JPH02103051A - 光重合可能な記録材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、基板材料、光重合可能な層及び大気酸素をあ
まり透過させない被覆層よりなる光重合可能な記録材料
に関する。この材料は印刷板、特に平版印刷板を製造す
るために特に適当である。
まり透過させない被覆層よりなる光重合可能な記録材料
に関する。この材料は印刷板、特に平版印刷板を製造す
るために特に適当である。
前記の型の印刷板は例えば米国特許(US−A)第34
58311号明細書から公知である。
58311号明細書から公知である。
その中に記載された被覆層はX溶性のポリマー例エバポ
リビニルアルコール、ポリビニルぎロリドン、ゼラチン
又はア2とアゴムよりなる。
リビニルアルコール、ポリビニルぎロリドン、ゼラチン
又はア2とアゴムよりなる。
それらの物質のうち、ポリビニルアルコールは、酸素に
関するその遮断効果が極めて高いので、有利である。し
かしながら、ポリビニルアルコールよりなる被覆層を有
する貯蔵場れ九九重合可能な印刷板は、何週間かつ何ケ
月間のうちにそのかなりの感光性金失うことが判ってき
た。
関するその遮断効果が極めて高いので、有利である。し
かしながら、ポリビニルアルコールよりなる被覆層を有
する貯蔵場れ九九重合可能な印刷板は、何週間かつ何ケ
月間のうちにそのかなりの感光性金失うことが判ってき
た。
また、保護効果は温度が上昇すると共にかつ大気湿度が
増すと共に著しく減少することも望められている。実際
に、ポリビニルアルコールの酸素透過性は1m反及び大
気湿度と共に著しく増加することを示すことは可能であ
った。この不利な点は、光酸化可能な物質及び特別相乗
的な開始剤組合せを含有する高い感光性の光重合可能な
混合物の場合に特に重大である。そのような混合物は西
ドイツ国脣許(German Patant。
増すと共に著しく減少することも望められている。実際
に、ポリビニルアルコールの酸素透過性は1m反及び大
気湿度と共に著しく増加することを示すことは可能であ
った。この不利な点は、光酸化可能な物質及び特別相乗
的な開始剤組合せを含有する高い感光性の光重合可能な
混合物の場合に特に重大である。そのような混合物は西
ドイツ国脣許(German Patant。
Applications )第P3710279.6
、P3710281.8、P3710282.6及びP
3743454.3号明細書に記&ちれている。
、P3710281.8、P3710282.6及びP
3743454.3号明細書に記&ちれている。
酸素が層中に拡散するのを阻止するために、光重合5r
能な層自体に物質、例えば錫塩又は抗酸化剤を加えるこ
とも公知である。そのような添加剤は例えば、デニソプ
(E、T、 Denisov )等著、ケミカル・レビ
ュース(Chem、 Rev、 )1987年、161
3〜1657頁による論文に記載ちれている。このよう
な化合物は通例不所望の副作用を有しかつ特に感光性を
減らすので、これら4実際には確立されなかった。
能な層自体に物質、例えば錫塩又は抗酸化剤を加えるこ
とも公知である。そのような添加剤は例えば、デニソプ
(E、T、 Denisov )等著、ケミカル・レビ
ュース(Chem、 Rev、 )1987年、161
3〜1657頁による論文に記載ちれている。このよう
な化合物は通例不所望の副作用を有しかつ特に感光性を
減らすので、これら4実際には確立されなかった。
本発明の目的は、その感光性が少しも減少せず又はこの
型の現存する材料と同じ程度にのみ減少しかつ高めた温
度及び大気湿度での貯蔵に対して特により低い感性であ
る酸素遮断被覆層を有する光重合可能な記録材料を提供
することである。
型の現存する材料と同じ程度にのみ減少しかつ高めた温
度及び大気湿度での貯蔵に対して特により低い感性であ
る酸素遮断被覆層を有する光重合可能な記録材料を提供
することである。
〔課題1−解決するための手段〕
本発明は、基板材料、光重合可能な層及び大気酸素をあ
まり透過嘔せない水溶性ポリマーを含有する被FJ層よ
りなる光重合可能な記録材料から出発する@ 本発明による材料においては、更に被覆層は大気酸素全
結合しかつ20℃で水に実際に完全に可溶であるポリマ
ーを含有する。
まり透過嘔せない水溶性ポリマーを含有する被FJ層よ
りなる光重合可能な記録材料から出発する@ 本発明による材料においては、更に被覆層は大気酸素全
結合しかつ20℃で水に実際に完全に可溶であるポリマ
ーを含有する。
大気酸素を結合する念めの適当な水居性ポリマーは、第
一 第二又は第三であ・りてよい脂肪族アミノ基tlj
する化合物である。ポリマーはアミノ基に加えて有利に
いかなる官能基もそれ以上3有すべきではない。その分
子量は一般に600〜1 [)00000XW利に10
00〜200000、特に10000〜200000の
範囲内である。
一 第二又は第三であ・りてよい脂肪族アミノ基tlj
する化合物である。ポリマーはアミノ基に加えて有利に
いかなる官能基もそれ以上3有すべきではない。その分
子量は一般に600〜1 [)00000XW利に10
00〜200000、特に10000〜200000の
範囲内である。
使用ちれるアミノ基含有ポリマーは有利に直錫又は分枝
鎖のポリアルキレンイミンであり、そのアルキレン基は
2−8、特に2〜4個の炭素原子を含有する。分子t1
8000〜80000−e有するポリアルキレンイミン
、特にポリエチレンイミン及びポリプロぎし/イミンが
特に有利である。
鎖のポリアルキレンイミンであり、そのアルキレン基は
2−8、特に2〜4個の炭素原子を含有する。分子t1
8000〜80000−e有するポリアルキレンイミン
、特にポリエチレンイミン及びポリプロぎし/イミンが
特に有利である。
ポリアルキレンイミンは、米国特許(US−A)第22
23930号明細書に記載されているように、アルキレ
/イミン、例えばエチレンイミ/又はプロぎレンイばン
の酸−触媒化1合によって製造され得る。より高い分子
t′!!−有する生成物は、米国特許(US−A)第 3519687号明細書に記載されているように、二官
能性アルキル化剤、例えば1.2−ジりaロエタン及び
1.2−エチレンジアミンの付加による低分子Wkヲ有
するものとの反応によって得られ得る。そのようなポリ
アルキレンイミンは市販の、製品である。有利な例は第
一アミノ基約30係、第二アミノ基約40係及び第三ア
ミノ基約30係含有する。
23930号明細書に記載されているように、アルキレ
/イミン、例えばエチレンイミ/又はプロぎレンイばン
の酸−触媒化1合によって製造され得る。より高い分子
t′!!−有する生成物は、米国特許(US−A)第 3519687号明細書に記載されているように、二官
能性アルキル化剤、例えば1.2−ジりaロエタン及び
1.2−エチレンジアミンの付加による低分子Wkヲ有
するものとの反応によって得られ得る。そのようなポリ
アルキレンイミンは市販の、製品である。有利な例は第
一アミノ基約30係、第二アミノ基約40係及び第三ア
ミノ基約30係含有する。
大気酸素をあまり透過させないポリマーは米国特許(U
S−A)第3458311号明細書に示されているポリ
マーの181であってよい。
S−A)第3458311号明細書に示されているポリ
マーの181であってよい。
例は峙にポリビニルアルコール及び部分的に加水分解ち
れたポリ酢酸ビニルであり、これはポリマーが20℃で
水溶性で存続するかぎりビニルエーテル及ヒビニルアセ
タール単位を含有してもよい。ゼラチン、アラビアゴム
、アルキルビニルエーテルと無水マレイン酸とのコポリ
マポリビニルぎロリドン及び酸化エチレンの7に俗性高
分子竜ポリマー(M−100000〜3000000)
を使用することも可能である。
れたポリ酢酸ビニルであり、これはポリマーが20℃で
水溶性で存続するかぎりビニルエーテル及ヒビニルアセ
タール単位を含有してもよい。ゼラチン、アラビアゴム
、アルキルビニルエーテルと無水マレイン酸とのコポリ
マポリビニルぎロリドン及び酸化エチレンの7に俗性高
分子竜ポリマー(M−100000〜3000000)
を使用することも可能である。
20℃での層におけるその酸素透過性が3QCm3/1
n2/d/バールよりも少ない、待に25crn3/
m2 / d /パールよりも少ないポリマーが■利で
ある。
n2/d/バールよりも少ない、待に25crn3/
m2 / d /パールよりも少ないポリマーが■利で
ある。
被覆層は化学光を透過させかつ一般に0.5〜10、有
利に1〜4μmの厚さを有しなければならない。これは
一般に全問体含竜に基つき、酸素結合ポリマー 特にポ
リアルキレンイミン6〜60、有利に5〜40重を憾含
有する。被覆層を常法で水浴液から又は水及び有機溶剤
の混合物から光重合可能な層の上面に塗布する。
利に1〜4μmの厚さを有しなければならない。これは
一般に全問体含竜に基つき、酸素結合ポリマー 特にポ
リアルキレンイミン6〜60、有利に5〜40重を憾含
有する。被覆層を常法で水浴液から又は水及び有機溶剤
の混合物から光重合可能な層の上面に塗布する。
コーティング溶液はその固体含量に基づき、界面活性剤
10重f傷まで、有利に5重を係までをより良好な湿潤
性のために含有してよい。使用可能な界面活性物質は、
陰イオン、陽イオン及び非イオン界面活性剤、例えば1
