・・・・ピーキングコンデンサ 10・・・・・・サイラトロン 11・・・・・・クリッパーダイオード12・・・・・
・充電抵抗 13・・・・・・過飽和リアクタ 14・・・・・・充電用電源
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)レーザー管内に対向配置された2つの電極即ち陽
極と陰極の間でパルス放電を行うことにより、レーザー
媒質を励起してレーザー発振を行なうパルスレーザー装
置に於いて、該2つの電極にコンデンサC1,C2が直
列に接続されており、該一方のコンデンサC1に並列に
スイッチング素子が接続されており、共振インダクタン
スとクリッパ用ダイオードを通してコンデンサC1,C
2に並列に共振充電を行なった後、前記スイッチング素
子を導通させコンデンサC1を逆充電することにより陽
極・陰極間に高電圧を発生させパルス放電を行なわせる
ようにしたことを特徴とするパルスレーザー装置。 (2)前記レーザー媒質に金属蒸気または金属イオン蒸
気を用い、該金属原子または金属イオンを励起してレー
ザー発振を行なうようにしたことを特徴とする請求項1
記載のパルスレーザー装置。 (3)前記2つの電極に並列にコンデンサC3を接続し
、かつ、該容量C3が前記コンデンサC1、C2の容量
C1、C2よりも小さいことを特徴とする請求項1また
は請求項2記載のパルスレーザー装置。 (4)前記コンデンサC1、C2と前記2つの電極の間
に過飽和インダクタを挿入接続したことを特徴とする請
求項1または請求項2記載のパルスレーザー装置。 (5)前記スイッチング素子としてサイラトロンを用い
たことを特徴とする請求項1ないし請求項4のうちのい
ずれかに記載のパルスレーザー装置。 (3)前記スイッチング素子としてアバランシェ型半導
体素子を用いたことを特徴とする請求項1ないし請求項
4のうちのいずれかに記載のパルスレーザー装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26932788A JPH02117187A (ja) | 1988-10-27 | 1988-10-27 | パルスレーザー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26932788A JPH02117187A (ja) | 1988-10-27 | 1988-10-27 | パルスレーザー装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02117187A true JPH02117187A (ja) | 1990-05-01 |
Family
ID=17470814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26932788A Pending JPH02117187A (ja) | 1988-10-27 | 1988-10-27 | パルスレーザー装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02117187A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02146785A (ja) * | 1988-11-28 | 1990-06-05 | Komatsu Ltd | パルス放電型ガスレーザの充放電回路 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61212080A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Nec Corp | パルスガスレ−ザ励起回路 |
JPS6471190A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-16 | Nikon Corp | Discharge type excimer laser device |
-
1988
- 1988-10-27 JP JP26932788A patent/JPH02117187A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61212080A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Nec Corp | パルスガスレ−ザ励起回路 |
JPS6471190A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-16 | Nikon Corp | Discharge type excimer laser device |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02146785A (ja) * | 1988-11-28 | 1990-06-05 | Komatsu Ltd | パルス放電型ガスレーザの充放電回路 |
JP2743075B2 (ja) * | 1988-11-28 | 1998-04-22 | 株式会社小松製作所 | パルス放電型ガスレーザの充放電回路 |
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