JPH01154138A - 多層の平面状感光性記録材料、および光重合された印刷版またはレリーフ版ならびにフォトレジストを製造する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、多層の平面状感光性記録材料に関し、この感
光性記録材料は、光重合された凸版印刷版、凹版印刷版
、フレキソ印刷版およびレリーフ版ならびにフォトレジ
ストの製造に使用され、かつ次の層： Ａ）感光性レリーフ形成層、但し、画像に応じて化学線
で露光する際に露光領域と未露光領域との間で溶解度の
差が生じ、したがってこの層は水性アルコール性または
水性アルカリ性の液状有機媒体で現像することができ、
この場合この層はその全体量に対して次の成分： ａ１）１つまたはそれ以上の高分子量結合剤２０〜９８
．９９９重量％、 ａ２）１つまたはそれ以上の光重合開始剤０．００１〜
１０重量％、 ａ３）結合剤（ａ　１）と相溶性の光重合可能なオレフ
ィン性不飽和基を有する１つまたはそれ以上の成分１〜
６０市量％および ａ１）使用技術的な特性プロフィールを変えるための１
つまたはそれ以上の助剤０〜４０重量％からなるものと
し； Ｂ）被覆フィルム（Ｃ）の場合よりも層（Ａ）に対して
堅固に付着しかっ耐引裂性被膜を形成する重合体および
その中に含有されている添加剤によって形成される、当
該液状媒体中で可溶性または膨潤可能の粘着しない、艶
出しされたかまたは艶消しされた光透過性被覆層；およ
びＣ）被覆層（Ｂ）から容易に剥離可能な被覆フィルム を記載した順序で重なり合って存在するように包含する
。

この場合、“平面状”の概念は、厚さが長さおよび幅よ
りも著しく少ない全ての空間形を包含し、したがって本
明細書中では、帯状または板状の記録材料が重要である
。

“液状媒体”とは、添加剤、例えば固体、液状またはガ
ス状の有機化合物および無機化合物を含有することがで
きる溶剤または溶剤混合物のことである。この媒体は、
現像、すなわち画像に応じて露光されたレリーフ形成層
（Ａ）の洗浄除去に使用され、したがってしたがって一
般には、短く“現像剤”と呼称される。一定の画像に応
じて露光されたレリーフ形成層（Ａ）を−定の現像液で
洗浄除去することができるための前提条件は、なかんず
く当該現像液中での結合剤（ａ　Ｉ）の溶解度または膨
潤可能性にある。したがって、現像液の性質により、レ
リーフ形成層（Ａ）の物質的組成に対し明らかに結果か
ら原因を求めることを推論することができる。

“相溶性”の概念は、当該成分をレリーフ形成層（Ａ）
中で分子状で分散させて分布させることができ、この層
中で混濁は全く惹起されず、かつ時間の経過中であって
も分離を生じないことに明らかである。

“光重合可能なオレフィン性不飽和基を有する成分（ａ
３）”は、本明細書中で全く一般的に別々に存在する化
合物であることができるか、または側位もしくは末位の
基として高分子量結合剤（ａ１）と結合している基であ
ることができる。別々に存在する化合物は、通常“単量
体”と呼称され、かつ結合剤と結合された基は、以下“
光重合可能な基”と呼称される。

“特性プロフィールを変える”とは、感光性レリーフ形
成層（Ａ）およびこれから得られた光重合されたレリー
フ層（Ａ′）の一定の使用技術的性質を意図的に改善す
ることである。この改善は、なかんずく光重合されたレ
リーフ層（Ａ’）を有する凸版印刷版、凹版印刷版、フ
レキソ印刷版およびレリーフ版ならびにフォトレジスト
の場合に顕著であり、一般には常用の公知の添加剤をレ
リーフ形成層（Ａ）に添加することによって達成される
。したがって、この添加剤は、“助剤〃とも呼称される
。

被覆層（Ｂ）が被覆フィルム（Ｃ）の場合よりも堅固に
レリーフ形成層（Ａ）に付着するはずであり、かつ被覆
フィルム（Ｃ）を被覆層（Ｂ）から容易に剥離すること
ができるはずであるという課題は、物質的な正確さをも
内容的に含む。それというのも、前記層の付着力が互い
に異なることは、それぞれの物質的な組成に遡及するか
らであり、この組成は、公知方法で調節することができ
る。

この場合、被覆層（Ｃ）は、被覆層（Ｂ）からこの被覆
層を損なうことなしに剥離することができる。

被覆層（Ｂ）中に耐引裂性被膜を形成する高分子量添加
剤を含有する、前記種類の多層の平面状感光性記録材料
は、公知である。

従来の技術 すなわち、ドイツ連邦共和国特許出願公開第２４５６４
３９号明細書（米国特許第１６２９１９号明細書）に記
載から、レリーフ形成層（Ａ）中に結合剤（ａ　１）と
してビニル芳香族化合物／アルカジエンブロック共重合
体を含有する記録材料が判明する。レリーフ形成層（Ａ
）は、画像に応じての露光後に有機現像液で洗浄除去す
ることができる。このレリーフ形成層は、ポリアミドま
たはコポリアミドからなる硬質で粘着しない透明の、現
像液中で可溶性の０．５〜２０μｍの厚さの被膜と堅固
に結合されている。

この被膜またはこの被覆層（Ｂ）は、単量体、光重合開
始剤および熱重合抑制剤を（Ｂ）に対して微少量、すな
わち５１０重量％含有することができる。この被覆層（
Ｂ）は、剥離可能な保護フィルムまたは被覆フィルム（
Ｃ）を載置することができ、このフィルムは、その際に
（Ｂ）を（Ａ）と分離することなしに（Ｂ）から剥離す
ることができる。

比較可能な記録材料は、ドイツ連邦共和国特許出願公開
第２８２３３００号明細書から公知である。この特許出
願公開明細書中には、被覆層（Ｂ）を構成させるために
ポリウレタンを使用することが記載されている。

もう１つの比較しうる、レリーフ形成層（Ａ）が結合剤
（ａ　１）としてポリアルカジエン（天然ゴム、ポリブ
タジェン）、アルカジエン／アクリルニトリル共重合体
（ブタジェン／アクリルニトリル）、ビニル芳香族化合
物／アルカジエン共重合体（スチロール／ブタジェン）
、シリコーンゴム、ポリスルフィドゴム、弗素化コム（
塩化ビニリデン／ヘキサフルオルプロピレン共重合体）
、ビニル芳香族化合物／アルカジエンブロック共重合体
（スチロール／イソプレン、スチロール／ブタジェン）
またはポリウレタンを含有する記録材料は、米国特許第
３９９０８９７号明細書の記載から公知である。

更に、ドイツ連邦共和国特許出願公告第２１２３７０２
号明細書の記載から、レリーフ形成層（Ａ）が水性アル
カリ性で現像可能でありかつ結合剤（ａりとしてポリア
ミド、ポリ酢酸ビニルまたはポリメチルメタクリレート
を含有し、かつ水溶性被覆層（Ｂ）がビニルアルコール
およびエトキシル化燐酸オレイルエステルからなる記録
材料が判明する。

米国特許筒４０７２５２７号明細書の記載から、レリー
フ形成層（Ａ）を画像に応じての露光後に水性アルカリ
性で現像することができかつ結合剤（ａ　１）として、
例えばメタクリル酸／メチルメタクリレート共重合体を
含有する記録材料は、公知である。この記録材料の被覆
層（Ｂ）は、０．２〜２５μｍの厚さであり、かつ水溶
性重合体、例えば部分的に加水分解されたポリ酢酸ビニ
ル、ポリクロル酢酸ビニルまたはポリビニルプロピオネ
ート（加水分解度二８８〜１００％）を含有し、この場
合には、（メタ）アクリレート単独重合体および（メタ
）アクリレート共重合体の群、ビニルピロリドン／酢酸
ビニル共重合体の群または塩化ビニリデン／アルキルア
クリレート／イタコン酸共重合体の群からの水不溶性重
合体が微細に分散されている。この被覆層（Ｂ）は、注
型によって水溶液から得られる。注型用溶液がレリーフ
形成層（Ａ）の表面を申し分なく被覆することができる
ようにするためには、この米国特許明細書の記載によれ
ば、陰イオン性または非イオン性湿潤剤（但し、この米
国特許明細書中では“界面活性剤”と呼称されている）
を微少量で一緒に使用しなければならない。なかんずく
、例えばナトリウムドデシルスルフェートまたはナトリ
ウムオクタデシルスルホネートのような１２〜１８個の
炭素原子を有するナトリウムアルキルスルフェートおよ
びスルホネートが考慮に入れられるか；または例えば９
〜１０個のエトキシ基を有するイソオクチルフェニルポ
リエトキシエタノールのような平均分子量４００以下の
ポリエチレングリコールが考慮に入れられる。殊に、弗
素化湿潤剤 ２Ｈ５ ｃ８Ｆ’１７−３Ｏ２−Ｎ−ｃＨ２−ＣＯＯｅＫ”を注
型用溶液中の固体の全体量に対して１重量％の量で使用
することが推奨されている。米国特許第４０７２５２７
号明細書に記載の記録材料は、なかんずくオフセクト印
刷版の製造に使用される。

これと比較できる、被拉層（Ｂ）が８８％を越える加水
分解度のポリビニルアルコールとともに９〜１０個のエ
トキシ基を有するインオクチルフェニル−ポリエトキシ
エタノールの微少量を含有する記録材料は、米国特許第
３４５３３１１号明細書（ドイツ連邦共和国特許出願公
告第１５７２１５３号明細書）から公知であるかまたは
ドイツ連邦共和国特許出願公開第１６２２２９８号明細
書から公知である。

層（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を有する公知の多層の平
面状感光性記録材料は、高価な、特に詳細に正確に光重
合された凸版印刷版、凹版印刷版、フレキソ印刷版およ
びレリーフ版ならびにフォトレジストの製造への前記記
録材料の使用を妨害するかまたは全く不可能にするとい
う欠点を有する。

従って、被覆フィルム（Ｃ）を被覆層（Ｂ）から剥離す
ることにより、前記記録材料の場合には残存する層（Ａ
）および（Ｂ）に強い静電気の帯電を生じるという結果
をまねく。この静電気の帯電により被覆層（Ｂ）の表面
上での汚れ粒子の堆積が惹起され、それによって記録材
料の複写技術的性質は著しく劣化される。すなわち、堆
積された汚れ粒子のために画像マスクまたはネガ型オリ
ジナル（但し、これらを通して露光する）は、記録材料
をもはや長時間正確には載置せず、このことは、露光の
際に劣悪な解像力、中間色の濃さを再現する際の問題お
よび散乱光による二次的輻射をまねき、したがって全体
的に汚れた画像が得られ、この画像では最高の品質が要
求される際には不十分である。このことは、光重合され
た凸版印刷版、凹版印刷版およびフレキソ印刷版の製造
の際には特に重大であることが認められ、この場合には
、汚れの堆積により最終的に印刷の際に不利に変化され
た色付けおよび色の転写、縁部の破壊および減少された
レリーフ付着力をまねき、このことは、エンドレス印刷
の際に前記印刷版の寿命を著しく短縮する。また、光重
合されたレリーフ層（Ａ′）中で大きい汚れ粒子によっ
て引掻き傷が惹起され、このことは、まさに凹版印刷の
際に殊に支障があることを認めることができる。それと
いうのも、この引掻き傷は僅かな色の濃さから既に一緒
に印刷されてしまうからである。

これまで、この静電帯電によって惹起された汚れ粒子の
堆積は、十分にダスト不含の空気中で作業することによ
ってのみ抑制することができるにも拘わらず、このこと
は、運転の実地においては多くの場合不可能である。そ
れというのも、このために必要とされる広範囲の構造的
および装置的な前提条件は屡々不足するからである。こ
の理由から、被覆層（Ｂ）の表面を露光前に浄化するこ
とが役立つが、それにも拘わらずこのことは、作業技術
的にも経済的にも不利である。

発明を達成するための手段 本発明の目的は、公知の記録材料の欠点をもはや長時間
示さず、それとともに高い価値のある詳細に正確に光重
合された凸版印刷版、凹版印刷版、フレキソ印刷版およ
びレリーフ版ならびにフォトレジストの製造を可能なら
しめる新規の多層の平面状感光性記録材料を見い出すこ
とである。

