JPH02103818A - 超伝導線材の製造方法 - Google Patents

超伝導線材の製造方法

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JPH02103818A
JPH02103818A JP25676788A JP25676788A JPH02103818A JP H02103818 A JPH02103818 A JP H02103818A JP 25676788 A JP25676788 A JP 25676788A JP 25676788 A JP25676788 A JP 25676788A JP H02103818 A JPH02103818 A JP H02103818A
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JP
Japan
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gold
superconducting
thin film
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long
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JP25676788A
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English (en)
Inventor
Takanao Arima
孝尚 有馬
Kazuharu Shimizu
一治 清水
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、核融合炉、電磁流体発電機、加速器、電動
機や発電機等の回転電気機器、磁気分離機、磁気浮上列
車、磁気浮上自動車、核磁気共鳴断層倣形診断装置、磁
気推進船、電子ビーム露光装置、単結晶製造装置、各種
実験装置等のマグネットコイル用材利として適し、また
、送電線、■ネルキー貯蔵器、変圧器、整流器、調相機
等の電力損失が問題になる用途に適した超伝導線材に関
する。
[従来の技術] 超伝導線材を製造する方法は、いろいろ提案されている
。たとえば、特開昭55−124907号公報には、補
強I!雑の上にNbCNからなる超伝導薄膜を形成する
方法が記載されている。この方法によれば、工業的に利
用しやすい、線状のものが得られるという利点があるが
、超伝導転移温度は18KV¥度とそれほど高くない。
一方、製造方法は明確でないものの、超伝導線材として
化合物系のNb3SnヤV3Gaが知られているか、超
伝導転移温度は、Nb3Snで18に、VBGaで15
にとやはり低い。また、合金糸のものとしてNbTiが
あるが、超伝導転移温度は11Kにすぎない。ざら1こ
、シェブレル型と呼ばれるPbMO6Saがあるが、こ
れもまた、超伝導転移温度が15.3にと低い。
また、Y、BaおよびCuを含む酸化物セラミックス系
の超伝導線材を、それらY、BaおよびCuの酸化物粉
末を線状に成形し、焼結することによって製造すること
も提案されているが、この方法は、焼結時に酸素欠損が
起こることから、その酸素欠損によって超伝導転移温度
が低くなるという問題がある。
[発明が解決しようとする課題] この発明の目的は、従来の方法の上述した問題点を解決
し、超伝導転移温度等の超伝導特性に優れた超伝導線材
を製造する方法を提供するにある。
[課題を解決するだめの手段] 上記目的を達成するために、この発明においては、B 
l 、Pb、Sr、CaおよびCuの硝酸塩を含む溶液
の霧滴を、700〜900℃に加熱した、長尺の全基材
もしくは金被覆基材に接触させてその全基材もしくは金
被覆基材上に超伝導薄膜を形成することを特徴と覆−る
超電導線材の製造方法が提供される。
また、この発明においては、Bi、pb、sr。
CaおよびCuの硝酸塩を含む溶液の霧滴を、100〜
900 ℃に加熱した、長尺の全基材もしくは金被覆基
材に接触させてその全基材もしくは金被覆基材上に先駆
体薄膜を形成し、次いでその先駆体薄膜を基材ごと70
0〜900℃で熱処理して超伝導薄膜に変換することを
特徴とする超電導線材の製造方法が提供される。
上記超伝導薄膜は、一般式、(Bi、Pb)2(Sr、
Ca)3cu20y (ただし、7≦y≦9)、または
(B i、Pb)2 (Sr、Ca)4Cu30 y 
 (ただし、9≦y≦11)で表されるものと推定され
る。