2〜18個の炭素原子のナトリウムアルキルスルフェー
ト及びアルキルスルホネート、例えばナトリウムドデシ
ルスルフェート、N−セチルベタイン、C−セチルベタ
イン、アルキルアミノカルボキシレート、アルキルアミ
ノジカルボキシレート及び平均分子f400までを有す
るポリエチレングリコールを包含する。
10重f傷まで、有利に5重を係までをより良好な湿潤
性のために含有してよい。使用可能な界面活性物質は、
陰イオン、陽イオン及び非イオン界面活性剤、例えば1
2〜18個の炭素原子のナトリウムアルキルスルフェー
ト及びアルキルスルホネート、例えばナトリウムドデシ
ルスルフェート、N−セチルベタイン、C−セチルベタ
イン、アルキルアミノカルボキシレート、アルキルアミ
ノジカルボキシレート及び平均分子f400までを有す
るポリエチレングリコールを包含する。
本発明による材料の被覆層は、湿潤剤と共に又はそれ無
しで酸素遮断ポリマー 例えばポリビニルアルコールの
みt含有する現存の被覆層よりも低い酸素透過性を有す
る。保護効果は特に高めた温明でかつ高めた大気湿度で
改善されかつ長くちれた貯蔵で現存の保護層のそれより
も長持ちする。高い特殊の保護効果は比較的に薄い被覆
fi3 (0,5〜2.5μm)の使用を可能にするの
で、良好な光学的分解が得られる。この特性は光重合可
能な材料に基づくオフセット印刷板の場合に特に改善を
必要とする。
しで酸素遮断ポリマー 例えばポリビニルアルコールの
みt含有する現存の被覆層よりも低い酸素透過性を有す
る。保護効果は特に高めた温明でかつ高めた大気湿度で
改善されかつ長くちれた貯蔵で現存の保護層のそれより
も長持ちする。高い特殊の保護効果は比較的に薄い被覆
fi3 (0,5〜2.5μm)の使用を可能にするの
で、良好な光学的分解が得られる。この特性は光重合可
能な材料に基づくオフセット印刷板の場合に特に改善を
必要とする。
本発明による記碌材料の光重合可能な層は、基本成分と
してポリマーのバインダー 少なくとも1個、有利に少
なくとも2個の末端エチレン系不吻和基を有する遊離基
重合可能な化合物、及び化学線活性の重合開始剤又は開
始剤組合上を含有する。
してポリマーのバインダー 少なくとも1個、有利に少
なくとも2個の末端エチレン系不吻和基を有する遊離基
重合可能な化合物、及び化学線活性の重合開始剤又は開
始剤組合上を含有する。
本発明の目的に適当な重合可能な化合物は公知であり、
例えば米国特許(US−A)第2760863号及び第
3060023号明細書に記#嘔れている。
例えば米国特許(US−A)第2760863号及び第
3060023号明細書に記#嘔れている。
有利な例は、2価(dihydric )又は多価アル
コールのアクリル及びメタクリルエステル、例えばエチ
レングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリスリトール及びジペンタエ
リスリトールの及び多価脂環式アルコールのアクリレー
ト及びメタクリレート又はN−置換のアクリルアミド及
びメタクリルアミドである。モノイソシアネート又はジ
イソシアネートと多価アルコールの部分エステルとの反
応生成物を使用することも有利である。そのようなモノ
マーは、西ドイツ国特許公開(DE−A)第20640
79号、第2361041号及び第28221900号
明細書記載ちれている。
コールのアクリル及びメタクリルエステル、例えばエチ
レングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリスリトール及びジペンタエ
リスリトールの及び多価脂環式アルコールのアクリレー
ト及びメタクリレート又はN−置換のアクリルアミド及
びメタクリルアミドである。モノイソシアネート又はジ
イソシアネートと多価アルコールの部分エステルとの反
応生成物を使用することも有利である。そのようなモノ
マーは、西ドイツ国特許公開(DE−A)第20640
79号、第2361041号及び第28221900号
明細書記載ちれている。
分子中に少なくとも1個の光酸化可能な基金単独で又は
1個又は数個のウレタン基と一緒に含有するTljl回
合な化合物が特に有利である。
1個又は数個のウレタン基と一緒に含有するTljl回
合な化合物が特に有利である。
適当な光酸化可能な基は特に、複素環の成分であっても
よいアミン基、尿素基、チオ基及びエノール基である。
よいアミン基、尿素基、チオ基及びエノール基である。
そのような基の作は、トリエタノールアミノ、トリフェ
ニルアミノ、チオ)求素、イミダ・戸−ル、オキデ・戸
−ル、ナア・戸−ル、アセチルアヤトニル、N−フェニ
ルグリシン及ヒアスコルビン酸残基である。第一 第二
及び特に甲、三アミノ基を有する重合可能な化合′吻が
有利である。
ニルアミノ、チオ)求素、イミダ・戸−ル、オキデ・戸
−ル、ナア・戸−ル、アセチルアヤトニル、N−フェニ
ルグリシン及ヒアスコルビン酸残基である。第一 第二
及び特に甲、三アミノ基を有する重合可能な化合′吻が
有利である。
光酸化可能な基を有する化合物の例は、式I:n
It ニー〇 基、ヒドロキシアルキル基又はアリール基であり R1
及びR2は各々水素原子、アルキル基又はアルコキシア
ルキル基であり、R3vi水素原子又はメチル基又はエ
チル基であ!11、XIは2〜12個の炭素原子の飽和
された炭化7X累基であり、X″はぞの中の5個までの
メチレン基が酸#、原子によf代えられていてよい(C
+1 ’)−価の飽和ちれ九炭化7に禦基であり Di
及びD2は各々1〜5個の炭素原子のや和された炭化水
素基であり、Eは2〜12個の炭素原子の飽和された炭
化*累基、4員としてNXO又はs Li子t 2 N
!jまで含有してよい5〜7員環の環状脂肪族基、6〜
12個の炭素原子のアリーレン基又は5又は6員埠の複
素環状芳香族基であり、aはO又は1〜4の整数であり
、bはO又i1であり、Cは1〜3の粒数であり、mは
0つ原子価に依り、2.3又は4でありかつnは1〜m
の整越であり、この際同一定義の全てのΣ号はおりいに
同一であるか又は異なっている〕のアクリル及びアルカ
クリル(alkacrylic )エステルである。
It ニー〇 基、ヒドロキシアルキル基又はアリール基であり R1
及びR2は各々水素原子、アルキル基又はアルコキシア
ルキル基であり、R3vi水素原子又はメチル基又はエ
チル基であ!11、XIは2〜12個の炭素原子の飽和
された炭化7X累基であり、X″はぞの中の5個までの
メチレン基が酸#、原子によf代えられていてよい(C
+1 ’)−価の飽和ちれ九炭化7に禦基であり Di
及びD2は各々1〜5個の炭素原子のや和された炭化水
素基であり、Eは2〜12個の炭素原子の飽和された炭
化*累基、4員としてNXO又はs Li子t 2 N
!jまで含有してよい5〜7員環の環状脂肪族基、6〜
12個の炭素原子のアリーレン基又は5又は6員埠の複
素環状芳香族基であり、aはO又は1〜4の整数であり
、bはO又i1であり、Cは1〜3の粒数であり、mは
0つ原子価に依り、2.3又は4でありかつnは1〜m
の整越であり、この際同一定義の全てのΣ号はおりいに
同一であるか又は異なっている〕のアクリル及びアルカ
クリル(alkacrylic )エステルである。
ν
第P3710279.6号明細書に詳説されている。
−g式lの化合物中、1個よりも多い基R又は1個より
も多い角かっこ〔〕内に示ちれた型の暴が中心基Qに結
合されている場合には、これらの基はお互いに異なって
いてよい。
も多い角かっこ〔〕内に示ちれた型の暴が中心基Qに結
合されている場合には、これらの基はお互いに異なって
いてよい。
Qの全置換基が重合可能な基である、すなわちmがnで
ある化合物は一般に有利である。
ある化合物は一般に有利である。
一般に、1 (nよジも多くないaは0である;有利に
aは1である。
aは1である。
アルキル又はヒドロギシアルキル基Rfl一般に2〜8
、有“利に2〜411−の炭素原子を有する。
、有“利に2〜411−の炭素原子を有する。
アリール基Rは一般に単環状又は二環状、有利に椿環状
であり5個までの炭素原子のアルキル又はアルコキシ八
又はハロゲン原子によって置換されてよい。
であり5個までの炭素原子のアルキル又はアルコキシ八
又はハロゲン原子によって置換されてよい。
アルキル及びアルコキシアルキル基R1及びR2は1〜
5個の炭素原子を有してよい。
5個の炭素原子を有してよい。
R3は有利に水素原子又はメチル基、特にメチル基であ
る。
る。
xlは有利に、FPF4〜10個の炭素原子の直鎖又は
分枝釦の脂肪族又は環状脂肪族基である。
分枝釦の脂肪族又は環状脂肪族基である。
x2は有利に2〜15個の炭素原子を有し、そのうち5
個までは酸素原子によって代えられていてよい。単一の
炭素鎖の場合には、一般に2〜12、有t11に2〜6
個の炭素原子fc有するものが使用される。Xには同様
に5〜10個の炭素原子のへ状口旨肪族基、特に7クロ
ヘキシレン基であってよい。
個までは酸素原子によって代えられていてよい。単一の
炭素鎖の場合には、一般に2〜12、有t11に2〜6
個の炭素原子fc有するものが使用される。Xには同様
に5〜10個の炭素原子のへ状口旨肪族基、特に7クロ
ヘキシレン基であってよい。
D↓及びD2は同−又は異なっていてよく、かつ2個の
窒素原子と一緒に5〜10、有利に6個の環員の飽和?