それによれば、光重合された凸版印刷版、凹版印刷版、
フレキソ印刷版およびレリーフ版ならびにフォトレジス
トの製造に使用されかつ次の層： Ａ）感光性レリーフ形成層、但し、画像に応じて化学線
で露光する際に露光領域と未露光領域との間で溶解度の
差が生じ、したがってこの層は水性アルコール性または
水性アルカリ性の液状有機媒体で現像することができ、
この場合この層は、その全体量に対して次の成分：ａ１
）１つまたはそれ以」−の高分子量結合剤２０〜’９８
．９９９重量％、 ａ２）１つまたはそれ以上の光重合開始剤０．００１〜
１０重量％、 ａ３）結合剤（ａ　ｔ）と相溶性の光重合可能なオレフ
ィン性不飽和基を有する１つまたはそれ以上の成分１〜
６０重量％および ａ１）使用技術的な特性プロフィールを変える１つまた
はそれ以上の助剤０〜４０重量％からなるものとし： Ｂ）被覆フィルム（Ｃ）の場合よりも層（Ａ）に対して
堅固に付着しかつ耐引裂性被膜を形成する重合体および
その中に含有されている添加剤によって形成される、当
該液状媒体中で可溶性または膨潤可能の粘着しない艶出
しされたかまたは艶消しされた光透過性被覆層；および
Ｃ）被覆層（Ｂ）から容易に剥離可能な被覆フィルム を記載した順序で重なり合って存在するように包含する
、多層の平面状感光性記録材料が見い出され、この場合
この記録材料は、被覆層（Ｂ）がその全体量に対して、 ｂ１）一般式Ｉ： ［式中、 ＲはＣＩ２〜Ｃｌ８−アルキル基、Ｃ１Ｂ−アルケニル
基、ｃ１２〜Ｃ１ｆｌ−アルカンカルボニル基またはＣ
ＩＢ−アルケンカルボニル基を表わし、ｎは１〜１５の
整数を表わし、これとは無関係に ｍは１〜１５の整数を表わす］で示される第三アミンお
よび第三アミドの群および／またはｂ２）一般式■： ［ＮＲＩＲ２Ｒ３Ｒ４］　Φ　　　ＸＣ■［式中、 ＸＣはＣａＯ、Ｂｒθ、Ｉθ、Ｒｌ−０−Ｐ　Ｏ３Ｈθ
、（Ｒ１−０）２ＰＯ２ｅ、Ｒ１−ＰＯ３θ、Ｒ１−３
０３θ、Ｒ１−Ｃ００ｅ、ＣＦ３ＳＯ３θ、Ｒｔ−ｏｓ
ｏ３ｅを表わし、 Ｒｔｔｉｃｌ〜Ｃ１４−アルキル基を表わし、Ｒ２およ
びＲ３は Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル基、 −（−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−Ｈ基、但し、ｎは１〜
１５の整数を表わすものとし、この場合には、Ｒ２とＲ
３は同一でも異なっていてもよく、Ｒ４は−（−ＣＨ２
ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−Ｈ基、但し、ｎは１〜１５の整数を
表わすものとし、 Ｃ１２−アルキル基、Ｃローアルキル基、０１Ｇ−アル
キル基およびＣ１Ｂ−アルキル基、 ３−アザトリデカン−１−イルないし３−アザトコサン
−１−イル基、 ４−アザトリデカン−１−イルないし４−アザトコサン
−１−イル基、 ３−アザ−４−オキソ−トリデカン−１−イルないし３
−アザ−４−オキソ−トコサン−１−イル基、４−アザ
−５−オキソ−トリデカン−１−イルないし４−アザ−
５−オキソ−トコサン−１−イル基、３−オキサ−トリ
デカン−１−イルないし３−オキサ−トコサン−１−イ
ル基、 ４−オキサ−トリデカン−１−イルないし４−オキサ−
トコサン−１−イル基、 ２−ヒドロキシ−４−オキサ−トリデカン−１−イルな
いし２−ヒドロキシ−４〜オキサ−トコサン−１−イル
基を表わす］で示される第四アンモニウム塩の群からの
１つまたはそれ以上の化合物１〜２０重量％を含有する
ことを特徴とする。

本発明による多層の平面状感光性記録材料（以下、“本
発明による記録材料”と短く呼称する）の本質的成分は
、新規の被覆層（Ｂ）である。

新規の被覆層（Ｂ）は、通常０．２〜２５μｍの厚さで
あり、かつその下に存在する感光性レリーフ形成層（Ａ
）を完全に均一な厚さで被覆する。この被覆層は、光透
過性であり、したがって化学線でのレリーフ形成層（Ａ
）の画像に応じての露光を損なわない。この被覆層は、
画像に応じて露光されたレリーフ形成層（Ａ）を洗浄除
去する現像液中で可溶性であるかまたは少なくとも膨潤
可能であり、したがってそれは、現像の際に完全に光重
合されたレリーフ層（Ａ′）と分離することができる。

一般に、この被覆層は、酸素不透過性であり、したがっ
てそれは、しリーフ形成層（Ａ）中での空気酸素による
光重合の抑制を妨害する。この被覆層は、非粘着性であ
り、したがってその上に載置された画像マスクまたはネ
ガ型オリジナルは、容易に再び記録材料から剥離するこ
とができ、かつ載置される被覆フィルム（Ｃ）の場合よ
りもレリーフ形成層（Ａ）に堅固に付着する。

新種の被覆層（Ｂ）は、滑らかであることができ、すな
わちそれは、表面粗さの値Ｒｗａｘ≦０．１μｍを有す
ることができる。好ましくは、この被覆層は、艶消しさ
れており、すなわちその表面粗さの値Ｒｍａｘは、０．
１〜１５μｍ、特に０．３〜１０μｍ、殊に０　、５〜
７　ｔｔ　ｍである。艶消しにより、画像マスクまたは
ネガ型オリジナルを記録材料と接触させることができる
時間は、著しく短縮される。

新規の被覆層（Ｂ）の厚さがその表面粗さの値Ｒｙａｘ
よりも僅かである場合には、レリーフ形成層（Ａ）の被
覆層（Ｂ）の下に存在する表面は、同時に艶消しされて
おり、このことは、屡々有利である。

新規の被覆層（Ｂ）は、その全体量に対して、耐引裂性
被膜を形成する重合体を８０〜９９重量％、殊に８５〜
９８重量％含有する。このような重合体の例は、ポリア
ミド、コポリアミド為ポリウレタン、ポリ（メタ）アク
リレート、３０〜９９％の加水分解度のポリビニルアル
コール−アルカンカルボン酸エステル、高い環化度のシ
クロゴム、エチレン／プロピレン共ｆｆｉ　合体、塩化
ビニルの単独重合体および共重合体ならびにエチレン／
酢酸ビニル共重合体の群からの重合体である。被覆層の
構造に対して重合体を選択することは、−面で第１に重
合体の溶解度の性質に左右され、他面それとともに被覆
すべきレリーフ形成層（Ａ）に左右されるニ一般に知ら
れている溶解度は、双方の層（Ａ）および（Ｂ）を同一
の現像剤で洗浄除去するかないしは洗浄分離することが
できるような程度に互いに定められる。

新規の被覆層（Ｂ）が重合体を８０重量％未満含有する
場合には、全体のレリーフ形成層（Ａ）を越えての不変
の厚さは、調節するのがなお困難であり、さらにこの被
覆層は、保護機能および耐粘着作用をもはや完全に発揮
することができない。

新規の被覆層（Ｂ）が重合体を９９重量％を越えて含有
する場合には、この被覆層の汚れ反発作用は、著しく僅
かになる。

一面で汚れ反発作用に関連し、他面残りの使用技術的性
質に関連して、被覆層（Ｂ）に対する重合体の含量は、
８５〜９８重量％が最適である。

本発明によれば、新規の被覆層（Ｂ）は、その全体量に
対して、一般式Ｉの第三アミンおよび第三アミド（ｂ　
１）の群および／または一般式ＩＩの第四アンモニウム
塩（ｂ２）の群からの１つまたはそれ以上の化合物を１
〜２０重量％、殊に２〜１５重量％含有する。

新規の被覆層（Ｂ）が本発明により使用すべき化合物（
ｂ１）および（ｂ２）１重量％未満を含有する場合には
、この被覆層の汚れ反発作用は、著しく僅かになる。

これとは異なり、新規の被覆層（Ｂ）が本発明により使
用すべき化合物（ｂ１）および（ｂ２）を２０重量％よ
りも多く含有する場合には、その汚れ反発作用は、実際
に高＜、シたがってこれに関連して汚れ粒子の堆積は全
く生じないにも拘わらず、この被覆層は、残りの使用技
術的性質の点で他の利点を全く有しない。

一面で汚れ反発作用に関連し、他面で残りの使用技術的
性質に関連して、被覆層（Ｂ）に対する本発明により使
用すべき化合物（ｂ１）および／または（ｂ２）の含量
は、２〜１５重量％が最適である。

一般式■の第三アミンおよび第三アミド（ｂ１）中の本
発明により使用すべき基Ｒの例は、ドデシル（−ラウリ
ル）基、トリデシル基、テトラデシル（：ミリスチル）
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル（＝パルミチル）基
、ヘプタデシル基、オクタデシル（−ステアリル）基、
オレイル基、１−オキソ−ドデカン−１−イル基、■−
オキソートリデカンー１−イル基、１−オキソ−テトラ
デカン−１−イル基、１−オキソ−ペンタデカン−１−
イル基、１−オキソ−ヘキサデカン−１−イル基、１−
オキソ−ヘプタデカン−１−イル基、■−オキソーオク
タデカンー１−イル基または１−オキソ−オクタアセ−
９−エン−１−イル基である。

本発明により使用すべきアミンおよびアミド基（ｂりは
、一般にアミン、例えばドデシル（・ラウリル）アミン
、トリデシルアミン、テトラデシル（＝ミリスチル）ア
ミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシル（＝パルミチ
ル）アミン、ヘプタデシル（＝ステアリル）アミンもし
くはオレイルアミンまたはこれらの混合物をエトキシル
化することによって形成されるか、ま”たはアミド、例
えばラウリン酸アミド、トリデカンカルボン酸アミド、
ミリスチン酸アミド′、ペンタデカンカルボン酸アミド
、パルミチン酸アミド、ヘプタデカンカルボン酸アミド
、ステアリン酸゛　アミドまたはオレイル酸アミドをエ
トキシル化することによって形成される。この場合には
、それぞれ２個の２−ヒドロキシエチ・ル基が１個の窒
素原子と結合され、このことは、一般式■のｎとｍが１
であるという条件に相応する。この場合には、兎に角１
または２個の長鎖のω−ヒドロキシ−ポリ（エチレンオ
キシド）−α−イル基が１個の窒素原子と結合され、こ
の場合これらの基は、互いに無関係に１５個まで、特に
５〜１２個、殊に８〜１１個の酸化エチレン単位を有す
る。この場合、１個の長鎖基のみが窒素原子と結合して
いる場合には、別の基は、２−ヒドロキシエチル基であ
る。有利には、２個の２−ヒドロキシエチル基が１個の
窒素原子と結合される。

それに応じて、特に好ましい第三アミンおよび第三アミ
ド（ｂりの例は、Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）−Ｎ−ドデシル（・ラウリル）アミン、Ｎ、Ｎ−？
ビスー（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−トリデシルアミ
ン、Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−テ
トラデシル（二ミリスチル）アミン、Ｎ、Ｎ−ビス＝（
２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ペンタデシルアミン、Ｎ
、Ｎ−ビス＝（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ヘキサデ
シル（＝パルミチル）アミン、Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒ
ドロキシエチル）−Ｎ−ヘプタデシルアミン、Ｎ、Ｎ−
ビス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ステアリルアミ
ンもしくはＮ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−
Ｎ−オレイルアミンまたはこれらの混合物；またはＮ、
Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−ラウリン酸アミ
ド％ＮｌＮ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−トリデ
カンカルボン酸アミド、Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキ
シエチル）−ミリスチン酸アミド、Ｎ、Ｎ−ビス−（２
−ヒドロキシエチル）−ペンタデカンカルボン酸アミド
、Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−パルミチ
ン酸アミド、Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）
−ヘプタデカンカルボン酸アミド、Ｎ、Ｎ−ビス−（２
−ヒドロキシエチル）−ステアリン酸アミドもしくはＮ
、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−オレイル酸ア
ミドまたはこれらの混合物；ならびに前記のアミンおよ
びアミドを同時に含有する全ての混合物である。

一般式ＩＩの第四アンモニウム塩（ｂ２）中の本発明に
より使用すべき基Ｒ１の例は、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−プロピル基、ｎ−
ブチル基またはイソブチル基である。

一般式■の第四アンモニウム塩（ｂ２）中の適当な陰イ
オンＣの例は、塩化物、臭化物、沃化物、Ｒ１−０−Ｐ
Ｏ３Ｈ”、（Ｒ＋−０）２ＰＯ７θ、Ｒ１−ｐｏ３ｅ、
Ｒ１−３Ｏ３ｅ、Ｒ１−Ｃ００ｅ　、ＣＦ３ＳＯ３θま
たはＲ１−０３Ｏ３θ　（但し、ＲＩＬＬ前記のものを
表わす）である。

