JPH0195105A - 光硬化性樹脂組成物 - Google Patents
光硬化性樹脂組成物Info
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Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は光硬化性樹脂組成物に関する。
紫外線硬化塗料や紫外線硬化インキ更には紫外線硬化接
着剤等に光硬化性樹脂が広く利用されている0例えば、
紫外線硬化塗料の場合、合成樹脂を基材とするフィルム
、シート、プレート、及び各種成形品の表面へ印刷保護
や耐摩耗性更にはひっかき強度等の物理的乃至化学的性
能を与えるために、該表面へ光硬化性樹脂を塗布するこ
とが行なわれている。
着剤等に光硬化性樹脂が広く利用されている0例えば、
紫外線硬化塗料の場合、合成樹脂を基材とするフィルム
、シート、プレート、及び各種成形品の表面へ印刷保護
や耐摩耗性更にはひっかき強度等の物理的乃至化学的性
能を与えるために、該表面へ光硬化性樹脂を塗布するこ
とが行なわれている。
ところで、光硬化性樹脂として一般に広く用いられてい
るものは、二官能以上の多官能アクリル系モノマーやプ
レポリマーであって、これらが重合硬化した樹脂皮膜は
、メタクリル樹脂やポリ塩化ビニル樹脂更にはポリスチ
レン樹脂等の一般の合成樹脂と同様、帯電性が強く、静
電気の発生によって、塵埃を付着したり、人体が接触し
たときに強い静電ショックを与える。
るものは、二官能以上の多官能アクリル系モノマーやプ
レポリマーであって、これらが重合硬化した樹脂皮膜は
、メタクリル樹脂やポリ塩化ビニル樹脂更にはポリスチ
レン樹脂等の一般の合成樹脂と同様、帯電性が強く、静
電気の発生によって、塵埃を付着したり、人体が接触し
たときに強い静電ショックを与える。
そこで、上記光硬化性樹脂についても、帯電性を低下さ
せて静電気の発生を防止する性能を備えた優れた硬化皮
膜を形成し得るものであることが要請される。
せて静電気の発生を防止する性能を備えた優れた硬化皮
膜を形成し得るものであることが要請される。
本発明はかかる要請に応える光硬化性樹脂組成物に関す
るものである。
るものである。
〈従来の技術、その問題点〉
従来、硬化樹脂の帯電性を低下させるために、光硬化性
樹脂の成分として四級アンモニウム塩基やポリエチレン
グリコール基等の親木性基を有する七ツマ−やオリゴマ
ーを用い、硬化樹脂それ自体を親水化させる手段が提案
されている(特開昭61−118413、同56−22
306、同55−142072)、ところが、これらの
従来手段には、充分な帯電防止性を得ようとすると、上
記のようなモノマーやオリゴマーの使用量が通常10〜
30重量%程度必要になり、得られる硬化樹脂の物理的
乃至化学的特性を損なうという問題点がある。すなわち
、そのような硬化樹脂で形成される皮膜は1強度に劣り
、熱水や溶剤によって膨潤し易くなるのである。
樹脂の成分として四級アンモニウム塩基やポリエチレン
グリコール基等の親木性基を有する七ツマ−やオリゴマ
ーを用い、硬化樹脂それ自体を親水化させる手段が提案
されている(特開昭61−118413、同56−22
306、同55−142072)、ところが、これらの
従来手段には、充分な帯電防止性を得ようとすると、上
記のようなモノマーやオリゴマーの使用量が通常10〜
30重量%程度必要になり、得られる硬化樹脂の物理的
乃至化学的特性を損なうという問題点がある。すなわち
、そのような硬化樹脂で形成される皮膜は1強度に劣り
、熱水や溶剤によって膨潤し易くなるのである。
また従来、硬化樹脂の帯電性を低下させるために、酸化
錫やイオン性基を有する水溶性高分子化合物更には第四
級アンモニウム塩型界面活性剤等の添加剤を使用する手
段が提案されている(特開昭60−99173、同59
−53540.同55−142071)、上記のような
添加剤は、光硬化性樹脂それ自体の硬化反応に関与せず
、硬化樹脂の内部や外層に混合された状態で存在するこ
ととなるものである。ところが、これらの従来手段には
、光硬化性樹脂の硬化特性に悪影テを及ぼし、得られる