I素環を形成してよい。
窒素原子と一緒に5〜10、有利に6個の環員の飽和?
I素環を形成してよい。
アルキレン基Eは有利に2〜6個の炭素原子ヲ有しかつ
アリーレン基Eは有利にフ二二しン基である。有利な環
状脂肪族基はシクロヘキシレン基でありかつ有利な芳香
11!f、複素環はへテロ原子としてN又はS及び5又
は6個の14員を有するものである。
アリーレン基Eは有利にフ二二しン基である。有利な環
状脂肪族基はシクロヘキシレン基でありかつ有利な芳香
11!f、複素環はへテロ原子としてN又はS及び5又
は6個の14員を有するものである。
Cの価は有利に1である。
2個のウレタン基を各基中に有する式Iの重合可能な化
合′1′771(b=1)は、苛離のヒドロ千シルAn
含有するアクリル又はアルキルアクリルエステルを、常
法で、ジイソシアネート同モル惜(molar amo
unz )と反応嘔セかつ過剰のイソシアネート基金ヒ
ドロキシアルキルアミン、N、N−ビスヒドロキシアル
キルピペラジン又はN、N、N’、N’−テトラヒドロ
キシアルキルアルキレンジアミン(この各々における個
々のヒドロキシアルキル基ハアルキル又はアリール基H
によって代えられていてよい)と反う芒せることによっ
て製造畑れる。aが0である場合には、結果は尿素基で
ある。
合′1′771(b=1)は、苛離のヒドロ千シルAn
含有するアクリル又はアルキルアクリルエステルを、常
法で、ジイソシアネート同モル惜(molar amo
unz )と反応嘔セかつ過剰のイソシアネート基金ヒ
ドロキシアルキルアミン、N、N−ビスヒドロキシアル
キルピペラジン又はN、N、N’、N’−テトラヒドロ
キシアルキルアルキレンジアミン(この各々における個
々のヒドロキシアルキル基ハアルキル又はアリール基H
によって代えられていてよい)と反う芒せることによっ
て製造畑れる。aが0である場合には、結果は尿素基で
ある。
ヒドロキシアルキルアミン出発物質の例はトリエタノー
ルアミン、N−フルキル−N、N−ジ(ヒドロキシアル
キル)アミン、ジェタノールアミン、トリス(2−ヒド
ロキシプロピル)アミン及びトリス(2−ヒドロキシブ
チル)アミンである。
ルアミン、N−フルキル−N、N−ジ(ヒドロキシアル
キル)アミン、ジェタノールアミン、トリス(2−ヒド
ロキシプロピル)アミン及びトリス(2−ヒドロキシブ
チル)アミンである。
ジイソンアネート出発物質の例は、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、2,2.4−1リメチルヘキサメテレン
ジイソシアネー)、1.4−/クロヘキシレンジイソシ
アネート及び11 、3− トIJメチル−6−イツシ
アナトメチルー5−インシアナトシクロヘキサンである
。
ソシアネート、2,2.4−1リメチルヘキサメテレン
ジイソシアネー)、1.4−/クロヘキシレンジイソシ
アネート及び11 、3− トIJメチル−6−イツシ
アナトメチルー5−インシアナトシクロヘキサンである
。
使用されるヒドロキシル含有エステルは特にヒドロキ7
エテルメタクリレート及びヒドロキシプロビルメタクリ
レート(n又はイノ)及び相応するアクリレートである
。
エテルメタクリレート及びヒドロキシプロビルメタクリ
レート(n又はイノ)及び相応するアクリレートである
。
式中すがOである式Iの重合可能な化合物は、前記のヒ
ドロキンアルキルアミノ化合物をイソシアナトf’にの
アクリル又はアルキルアクリルエステルと反応場Yるこ
とによって製造される。
ドロキンアルキルアミノ化合物をイソシアナトf’にの
アクリル又はアルキルアクリルエステルと反応場Yるこ
とによって製造される。
使用されるインシアナト含有エステルは特許インシアナ
トエチル(メタ)アクリレートである。
トエチル(メタ)アクリレートである。
元酸化可(イ[コなA(を有する更に適白な化合物は式
11: 〔式中Q1[(,1(” ’R” t(3aXm及
びnは各々前記のものでありかつQμ角加的に基:(基
中E′は式fil [−:J′で 、−亡ツ の基である)であってよい〕の化合物である。
11: 〔式中Q1[(,1(” ’R” t(3aXm及
びnは各々前記のものでありかつQμ角加的に基:(基
中E′は式fil [−:J′で 、−亡ツ の基である)であってよい〕の化合物である。
式1の化合物は、ヒドロキシアルキル(アルク)アクリ
レートが相応するグリシジル(アルク)アクリレートに
よって代えられることを除いて、式Iのそれと同様に製
造場れる。
レートが相応するグリシジル(アルク)アクリレートに
よって代えられることを除いて、式Iのそれと同様に製
造場れる。
この式の化合物及びその製造及び使用は西ドイツ斬許i
ll ?i (patent Application
)第P3738864.9に詳説されている。
ll ?i (patent Application
)第P3738864.9に詳説されている。
光酸化可能な基を■する更に出1当な化合物は、式■:
Q’ [(X” −CH20)a−CONH(−Xl−
NE(Co O) b−X”−00C−C−CH2〕コ
(ト)) ′R3 C1R21−10−C0NH(−X”−NHCOO)
b−X” −ooc−c −CH2であり、D5は窒素
原子と一緒になって5−又は6−員環を形成する4〜8
個の炭素原子の塙和焚化水素基であり、2は水素原子又
は式:%式% の基であり、1及びkは1〜12の整数であり、n′は
Q′の原子価に依り1.2又は6であり、かつR3Xl
xj DI D2 a及びbは式■で定義し
たとうりの各々であり、この際同一定義の全ての記号は
お互いに同−又は異なりかつ基Q上の少なくとも1個の
置換基においでaは0である〕のアクリル及びアルカク
リルエステルである。
NE(Co O) b−X”−00C−C−CH2〕コ
(ト)) ′R3 C1R21−10−C0NH(−X”−NHCOO)
b−X” −ooc−c −CH2であり、D5は窒素
原子と一緒になって5−又は6−員環を形成する4〜8
個の炭素原子の塙和焚化水素基であり、2は水素原子又
は式:%式% の基であり、1及びkは1〜12の整数であり、n′は
Q′の原子価に依り1.2又は6であり、かつR3Xl
xj DI D2 a及びbは式■で定義し
たとうりの各々であり、この際同一定義の全ての記号は
お互いに同−又は異なりかつ基Q上の少なくとも1個の
置換基においでaは0である〕のアクリル及びアルカク
リルエステルである。
弐■の化付物のうち、1個の尿素基と同様に少なくとも
1伽のウレタン基も含有するものが有利である。尿素基
は本発明の目的のために1、 \ 式、 N−C0−N、 C式中窒素原子上の原子1曲
は/ 置換又は非置換の炭化水素基によって飽和される〕の基
である。しかしながら、ビウレット構造を生成するため
に、1個の窒素原子上の1個の原子測標がもう1′)の
カルボニルアミド基(C0NH)に結合されることも可
能である。
1伽のウレタン基も含有するものが有利である。尿素基
は本発明の目的のために1、 \ 式、 N−C0−N、 C式中窒素原子上の原子1曲
は/ 置換又は非置換の炭化水素基によって飽和される〕の基
である。しかしながら、ビウレット構造を生成するため
に、1個の窒素原子上の1個の原子測標がもう1′)の
カルボニルアミド基(C0NH)に結合されることも可
能である。
式■中の記号aは有利に0又は1である;1は有利に2
〜10の数である。
〜10の数である。
式■の1合可能な化合物は式Iの化合物と同様の方法で
製造される。
製造される。
式■の化合物及びその製造は西ドイツ国特許出’1Ia
Q (German Patent Applicat
ion ) 第P3824901 0号明細書に詳説さ
れている。
Q (German Patent Applicat
ion ) 第P3824901 0号明細書に詳説さ
れている。
光重合可能な層中の光重合可能な化合物の割合は、一般