一般式■の第四アンモニウム塩（ｂ２）中の本発明によ
り使用すべき基Ｒ２およびＲ３の例は、メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基
、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ
−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、インオクチル基、ｎ−
ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデ
シル（＝ラウリル）基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラ
デシル（・ミリスチル）基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ＝
ヘキサデシル（−バルミチル）基、ｎ−ヘプタデシル基
、ステアリル基、ｎ−７ナデシル基もしくはｎ−エイコ
サニル基または鎖中に２〜１５個、特に５〜１２個、殊
に８〜１１個の酸化エチレン単位を有する２−ヒドロキ
シエチル−ポリ（エチレンオキシド）−α−イル基また
はω−ヒドロキシ−ポリ（エチレンオキシド）−α−イ
ル基である。この場合、Ｒ２とＲ３は、互いに同一かま
たは異なっている。

一般式ＩＩの第四アンモニウム塩（ｂ２）中の本発明に
より使用すべき基Ｒ４の例は、鎖中に２〜１５個、特に
５〜１２個、殊に８〜１１個の酸化エチレン単位を有す
る２−ヒドロキシエチル−ポリ（エチレンオキシド）−
α−イル基またはω−ヒドロキシ−ポリ（エチレンオキ
シド）−α−イル基であるか：またはラウリル基、ミリ
スチル基、バルミチル基もしくはステアリル基であるか
；または３−アザ−トリデカン−１−イル基、３−アザ
−テトラデカン−１−イル基、３−アザ−ペンタデカン
−１−イル（・２−ラウリルアミノエチル）基、３−ア
ザーヘキサデカン川−イル基、３−アザーヘプタデカン
川−イル（＝２−ミリスチルアミノエチル）基、３−ア
ザ−オクタデカン−１−イル基、３−アザーノナンデカ
ン川−イル（−２−パルミチルアミノエチル）基、３−
アザ−エイコサン−１−イル基、３−アザヘンエイコサ
ン用−イル（＝２−ステアリルアミノエチル）基もしく
は３−アザ−トコサン−１−イル基であるか；または４
−アザ−トリデカン−１−イル基、４−アザ−テトラデ
カン−１−イル基、４−アザ−ペンタデカン−１−イル
基、４−アザ−ヘキサデカン−１−イル（・３−ラウリ
ルアミノプロピル）基、４−アザ−ヘプタデカン−１−
イル基、４−アザ−オクタデカン−１−イル（・３−ミ
リスチルアミノプロピル）基、４−アザ−ノナデカン−
１−イル基、４−アザ−エイコサン−１−イル（・３−
パルミチルアミノブロピル）基、４−アザ−へンエイコ
サンー１−イル基もしくは４−アザトコサン−１−イル
基ないしは３−ステアリルアミノプロピル基であるか；
または３−アザ−４−オキソ−トリデカン−１−イル基
、３−アザ−４−オキソ−テトラデカン−１−イル基、
３−アザ−４−オキソ−ペンタデカン−１−イル（＝２
−ラウリルアミドエチル）基、３−アザ−４−オキソ−
ヘキサデカン−１−イル基、３−アザ−４−オキソ−ヘ
プタデカン−１−イル（・２−ミリスチルアミドエチル
）基、３−アザ−４−オキソ−オクタデカン−１−イル
基、３−アザ−４−オキソ−ノナンデカン−１−イル（
−２−バルミチルアミドエチル）基、３−アザ−４−オ
牛ソーエイコサンーＩ−イル基、３−アザ−４−オキソ
−ヘンエイコサン−１−イル（−２−ステアリルアミド
エチル）基もしくは３−アザ−４−オキソ−トコサン−
１−イル基であるか；または４−アザ−５−オキソ−ト
リデカン−１−イル基、４−アザ−５−オキソ−テトラ
デカン−１−イル基、４−アザ−５−オキソ−ペンタデ
カン−１−イル基、４−アザ−５−オキソ−ヘキサデカ
ン−１−イル（・３−ラウリルアミドプロピル）基、４
−アザ−５−オキソ−ヘプタデカン−１−イル基、４−
アザ−５−オキソ−オクタデカン−１−イル（＝３−ミ
リスチルアミドプロピル）基、４−アザ−５−オ牛ソー
ノナデカンー１−イル基、４−アザ−５−オキソ−エイ
コサン−１−イル（＝３−パルミチルアミドプロビル）
基、４−アザ−５−オキソ−ヘンエイコサン−１−イル
基もしくは４−アザ−５−オキソードコサン−１−イル
基ないしは３−ステアリルアミドプロピル基であるか；
または３−オキサ−トリデカン−１−イル基、３−オキ
サ−テトラデカン−１−イル基、３−オキサ−ペンタデ
カン−１−イル（−２−ラウリルオキシエチル）基、３
−オキサ−ヘキサデカンー１−イル基、３−オキサ−ヘ
プタデカン−１−イル（・２−ミリスチルオキシエチル
）基、３−オキサ−オクタデカン−１−イル基、３−オ
キサ−ノナデカン−１−イＪＬ／　（＝　２−ハルミチ
ルオキシエチル）基、３−オキサ−エイコサン−１−イ
ル基、３−オキサ−ヘンエイコサン−１−イル←２−ス
テアリルオキシエチル）基も１−りは３−オキサ−トコ
サン−１−イル基であるか：または４−オキサ−トリデ
カン−１−イル基、４−オキサ−テトラデカン−１−イ
ル基、４−オキサ−ペンタデカン−１−イル基、４−オ
キサ−ヘキサデカン−１−イル（−３−ラウリルオキシ
プロピル）基、４−オキサ−ヘプタデカン−１−イル基
、４−オキサ−オクタデカン−１−イル（＝３−ミリス
チルオキシプロピル）基、４−オキサ−ノナデカン−１
−イル基、４−オキサ−エイコサン−１−イル（−３−
パルミチルオキシブロピル）基、４−オキサ−ヘンエイ
コサン−１−イル基もしくは４−オキサ−トコサン−１
−イル基ないしは３−ステアリルオキシプロピル基であ
るか；または２−ヒドロキシ−４−オキサ−トリデカン
−１−イル基、２−ヒドロキシ−４−オキサ−テトラデ
カン−１−イル基、２−ヒドロキシ−４〜オキサ−ペン
タデカン−１−イル基、２−ヒドロキシ−４−オキサ−
ヘキサデカン−１−イル（−３−ラウリルオキシ−２−
ヒドロキシプロピル）基、２−ヒドロキシ−４−オキサ
−ヘプタデカンー１−イル基、２−ヒドロキシル４−オ
キサ−オクタデカン−１−イル（＝３−ミリスチルオキ
シ−２−ヒドロキシプロピル）基、２−ヒドロキシ−４
−オキサ−ノナデカン−１−イル基、２−ヒドロキシ−
４−オキサ−エイコサン−１−イル（＝３−ｆルミチル
オキシ−２−ヒドロキシプロピル）基、２−ヒドロキシ
−４−オキサ−ヘンエイコサン−１−イル基もしくは２
−ヒドロキシ−４−オキサ−トコサン−１−イル基ない
しは３−ステアリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル基
である。

一般弐ｙの第四アンモニウム塩（ｂ２）中で特に有利に
使用される基Ｒ１の例は、メチル基およびエチル基であ
る。

一般式■の第四アンモニウム塩（ｂ２）中で特に有利に
使用される基Ｒ２およびＲ３の例は、メチル基、エチル
基、ラウリル基、ミリスチル基１パルミチル基、ステア
リル基または２−ヒドロキシエチル基である。

第四アンモニウム塩（ｂ２）中で特に有利に使用される
基Ｒ４の例は、２−ヒドロキシエチル基、ラウリール基
、ミリスチル基、パルメチル基、ステアリル基、２−ラ
ウリルアミノエチル基、２−ミリスチルアミノエチル基
、２−パルミチルアミノエチル基、２−ステアリルアミ
ノエチル基、３−ラウリルアミノプロピル基、３−ミリ
スチルアミノプロピル基、３−ステアリルアミノプロピ
ル基、２−ラウリルアミドエチル基、２−ミリスチルア
ミドエチル基、２−パルミチルアミドエチル基、２−ス
テアリルアミドエチル基、３−ラウリルアミドプロピル
基、３−ミリスチルアミドプロピル基、３−パルミチル
アミドブロビル基、３−ステアリルアミドプロピル基、
２−ラウリルオキシエチル基、２−ミリスチルオキシエ
チル基、２−パルミチルオキシエチル基、２−ステアリ
ルオキシエチル基、３−ラウリルオキシプロピル基、３
−ミリスチルオキシプロピル基、３−ステアリルオキシ
プロピル基、３−ラウリルオキシ−２−ヒドロキシプロ
ピル基、３−ミリスチルオキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル基３−ハルミチルオキシ−２〜ヒドロキシプロピル基
または３−ステアリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル
基である。

一般式ＩＩの第四アンモニウム塩（ｂ？）中で特に有利
に使用される陰イオンは、エチルスルフェートである。

一般式■の特に有利に本発明により使用すべき第四アン
モニウム塩（ｂ２）の例は、次のものである： Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）
−Ｎ−ラウリル−アンモニウム−エチルスルフェート、
Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）
−Ｎ−ミリスチル−アンモニウム−エチルスルフェート
、Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル
）−Ｎ−パルミチルーアンモニウムーエチルスルフェー
トまたはＮ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシ
エチル）−Ｎ−ステアリル−アンモニウム−エチルスル
フェート：マタはＮ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒ
ドロキシエチル）−Ｎ−（２−ラウリルアミノエチル）
−アンモニウム−エチルスルフェート、Ｎ−メチル−Ｎ
、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（２−ミ
リスチルアミノエチル）−アンモニウム−エチルスルフ
ェート、Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシ
エチル）−Ｎ−（２−パルミチルアミノエチル）−アン
モニウム−エチルスルフェート’＊　；／：　４；！　
Ｎ−メチルーＮ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）
−Ｎ　−（２−ステアリルアミノエチル）−アンモニウ
ム−エチルスルフェート；または Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ
−（３−ラウリルアミノプロピル）−アンモニウム−エ
チルスルフェート、Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒド
ロキシエチル）−Ｎ−（３−ミリスチルアミノプロピル
）−アンモニウムーエチルスルフェ−１−５Ｎ、Ｎ−ジ
メチル−Ｎ−（２〜ヒドロ牛ジエチル）−Ｎ−（３−バ
ルミチルアミノブロビル）−アンモニウムーエチルスル
フヱート又はＮ、□Ｎ−ジメチルーＮ−（２−ヒドロキ
シエチル）−Ｎ−（３−ステアリルアミノプロピル）−
アンモニウム−エチルスルフェート；または Ｎ、Ｎ、Ｎ−トリメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル
）−アンモニウム−エチルスルフェート；マたは Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ
−（２−ラウリルアミドエチル）−アンモニウム−エチ
ルスルフェート、Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロ
キシエチル）−Ｎ−（２−ミリスチルアミドエチル）−
アンモニウム−エチルスルフェート、Ｎ、Ｎ−ジメチル
−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（２−バルミチ
ルアミドエチル）−アンモニウム−エチルスルフェート
またはＮ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル
）−Ｎ−（２−ステアリルアミドエチル）−アンモニウ
ム−エチルスルフェート；または Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ
−（３−ラウリルアミドプロピル）−アンモニウム−エ
チルスルフェート、ＮｌＮ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒド
ロキシエチル）−Ｎ−（３−ミリスチルアミドプロピル
）−アンモニウム−エチルスルフェート、Ｎ、Ｎ−ジメ
チル〜Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ　−（３−ハ
ルミチルアミドブロビル）−アンモニウム−エチルスル
フェートまたはＮ、Ｎ−’）１チル−Ｎ−（２−ヒドロ
キシエチル）−Ｎ−（３−ステアリルアミドプロピル）
−アンモニウム−エチルスルフェート；または Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）
−Ｎ−（２−ラウリルオキシエチル）−アンモニウム−
エチルスルフェート、Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２
−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（２−ミリスチルオキシエ
チル）−アンモニウムーエチルスルフェ−１・、Ｎ−メ
チル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−
（２−バルミチルオキシエチル）−アンモニウム−エチ
ルスルフェートまたはＮ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２
−ヒドロキシエチル）−Ｎ　−（２−ステアリルオキシ
エチル）−アンモニウム−エチルスルフェート；または Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ
−（３−ラウリルオキシプロピル）−アンモニウム−エ
チルスルフェート、Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒド
ロキシエチル）−Ｎ−（３−ミリスチルオキシプロピル
）−アンモニウム−エチルスルフェート、Ｎ、Ｎ−ジメ
チル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３−バル
ミチルオキシブロビル）〜アンモニウムーエチルスルフ
ェートまたはＮ　、　Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロ
キシエチル）−Ｎ−（３−ステアリルオキシプロピル）
−アンモニウム−エチルスルフェート；または Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）
−Ｎ−（３−ラウリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル
）−アンモニウム−エチルスルフェート、Ｎ−メチル−
Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３−
ミリスチルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−アンモ
ニウム−エチルスルフェート、Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビ
ス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３−パルミチル
オキシ−２−ヒドロキシプロピル）−アンモニウム−エ
チルスルフェートまたはＮ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（
２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３−ステアリルオキシ
−２−ヒドロキシプロピル）−アンモニウム−エチルス
ルフェート：または Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ
−（３−ラウリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−
アンモニウム−エチルスルフェート、Ｎ、Ｎ−ジメチル
−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ　−（３−ミリス
チルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−アンモニウム
−エチルスルフェート、Ｎ、Ｎ−’；メチル−Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３−パルミチルオキシ−
２−ヒドロキシプロピル）−アンモニウム−エチルスル
フェートまたはＮ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキ
シエチル）−Ｎ−（３−ステアリルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピル）−アンモニウム−エチルスルフェート。