この発明の詳細な説明するに、この発明においては、超
伝導薄膜を形成するための基材として、11!i維状や
線状、テープ状等の長尺の金を使用する。
もっとも、金以外の材料からなる長尺基材を素基材とし
、その上に金を被覆して基材としてもよい。
素基材には、下記するような耐熱性材料を使用すること
かできる。
炭素系材料二 ポリアクリロニトリル系炭素、ピッチ系炭素等。
セラミックス系材料: アルミナ、サファイア、アルミナ−シリカ、マグネシア
、部分安定化ジルコニア、ジルコニア、イツトリア、ラ
ンタニア、シリコンカーバイド、窒化ケイ素、炭化チタ
ン、窒化ニオブ、窒化ホウ素、チタン酸アルカリ、ケイ
酸鉛カリ、チタン酸ストロンヂウム、ホウ化ヂタン、ボ
ウ化ジルコニウム等。チタンと、シリコンと、炭素と、
酸素とからなるセラミックス(たとえば、宇部興産株式
会社製のチラノ繊維)等。
金属系材お1: W、Cu、Cr、MOlNi、V、Nb、YlZr、B
、ΔQ、P↑等。これら金属の少なくとも1種を主成分
とする合金(たとえば、55〜59%N1118〜12
%Mo、0.04〜0.15%G合金)等。
カラス系材料: Fガラス、Sガラス等。
これらのうち、金属は、アモルファス構造をもつもので
あってもよい。また、素基材には、上述した材料を混用
することもできる。たとえば、ポリアクリロニトリル系
炭素にシリコンカーバイドを被覆したものを素基材とし
て使用することかできる。
素基材を金で被覆する方法としては、メツキ法、スパッ
タリング法、蒸着法等を使用することができる。
さて、この発明においては、まず、100〜9oo’c
に加熱した上記基材にBi、Pb、Sr、CaおJ:び
Cuの硝酸塩を含む溶液の霧滴を接触させ、基材上に先
駆体薄膜を形成する。
硝酸塩は、水和物でも、そうでなくても、いずれてもよ
い。また、亜硝酸塩を使用することもできる。硝酸塩の
具体例としては、 Bi(NO3)3・5日20 Pb (NO3) 2 Sr  (NO3) 2 Ca (’NO3) 2  ・4.H20CLJ  (
NO3) 2 ・3)−(20がある。
これら硝酸塩の溶媒としては、希硝酸や、各種アルコー
ルや、各種炭化水素や、ジメチルフォルムアミドや、ジ
メチルアセトアミドや、ピリジンや、アセトニトリル等
の含窒素溶媒や、ジメチルスルフオキシド等の含硫黄溶
媒等を使用することができる。なお、炭素を含む溶媒を
使用する場合、その霧滴を基材に接触させると、炭酸化
物を形成しゃすいSrやCaが3rCO3やCaCO3
に変わり、さらに反応が進行して超伝導薄膜となるが、
希硝酸を使用した場合には、希硝酸は炭素を含まないか
ら、そのような経過を経ることなく硝酸の分解とともに
超伝導薄膜が形成される。
溶液の濃度は、溶液を霧滴にすることができ、しかも、
基材への−様な付着が行える濃度でおればよく、1〜1
000mmol/ l程度でおればよい。
好ましいのは、1〜300mmol/lである。
溶液中にあけるB i 、Pb、Sr、Ca、Cuの原
子数をそれぞれrl (Bib、n (Pb>、n(S
r)、n (Ca)、n (CI−1>としたとき、そ
れらの関係か次■〜■を満足するようにすると、超伝導
を示すもの以外の不純物が少なくなるので好ましい。
O≦In (Pb)/n (B i ) ]≦1  ・
・・■0.3≦In (Ca)/n (Sr)]]≦3
・・■0.3≦([n(Bi)+n (Pb)]/n 
(Cu))≦2       ・・・■0.5≦([n
 (Sr)+n (Ca)]/n(Cu))≦2   
    ・・・■硝酸塩の溶液を霧滴にする方法として
は、圧縮ガスによるスプレー法がある。この方法は、霧
吹の原理を利用するものである。また、超音波振動子を
用いる方法がある。この方法は、圧電素子によって溶液
を高周波で振動させ、霧滴にするもので、霧滴は適当な
キャリアーガスで反応室に運ぶ。
さらに、スプレー法と超音波振動子による方法とを組み
合わせることもできる。この方法は、超音波振動子によ
って霧滴にした溶液をスプレーする方法である。なお、
上記圧縮カスやキャリアーガスとしては、酸素、空気、
窒素、アルゴン、ヘリウムガス等が適している。
さて、この発明においては、上述したように、100〜
900℃に加熱した基材に[3i、Pb。
sr、caおよびCuの硝酸塩を含む溶液の霧滴を接触
させ、基材−トに先駆体薄膜を形成するが、基材の温度
が700〜900℃で、かつ、薄膜の成長速度が比較的
遅い場合には、既【ご超電導薄膜になってしまっている
。そうでない先駆体薄膜の場合には、ざらに熱処理して