に非揮発性成分に対して約10−80、有利に20〜6
0重を囁である。
に非揮発性成分に対して約10−80、有利に20〜6
0重を囁である。
使用可能なバインダーの例は、塩素化されたポリエチレ
ン、廖素化1れ之ポリプロピレン、ポリ〔アルキル(メ
タ)アクリレート〕(この際アルキル基は例えばメチル
基、エチル基、n−ブチル基、1−ブチル基、n−ヘキ
シル基又は2−エチルへ中シル基である)、前記のアル
キル(メタ)アクリレートと少なくとも1個のモノマー
、例えばアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、スチレン又はブタジェンとのコポリマー ポリ塩化
ビニル、塩化ビニル/アクリロニトリルコポリマー ポ
リ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン/アクリロニトリル
コポリマー ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、
ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル/スチレンコ
ポリマー アクリロニトリル/ブタジェン/スチレンコ
ポリマー ポリスチレン、ポリメチルスグーレン、ポリ
アミド(例えばナイロン−6)、ポリウレタン、メチル
セルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース、
ポリビニルホルマル及びポリビニルブチラルである。
ン、廖素化1れ之ポリプロピレン、ポリ〔アルキル(メ
タ)アクリレート〕(この際アルキル基は例えばメチル
基、エチル基、n−ブチル基、1−ブチル基、n−ヘキ
シル基又は2−エチルへ中シル基である)、前記のアル
キル(メタ)アクリレートと少なくとも1個のモノマー
、例えばアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、スチレン又はブタジェンとのコポリマー ポリ塩化
ビニル、塩化ビニル/アクリロニトリルコポリマー ポ
リ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン/アクリロニトリル
コポリマー ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、
ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル/スチレンコ
ポリマー アクリロニトリル/ブタジェン/スチレンコ
ポリマー ポリスチレン、ポリメチルスグーレン、ポリ
アミド(例えばナイロン−6)、ポリウレタン、メチル
セルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース、
ポリビニルホルマル及びポリビニルブチラルである。
水に不溶であり、■機醪剤にoT蔭でありかつアルカリ
性水浴液に可溶又に少なくとも湿潤性であるバインダー
が特に適当である。
性水浴液に可溶又に少なくとも湿潤性であるバインダー
が特に適当である。
カルボキシル基含有のバインダー 例えば(メタ)アク
リル酸及び/又はその不飽和同族体、例えばクロトン酸
のコポリマー、無水マレイン酸又はそのモノエステルの
コポリマー ヒドロキシル基含有のポリマーと無水ジカ
ルボン酸との反応生成物及びそれらの混合物が特に挙げ
られる。
リル酸及び/又はその不飽和同族体、例えばクロトン酸
のコポリマー、無水マレイン酸又はそのモノエステルの
コポリマー ヒドロキシル基含有のポリマーと無水ジカ
ルボン酸との反応生成物及びそれらの混合物が特に挙げ
られる。
完全に又は部分的に反応し九酸性H基を有するポリマー
と活性化インシアネートとの反応生成物、例えばヒドロ
キシル基含有のポリマーと脂肪族又は芳香族スルホニル
イソシアネート又はホスフィノイルイソシアネートとの
反応生成物を使用することも可能である。
と活性化インシアネートとの反応生成物、例えばヒドロ
キシル基含有のポリマーと脂肪族又は芳香族スルホニル
イソシアネート又はホスフィノイルイソシアネートとの
反応生成物を使用することも可能である。
また次のものも適当である:ヒドロキシル基含有ポリマ
ー 例えばヒドロキシル(メj1)アクリレートのコポ
リマー アリルフルコールのコポリマー ビニルアルコ
ールのコポリマーポリウレタン又はポリエステル、及び
同じくエポキシ但(脂、(これらは十分な数の遊離OF
(基を有する又はこれらはアルカリ性水溶液に可溶であ
るように変性されたという条件を伴う)、又は芳香族結
合のヒドロキシル基を有するポリマー 例えば縮合可能
なカルボニル化合物、”hYにホルムアルデヒド、アセ
トアルデヒド又はアセトンとフェノールとの縮合生成物
又はヒドロキシスチレンのコポリマー。最後に、(メタ
)アクリルアミドとアルキル(メ?X)アクリレートと
のコポリマーを使用することも可能である。
ー 例えばヒドロキシル(メj1)アクリレートのコポ
リマー アリルフルコールのコポリマー ビニルアルコ
ールのコポリマーポリウレタン又はポリエステル、及び
同じくエポキシ但(脂、(これらは十分な数の遊離OF
(基を有する又はこれらはアルカリ性水溶液に可溶であ
るように変性されたという条件を伴う)、又は芳香族結
合のヒドロキシル基を有するポリマー 例えば縮合可能
なカルボニル化合物、”hYにホルムアルデヒド、アセ
トアルデヒド又はアセトンとフェノールとの縮合生成物
又はヒドロキシスチレンのコポリマー。最後に、(メタ
)アクリルアミドとアルキル(メ?X)アクリレートと
のコポリマーを使用することも可能である。
前記のポリマーは、それらが分子量500〜20000
0又はよVa<、有利に1ooo〜i oooooを有
しかつ酸価10〜250、有利に20〜200かヒドロ
キシル価50〜750、有利に100〜500かいずれ
7D)を有する場合に特に適当である。
0又はよVa<、有利に1ooo〜i oooooを有
しかつ酸価10〜250、有利に20〜200かヒドロ
キシル価50〜750、有利に100〜500かいずれ
7D)を有する場合に特に適当である。
有利なアルカリ性可溶バインダーは次のものである:(
メタ)アクリル酸とアルキル(メタ)アクリレート、(
メタ)アクリロニトリル又は同様のものとのコポリマー
クロトン酸とアルキル(メタ)アクリレート、(メタ
)アクリロニトリル又は同様のものとのコポリマー ビ
ニル酢酸とアルキル(メタ)アクリレートとのコポリマ
ー 無水マレイン酸と置り又は非n’t ISスチレン
、不飽和炭化水素、不飽和エーテル又はエステルとのコ
ポリマー 無水マレイン酸のコポリマーのエステル化生
成物、ヒドロキシル基含有のポリマーとジー又はポリカ
ルボン酸の無水物とのエステル化生成物、ヒドロキシア
ル會ル(メタ)アクリレートとアルキル(メタ)アクリ
レート、(メタ)アクリロニトリル又は同様のものとの
コポリマー アリルアルコールと置換又は非置換スチレ
ンとのコポリマー ビニルアルコールとアルキル(メタ
)アクリレート又は他の重合可能な不飽和化合物とのコ
ポリマポリウレタン、(これらは十分な数の遊離OH基
を有するという条件を伴う)、エポキシ樹脂、ポリエス
テル、部分的加水分解された酢酸ビニルコポリマー、遊
離OH基を有するポリビニルアセタール、ヒドロキシス
チレントアルキル(メタ)アクリレート又は同様のもの
とのコポリマー フェノール−ホルムアルデヒド樹1旨
、例えばノボラック。
メタ)アクリル酸とアルキル(メタ)アクリレート、(
メタ)アクリロニトリル又は同様のものとのコポリマー
クロトン酸とアルキル(メタ)アクリレート、(メタ
)アクリロニトリル又は同様のものとのコポリマー ビ
ニル酢酸とアルキル(メタ)アクリレートとのコポリマ
ー 無水マレイン酸と置り又は非n’t ISスチレン
、不飽和炭化水素、不飽和エーテル又はエステルとのコ