一般式ＩＩの第四級アンモニウム塩（ｂ、）は、個々に
又は複数のアンモニウム塩（ｂ２）の混合物として使用
する。これらはまた第三級アミン及びアミド（ｂＩ）と
の混合物としても使用される。それらにうちでも、第三
級アミン及びアミド（ｂ、）又は第四級アンモニウム塩
（ｂ、）を別々に使用するのが特に有利である。この場
合には、第三級アミンとアミド（ｂ、）の混合物又は第
四級アンモニウム塩（ｂ、）から成る混合物を使用する
のが最も有利である。このような混合物は公知でありか
つ市販されている。例えば、Ｆｉｒｍａ　Ｇｅｏｒｇ　
Ｍ、　Ｌａｎｇｅｒ　ｕｎｄ　Ｃｏ、から一般式■の第
四級アンモニウム塩（ｂ、）の混合物及び溶液が商品名
“””Ｃａｔａｆｏｒ　ＣＡ　１００．　ＣＡ３０（ブ
タノール中の溶液）、　ＢＣＡ　１００又はＢＣＡ　ｇ
ｏ（ブタノール中の溶液）゛並びに一般式Ｉの第三級ア
ミン及びアミド＜　ｂ　１）が商品名“＋Ｒ’Ｃａｔａ
ｆｏｒ０６“で市販されている。これらのアミン及びア
ミド（ｂ　１）もまた、Ａｋｚｏ社から市販名“”’Ａ
ｒｎ＋ｏｓｔａｔ　６００″として又はＨｏｅ’ｃｈｓ
ｔ社から“”’Ａｎｔｉｓｔａｔｉｋｕｍ　Ｈｏｅｃｈ
ｓｔ　ＶＰ　ＰＡ　１４”として市販されている。

本発明に基づき使用される新規の被覆層（Ｂ）の製造は
、−船釣に本発明による記録材料を製造する際に行う、
従って本明細書中の当該箇所に記載する。

本発明による記録材料のもう１つの重要な成分は、感光
性のレリーフ形成層（Ａ）であり、該層中に化学光線で
画像に基づき露光すると露光された領域と、露光されな
かった領域との間に溶解度差が生じる、従って核層は有
機、水／アルコール性又は水／アルカリ性液状媒体中で
現像することができる。

感光性のレリーフ形成り　（Ａ）は、その全晴に対して
、１種以上の重合体結合剤（ａ　、）２０〜９８．９９
９重量％、有利には３０〜９５重量％、特に４０〜９０
重量％を含有する。

本発明により適当な結合剤（ａ、）としては、ポリアミ
ド、コポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ
アルカジエンの重合体類、ビニル芳香族化合物／アルカ
ジエン共重合体及び−ブロック共重合体、アルカジエン
／アクリルニトリル共重合体、ブチルゴム、アクリレー
トゴム、ポリクロロプレン、フルオルゴム、ポリスルフ
ィドゴム、シリコーンゴム、エチレン／プロピレン共重
合体、クロルスルホン化ポリエチレン、エチレン／（メ
タ）アクリレート、エチレン／ビニルアセテート及びエ
チレン／（メタ）アクリル酸共重合体及び（メタ）アク
リル酸／（メタ）アクリレート共重合体等に由来するも
のから選択される。結合剤（ａ　、）として適当な重合
体は、公知の化合物でありかつ重合体化学の常用かつ公
知方法によって得られる。

上記群から、ポリアミド、コポリアミド、ポリアルカジ
エン、ビニル芳香族化合物／アルカジエン共重合体及び
−ブロック共重合体、アルカジエン／アクリルニトリル
共重合体及びエチレン／（メタ）アクリル酸共重合体の
重合体結合剤の結合剤（ａＩ）を選択して使用するのが
特に有利である。

ポリアミド及びコポリアミドの重合体類から成る特に有
利な結合剤（ａ　、）の例は、公知方法で二官能性カル
ボン酸とジアミン、又はω−アミノ酸、ラクタム、又は
これらの化合物の適当な誘導体から製造される線状のモ
ノ−及びコポリアミド、例えばナイロン３，４，５，６
，８、Ｉ　Ｉ、１２．１３．６．６．１０又は６．１３
；又はメタキシリレンジアミンとアジピン酸、又はトリ
メチル−ヘキサメチレンジアミン又はイソホロンジアミ
ンとアジピン酸から成るポリアミド；又はナイロン６／
６．６．６／６．６／６．１０又は６／６−６／６．１
０／６．１２　；又はε−カプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／４．４−ジアミノシンクロ
ヘキシルメタン、又はε−カプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／ポリエチレングリコールジ
アミンから成るポリアミド：又は上記ホモ−及びコポリ
アミドのＮ−メチロール−又はＮ−アルキルメチル誘導
体の総て：又は光重合可能な基（ａ３）を含有する前記
種類のホモ−及びコポリアミドである。

アルカジエンの重合体類から成る特に有利な結合剤（ａ
、）の例は、天然ゴム、ブタジェン又はイソプレンの単
独重合体、ブタジェン／イソプレン共重合体又は光重合
可能な基（ａ３）を有する相応する重合体である。

ビニル芳香族化合物／アルカジエン共重合体の重合体類
から成る特に有利な結合剤（ａ、）の例は、系統的に分
布した、重合結合されたＱＡ　量体及び重合結合された
スチレン有利には１０〜５０重量％を含有するスチレン
及びブタジェン及び／又はイソプレンから成る共重合体
、又は光重合可能な基（ａ３）を有する相応する共重合
体である。

ビニル芳香族化合物／アルカジエンブロック共重合体の
重合体類から成る特に有利な結合剤（ａ　、）の例は、
少なくとも１つのエラストマーのジエン重合体ブロック
Ｘ及び少なくとも１つの熱可塑性ビニル芳香族化合物重
合体ブロックＹを含有するものであり、この場合ブロッ
クＸ及びＹは一般に炭素−炭素結合を介して化学的に相
互に結合されている。前記ブロック共重合体においては
、ブロックＸとブロックＹとの結合は、共役したジエン
及びビニル芳香族化合物を重合して含有する、統計的又
は互い違いの共重合体によっても行われる；或はまたブ
ロックＸとＹとの結合は、重合結合された共役ジエンの
濃度がブロックＸからブロックＹに向かって低下しかつ
重合結合されたビニル芳香族化合物の０度が増大する、
共役ジエンとビニル芳香族化合物から成る共重合体によ
って行われる。

更に、ブロック共重合体は適当な多価の原子又はイオン
並びに無機、有機もしくは金属有機分子基を介してより
一層大きなブロック共重合体複合体に結合されていても
よい。その際の結合とは、２つの分子基の間での共有又
はイオン結合であると理解すべきである。

更に、ジエン重合体ブロックＸ中のオレフィン系及び芳
香族結合或はまたオレフィン結合だけが；πく公的又は
完全に水素化されて存在することができる。更に、ブロ
ックＸ及びＹは、共役したジエン及びビニル芳香族化合
物を除く、別の単量体、例えばアクリルニトリル、アク
リル酸、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸アミド又
は（メタ）アクリル酸エステルを重合して含有すること
ができ、その際これらの割合はブロック共重合体に対し
て一般に１０重量％を上回るべきでない。この際、ブロ
ックＸはまたビニル芳香族化合物を重合して含有するこ
とができ、その際その量は、ブロックＸのエラストマー
特性を劣化しないように選択すべきである。

同様に、ブロックＹは、その熱可塑性加工特性が失われ
ないような量で共役ジエンを重合して含有することがで
きる。更に、ブロック共重合体は光重合可能な基（ａ３
）を含有することができる。

この際、ブロック共重合体は複数のエラストマーのブロ
ックＸ及び／又は複数の熱可塑性ブロックＹをを含有す
る際には、ブロックＸとＹはそれぞれ化学的に同−又は
近似値的に同一である必要はなく、これらは常に必要な
エラストマーないしは熱可塑性特性を有している限り、
それぞれ明らかに相互に異なっていてもよい。

一般に、ブロックＸは２０℃未満、有利には０℃未満、
特に−１５℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有する。これ
らのブロックは、一般に１０３〜２・１０’の平均分子
量を有することができる。これらはその都度のブロック
Ｘに対して、重合結合した共役ジエン３０〜１００重量
％、特に３０〜９５重量％を含有する。

ブロックＹは、一般に２０℃以上のガラス転移温度Ｔｇ
を有する。これらは一般に１．５・１０３〜２・１０”
、有利には５・１０３〜１．５・１０８、特に１０’〜
１．２・ＩＯ＠の平均分子量を存する。これらはその都
度のブロックＹに対して、重合結合したビニル芳香族化
合物一般に３０〜１００重量％、特に４０〜９０重量％
を含有する。

有利な共役したジエンの例は、ブタジェン、イソプレン
、ペンテン−１，３−ジエン、２゜３−ジメチルブタジ
ェン又はヘキサン−２，４−ジエンであり、この場合ブ
タジェン及び／又はイソプレンが有利である。

有利なビニル芳香族化合物の例は、スチレン、α−メチ
ルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ブチルスチレン
又は１−ビニルナフタリンであり、この場合スチレンが
有利である。

特に有利なブロック共重合体の例としては、熱可塑性エ
ラストマーの３ブロック共重合体：ｙ−ｘ−ｘ’ が挙げられ、上記式中Ｙは熱可塑性の、比弾性スチレン
共重合体ブロック、Ｘはエアラストマーのブタジェン及
び／又はイソプレン重合体ブロック及びＸ″はＸとは異
なった、重合結合したブタジェン及び／又はイソプレン
並びに場合により重合結合したスチレンから成るエラス
トマーの重合体ブロックを表す。

特に有利°なブロック共重合体の別の例としては、４ブ
ロック共重合体、例えば Ｘ−Ｙ−Ｘ−Ｙ。

Ｙ−Ｘ−Ｘ’−Ｙ。

Ｙ−Ｘ−Ｙ−Ｘ’ 又は　　　　　Ｘ−Ｘ’−Ｙ−Ｘ が挙げられる。

アルカジエン／アクリルニトリル共重合体の重合体類か
ら成る特に有利な結合剤（ａ、）の例は、ニトロリルゴ
ム、例えばアクリルニトリル含量１５〜４０重量％を有
するブタジェン／アクリルニトリル共重合体又は光重合
可能な基（Ｒ３）を有する前記種類のニトリルゴムであ
る。

エチレン／（メタ）アクリル酸共重合体の重合体類から
成る特に有利な結合剤（ａＩ）の例は、 ａｌ１）エチレン Ｒ８，）アクリル酸及び／又はメタクリル酸及びａ　１
３）ビニルエステル、ビニルエーテル、アクリル酸エス
テル、メタクリル酸エステル、アクリル酸アミド及びメ
タクリル酸アミドの群から選択される１′！４以上の別
の単４１体から成りかつそれらの重量比に関しては、条
件重量部（λ＋１）　＋　（ａｃｔ）　＋　（ａｈａ）
−１００３０重量部≦（ａｌ１）５７０重量部、５重量
部≦重量部（ａ　、、）５５０重量部及び ５重量部≦重量部（Ｒ１３）５４０重量部を満足する、
単量体混合物の共重合体によって得られるものである。

上記重合体は、例えばＬＤＰＥ　（−低密度ポリエチレ
ン）−高圧重合法に基づき２００〜４００℃の温度及び
８００　ｋｇ／ａｍ”より高い圧力で製造することがで
きる［例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第２３４１
４６２号明細書及び米国特許第３２６４２７２号明細書
参照］。

コモノマー（ａ　、３）として適当などニルエステルは
、特に一般弐■： ［式中、Ｒ５は１−１０個の炭素原子を有するアルキル
基又はシクロアルキル基を表す］で示されるもの、例え
ばビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブ
チレート、バレリアン酸ビニルエステル又はヘキサカル
ボン酸ビニルエステルである。有利であるのは、ビニル
アセテートである。

この場合、コモノマー（ａ　、３）として適当なビニル
エステルは、特に一般式■： ＣＨ＝　ＣＨ−ＯＲ５１Ｖ ［式中、Ｒ５は前記のものを表す］で示されるもの、例
えばビニルエチルエーテル、ビニル−１−プロピルエー
テル、ビニル−２−プロピルエーテル、ビニル−１−ブ
チルエーテル、ビニル−２−ブチルエーテル又はビニル
−■−ペンチルエーテル′である。有利であるのは、ビ
ニル−■−ブチルエーテルである。