硬化樹脂の表面物性を損なうという問題点がある。すな
わち、上記のような添加剤は一般に光硬化性樹脂との相
溶性に劣るため、光硬化性樹脂に混合された段階で白濁
状になるか又は経時的に分離して硬化時に光の透過性を
低下させ、また相溶性不良に伴なう硬化皮膜表面への過
度のブリードアウトによって該硬化皮膜表面の汚れ、粘
着、ベトッキ等を生じさせるのである。
錫やイオン性基を有する水溶性高分子化合物更には第四
級アンモニウム塩型界面活性剤等の添加剤を使用する手
段が提案されている(特開昭60−99173、同59
−53540.同55−142071)、上記のような
添加剤は、光硬化性樹脂それ自体の硬化反応に関与せず
、硬化樹脂の内部や外層に混合された状態で存在するこ
ととなるものである。ところが、これらの従来手段には
、光硬化性樹脂の硬化特性に悪影テを及ぼし、得られる
硬化樹脂の表面物性を損なうという問題点がある。すな
わち、上記のような添加剤は一般に光硬化性樹脂との相
溶性に劣るため、光硬化性樹脂に混合された段階で白濁
状になるか又は経時的に分離して硬化時に光の透過性を
低下させ、また相溶性不良に伴なう硬化皮膜表面への過
度のブリードアウトによって該硬化皮膜表面の汚れ、粘
着、ベトッキ等を生じさせるのである。
〈発明が解決しようとする問題点、その解決手段〉
本発明は叙上の如き従来の問題点を解決する新たな光硬
化性樹脂組成物を提供するものである。
化性樹脂組成物を提供するものである。
しかして本発明者らは、上記実情に鑑み、優れた相溶安
定性を有し、そして良好な帯電防止性を与える光硬化性
樹脂組成物を得るべく鋭意研究した結果、特定のホスホ
ニウムスルホネートを帯電防止剤として含有せしめたも
のが正しく好適であることを見出し、本発明に到達した
ものである。
定性を有し、そして良好な帯電防止性を与える光硬化性
樹脂組成物を得るべく鋭意研究した結果、特定のホスホ
ニウムスルホネートを帯電防止剤として含有せしめたも
のが正しく好適であることを見出し、本発明に到達した
ものである。
すなわち本発明は、
次のA成分及びB成分並びにC成分を含有することを特
徴とする光硬化性樹脂組成物に係る。
徴とする光硬化性樹脂組成物に係る。
A成分二下記−数式CI)で示されるホスホニウムスル
ホネート [但し、Aは、炭素数4〜18のアルキル基若しくはア
ルケニル基、フェニル基、炭素数1〜18のアルキル基
で置換したフェニル基、ナフチル基、又は炭素数t−t
aのアルキル基で置換したナフチル基、R1−R4は、
同−又は異なる、炭素数1−18の炭化水素基、又は置
換基を有する炭素数1〜18の炭化水素基。] B成分:光重合性単量体 C成分:光重合開始剤 一般式(I)で示されるホスホニウムスルホネートは有
機スルホネートアニオンと有機ホスホニウムカチオンと
からなる。該有機スルホネートアニオンの具体例として
は、ブチルスルホネート、オクチルスルホネート、ドデ
シルスルホネート、テトラデシルスルホネート、ヘキサ
デシルスルホネート、2−エチルへキシルスルホネート
等の脂肪族スルホネート類及びこれらの混合物、p−)
シレート、ブチルフェニルスルホネート、ドデシルフェ
ニルスルホネート、オクタデシルフェニルスルホネート
、ジブチルフェニルスルホネート等の置換フェニルスル
ホネート類、ナフチルスルホネート、ジイソプロピルナ
フチルスルホネート、ジブチルナフチルスルホネート等
の置換或は非置換ナフチルスルホネート類等が挙げられ
る。また前記有機ホスホニウムカチオンの具体例として
は、テトラメチルホスホニウム、テトラエチルホスホニ
ウム、テトラブチルホスホニウム、トリエチルメチルホ
スホニウム、トリブチルメチルホスホニウム、トリブチ
ルエチルホスホニウム、トリオクチルメチルホスホニウ
ム、トリメチルブチルホスホニウム、トリメチルオクチ
ルホスホニウム、トリメチルラウリルホスホニウム、ト
リメチルステアリルホスホニウム、トリエチルオクチル
ホスホニウム、トリブチルオクチルホスホニウム等の脂
肪族ホスホニウム、テトラフェニルホスホニウム、トリ
フェニルメチルホスホニウム、トリフェニルエチルホス
ホニウム、トリフェニルベンジルホスホニウム、トリブ