ポリマー 無水マレイン酸のコポリマーのエステル化生
成物、ヒドロキシル基含有のポリマーとジー又はポリカ
ルボン酸の無水物とのエステル化生成物、ヒドロキシア
ル會ル(メタ)アクリレートとアルキル(メタ)アクリ
レート、(メタ)アクリロニトリル又は同様のものとの
コポリマー アリルアルコールと置換又は非置換スチレ
ンとのコポリマー ビニルアルコールとアルキル(メタ
)アクリレート又は他の重合可能な不飽和化合物とのコ
ポリマポリウレタン、(これらは十分な数の遊離OH基
を有するという条件を伴う)、エポキシ樹脂、ポリエス
テル、部分的加水分解された酢酸ビニルコポリマー、遊
離OH基を有するポリビニルアセタール、ヒドロキシス
チレントアルキル(メタ)アクリレート又は同様のもの
とのコポリマー フェノール−ホルムアルデヒド樹1旨
、例えばノボラック。
感光性層中のバインダーの量は一般に20〜90、有利
に40〜803(f壬である。
に40〜803(f壬である。
使用される光重合開始剤は、多数の物質であってよい。
例は西ドイツ国特許公開(D E −A)第33334
50号明細書に記載されているような、ベンゾフェノン
、アセトフェノン、ペン1戸イン、ベンジル、ベンジル
モノケタール、フルオレノン、チオキサントン、多環キ
ノン、アクリジン及びキナプリンの基本骨格から誘導さ
れるもの、及び同様に、トリクロロメチル−8−トリア
ジ/、2−ハロメチル−5−ビニル−1,3,4−オキ
サジアゾール誘導体、トリクロロメチル基置換のハロオ
キサ・戸−ル又はトリハロメチル基含有のカルボニルメ
チレン複素環である。
50号明細書に記載されているような、ベンゾフェノン
、アセトフェノン、ペン1戸イン、ベンジル、ベンジル
モノケタール、フルオレノン、チオキサントン、多環キ
ノン、アクリジン及びキナプリンの基本骨格から誘導さ
れるもの、及び同様に、トリクロロメチル−8−トリア
ジ/、2−ハロメチル−5−ビニル−1,3,4−オキ
サジアゾール誘導体、トリクロロメチル基置換のハロオ
キサ・戸−ル又はトリハロメチル基含有のカルボニルメ
チレン複素環である。
有利な′yt重合開始剤は、西ドイツ国特許出願(Ge
rman patent Applicat、1ons
)第P3710281.8及び同第P3710282
.6号明細書に記載されているような、放射線−開裂可
能なトリハロメチル化合物及び多分アクリジン、フェナ
ジン又はキノキサリンと組合せる場合に性別に、元還元
可能な染料である。
rman patent Applicat、1ons
)第P3710281.8及び同第P3710282
.6号明細書に記載されているような、放射線−開裂可
能なトリハロメチル化合物及び多分アクリジン、フェナ
ジン又はキノキサリンと組合せる場合に性別に、元還元
可能な染料である。
適当な元還元可能な染料は、特にキサンチン、ベンゾキ
サンチン、ペン1戸チオキサンチン、チアジン、−ロー
ン、ポルフィリン及びアクリジン染料である。染料の量
は一般に層の非揮発性成分に基づき、0.01〜10.
有利に0.05〜4N*4である。
サンチン、ペン1戸チオキサンチン、チアジン、−ロー
ン、ポルフィリン及びアクリジン染料である。染料の量
は一般に層の非揮発性成分に基づき、0.01〜10.
有利に0.05〜4N*4である。
感光性を増加嘔ゼるために、Ir4はそれに、元取合可
能な混合物のための遊離基生成光重合開始剤として使用
するためにそれ自体公刊である光分解的に開裂可能なト
リハロメチル基を有する化合物を加えられてよい。この
型の実証され九共同開始剤(coiniziator
)は、特に塩素原子及び臭素原子、特に塩素原子をハロ
ゲン原子として有する化合物である。トリハロメチル基
は、芳香族炭素環又は複素環に直接又は十分に共役した
鎖を介して、結合されてよい。有利に2個のトリハロメ
チル基を育する基本骨格中に1個のトリアジン環を有す
る化合物、特に西ドイツ国時許公開(DE−A)第13
7452号、西ドイツ国特許公開(Da−A)第271
8259号及び西ドイツ国特許公開(DB−A)第22
43621号明細書に記載されているそれが有利である
。これらの化合物は近紫外線(t’ ” ) 、例えば
およそ350〜400 nmで強く吸収される。複写元
(copying light、 )のスペクトル域中
でそれ自体まず吸収を示さない共同開始剤、例えば比較
的に短かい共鳴−可能な(mesomerizat、i
on −capable )電子系を有する成分又は脂
肪族成分を含有するトリハロメチルトリアジンを使用す
ることも可能である。
能な混合物のための遊離基生成光重合開始剤として使用
するためにそれ自体公刊である光分解的に開裂可能なト
リハロメチル基を有する化合物を加えられてよい。この
型の実証され九共同開始剤(coiniziator
)は、特に塩素原子及び臭素原子、特に塩素原子をハロ
ゲン原子として有する化合物である。トリハロメチル基
は、芳香族炭素環又は複素環に直接又は十分に共役した
鎖を介して、結合されてよい。有利に2個のトリハロメ
チル基を育する基本骨格中に1個のトリアジン環を有す
る化合物、特に西ドイツ国時許公開(DE−A)第13
7452号、西ドイツ国特許公開(Da−A)第271
8259号及び西ドイツ国特許公開(DB−A)第22
43621号明細書に記載されているそれが有利である
。これらの化合物は近紫外線(t’ ” ) 、例えば
およそ350〜400 nmで強く吸収される。複写元
(copying light、 )のスペクトル域中
でそれ自体まず吸収を示さない共同開始剤、例えば比較
的に短かい共鳴−可能な(mesomerizat、i
on −capable )電子系を有する成分又は脂
肪族成分を含有するトリハロメチルトリアジンを使用す
ることも可能である。
より短波の紫外線域で吸収する異なる基本構造を有する
化合物、例えばフェニルトリハロメチルスルホン又はフ
ェニルトリハロメチルケトン、例えばフェニルトリブロ
モメチルスルホンを使用することも可能である。
化合物、例えばフェニルトリハロメチルスルホン又はフ
ェニルトリハロメチルケトン、例えばフェニルトリブロ
モメチルスルホンを使用することも可能である。
対
の量で使用されるにすぎない。
本発明による材料はもう1種の開始剤成分としてアクリ
ジン、フェナジン又はキノキサリン化合物を含有する。
ジン、フェナジン又はキノキサリン化合物を含有する。
これらの化合物はft、重合開始剤として使用するため
に公知でありかつ西ドイツ国特許(DE−C)第202
74.!57号及び第2039861号明細書に記載烙
れている。
に公知でありかつ西ドイツ国特許(DE−C)第202
74.!57号及び第2039861号明細書に記載烙
れている。
これらの化合物は混合物の感光性tWに近紫外線域で増
加爆ぜる。この成分の量は同様に0.01〜10重を憾
、有利に0.05〜5重i幅の範囲内である。スペクト
ルの可視域での感光性におけるそれ以上の増加を所望す
る場合には、ジベンデルアセトン又はクマリン型の化合
物を加えることによってほぼもたらされ得る。この添加
によりより高く分解1れ九複写が得られかつ約600n
mの波長までのスペクトルの可視域に混合物の増感が完
成される。この化合物の量は同様に0.01−10、有
利に0.05−4’jl(f1%o範囲内である。
加爆ぜる。この成分の量は同様に0.01〜10重を憾
、有利に0.05〜5重i幅の範囲内である。スペクト
ルの可視域での感光性におけるそれ以上の増加を所望す
る場合には、ジベンデルアセトン又はクマリン型の化合
物を加えることによってほぼもたらされ得る。この添加
によりより高く分解1れ九複写が得られかつ約600n
mの波長までのスペクトルの可視域に混合物の増感が完
成される。この化合物の量は同様に0.01−10、有
利に0.05−4’jl(f1%o範囲内である。
重合開始剤のら童は一般に0.05〜20、有利に0.