この場合、コモノマー（ａ、３）として適当なアクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリル酸アミド
及びメタクリル酸アミドは、特に一般式■： Ｒ”０ ＣＩ−１，＝Ｃ−Ｃ−Ｑ−Ｉえ８　　　　　■Ｆ式中、
Ｒ７はメチル基又は水素原子原子を表しかつＲ６はｌ−
１ｏ個の炭素原子を有するアルキル基又はシクロアルキ
ル基又はω−メヂルーポリ（アルキレンオキシド）−α
−オキシル基を表しかつＱは酸素原子又はＮＲ”−基を
表し、該式中Ｒ８はＣＩ””’　Ｃ−−アルキル基を表
ず］で示されるものである。適当なアクリル酸エステル
、メタクリル酸エステル、アクリル酸アミド及びメタク
リル酸アミドの例は、メタクリレート、メチルメタクリ
レート、エヂルアクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ｎ−
ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｎ−
ペンチルアクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、
ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレー
ト、ｔ−ブチルアクリレート、シクロへキシルアクリレ
ート、シクロへキシルメタクリレート、２−エチルへキ
シルアクリレート、２−エチルへキシルメタクリレート
、ジシクロベンクンジェニルアクリレート、ω−メヂル
ーボリ（エチレンオキシド）−α−イル−（メタ）アク
リレート、ω−メチル−ポリ（プロピレン−１，２−オ
キシド）−α−イル−（メタ）アクリレート、ω−メチ
ル−ポリ（プロピレン−１，３−オキシド）−α−イル
−（メタ）アクリレート、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチル−メ
タクリルアミド又はＮ−エチル−Ｎ−（２−エチルヘキ
シル）−アクリルアミドである。有利であるのは、ｎ−
ブチルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート
、ω−メヂルーポリ（エチレンオキシド）−α−イル−
アクリレート及びジシクロペンアジェニルアクリレート
であり、それらのうちでも又先から３つが特に有利であ
る。

最も有利な共重合体の例は、コモノマー（ａ　１３）と
してｎ−ブチルアクリレート、２−エチルへキシルアク
リレート及び／又はω−メチル−ポリ（エチレンオキシ
ド）−α−イル−アクリレートを重合して含有するエチ
レン／（メタ）アクリル酸共重合体である。

更に、共重合体は一般式■ニ ア −ＣＨ，＝ＣＨ−ＣＨ，−Ｔ−Ｃ＝ＣＨ，ＶＩ［式中、 Ｕはヒドロキシ基、アミノ基又はチオール基を表し、 Ｔはエステル基、アミン基、エーテル基又はＣ８〜Ｃ１
１１−アルカンジイル基を表しかっＲ７は水素原子又は
メチル基を表すって示される光重合可能な基（Ｒ３）を
含有することができる。

適当な光重合可能な基（Ｒ３）の例は、２−ヒドロキシ
−５−オキソ−４−オキサヘプト−６−エン−ｌ−イル
基、 ２−アミノ−５−オキソ−４−オキサヘプト−６−エン
−１−イル基、 ２−チオロ−５−才キソー４−オキサへプト−６−エン
−１−イル基、 ２−ヒドロキシ−５−オキソ−４−オキサヘプト−６−
メチルヘプト−６−エン−１−イル基、 ２−アミノ−５−オキソ−４−オキサ−６−メチルヘブ
トー６−エンー１−イル基、２−ヒドロキシ−５−オキ
ソ−４−アザヘプト−６−エン−１−イル基、 ２−アミノ−５−オキソ−４−アザヘプト−６−エン−
１−イル基、 ２−チオロ−５−オキソ−４−アザヘプト−６−エン−
１−イル基、 ２−ヒドロキシ−５−才キソー４−アザ−６−メチルヘ
ブトー６−エンー１−イル基、２−ヒドロキシ−５，１
０−ジオキソ−４゜９−ジオキサ−６−アザ−１１−メ
チルードデセーＩＩ−エンー１−イル基、 ２−アミノ−５−才キソー４−アザ−６−メチルーヘブ
トー６−エンー１−イル基、２−チオロ−５−オキソ−
４−アザ−６−メチルーヘブトー６−エンー■−イル基
、２−ヒドロキシ−４−オキサヘキシ−５−エン−ニー
イル基、 ２−アミノ−４−オキサヘキシ−５−エン−１−イル基
、 ２−チーＡ−ロー４−４キサヘキンー５−エン−１−イ
ル基、 ２−ヒドロキシ−ヘキシ−５−エン−１−イル基、 ２−アミノ−へキシ−５−エンー■−イル基２−ヂオロ
ーヘキシ−５−エン−１−イル基２−ヒドロキシ−ヘプ
ト−６−エン−１−イル基、 ２−アミノ−ヘプト−６−エン−１−イル基又は２−チ
オロ−ヘプト−６−エン−１−イル基である。有利であ
るのは、式■： （■） で示される２−ヒドロキシ−５−オキソ−４−オキサ−
６−メチル−ヘプト−６−ニンーｌ〜イル基である。

これらの基（ａ３）は、他の結合剤（ａ、）中に存在す
ることもできる。

更に、共重合体は、光重合可能な基（ａ３）の他に又は
これらの代わりに、一般式■：ＣＨｔ　　ＣＨＲ” Ｕ　　　　　　（■） Ｆ式中、Ｒ９は極性基、水素原子又は別の基Ｕを表す］
で示される側鎖位の基を含有することができる。

極性基としては、双極子−双極子、双極子−イオン又は
イオン−イオン相互作用を行うことができるような基で
あると理解されるべきである。

一般式■の適当な基の例は、２−ヒトａキシ−エト−１
−イル基、２−アミノ−エト−１−イル基、２−チオロ
−エト−１−イル基、２゜３−ジヒドロキシ−プロピ−
１−イル基、２−アミノ−３−ヒドロキシ−プロピ−１
−イル基、２−チオロ−３−ヒドロキシ−プロピ−１−
イル基又は２−ヒドロキシ−２−［ω−アルキル−ポリ
（エヂレンオキシド）−α−イル］−エトー１−イル基
である。

重合体結合剤（ａ、）中に光重合可能な基（２Ｌ３）が
含有されている限り、それらの量は感光性のレリーフ形
成層（Ａ）の１〜６０重量％、殊に　１．５〜４０重量
％、有利には２〜３０重量％、特に２〜１５重量％であ
る。

その際には、場合により単量体（ａ３）の添加を省略す
ることもできる。

更に、感光性のレリーフ形成層（Ａ）は、光重合の開始
剤（ホトイニシアター）０．００１〜ｌＯ重量％、殊に
０．１〜７重量％、有利には０．２〜５重量％、特に０
．３〜４重量％を含有し、この場合にはこの量は併用さ
れる成分（ａ３）の量によって決定される。

適当な光重合開始剤（ａ、）の例は、ベンゾイン又はベ
ンゾイン誘導体例えばそのメチル−、イソプロピル−１
ｎ−ブチル−又はイソブチルエーテル：対称的又は非対
称的に置換されたベンジルアセクール例えばベンジルジ
メチルアセタール、ベンツルーＩ−メチルーＩ−エチル
−アセタール；又はアシルアリールホスフィンオキシト
例えば２−ジメチルベンゾイル−ジフェニルポスフィン
オキシド、２，４．６−トリメチルベンゾイルーフエニ
ルホスフインオキシド、２，４．６−１−ツメチルベン
ゾイルーフェニルホスフィン酸エチルエステル又は２，
４．６−トリメチルベンゾイルーフエニルホスフイン酸
−ナトリウム塩、又は置換されたもしくは置換されてい
ないキノン例えばエチルアントラキノン、ベンズアント
ラキノン又は４．４’　−ビス−（ツメチルアミノ）ベ
ンゾフェノンである。これらは個々に又は相互に混合し
て又はコイニシアターと組合せて、例えばエチルアント
ラキノンと４．４′−ビス−（ツメチルアミノ）ベンゾ
フェノン、ベンゾインメチルエーテルとトリフェニルホ
スフィン、ジアシルホスフィンオキシトと第三級アミン
、又はアシルアリールポスフィンオキシドとベンジルジ
メチルアセクールと組合せて使用することができる。

更に、感光性のレリーフ形成層（Ａ）は、結合剤（ａ、
）と相容性の、光重合可能なオレフィン系不飽和基を含
有する成分（ａ３）１〜６０重量％、殊に　１，５〜４
０重量％、有利には２〜３０重量％、特に２〜１５重量
％を含有する。

これらの成分（２Ｌ３）として光重合Ｉ′ＪＪ能な基（
ａ３）を使用する限り、結合剤（ａ１）を参照すべきで
ある。

それに対して、単量体（ａ３）を使用する場合には、こ
れらは一般に大気圧で１００℃よりも高い沸点及び３０
００以下、特に２０００以下の分子量を有する。この場
合には、例えばアクリル酸及び／又はメタクリル酸と１
価又は多価のアルコールとのエステル、例えばブチルア
クリレート、ブチルアクリレート、２−エチルへキシル
アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エチレ
ングリコールージ（メタ）アクリレート、ブタンジオー
ル−１，４−ジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグ
リコールージ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタ
ンノオールージ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、１．６−ヘキサンシオールージ
（メタ）アクリレート、Ｉ、　　１．１−１−ツメチロ
ールプロパンートリ（メタ）アクリレート、ジー、トリ
ー及びテトラエチレングリコールージ（メタ）アクリレ
ート、トリプロビレングリコールージ（メタ）アクリレ
ート又はペンタエリトリット−テトラ（メタ）アクリレ
ート、ポリ（エチレンオキシド）−ジ（メタ）アクリレ
ート、ω−メチル−ポリ（エチレンオキシド）α−イル
−（メタ）アクリレート、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノエチ
ルアクリレート、又はグリセリン１モル、エピクロルヒ
ドリン１モル及びアクリル酸３モルから成る反応生成物
；脂肪族モノカルボン酸のビニルエステル例えばビニル
オレエート；アルコールのビニルエーテル例えばオクタ
デシルビニルエーテル及びブタンジオール−１，４−ジ
ビニルエーテル；フマル酸及びマレイン酸のジエステル
：又はＯＨ末端基化されたオリゴマーのポリブタジェン
とマレイン酸又は（メタ）アクリル酸との反応生成物、
即ち活性化された光重合可能なオレフィン系二重結合を
有するオリゴマーのポリブタジェンが適当である。

更に、感光性のレリーフ形成層（Ａ）は、レリーフ層（
Ａ′）の使用技術上の特性プロフィールを変更すること
ができる１種以上の助剤を含有することができる。

このような助剤としては、特に軟化剤、熱的に開始され
る重合反応の抑制剤、染料、顔料、ホトクロム゛添加剤
、レリーフ構造改良剤、架橋助剤、酸化時ＩＬ剤、ゾー
ニング防止剤、充填剤、フラックス又は離型剤が該当す
る。それらのｔＬｌは、一般に層（Ａ）の４０重量％を
越えるべきではない。

可塑剤の例は改質または未改質天然油および天然樹脂（
例えば、パラフィン糸およびナフテン系油並びに石油樹
脂または水素化フロホニウムのペンタエリスリトールエ
ステル）、酸のアルキル−、アルケニル−、アリールア
ルキル−またはアリールアルケニルアルコールエステル
（例エバ、クエン酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、エチ
ル酪酸、エチルヘキサン酸、グリコール酸、安息香酸、
フタル酸、トリメリット酸、アビエチン酸、リン酸また
はステアリン酸などのエステル）、合成オリゴマーまた
は樹脂（例えば、オリゴスチロール、オリゴマーのスチ
ロール−ブタジェン共重合体、オリゴ−α−メチルスチ
ロール、オリコマ−のα−メチルスチロール／ｐ−メチ
ルスチロール−共重合体、液体１，２−または１，４−
オリゴブタジェン、オリゴペンタジェン、液状オリゴマ
ーのアクリルニトリル−ブタジェン−共重合体並びにポ
リテルペン−、ポリアクリラート、ポリエステル−また
はポリウレタン樹脂）、合成ポリマー（例エバ、ポリエ
チレンまたはエチレン−プロピレン−ジエンゴム、ω−
メチル−オリゴ（エチレンオキシド）、またはスルホン
アミドである。層（５）に関して１〜２５重量％の量が
有利である。

熱によって開始される重合の防止剤は一般に層へに関し
て０．００１７２重量％の量に添加され、そして光開始
剤（ａ２）が吸収する化学線領域において言うに足る基
礎吸収を示さない。防止剤の例はヒドロキノン、ｐ−メ
トキシフェノール、２，６−ジーｔ−ブチル−ｐ−クレ
ゾール、β−ナフトール、フェノチアジン、ピリジン、
ニトロペンゾール、ｍ−ジニトロペンゾールｔ　？、：
　＆！　クロラニル、チアジン染料〔例えば、チアニン
ブラウＧ　（Ｃ，Ｉ。