チルベンジルホスホニウム等の芳香族ホスホニウム等が
挙げられる。更に、テトラメチロールホスホニウム、ト
リ(2−シアノエチル)メチルホスホニウム、トリ(2
−シア/エチル)エチルホスホニウム、トリ(2−シア
ノエチル)ベンジルホスホニウム、トリ(3−ヒドロキ
シプロピル)メチルホスホニウム、トリ(3−ヒドロキ
シプロピル)ベンジルホスホニウム、トリメチル(2−
ヒドロキシエチル)ホスホニウム、トリブチル(2−ヒ
ドロキシエチル)ホスホニウム等の置換基を有するホス
ホニウムも使用できる。
ホネート [但し、Aは、炭素数4〜18のアルキル基若しくはア
ルケニル基、フェニル基、炭素数1〜18のアルキル基
で置換したフェニル基、ナフチル基、又は炭素数t−t
aのアルキル基で置換したナフチル基、R1−R4は、
同−又は異なる、炭素数1−18の炭化水素基、又は置
換基を有する炭素数1〜18の炭化水素基。] B成分:光重合性単量体 C成分:光重合開始剤 一般式(I)で示されるホスホニウムスルホネートは有
機スルホネートアニオンと有機ホスホニウムカチオンと
からなる。該有機スルホネートアニオンの具体例として
は、ブチルスルホネート、オクチルスルホネート、ドデ
シルスルホネート、テトラデシルスルホネート、ヘキサ
デシルスルホネート、2−エチルへキシルスルホネート
等の脂肪族スルホネート類及びこれらの混合物、p−)
シレート、ブチルフェニルスルホネート、ドデシルフェ
ニルスルホネート、オクタデシルフェニルスルホネート
、ジブチルフェニルスルホネート等の置換フェニルスル
ホネート類、ナフチルスルホネート、ジイソプロピルナ
フチルスルホネート、ジブチルナフチルスルホネート等
の置換或は非置換ナフチルスルホネート類等が挙げられ
る。また前記有機ホスホニウムカチオンの具体例として
は、テトラメチルホスホニウム、テトラエチルホスホニ
ウム、テトラブチルホスホニウム、トリエチルメチルホ
スホニウム、トリブチルメチルホスホニウム、トリブチ
ルエチルホスホニウム、トリオクチルメチルホスホニウ
ム、トリメチルブチルホスホニウム、トリメチルオクチ
ルホスホニウム、トリメチルラウリルホスホニウム、ト
リメチルステアリルホスホニウム、トリエチルオクチル
ホスホニウム、トリブチルオクチルホスホニウム等の脂
肪族ホスホニウム、テトラフェニルホスホニウム、トリ
フェニルメチルホスホニウム、トリフェニルエチルホス
ホニウム、トリフェニルベンジルホスホニウム、トリブ
チルベンジルホスホニウム等の芳香族ホスホニウム等が
挙げられる。更に、テトラメチロールホスホニウム、ト
リ(2−シアノエチル)メチルホスホニウム、トリ(2
−シア/エチル)エチルホスホニウム、トリ(2−シア
ノエチル)ベンジルホスホニウム、トリ(3−ヒドロキ
シプロピル)メチルホスホニウム、トリ(3−ヒドロキ
シプロピル)ベンジルホスホニウム、トリメチル(2−
ヒドロキシエチル)ホスホニウム、トリブチル(2−ヒ
ドロキシエチル)ホスホニウム等の置換基を有するホス
ホニウムも使用できる。
本発明のホスホニウムスルホネートはこれら有機スルホ
ネートアニオンと有機ホスホニウムカチオンとの任意の
組合わせにより構成されるが、かかるホスホニウムスル
ホネートは、それぞれ相当する有機スルホネートの金属
塩又はアンモニウム塩と四級ホスホニウム塩とを溶媒中
で混合し、副生ずる無機塩を水洗分離するか、又はメタ
ノールやインプロパツール更にはアセトンの如き有機溶
媒にてホスホニウムスルホネートを抽出することにより
製造することができる。より具体的には例えば、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウムの場合
、ドデシルベンゼンスルホン酎ナトリウム34.8gと
テトラブチルホスホニウムブロマイド33.9gと水2
00+alとをフラスコに仕込み、80℃にて1時間攪
拌し、油層として分離してくるホスホニウムスルホネー
トを分離して、温水50m1で洗浄し、エバポレーター
で脱水することにより、収率90%程度で製造すること
ができる。
ネートアニオンと有機ホスホニウムカチオンとの任意の
組合わせにより構成されるが、かかるホスホニウムスル