1〜10ilt幅である。
1〜10ilt幅である。
光重合可能な層は意図する使用及び所望の特性に依り添
加剤として抛々の物質を含有してよい。例は次のもので
ある:モノマー〇熱重合を予防するための抑制剤、水素
供与体、染料、着色及び非着色顔料、染料生成成分、指
示薬、可塑剤及び連鎖移動剤。これらの成分は重合開始
過程に重要な化学放射mをできるだけ少なく吸収するよ
うな方法で有用に選択される。
加剤として抛々の物質を含有してよい。例は次のもので
ある:モノマー〇熱重合を予防するための抑制剤、水素
供与体、染料、着色及び非着色顔料、染料生成成分、指
示薬、可塑剤及び連鎖移動剤。これらの成分は重合開始
過程に重要な化学放射mをできるだけ少なく吸収するよ
うな方法で有用に選択される。
本発明の目的のために、化学放射線はそのエネルギーが
可視光のそれに少なくとも等しい任意の放射線である。
可視光のそれに少なくとも等しい任意の放射線である。
特に可視光及び長波紫外線の放射線、しかし同様に短波
紫外線の放射線、レーデ−光線、電子ビーム及びX−@
を使用することができる。感光性は約200 nm〜8
00nmの範囲に及び、従って棲めて広い範囲にわたる
。
紫外線の放射線、レーデ−光線、電子ビーム及びX−@
を使用することができる。感光性は約200 nm〜8
00nmの範囲に及び、従って棲めて広い範囲にわたる
。
本発明による材料のための適用は次のことである:凸版
印刷、平版印刷、凹版印刷及びスクリーン印刷のための
印刷板、レリーフ複写の写真裂版裂造、例えばプライス
、単一複写、焼付画像(tanned image )
、顔料画儂等の製造の九めの記録層。混合物は抜染レ
ジスト (discharge resist ) 、例えば名
札、複写回路及びケミカル・ミリングt−W造するため
に使用することもできる。本発明による混合物は平版印
刷板の実情の念めのかつフォトレジスト技術のための記
録層として特に重要である。
印刷、平版印刷、凹版印刷及びスクリーン印刷のための
印刷板、レリーフ複写の写真裂版裂造、例えばプライス
、単一複写、焼付画像(tanned image )
、顔料画儂等の製造の九めの記録層。混合物は抜染レ
ジスト (discharge resist ) 、例えば名
札、複写回路及びケミカル・ミリングt−W造するため
に使用することもできる。本発明による混合物は平版印
刷板の実情の念めのかつフォトレジスト技術のための記
録層として特に重要である。
本発明による記録材料のための適当な基板材料は例えば
アルミニウム、鋼、亜鉛及び銅箔、プラスチック薄膜、
例えばポリエチレンテレフタレート又は酢酸セルロース
薄膜及びスクリーン印刷材料、例えばベルロン(Per
lon )が−ゼである。層の接Nを正確に調整し、基
板材料の表面の石版特性を改善しかつ複写層の化学線域
における基板材料の反射性を減らす(抗ハレーション保
護)目的で、基板材料の表面を予備処理(化学的又は機
械的)することが多くの場合に有利である。
アルミニウム、鋼、亜鉛及び銅箔、プラスチック薄膜、
例えばポリエチレンテレフタレート又は酢酸セルロース
薄膜及びスクリーン印刷材料、例えばベルロン(Per
lon )が−ゼである。層の接Nを正確に調整し、基
板材料の表面の石版特性を改善しかつ複写層の化学線域
における基板材料の反射性を減らす(抗ハレーション保
護)目的で、基板材料の表面を予備処理(化学的又は機
械的)することが多くの場合に有利である。
この感光性材料は、常法で農造嘔れる。例えば、層成分
’を浴剤中に入れ、溶液又は分散液をコーティング、噴
霧、浸漬、ローラーコーティング等によって意図する基
板材料に塗布しかつその後に乾燥することが可能である
。
’を浴剤中に入れ、溶液又は分散液をコーティング、噴
霧、浸漬、ローラーコーティング等によって意図する基
板材料に塗布しかつその後に乾燥することが可能である
。
本発明による記録材料の広いスペクトル感度に基づき、
当業者に公刊の任意の光源、例えば螢光管、パルス式キ
セノンランプ、金属/10rン化物添加の高圧水銀灯及
び炭素アーク灯を使用することが可能である。更に、本
発明による感光性混合物音常用の保護及び拡大装置中で
金属フィラメント灯からの光でかつ慣用の白熱灯での接
触露光によって照射することが可能である。照射はレー
ザーのコヒレント光を用いて実施することもできる。本
発明の目的のために、特に250〜650 nmの範囲
で放出する適切な出力(right povrer )
のレーデ−例えばアルゴンイオン、クリプトンイオン、
染料、ヘリウム−カドミウム及びヘリウム−ネオンレー
デ−が適当である。このレーず−ビームは、予めプログ
ラム逼れた#i! (preprogrammed 1
ine )及び/又は走査動作(scanning m
ovemenz )によって調整され得る。
当業者に公刊の任意の光源、例えば螢光管、パルス式キ
セノンランプ、金属/10rン化物添加の高圧水銀灯及
び炭素アーク灯を使用することが可能である。更に、本
発明による感光性混合物音常用の保護及び拡大装置中で
金属フィラメント灯からの光でかつ慣用の白熱灯での接
触露光によって照射することが可能である。照射はレー
ザーのコヒレント光を用いて実施することもできる。本
発明の目的のために、特に250〜650 nmの範囲
で放出する適切な出力(right povrer )
のレーデ−例えばアルゴンイオン、クリプトンイオン、
染料、ヘリウム−カドミウム及びヘリウム−ネオンレー
デ−が適当である。このレーず−ビームは、予めプログ
ラム逼れた#i! (preprogrammed 1
ine )及び/又は走査動作(scanning m
ovemenz )によって調整され得る。
更にこの材料は常法で処置逼れる。層におけるより良好
な架橋結合を得る九めに、露光後に加熱することが可能
である。それを現像するために、基板材料上の複写層の
露光部分をあとに残し、層の非露光部分を除去するため
に功らく適当な現像液、例えば有接溶剤で、有利に弱ア
ルカリ性水溶液でそれを処理する。現像液は水と混合可
能な有機溶剤少量、有利に5重i憾よりも少なく含有し
てよい。更にこれは湿潤剤、染料、塩及び他の添加剤を
含有してよい。現像の過程で全体の被覆層は光重合可能
な層の非露光部分と一緒に除去逼れる。
な架橋結合を得る九めに、露光後に加熱することが可能
である。それを現像するために、基板材料上の複写層の
露光部分をあとに残し、層の非露光部分を除去するため
に功らく適当な現像液、例えば有接溶剤で、有利に弱ア
ルカリ性水溶液でそれを処理する。現像液は水と混合可
能な有機溶剤少量、有利に5重i憾よりも少なく含有し
てよい。更にこれは湿潤剤、染料、塩及び他の添加剤を
含有してよい。現像の過程で全体の被覆層は光重合可能
な層の非露光部分と一緒に除去逼れる。
次に本発明を実施態様に関連させて記載する。
「重量部」は、gl 「容量部」はml illの関係
を有する。「パーセント」及び「混合比」は他に記載の
ない限りitに基づく。
を有する。「パーセント」及び「混合比」は他に記載の
ない限りitに基づく。
例1(比較例)
印刷板に使用される基板材料を、電気化学的に粗面化し
かつ酸化物層511 / m2を有しかつポリビニルホ
スホン酸の水溶液で前処理逼れたアルミニウムt−S極
酸化した。基板材料を次の組成物の溶液で被覆し九二 プロぎレンゲリコールモノメチルエーテル22重を部中
の メチルエチルケトン中の酸@l1190のスチレン、n
−へキシルメタクリレート及びメタクリル酸(10:6
0:30)のターポリマーの22.3係濃度溶液
2.84重量部、トリエタノールアミンと
インシアナトエチルメタクリレート6モルとの反応生成
物 1.4931:置部、 ニオシンアルコール−可溶(C,1,453B6)0.