５２０２５　）、メチレンプラウＢ　（Ｃ，１，５２０
１５）またはトルイジンプラウ（Ｃ，１，５２０４０）
、またはＮ−ニトロサミン（例えば、Ｎ−ニトロソジフ
ェニルアミン）あるいはその塩（例えば、Ｎ−ニトロソ
シクロへキシルヒドロキシルアミンのカリウム−、カル
シウム−またはアルミニウム塩）である０ 染料、顔料またはホトクロミー添化物は前記混合物に層
（５）に関して０．０００１〜２重量％の量で添加され
ることができる。それらは露光特性の制御、同定、露光
結果の直接監視または美的目的に役立つ。そのような添
加物の選択と量についての前提条件は、それらが、熱開
始重合の防止剤と同様に、前記混合物の光重合を妨げな
いことである。適当なものは、例えば、可溶性のツェナ
ジニウム−、フェノキサジニウム−、アクリジニウム−
およびフェノチアジニウム染料であ、る。これらの染料
はまた十分な量の還元剤と一緒に使用され、後者は化学
線光の不在で染料を還元しないものであるが、しかし露
光に際して励起された電子状態にある染料を還元するこ
とができる。そのような緩やかな還元剤の例はアスコル
ビン酸、アネトール、チオ尿素、例えば、ジエチルアリ
ルチオ尿素、特にＮ−アリルチオ尿素、並びにヒドロキ
シルアミン誘導体、特にＮ−ニトロソシクロへキシルヒ
ドロキシルアミンの塩、好ましくはカリウム−、カルシ
ウム−およびアルミニウム塩である。後者は、前述のよ
うに、同時に熱開始重合の防止剤としても役立つことが
できる。還元剤は一般に層（５）に関して０．００５〜
５重量％の量に添加され、その際多（の場合に共に使用
される染料の３〜１０倍の量の添加が有効であることを
示している。

網状化促進剤の例は従来慣用のかつ周知の三官能および
四官能チオール化合物である。

酸化防止剤の例は立体障害モノフェノール（例えば、２
，６−ジーｔ−ブチル−ｐ−クレゾール）、アルキル化
チオビス−およびアルキリデンビスフェノール（例えば
、２，２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）または２゜２′−ビス−（１−ヒド
ロキシ−４−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル）スルフ
ィド）、ヒドロキシベンジル（例えば、１，３．５−）
リスチル−２゜４．６−）リス−（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ペンゾール）、トリア
ジン（例えば、２−（４−ヒドロキシ−３，５−を−ブ
チルアニリノ）−４，６−ビス−（ｎ−オクチルチオ）
−１，３，５−）リアジン）、重合したトリメチルジヒ
ドロキノ／、ブチルジチオカルバミン酸スズ、ジラウリ
ルチオジプロビオナート、またはホスフィト（例えば、
トリス（ノニルフェニル）ホスフィト）である。層四に
関して０．０００１〜５重量％の量が有利である。

非分子分散混合性の、重合体または非重合体の有機およ
び無機充填剤または補強充填剤の例は、本発明の混合物
の露光のために使用される光の波長に対して本質的に透
過性であって、その光を散乱せずかつ屈折率において広
い範囲で該混合物に適応するものであり、例えばポリス
チロール、有機物親和性の酸化ケイ素、ベントナイト、
ケイ酸、■Ａｅｒｏｓｉｌ　、有機物親和性の酸化アル
ミニウム、ガラス粉末、コロイド状炭素並びにいろいろ
な種類の染料および顔料である。これらの助剤は、本発
明の記録材料の所望の特性と共にいろいろに変る量で使
用される。これらの充填剤は、レリーフ形成層四および
それから作られるレリーフ層（Ａ′）の硬さ並びにそれ
らの耐摩耗性を改良し、それらの粘着性を減少させ、そ
して場合によりここで色を与える材料として効果がある
という利点を有する。

融剤の一例はステアリン酸カルシウムである。

離型剤の一例はタルクである。

オゾン劣化防止剤の例は、慣用かつ周知のオゾン保護ワ
ックス並びに分子中に８〜４０の炭素原子および３０〜
７３重量％の塩素を含むクロルアルカン（クロルパラフ
ィン）でアル。

本発明の記録材料から製造される印刷版のレリーフ構造
の改良用材料の例は、例えば、９．９’−ジアントロニ
ルおよび１０　、１０’−ビスアントロンである。

感光性レリーフ形成層＾は前記の成分（ａ、）　。

（ａ２）　、　（ａ５）および場合により（ａ４）を含
むが、化学線光により画像に合う露光をした後、有機の
水性アルコールまたは水性アルカリ現像液により現像さ
れる。

層＾の厚さはまず第一に本発明の記録材料の使用目的に
従う。それ故その厚さは一般にｏ、ｏｏｉ〜７、好まし
くは０．１〜７、そして特に０．７〜６．５圏の範囲で
変動する。それはこの厚さの層（５）を有する記録材料
は多数の印刷技術並びにホトレジスト技術に適している
からである。

本発明の記録材料の他の１つの本質的成分は保護膜（Ｑ
であり、これは保護層（Ｂ）より容易に剥離する。

保護膜（ｑは一般に１０〜２５０、特に２０〜１５０μ
ｍの厚さである。それは本質的に合成樹脂、繊維材料、
紙または金属から成る。表層（Ｂ）の上に直接載ってい
る保護膜（ｑの各表面は平滑である（すなわち、それは
平面荒さ１ｌ（ｒｒ′ＩａＸ＜０．１μｍを示す）か、
甘たはつや消し仕上げされる（すなわち、表面荒さＲｍ
ａＸを０．１〜１５、好ましくは０．３〜１０、そして
特に０．５〜７μｍの範囲に有する）。保護膜（ｑがつ
や消しにされる場合には、その凹凸の模様が保護層◎へ
そして場合によりレリーフ形成層四の中にも刻みこまれ
る。この平滑なまたはつや消しの保護膜（Ｑの表面はそ
のほかに不粘着性に仕上げ加工されることもある。すな
わち、それは例えば、従来慣用かつ周知のシＩＪ　−７
−ンまたは他の合成樹脂（例えば、ポリエチレンまたは
ポリプロピレン）から成る０、１〜０．５μｍの厚さの
不粘着層（ＡＳ　）を有することもある。繊維材料また
は紙から成る保護層（ロ）はさらに合成樹脂（例えば、
尿素ホルムアルデヒド樹脂またはポリオレフィン）によ
り含浸されることもある。合成樹脂から成る保護層０は
その上二輪延伸されることがある。この場合二軸延伸の
前に、（Ｔ３）の夫々の側面上に例えばビニリデンクロ
リド共重合体から成る厚さ０．１〜０．５μｍの層を塗
り、それが後に直接（ｑの上に載ることがしばしば有利
である。

特に有利な保護膜（ｑの例は２０〜１５０μｍの厚さの
、平滑またはつや消しの、二軸延伸または無延伸の、場
合により不粘着仕上げ加工された合成樹脂膜であり、例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポ
リスチロール、スチロール／アクリルニトリル共重合体
またはポリメチルメタクリラートからのもの、あるいは
メチルメタクリラートとメタクリル酸、アクリル酸、メ
チルアクリラートとのまたはブチルアクリラートとの共
重合体からのもの、あるいはポリ塩化ビニル、ポリ酢酸
ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ポルカルボナート
、セルロースエステル（例えば、酢酸コハク酸セルロー
ス）からのもの、またはポリエチレンテレフタラートか
らのものであり、その中でポリエチレンテレフタラート
からの保護膜０は特に有利である。

これらの本質的な成分＾、＠および０のほかに、本発明
の記録材料はさらに、記録材料の機能に必要な層を有す
ることができる。

そのように感光性レリーフ形成層四は寸法安定性の担体
（ＴＲ）と不粘着または剥離し易く結合されている。寸
法安定性担体（ＴＲ，）はまた柔軟な下層（ＵＳ）によ
り裏打ちされることができる。

さらに（ＴＲ）と（５）との間の不粘着結合は接着層（
Ｈ８）により達成されることができる。

寸法安定性担体（ＴＲ）として、板、箔または円錐形ま
たは円筒形の、金属（例えば、スチール、アルミニウム
、銅またはニッケル）から成る、または合成樹脂（例え
ば、ポリエチレンテレフタラポリブチレンテレフタラー
ト、・ 一ト、ポリアミドまこはポリカルボナート）から成る管
（スリーブ）を使用することができる。そのほか織布お
よびフリース（例えば、ガラス繊維織布）または、例え
ば、ガラス繊維および合成樹脂（例えば、ポリエチレン
テレフタラート）から成る複合材料もまた問題になる。

そのほか担体として、通常導体プレートの製造に使用さ
れるように、板類も考慮の対象となる。

接着層として慣用かつ周知の、約０．５〜４０μｍの厚
さの接着ラッカー層が有利に使用される。

層担体（ＴＲ，）として強く反射する板または箔が使用
される場合には、カーボンブラックまたは二酸化マンガ
ンのような、適当なハレーション防止剤を含有すること
ができる。しかしハレーション防止剤は（ＴＲ）の上に
また別の層として載せられるか、または接着層（Ｈ８）
の中にまたはレリーフ形成層（イ）の中に含まれること
もできる。

本発明の記録材料の本質的な成分（Ａ）　、　（Ｂ）お
よび（Ｑの製造はなんらの技術的特殊性を示さず、むし
ろ感光性層および保護層の従来慣用かつ周知の製造方法
に従って、並びに合成樹脂、繊維材料、祇または金属か
ら箔類の従来慣用かつ周知の製造方法に従って行われる
。

そのように感光性レリーフ形成層四および保護層は、通
例当該成分を慣用の混練、混合および溶解の技術を用い
て混合することにより、混合の形式に従って溶液からの
鋳造、熱間圧縮、圧延捷たは押出しにより平らな層に造
られる。普通はこれらの加工工程は本発明の記録材料の
製造手順の中に組み入れられている。

特に有利な保護膜（ｑの成分は、同様に慣用の混線、混
合および溶解の技術により混ぜ合わされてから、溶液か
らの鋳造、熱間圧縮、圧延または押出しおよび吹込成形
により相当する薄膜に成形される。またこれらの加工工
程も本発明の記録材料の製造手順の中に組み込まれるこ
とができるが、しかし通例保護膜（Ｑは別に製造され、
ロールに巻かれ、この形で本発明の記録材料のために使
用される。

また本発明の記録材料の製造もなんらの技術的、特殊性
を示さず、むしろ普通の方法でレリーフ形成層（５）の
保護層（Ｂ）および保護膜０との結合により行われ、そ
の際これは寸法安定性担体（ＴＲ，）の上に、場合によ
り接着層（Ｈ８）および柔軟弾力性の下１’ｉｉＪ　（
Ｕ　Ｓ　）を共に使用することにより行われることがで
きる。この際に、レリーフ形成層四を最初に担体（ＴＲ
）と結合させ、続いてその被覆されていない側を保護層
◎と保護膜（Ｑで被覆することは原則的に可能であるが
、あるいはレリーフ形成層＾は最初に、保護層の）で波
器された保護膜（Ｑの上に載せられ、そして次にはじめ
て担体（ＴＲ）と結合される。もち論この加工工程は従
来慣用かつ周知の、連続または不連続の加工装置中で順
次続けてまたは同時に行われることができる。

本発明の記録材料は光重合される凸版、凹版、フレキソ
版およびレリーフ板並びにホトレジストの製造に役立つ
。特にそれは光重合される凹版、凹版およびフレキソ版
板の製造に適する。

本発明の記録材料からの光重合される印刷版、レリーフ
板およびホトレジストの製造は次の加工工程を含む。

（１）場合により、本発明の記録材料の前処理、（２）
保護層０から保護膜（Ｑの剥離、（３）保護層■の上に
画像マスクまたは陰画版下を載せること、 （４）２３０〜４５０　ｎｍ　％特に３５０〜４５０　
ｎｍ　、の波長λの化学線光による感光性レリーフ形成
層の画像に応じた露光、 （５）画像に応じて露光したレリーフ形成層（５）の未
露光範囲の有機の、水性アルコールまたは水性アルカリ
液媒体（現像ｇ）による洗浄（現像）（その際また保護
層■も洗い落される）、および （６）乾燥並びに （ア）場合により、このようにして得られる光重合した
印刷版、レリーフ板およびホトレジスト（今やレリーフ
層（Ａ′）を含むかまたはこれから成っている）の後処
理。

レリーフ層（Ａ′）の厚さは印刷版、レリーフ板および
ホトレジストの使用目的に応じてｏ、ｏｏｉ〜７、好ま
しくは０．１〜７、そして特に０．７〜６．５鴫の範囲
内で変動する。

前処理の普通の方法はレリーフ形成層（５）をその後側
から化学線光で全面露光させることである。

後側とはここでは、後に形成されるレリーフにをを向け
る側を意味する。

化学線光の適当な光源は市販のＵＶ−螢光管、水銀中圧
−１高圧−および低圧−放射灯、超化学線螢光管、キセ
ノンインパルス灯、金属ヨウ化物を組み込んだランプま
たは炭素アーク灯である。