超伝導薄膜に変換する。熱処理の雰囲気は、空気か、酸
素と窒素等の不活性気体との混合気体とする。混合気体
を用いる場合には、酸素分圧を0.05〜0.1気圧程
度とすることが好ましい。熱処理温度は、700〜90
0 ℃1熱処理時間は1時間から数十時間程度である。
好ましくは、830−860℃で、5〜15時間熱処理
する。なお、熱処理に際して薄膜に圧力を加えることに
より、膜質を改善するもできる。
「実 施 例] 溶液として、4.0mmolのBi  (NO3)3・
5H20と、10mm01のPb (NO3)2と、4
0uolのSr (NO3)2と、85mm01のCa
 (N03 ) 2 ・4.1−120と、80mmo
lのCu(NO3)2 ・3H20と、600mmol
のHNO3を水に溶かして10100Oになるようにし
たものを用い、これを、400℃に加熱した、太さ0.
1mmの金線に両側から噴霧して金線上に先駆体薄膜を
形成した。このとき、金線を10cm/分の速度で走行
させた。噴霧は、酸素ガスをキャリアカスとして、ノズ
ル径か0.3mmのスプレーノズルを用いて行った。
次に、金線上の先駆体薄膜を、金線ごと空気中にて84
5°Cで15時間焼成した後、100℃/時の速度で徐
冷し、先駆体薄膜を超伝導薄膜に変換した。
かくして)qられた超伝導線材は、80Kにて電気抵抗
が零になった。また、薄膜をX線回折によって分析した
ところ、(B i、Pb)2 (Sr。
Ca)3 Cu 2−Oyのピークが認められた。
[発明の効果] この発明の方法は、Bi、Pb、5rSCaおよびCU
の硝酸塩を含む溶液の霧滴を、700〜900℃に加熱
した、長尺の金基材もしくは金被覆基材に接触させてそ
の金基材もしくは金被覆基材上に超伝導薄膜を形成する
か、または、Bi、pb、3r、 CaおよびCIJの
硝酸塩を含む溶液の霧滴を、100〜900℃に加熱し
た、長尺の金基材もしくは金被覆基材に接触させてその
金基材もしくは金被覆基材上に先駆体薄膜を形成し、次
いでその先駆体薄膜を基材ごと700〜900℃で熱処
理して超伝導薄膜に変換するから、実施例にも示したよ
うに、超伝導転移温度等の超伝導特性に優れ、しかも、
T業的に利用しやすい超伝導線材を容易に得ることがで
きる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Bi、Pb、Sr、CaおよびCuの硝酸塩を含
    む溶液の霧滴を、700〜900℃に加熱した、長尺の
    金基材もしくは金被覆基材に接触させてその金基材もし
    くは金被覆基材上に超伝導薄膜を形成することを特徴と
    する超電導線材の製造方法
  2. (2)Bi、Pb、Sr、CaおよびCuの硝酸塩を含
    む溶液の霧滴を、100〜900℃に加熱した、長尺の
    金基材もしくは金被覆基材に接触させてその金基材もし
    くは金被覆基材上に先駆体薄膜を形成し、次いでその先
    駆体薄膜を基材ごと700〜900℃で熱処理して超伝
    導薄膜に変換することを特徴とする超電導線材の製造方
    法。
JP25676788A 1988-10-11 1988-10-11 超伝導線材の製造方法 Pending JPH02103818A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006045055A (ja) * 2004-07-09 2006-02-16 Sumitomo Electric Ind Ltd 粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた超電導線材および超電導機器
US7582328B2 (en) * 2004-08-20 2009-09-01 American Superconductor Corporation Dropwise deposition of a patterned oxide superconductor

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JP2006045055A (ja) * 2004-07-09 2006-02-16 Sumitomo Electric Ind Ltd 粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた超電導線材および超電導機器
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