04賞爾部、 2.4−ビストリクロロメチル−t5−(4−ステリル
フェニル)−8,−トリアジン 0.03m1t量部 及び 9−フェニルアクリジン 0.049 X置部。
かつ酸化物層511 / m2を有しかつポリビニルホ
スホン酸の水溶液で前処理逼れたアルミニウムt−S極
酸化した。基板材料を次の組成物の溶液で被覆し九二 プロぎレンゲリコールモノメチルエーテル22重を部中
の メチルエチルケトン中の酸@l1190のスチレン、n
−へキシルメタクリレート及びメタクリル酸(10:6
0:30)のターポリマーの22.3係濃度溶液
2.84重量部、トリエタノールアミンと
インシアナトエチルメタクリレート6モルとの反応生成
物 1.4931:置部、 ニオシンアルコール−可溶(C,1,453B6)0.
04賞爾部、 2.4−ビストリクロロメチル−t5−(4−ステリル
フェニル)−8,−トリアジン 0.03m1t量部 及び 9−フェニルアクリジン 0.049 X置部。
適用は乾燥重量2.8〜3g/7+1”が得られるよう
な方法で回転コーティング(spincoating)
によって行なった。次いで板を通過循環室中で100℃
で2分間乾燥した。次いで板をポリビニルアルコールの
15重濃度水溶液で被覆した(残留アセチル基12 ’
4 、K値4)。乾燥後、重′j14〜5 g/ 17
!”を有する被覆層が侵つ九。
な方法で回転コーティング(spincoating)
によって行なった。次いで板を通過循環室中で100℃
で2分間乾燥した。次いで板をポリビニルアルコールの
15重濃度水溶液で被覆した(残留アセチル基12 ’
4 、K値4)。乾燥後、重′j14〜5 g/ 17
!”を有する被覆層が侵つ九。
得た印刷板を0.15の密度増加を有する13−段階照
射喫下で110cInの距離で5 kW金橘ハロゲン化
物灯で照射し、その上に、指示された限り、更に全体の
スペクトルに渡る均一の黒化(blacking )
(密度1.57)及び均一の吸収の銀薄膜を灰色フィル
ターとして据え付は文。
射喫下で110cInの距離で5 kW金橘ハロゲン化
物灯で照射し、その上に、指示された限り、更に全体の
スペクトルに渡る均一の黒化(blacking )
(密度1.57)及び均一の吸収の銀薄膜を灰色フィル
ターとして据え付は文。
可視光における印刷板の感度を試験するために、光に示
したエツジトランス−ミスシビリテイ−(zransm
iscibilizies ) fiするショット(5
chO1Z ) *の3 nm厚のエツジフィルターを
照射楔止に据え付は九。照射の後に、板を100’Cで
1分間加熱し次。次いで次の組成の現像液中で現像し友
: 十分に脱塩した水 4000本量部中のメタ珪酸
ナトリウム・9H尤0 12O7!1部、塩化ストロン
チウム 2.13重量部、非イオン性湿潤剤
1.2″M址部、(エチレンオキシ単位的
8を有するココア脂肪アルコールポリオキシエチレンエ
ーテル)及ヒ消泡剤 0.12m
1t部。
したエツジトランス−ミスシビリテイ−(zransm
iscibilizies ) fiするショット(5
chO1Z ) *の3 nm厚のエツジフィルターを
照射楔止に据え付は九。照射の後に、板を100’Cで
1分間加熱し次。次いで次の組成の現像液中で現像し友
: 十分に脱塩した水 4000本量部中のメタ珪酸
ナトリウム・9H尤0 12O7!1部、塩化ストロン
チウム 2.13重量部、非イオン性湿潤剤
1.2″M址部、(エチレンオキシ単位的
8を有するココア脂肪アルコールポリオキシエチレンエ
ーテル)及ヒ消泡剤 0.12m
1t部。
板に油性印刷インクでインク付けした。後記の十分に架
橋結合された喫段階を得た。印刷板の解像力を試験原画
、FMS喫(FOG’RA )及び複写上の読み取りで
測定した。
橋結合された喫段階を得た。印刷板の解像力を試験原画
、FMS喫(FOG’RA )及び複写上の読み取りで
測定した。
衣■
80℃における貯蔵試験
一架橋結合無し/
* 飯非トーンーフリー
印刷板をその貯蔵寿命に関して試験した。このために、
その試料を、通過循環室中で80℃で数時間貯蔵した。
その試料を、通過循環室中で80℃で数時間貯蔵した。
表■に示した時間後に、前記のように照射しかつ現像し
た。十分に架橋結合され之楔段階の次の数をエツジフィ
ルター455 nm下で得t: 本機材料及び例1の光重合体層を次の溶液から約2g/
rn’の乾燥層寅量で酸素抑制層で被覆した: ポリビニルアルコールの74濃度水浴液(残留アセチル
基12’l、K値4、すなわち4幅濃度水Wj液の20
℃での粘度: 4.Q mPa、s )100重量部、 表■に記載のポリマー 0.4重責部。
た。十分に架橋結合され之楔段階の次の数をエツジフィ
ルター455 nm下で得t: 本機材料及び例1の光重合体層を次の溶液から約2g/
rn’の乾燥層寅量で酸素抑制層で被覆した: ポリビニルアルコールの74濃度水浴液(残留アセチル
基12’l、K値4、すなわち4幅濃度水Wj液の20
℃での粘度: 4.Q mPa、s )100重量部、 表■に記載のポリマー 0.4重責部。
印刷板を例1に記載したように処理した。後記の衣に示
した十分に架橋結合ちれた楔段階をエツジフィルター4
55 nm下で10秒間の照射時間で、かつ次いで通過
循環室中、8000での貯蔵により得た。
した十分に架橋結合ちれた楔段階をエツジフィルター4
55 nm下で10秒間の照射時間で、かつ次いで通過
循環室中、8000での貯蔵により得た。
表■
80℃での貯蔵試験
例9
基板材料及び例1の光重合体層を次の溶液から約2.!