適当な有機現像液の例は脂肪族または芳香族の炭化水素
（例えば、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン、オクタン、石
油エーテル、リグロイン、リモネンまたはその他のテル
ペン、ドルオール、キジロール、エチルペンゾールまた
はこれらの溶媒の混合物）、ケトン（例えば、アセトン
またはメチルエチルケトン）、エーテル（例えば、シー
ブチルエーテル）、エステル（例エバ、酢酸エチルエス
テルまたはアセト酢酸エチルエステル）、ハロゲン化脂
肪族炭化水素（例えば、メチレンクロリド、クロロホル
ム、トリクロルエタン、テトラクロルエチレン、ジクロ
ルテトラフルオルエタンマタはトリクロル−トリフルオ
ルエタン）、またはこれらの２種以上の溶媒を含む混合
物、またはこれらの１種以上の溶媒に加えてアルコール
類、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパツー
ルまたはｎ−ブタノールを含む混合物、または前記の種
類の溶媒および混合物であって、それに加えて固体、液
体または気体の有機および無機の化合物（例えば、界面
活性剤）を下位の量に含有するものなどである。

適当な水性アルコール現像液の例はメタノール、エタノ
ール、インプロパツールまたはｎ−ブタノールの水溶液
であり、これらはなおその上面体、液体または気体の有
機および無機の化合物、例えば、界面活性剤、錯化合物
形成剤、塩、力性アルカリ液、アンモニアまたはアミン
を下位の量に含有することができる。

レリーフ層（Ａ′）の普通の後処理方法は１５０〜４５
０　ｎｍの波長λの化学線光による全面的後露光、可視
光による後露光またはハロゲン含有溶液による処理であ
る。

この方法で得られる凸版、凹版およびフレキソ印刷版は
印刷機の圧胴の上に装着され、そしてエンドレス印刷の
ために使用される。

この方法で製造されるホトレジストは、例えば、導体板
の製造に使用されることができる。

新規な、本発明忙より使用される保護層０は多数の特別
な利点を有し、それらの利点はその高い含量の添加物を
考慮するとこのように沢山あるとは予期され得なかった
。

新規な保護層（至）は相変らず厳密な一定の厚さをもっ
て簡単な方法で製造されることができ、引裂き強度が高
く、透明で、硬く、不粘着性で、酸素透過性でかつ現像
液に容易に溶解または膨潤することができ、保護膜０の
剥離を容易ならしめそして画像マスクまたは陰画版下と
の接触を改良することのほかに１ −その中に含まれるアミンとアミド（ｂ、）およびアン
モニウム塩（ｂ２）が移動する傾向がないので、保護層
０は非常に優れた長期安定性を示し、−それは本発明の
記録材料の静電気の帯電および塵埃の堆積を防ぎ、 −それは本発明の記録材料の複写技術的特性を改良する
ので、その結果、 一非常に高品質のかつ細部に忠実な光重合した凸版、凹
版、７レキソ版およびレリーフ板の並びにホトレジスト
の製造をかなり容易にするかまたはやっと初めて可能に
する。

新規な保護層０を含む本発明の記録材料は同様に多数の
子期せざる利点を有する。そのようにそれは簡単な方法
で精確に再現できるように製造され、その保護膜０の剥
離に際して静電気を帯電せず、優れた複写技術的特性を
有し、その際その大きな露光許容範囲が際立ち、優れた
解像方を示すので、最も微細な画像要素も中間深度の形
で細部に忠実に再現され、そしてそれは「追加重合」お
よび心配さ耗る「内部製版」の傾向がない。

本発明の記録材料のその他特別の利点は特にこれから製
造される光重合した凸版、凹版およびフレキソ版におい
て明らかである。それらのレリー。

７層（Ａ′）はなんらの重合勾配もまた下部照射により
生じたレリーフ部分の下側を斜めに切取られることもな
い。また最も微細な画像要素もより粗い要素の傍らに全
（申し分なく「存立」する。この際特に中間深度のきれ
いな形成が際立っている。

全体として画像マスクまたは陰画版下の原画が完全に細
部に忠実にレリーフ層（Ａ′）により再生されるので、
その結果当該印刷版は非常に品質の高い製品であり、最
高の品質要求を十分溝たすかまたはそれどころかこの要
求を上回る。エンドレス印刷機の印刷でこれらの印刷版
は非常に優れた色伝達特性を示し、また縁端の脱落の傾
向および不十分なレリーフ定着に基づ（レリーフ部分の
剥離の傾向もないので、その結果この印刷版は特圧長い
痔命を示し、それは優秀な印刷物の高い生産を可能なら
しめる。ここにおいて、本発明の記録材料から製造され
た、光重合させられたばかりの凹版が掻き板なしで印刷
することが特に強調されるべきである。

実施例及び比較実験 以下の実施例及び比較実験においては、記録材料の同形
の負荷の際に生じた電場の強さが、電場の強さかもとの
値の５０％に達する緩和時間ｔ。

との関連において、記録材料の静電的再負荷可能性にと
っての尺度として役立つ。

緩和時間ｔ５ｏの測定のため、記録材料の表層フィルム
０は正確に同等の条件下に機械的に当該の表層０（本発
明の実施例１乃至４）又は当該の公知の表層（比較実験
１乃至４）から引離された後にこの場合に生じた電場の
強さ（ｋＶ／ｍ　）と時間に伴なってのその低下とを誘
導で静電計により無接触測定した。この低下が速ければ
速いはど当該の記録材料は有利である。

感光記録材料の画像どおりの露光のために通常公知の格
子のある又は格子のない画像マスク又は陰画原紙ならび
に通用の露光装置を用いた。

露光ずみの記録材料の現象のためには通常市販の吹きつ
け洗浄機を用いた。

仕上げ処理浴としては界面活性剤含有の臭素０．４％水
溶液が役立った。

記録材料は通常公知のしかたで印版形成層（５）の猪成
分を二軸押出機で押出し、広幅ノズルから混合物を送り
出して被せ、生じた印版を形成する感光性層（５）と寸
法安定な担体（ＴＲ）及び表層フィルム（ｑであって印
版形成層（５）へ向けられた側面に表層（至）又は公知
の表層のあるものとをカレンダによって結合して作られ
た。以後の加工の前に記録材料を通常のしかたで乾燥さ
せ１週間貯蔵した。

表層フィルム（ｑ上の新規の及び公知の表層の製造は溶
液から注形して行なわれた。

記録材料の製造及び加工は空気の浄化を行なわずに実施
した。

印版層の品質は顕微鏡下で目視して鑑定され、下記のと
おり評点を下された； 優　（欠陥のない印版、すべての画像要素が完全に申し
分なく再現されている。印版斜面の切れこみ又は縁の損
傷が現われない、掻き傷はない） 良　（大幅に欠陥のない印版、印版斜面の切れこみ又は
縁の損傷が現われない、極細かい画像要素は確かに”あ
る“、それはそうだが最適の品質ではない、僅かな掻き
傷がある）可　（ところどころ欠陥のある印版、極細か
い画像要素の細部忠実なのはすべてではなく、ある程度
歪みをもって再現されている。印版斜面の切れこみ又は
縁の損傷の認められるのが増加している。多数の掻き傷
が現われる）印刷試験は通用の凸版−１凹版又はフレキ
ソ印刷機で行なわれた。その際対応の印刷技術にとって
通常の印刷インキを用いた。印刷品質の尺度は達成可能
のすぐれた印刷の枚数であった。

実施例１乃至４及び比較実験１乃至４ 実験規定 実施例及び比較実験のためまず４種の感光性混合物を作
り、フレキソ印版（実施例１ａ、ｌｂ。

２ａ及び２ｂ；比較実験１−Ｖ　ａ　、　１−Ｖ　ｂ　
、　１−Ｖ　ｃ　、　２−Ｖ　ａ　、　２−Ｖ　ｂ及び
２−Ｖｃ）、凸版印版（実施例３ａ及び３ｂ；比較実験
３−Ｖａ。

３−Ｖ　ｂ　、　３−Ｖ　ｃ　）及び凹版印版（実施例
４ａ及び４ｂ；比較実験４−　Ｖ　ａ　、　４−　Ｖ　
ｂ　、び４−Ｖｃ）の感光性印版形成層＾用に典型的に
用いられるようにした。

これらの混合物は担体（ＴＲ）上で感光性印版形成層（
５）に成形された。担体（ＴＲ，）としては厚さが１２
５μｍのポリエチレンテレフタラート、フィルムであっ
てその印版形成層（ト）へ向けられた側面に厚さが０．
５μｍのポリウレタン接着ラッカ層のあるものが用いら
れた。それぞれの印版形成層穴の厚さはまず第１に使用
目的に従って定められ、フレキソ印版の場合には ３　ｍｍ　（実施例１３Ｎｌｂ％２ａ及び２ｂ；比較実
験Ｉ　　Ｖ　ａ　％　Ｉ　　Ｖ　ｂ　％　Ｉ　　Ｖ　ｃ
　、　２　　Ｖ　ａ　ｚ２−Ｖｂ及び２−Ｖｃ） 凸版印版の場合には ｏ、　ｓ　ｔａ　（実施例３ａ及び３ｂ；比較実験３−
Ｖａ。

３−Ｖ　ｂ　及ヒ３−Ｖ　ｃ　） また凹版印版の場合には ０、２　ｍ　（実施例４ａ及び４ｂ；比較実験４−Ｖａ
　。

４−Ｖ　ｂ　及ヒ４−Ｖ　ｃ　） であった。

印版形成層＾は新規の表層（Ｂ）（実施例）又は公知の
表層（比較実験）をもってまた片側をつや消しとした（
　Ｒｍａｘ　−５μｍ　）厚さ１２５　ｔｔｍのポリエ
チレンテレフタラート・フィルム（ｑをもって被われた
。

第１表は印版形成層穴、表層（Ｂ）及び公知の表層の物
質組成についての概観を示す。

これらの本発明による及び公知の記録材料の製造後にそ
れらの静電的再負荷可能性を、記録材料から採取した試
料について別個に測定した。

これらの測定の結果は第２表に要約しである。

そのほか記録材料は表層フィルム（ｑを引き離した後に
画像どおりに露光させ、現像し、乾燥させ、実施例１ａ
及び１ｂならびに比較実験ｌ　−Ｖ　ａ乃至ｌ　−Ｖ　
ｃの光重合ずみのフレキソ印版の場合には仕上げ処理し
改めて乾燥させ、印刷シリンダに貼りつけ、輪転機印刷
に用いた。

この場合印版の現像は 一実施例１ａ及びｂ及び比較実験１−Ｖａ乃至１−Ｖｃ
では有機現像液（テトラクロルエチレン／ｎ−ブタノー
ル、容積比４：１）によって一実施例２ａ及びｂ及び比
較実験２−　Ｖ　ａ乃至２−Ｖｃでは水性アルカリ現像
Ｑ　（０，ｓ％水酸化ナトリウム溶液）によって及び −その他の実施例及び比較実験では水性アルコール現像
液（水／エタノール、容積比１８　：　８２）によって 行なわれた。

印版層（Ａ′）の品質の目視による判定の結果及び試し
刷りの結果は同様に第２表に見られる。

これら実験結果すべての比較は、本発明による記録材料
は公知の記録材料よりも静電的再負荷可能性が著しく低
いことまた公知の記録材料よりも良質の光重合ずみ印版
を作りすぐれた印刷の枚数も多くなっていることを示す
。