9/m2の乾燥重量で要素抑制層で被覆した: ポリビニルアルコールの74濃度水溶液(残留アセチル
基12憾、K値8) 10C1!量部、ポリエチレン
イミン(ポリミンP) 0.4重量部。
9/m2の乾燥重量で要素抑制層で被覆した: ポリビニルアルコールの74濃度水溶液(残留アセチル
基12憾、K値8) 10C1!量部、ポリエチレン
イミン(ポリミンP) 0.4重量部。
この印刷板に100℃での貯蔵試験を行っ7t。
例1に記載したように、エツジフィルタ−455nm下
10秒間の照射及び現像後に、次の表に示した十分に架
橋結合された楔段1vfc得几:表■ 100℃での貯蔵試験 例10及び11 例1に示した基板材料に次の組成の溶液を層1112g
/171”を西端するような方法で例1に示し念と同じ
条件下で回転被覆した: プロビレングリコールモノメテルエーテル22.01債
部中の 酸価110及び平均分子[35000を可するメチルメ
タクリレート及びメタクリル酸のコポリマーの2−ブタ
ノン中の34.8=1濃度溶液4.011(置部、 トリエタノールアミンとグリシジルメタクリレート3モ
ルとの反応生成物 2.8重量部、エオシン(アル
コール可溶)C,1,453860,04’!索部、 2.4−ビストリクロロメチル−6−(4−スチリルフ
ェニル)−S−)リアジン 0.06重を部 及び 9−フェニルアクリジン 0.049 M置部。
10秒間の照射及び現像後に、次の表に示した十分に架
橋結合された楔段1vfc得几:表■ 100℃での貯蔵試験 例10及び11 例1に示した基板材料に次の組成の溶液を層1112g
/171”を西端するような方法で例1に示し念と同じ
条件下で回転被覆した: プロビレングリコールモノメテルエーテル22.01債
部中の 酸価110及び平均分子[35000を可するメチルメ
タクリレート及びメタクリル酸のコポリマーの2−ブタ
ノン中の34.8=1濃度溶液4.011(置部、 トリエタノールアミンとグリシジルメタクリレート3モ
ルとの反応生成物 2.8重量部、エオシン(アル
コール可溶)C,1,453860,04’!索部、 2.4−ビストリクロロメチル−6−(4−スチリルフ
ェニル)−S−)リアジン 0.06重を部 及び 9−フェニルアクリジン 0.049 M置部。
この板を一方で、例9の被N層で層重量2y/風2で被
覆しく例10)、比較のために例1の被覆層で同じ厚さ
で被覆しな(例11)。2つの板を56℃で長時間貯蔵
試験した。表■に示した結果を得た。印刷板′It1[
1秒間エツジフィルター455 nm下で照射し、かつ
例1の記載の様に現像し念。
覆しく例10)、比較のために例1の被覆層で同じ厚さ
で被覆しな(例11)。2つの板を56℃で長時間貯蔵
試験した。表■に示した結果を得た。印刷板′It1[
1秒間エツジフィルター455 nm下で照射し、かつ
例1の記載の様に現像し念。
表■
56℃での貯蔵試験
架橋結合無し/
*板非トーンーフリー
被覆層中にポリエチレンイミンを含有する印刷板は著し
く長い貯蔵寿命を耳することは明らかである。酸素への
被N、Ii1の抑制効果は延長された期間にわたってち
えも大いに改善される。
く長い貯蔵寿命を耳することは明らかである。酸素への
被N、Ii1の抑制効果は延長された期間にわたってち
えも大いに改善される。
基板材料及び例1の光重合体層を次の溶液から乾燥I@
重量約297WL’で表■に挙げ念酸素抑制被N層で被
覆した: 例2におけるようなポリビニルアルコール100重量部
、 表■におけるようなポリエチレンイミン(ボリミンP)
X¥T it部。
重量約297WL’で表■に挙げ念酸素抑制被N層で被
覆した: 例2におけるようなポリビニルアルコール100重量部
、 表■におけるようなポリエチレンイミン(ボリミンP)
X¥T it部。
この印刷板″f、80°Cで貯蔵試験した。エツジフィ
ルター455 nm下での10秒間の照射及び例1に示
したような現像後に、表■に示した十分に架作結合嘔れ
之喫段階を得た。
ルター455 nm下での10秒間の照射及び例1に示
したような現像後に、表■に示した十分に架作結合嘔れ
之喫段階を得た。
表■
80℃での貯蔵試験
表■
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板材料、光重合可能な層及び大気酸素をあまり透
過させない水溶性ポリマーを含有し、更に大気酸素を結
合しかつ実際に20℃で水中に完全に可溶であるポリマ
ーを含有する被覆層よりなる光重合可能な記録材料。 2、被覆層は20℃で30m^3/m^2/d/バール
よりも少ない酸素透過性を有する、請求項1記載の記録
材料。 3、大気酸素を結合するポリマーは脂肪族アミノ基を有
する化合物である、請求項1記載の記録材料。 4、脂肪族アミノ基を有するポリマーはポリアルキレン
イミンである、請求項1記載の記録材料。 5、被覆は0.5〜10g/m^2の基礎重量を有する
、請求項1記載の記録材料。 6、大気酸素を結合するポリマーは分子量300〜10
00000を有する、請求項1記載の記録材料。 7、被覆層は大気酸素を結合するポリマー3〜60重量
%及び酸素をあまり透過させないポリマー40〜97重
量5含有する、請求項1記載の記録材料。 8、光重合可能な層は基本的成分としてポリマーのバイ
ンダー、少なくとも1個の末端エチレン系不飽和基を有
する遊離基−重合可能な化合物及び化学線活性の重合開
始剤を含有する、請求項1記載の記録材料。 9 層は重合開始剤として元還元可能な染料を含有する
、請求項8記載の記録材料。 10、バインダーは水に不溶性でありかつアルカリ性水
溶液に可溶である、請求項8記載の記録材料。 11、光重合可能な層は0.5〜20g/m^2の基礎
重量を有する、請求項1記載の記録材料。 12、基板材料は平版印刷に適当な親水性表面を有する
、請求項1記載の記録材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3825836A DE3825836A1 (de) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
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---|---|
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---|---|---|---|
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011118456A1 (ja) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
WO2011118457A1 (ja) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
US8132812B2 (en) | 2005-05-31 | 2012-03-13 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Sheet discharging device and image forming apparatus |
JP2015177781A (ja) * | 2013-10-09 | 2015-10-08 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 温室 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0971765A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-03-18 | Nippon Zeon Co Ltd | 粘着防止用組成物 |
DE10022786B4 (de) | 1999-05-12 | 2008-04-10 | Kodak Graphic Communications Gmbh | Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte |
US7439537B2 (en) | 2004-07-30 | 2008-10-21 | Agfa Graphics, N.V. | Divinylfluorenes |
ATE445861T1 (de) | 2005-08-26 | 2009-10-15 | Agfa Graphics Nv | Photopolymer druckplattenvorläufer |
US20070117040A1 (en) * | 2005-11-21 | 2007-05-24 | International Business Machines Corporation | Water castable-water strippable top coats for 193 nm immersion lithography |
JP4945432B2 (ja) | 2006-12-28 | 2012-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2009080445A (ja) | 2007-01-17 | 2009-04-16 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
JP4914864B2 (ja) | 2008-03-31 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
BRPI0918828A2 (ja) | 2008-09-24 | 2018-04-24 | Fujifilm Corporation | A manufacturing method of a lithographic printing plate |
EP2194429A1 (en) | 2008-12-02 | 2010-06-09 | Eastman Kodak Company | Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates |
EP2196851A1 (en) | 2008-12-12 | 2010-06-16 | Eastman Kodak Company | Negative working lithographic printing plate precursors comprising a reactive binder containing aliphatic bi- or polycyclic moieties |
US8034538B2 (en) | 2009-02-13 | 2011-10-11 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
US20100215919A1 (en) | 2009-02-20 | 2010-08-26 | Ting Tao | On-press developable imageable elements |
US8247163B2 (en) | 2009-06-12 | 2012-08-21 | Eastman Kodak Company | Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast |
US8257907B2 (en) | 2009-06-12 | 2012-09-04 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
EP2284005B1 (en) | 2009-08-10 | 2012-05-02 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers |
EP2293144B1 (en) | 2009-09-04 | 2012-11-07 | Eastman Kodak Company | Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing |
EP2735903B1 (en) | 2012-11-22 | 2019-02-27 | Eastman Kodak Company | Negative working lithographic printing plate precursors comprising a hyperbranched binder material |
EP2778782B1 (en) | 2013-03-13 | 2015-12-30 | Kodak Graphic Communications GmbH | Negative working radiation-sensitive elements |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055335A (ja) * | 1983-09-07 | 1985-03-30 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂積層体の製造法 |
JPS60186835A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-09-24 | Toyobo Co Ltd | 感光性積層体 |
JPH01154138A (ja) * | 1987-10-31 | 1989-06-16 | Basf Ag | 多層の平面状感光性記録材料、および光重合された印刷版またはレリーフ版ならびにフォトレジストを製造する方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3458311A (en) * | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
DE2036585A1 (de) * | 1970-07-23 | 1972-02-03 | Kalle AG, 6202 Wiesbaden Biebnch | Photopolymensierbares Kopiermaterial |
-
1988
- 1988-07-29 DE DE3825836A patent/DE3825836A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-07-20 DE DE58908207T patent/DE58908207D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-20 EP EP89113306A patent/EP0352630B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-24 CA CA000606446A patent/CA1337677C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-28 JP JP1194419A patent/JP2736124B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-29 KR KR1019890010797A patent/KR0135076B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055335A (ja) * | 1983-09-07 | 1985-03-30 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂積層体の製造法 |
JPS60186835A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-09-24 | Toyobo Co Ltd | 感光性積層体 |
JPH01154138A (ja) * | 1987-10-31 | 1989-06-16 | Basf Ag | 多層の平面状感光性記録材料、および光重合された印刷版またはレリーフ版ならびにフォトレジストを製造する方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8132812B2 (en) | 2005-05-31 | 2012-03-13 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Sheet discharging device and image forming apparatus |
WO2011118456A1 (ja) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
WO2011118457A1 (ja) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
JP2012048192A (ja) * | 2010-03-26 | 2012-03-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
US8828646B2 (en) | 2010-03-26 | 2014-09-09 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of producing thereof |
JP2015177781A (ja) * | 2013-10-09 | 2015-10-08 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 温室 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE58908207D1 (de) | 1994-09-22 |
EP0352630B1 (de) | 1994-08-17 |
JP2736124B2 (ja) | 1998-04-02 |
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EP0352630A3 (en) | 1990-08-01 |
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DE3825836A1 (de) | 1990-02-08 |
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CA1337677C (en) | 1995-12-05 |
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