第１表において用いている略式の記載及びり１用符号は
下記の意味のものである。

“ブロックコポリマー“ニ ブロックコポリマーｙ　−ｘ　−ｘ’　（粘度数ＶＺ−
１６４，１９ｄ／り；平均分子量Ｍｗ　＝　１．９・１
０５）組成：ポリスチロール（Ｙ−ブロック）１０重ｉ
％　□ポリイソプレン（Ｘ−ブロック、ガラス化温度Ｔ
ｇ　−−３５℃）８０重量％ ３．４構造のものの含有量５３％、共重合させであるス
チロールの含有量４０重量％のポリイソプレン（Ｘ′−
ブロック、ガラス化温度Ｔｇ＝＋１０℃）　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　１０重量％１へ：　１
．６−へキサンジオールシアクリラードゝ開始剤Ｉ　″
：ベンジルジメチルアセタール゛クロルアルカン”　塩
素含有量４９％、密度１．２４　ｇ／ｃｒｎ’のクロル
パラフィン“オリゴマー“：ｐ−メチルスチロール７０
重ｆｔ％及びα−メチルスチロール３０重量％からなる
オリゴマー ＥＰＭ　：エチレン６０重量％及びプロピレン４０重量
％からなるＥＰＭ−ゴム “ポリマー“ エチレン　　　　　　　　　　　　　５６．６ｆ１％ア
クリル酸　　　　　　　　　　　　１４．９重量％ω−
メチル−ポリ（エチレンオキシ ド）−α−イル−アクリラート　　　　１１．０重量％
２−エチルへキシルアクリラート　　１７．５重量％か
らなる混合物の共重合により作られた、２−ヒドロキシ
−５−オキソ−４−オキサ−６−メチルーヘプ）−６−
エン−１−イル残基（光重合性残基ａ３）１重量％を含
んでいるコポリマーＴＥＧＡ２：テトラエチレングリコ
ールジアクリラート ゝ開始剤ｎ”：２．４．６−）リメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド ”カルシウム塩“二Ｎ−ニトロソシクロヘキシルヒドロ
キシルアミン・カルシウム塩 ＰｖＡ：市販のポリビニルアルコール（加水分解度９５
％のポリ酢酸ビニル） ９ポリアミドＩ　“又はＰＡ　ｌ　：　ＢＡＳＦ　ＡＧ
社の市販ノホリアミド、Ｕｌｔｒａｍｉｄ−Ｉ　Ｃ■ゝ
ホリアミトＬ−“又はＰＡ　ｌ　：　Ｈｅｎｋｅｌ　Ａ
Ｇ社の市販ノホリ７　ミ）”　Ｍａｃｒｏｍｅｌｔ＠Ｈ
ＤＭＡ２：　１　、６−ヘキサンシオールジメチルアク
リラート ＴＭＰＴＭＡ　：　）　ＩＪ　メｆロールプロパントリ
メタクリラート １カリウム塩“：Ｎ−ニトロソシクロへキシルヒドロキ
シルアミン・カリウム塩 ）ＩＥＭＡ　：　２−ヒドロキシエチルメタクリラート
５ｉｎ２：市販の高熱による珪酸　ＡｅｒｏＳｉｌ■１
アミン（ｂ、、）“：Ｎ、Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエ
チル）Ｎ−ステアリル−アミン 囁アミン（ｂ、２）”：Ｎ、Ｎ−ビス（２−ヒドロキシ
エチル）ラウリン酸アミド、Ｎ、Ｎ−ビス（２−ヒドロ
キシエチル）バルミチン酸アミド及びＮ、Ｎ−ビス（２
−ビロキシエチル）オレイン酸アミド（重量比１：３＝
１．１） １アミン（ｂ、ｓ）　　“：Ｎ、Ｎ−ビス（２−ヒドロ
キシエチル）　−Ｎ−パルミチルアミン及ヒＮ、Ｎ−ビ
ス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−オレイルアミン（
重量比１０：１） １アンモニウム塩（ｂ２．）“：Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−
ヒス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ステアリルーア
ンモニウムーエチルヌルファト“アンモニウム塩（ｂ２
２）“：Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）−Ｎ−（３−ステアリルアミドプロピル）−アンモ
ニウム−エチルスルファト ”アンモニウム塩（ｂ２３）“：Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−
ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３−ラウリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロピル）−アンモニウム−エチ
ルスルファ）、Ｎ−メチル−Ｎ、Ｎ−ビス−（２−ヒド
ロキシエチル）−Ｎ−（３−ミリスチルオキシ−２−ヒ
ドロキシプロピル）−アンモニウム−エチルスルファト
及びＮ、Ｎ、Ｎ−）リメチルーＮ−（２−ヒドロキシエ
チル）−アンモニウム−エチルスルファト（重量比ｉｏ
：２：ｏ、ｓ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、Ａ）感光性レリーフ形成層、但し、画像に応じて化
   学線で露光する際に露光領域と未露光領域との間で溶解
   度の差が生じ、したがってこの層は水性アルコール性ま
   たは水性アルカリ性の液状有機媒体で現像することがで
   き、この場合この層Ａ）はその全体量に対して次の成分
   ： ａ＿１）１つまたはそれ以上の高分子量結合剤２０〜９
   ８．９９９重量％、 ａ＿２）１つまたはそれ以上の光重合開始剤０．００１
   〜１０重量％、 ａ＿３）結合剤（ａ＿１）と相溶性の光重合可能なオレ
   フィン性不飽和基を有する１つまたはそれ以上の成分１
   〜６０重量％および ａ＿４）１つまたはそれ以上の助剤０〜４０重量％から
   なるものとし； Ｂ）被覆フィルム（Ｃ）の場合よりも層（Ａ）に対して
   堅固に付着しかつ耐引裂性被膜を形成する重合体および
   その中に含有されている添加剤によって形成される、当
   該液状媒体中で可溶性または膨潤可能の粘着しない光透
   過性被覆層；および Ｃ）被覆層（Ｂ）から容易に剥離可能な被覆フィルム を記載した順序で重なり合って存在するように包含する
   、光重合された印刷版およびレリーフ版ならびにフォト
   レジストを製造するのに適当な多層の平面状感光性記録
   材料において、被覆層（Ｂ）がその全体量に対して、 ｂ＿１）一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼　 I ［式中、 ＲはＣ＿１＿２〜Ｃ＿１＿８−アルキル基、Ｃ＿１＿８
   −アルケニル基、Ｃ＿１＿２〜Ｃ＿１＿８−アルカンカ
   ルボニル基またはＣ＿１＿８−アルケンカルボニル基を
   表わしｎは１〜１５の整数を表わし、これとは無 関係に ｍは１〜１５の整数を表わす］で示される 第三アミンおよび第三アミドの群および／または ｂ＿２）一般式II： ［ＮＲ＾１Ｒ＾２Ｒ＾３Ｒ＾４］＾■Ｘ＾■　II［式中
   、 Ｘ＾■はＣｌ＾■、Ｂｒ＾■、Ｉ＾■、Ｒ＾１−Ｏ−Ｐ
   Ｏ＿３Ｈ＾■、（Ｒ＾１−Ｏ）＿２ＰＯ＿２＾■、Ｒ＾
   １−ＰＯ＿３＾■、Ｒ＾１−ＳＯ＿３＾■、Ｒ＾１−Ｃ
   ＯＯ＾■、ＣＦ＿３ＳＯ＿３＾■、Ｒ＾１−ＯＳＯ＿３
   ＾■を表わし、 Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿１＿４−アルキル基を表わし、Ｒ
   ＾２およびＲ＾３は Ｃ＿１〜Ｃ＿２＿０−アルキル基、 −（−ＣＨ＿２ＣＨ＿２−Ｏ−）ｎ−Ｈ基、但し、ｎは
   １〜１５の整数を表わすものとし、この場合には、Ｒ＾
   ２とＲ＾３同一でも異なっていてもよく、Ｒ＾４は−（
   −ＣＨ＿２ＣＨ＿２−Ｏ−）ｎ−Ｈ基、但し、ｎは１〜
   １５の整数を表わすものとし、 Ｃ＿１＿２−アルキル基、Ｃ＿１＿４−アルキル基、Ｃ
   ＿１＿６−アルキル基およびＣ＿１＿８−アルキル基、
   ３−アザトリデカン−１−イルないし３−アザドコサン
   −１−イル基、 ４−アザトリデカン−１−イルないし４−アザドコサン
   −１−イル基、 ３−アザ−４−オキソ−トリデカン−１−イルないし３
   −アザ−４−オキソ−ドコサン−１−イル基、４−アザ
   −５−オキソ−トリデカン−１−イルないし４−アザ−
   ５−オキソ−ドコサン−１−イル基、３−オキサ−トリ
   デカン−１−イルないし３−オキサ−ドコサン−１−イ
   ル基、 ４−オキサ−トリデカン−１−イルないし４−オキサ−
   ドコサン−１−イル基、 ２−ヒドロキシ−４−オキサ−トリデカン−１−イルな
   いし２−ヒドロキシ−４−オキサ−ドコサン−１−イル
   基を表わす］で示される第四アンモニウム塩の群からの
   １つまたはそれ以上の化合物１〜２０重量％を含有する
   ことを特徴とする、多層の平面状感光性記録材料。 ２、被覆層（Ｂ）がポリアミド、コポリアミド、ポリウ
   レタン、ポリ（メタ）アクリレート、３０〜９９％の加
   水分解度のポリビニルアルコール−アルカンカルボン酸
   エステル、高い環化度のシクロゴム、エチレン／プロピ
   レン共重合体、塩化ビニルの単独重合体および共重合体
   ならびにエチレン／酢酸ビニル共重合体の群からの耐引
   裂性被膜を形成する重合体から形成されている、請求項
   １記載の感光性記録材料。 ３、一般式 I の第三アミンおよび第三アミド（ｂ＿１
   ）がＮ，Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ラ
   ウリルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル
   ）−Ｎ−トリデシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス−（２−ヒド
   ロキシエチル）−Ｎ−ミリスチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス
   −（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ペンタデシルアミン
   、Ｎ，Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−パル
   ミチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル
   ）−Ｎ−ヘプタデシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス−（２−ヒ
   ドロキシエチル）−Ｎ−ステアリルアミンおよびＮ，Ｎ
   −ビス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−オレイルアミ
   ンならびにＮ，Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−
   ラウリン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエ
   チル）−トリデカンカルボン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ビス−
   （２−ヒドロキシエチル）−ミリスチン酸アミド、Ｎ，
   Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−ペンタデカンカ
   ルボン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチ
   ル）−パルミチン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ビス−（２−ヒド
   ロキシエチル）−ヘプタデカンカルボン酸アミド、Ｎ，
   Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−ステアリン酸ア
   ミドおよびＮ，Ｎ−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−
   オレイン酸アミドからなる群から選択されている、請求
   項１または２に記載の感光性記録材料。 ４、第四アンモニウム塩（ｂ＿２）が、 Ｘがメチルスルフェート基、エチルスルフェート基を表
   わし、 Ｒ＾１がメチル基、エチル基を表わし、 Ｒ＾２およびＲ＾３がメチル基、エチル基、ラウリル基
   、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、２−ヒ
   ドロキシエチル基を表わし、かつ Ｒ＾４が２−ヒドロキシエチル基、ラウリル基、ミリス
   チル基、パルミチル基、ステアリル基；２〜ラウリルア
   ミノエチル基、２−ミリスチルアミノエチル基、２−パ
   ルミチルアミノエチル基および２−ステアリルアミノエ
   チル基；３−ラウリルアミノプロピル基、３−ミリスチ
   ルアミノプロピル基、３−パルミチルアミノプロピル基
   および３−ステアリルアミノプロピル基；２−ラウリル
   アミドエチル基、２−ミリスチルアミドエチル基、２−
   パルミチルアミドエチル基および２−ステアリルアミド
   エチル基；３−ラウリルアミドプロピル基、３−ミリス
   チルアミドプロピル基、３−パルミチルアミドプロピル
   基および３−ステアリルアミドプロピル基；２−ラウリ
   ルオキシエチル基、２−ミリスチルオキシエチル基、２
   −パルミチルオキシエチル基および２−ステアリルオキ
   シエチル基；３−ラウリルオキシプロピル基、３−ミリ
   スチルオキシプロピル基、３−パルミチルオキシプロピ
   ル基および３−ステアリルオキシプロピル基；ならびに
   ３−ラウリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル基、３−
   ミリスチルオキシ−２−ヒドロキシプロピル基、３−パ
   ルミチルオキシ−２−ヒドロキシプロピル基および３−
   ステアリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル基を表わす
   ような一般式IIのアンモニウム塩の群から選択されてい
   る、請求項１または２に記載の感光性記録材料。 ５、本明細書中、結合剤（ａ＿１）としてはポリアミド
   、コポリアミド、ポリアルカジエン、ビニル芳香族化合
   物／アルカジエン共重合体、ビニル芳香族化合物／アル
   カジエンブロック共重合体、アルカジエン／アクリルニ
   トリル共重合体またはエチレン／（メタ）アクリル酸共
   重合体が使用される、請求項１から４までのいずれか１
   項に記載の感光性記録材料。 ６、本明細書中、光重合可能なオレフィン性不飽和基を
   有する成分（ａ＿３）としては結合剤（ａ＿１）と側位
   または末位で結合されている基が使用される、請求項１
   から５までのいずれか１項に記載の感光性記録材料。 ７、本明細書中、光重合可能なオレフィン性不飽和基を
   有する成分（ａ＿３）としては別々に存在する化合物（
   単量体）が使用される、請求項１から５までのいずれか
   １項に記載の感光性記録材料。 ８、光重合された印刷版またはレリーフ版ならびにフォ
   トレジストを、記録材料のレリーフ形成感光層（Ａ）を
   画像に応じて化学線で露光し、引続き画像に応じて露光
   したレリーフ形成層（Ａ）の未露光領域をレリーフ層（
   Ａ′）の形成下に水性アルコール性または水性アルカリ
   性の液状有機媒体を用いて洗浄除去することにより製造
   する方法において、このために請求項１から７までのい
   ずれか１項に記載の多層の平面状感光性記録材料を使用
   することを特徴とする、光重合された印刷版またはレリ
   ーフ版ならびにフォトレジストを製造する方法。