ホネートは、それぞれ相当する有機スルホネートの金属
塩又はアンモニウム塩と四級ホスホニウム塩とを溶媒中
で混合し、副生ずる無機塩を水洗分離するか、又はメタ
ノールやインプロパツール更にはアセトンの如き有機溶
媒にてホスホニウムスルホネートを抽出することにより
製造することができる。より具体的には例えば、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウムの場合
、ドデシルベンゼンスルホン酎ナトリウム34.8gと
テトラブチルホスホニウムブロマイド33.9gと水2
00+alとをフラスコに仕込み、80℃にて1時間攪
拌し、油層として分離してくるホスホニウムスルホネー
トを分離して、温水50m1で洗浄し、エバポレーター
で脱水することにより、収率90%程度で製造すること
ができる。
本発明の光硬化性樹脂組成物に用いられる光重合性単量
体は、分子内に2個以上の光重合性官能基を有するオレ
フィン性不飽和カルボン酸のエステル誘導体がその代表
である。これには例えば、ブタンジオールジアクリレー
ト、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、トリシクロデカンジ
メチロールジアクリレート等のアルカンジオールジアク
リレート類、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リプロピレングリコールジアクリレート等のポリアルキ
レングリコールジアクリレート類、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、グリセリントリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラアクリレート等、これらの単体又は混合
物が挙げられる。また光重合性単量体としては、光重合
性を有するプレポリマー類も用いることができる。
体は、分子内に2個以上の光重合性官能基を有するオレ
フィン性不飽和カルボン酸のエステル誘導体がその代表
である。これには例えば、ブタンジオールジアクリレー
ト、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、トリシクロデカンジ
メチロールジアクリレート等のアルカンジオールジアク
リレート類、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リプロピレングリコールジアクリレート等のポリアルキ
レングリコールジアクリレート類、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、グリセリントリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラアクリレート等、これらの単体又は混合
物が挙げられる。また光重合性単量体としては、光重合
性を有するプレポリマー類も用いることができる。
かかる光重合性プレポリマー類としては、ポリウレタン
アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルア
クリレート等が挙げられる。該プレポリマー類は高粘度
であるため、その粘度を低下させるための反応希釈剤と
して低粘度の中量体を用いるのが好都合である。かかる
反応希釈剤には、2−エチルへキシルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、フェノキシエチルア
クリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等が
ある。
アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルア
クリレート等が挙げられる。該プレポリマー類は高粘度
であるため、その粘度を低下させるための反応希釈剤と
して低粘度の中量体を用いるのが好都合である。かかる
反応希釈剤には、2−エチルへキシルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、フェノキシエチルア
クリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等が
ある。
本発明の光硬化性樹脂組成物に用いられる光重合開始剤
としては、ベンゾイン、α−メチルベンゾイン、アント
ラキノン、グロルアントラキノン、アセトフェノン等の
カルボニル化合物、ジフェニルスルフィド、ジフェニル
ジスルフィド、ジチ才力−バメート等のイオウ化合物、
α−クロルメチルナフタレン、アントラセン等の多環芳
香族化合物等が挙げられる。これらは単独で又は2種以
上を混合して使用してもよい。
としては、ベンゾイン、α−メチルベンゾイン、アント
ラキノン、グロルアントラキノン、アセトフェノン等の
カルボニル化合物、ジフェニルスルフィド、ジフェニル
ジスルフィド、ジチ才力−バメート等のイオウ化合物、
α−クロルメチルナフタレン、アントラセン等の多環芳
香族化合物等が挙げられる。これらは単独で又は2種以
上を混合して使用してもよい。
以上、本発明の光硬化性樹脂組成物に含有される各成分
を具体的に例示して説明したが、本発明はそれらに限定
されるものではない、そして該組成物中、前述したホス
ホニウムスルホネートの含有量は、光重合性単量体10
0重量部に対し0゜1〜15重量部、好ましくは0.5
〜7重量部とするのがよい、15重量部を超えると、得
られる硬化皮膜の物性が低下する傾向になり、0.1重
量部に満たないと、帯電防止性が不足する傾向になる。
を具体的に例示して説明したが、本発明はそれらに限定
されるものではない、そして該組成物中、前述したホス
ホニウムスルホネートの含有量は、光重合性単量体10
0重量部に対し0゜1〜15重量部、好ましくは0.5
〜7重量部とするのがよい、15重量部を超えると、得
られる硬化皮膜の物性が低下する傾向になり、0.1重
量部に満たないと、帯電防止性が不足する傾向になる。
また前述した光重合開始剤の含有量は、光重合性単量体
100重量部に対し0.1−10重量部、好ましくは0
.5〜5重量部とするのがよい、この場合必要に応じて
、n−ブチル7ミン。
100重量部に対し0.1−10重量部、好ましくは0
.5〜5重量部とするのがよい、この場合必要に応じて
、n−ブチル7ミン。
トリエチルアミン、ジメチルアミンエチルメタクリレー
ト等の増感剤を併用してもよい。
ト等の増感剤を併用してもよい。
本発明の光硬化性樹脂組成物においては、通常有機溶剤
を必要としないが、該組成物をプラスチックス基材等に
被覆する方法如何によって、特に低粘度化をする必要が
あるような場合には、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール等の低級アルコール類、メチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ等の低級アルキルセロソルブ類
、酢酸エチル、酢酸ブチル等の低級アルキルエステル類
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の低
級アルキルケトン類を用いて希釈することもできる。
を必要としないが、該組成物をプラスチックス基材等に
被覆する方法如何によって、特に低粘度化をする必要が
あるような場合には、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール等の低級アルコール類、メチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ等の低級アルキルセロソルブ類
、酢酸エチル、酢酸ブチル等の低級アルキルエステル類
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の低
級アルキルケトン類を用いて希釈することもできる。
本発明の光硬化性樹脂組成物を用いて各種のプラスチッ
クス基材等を被覆するに当たっては、通常行なわれてい
る浸漬法、噴霧法、ローラーコーティング法、フローコ
ート法等が使用でき、このような方法で該組成物をコー
ティングした後、空気中若しくは不活性ガス雰囲気中で
室温下、紫外線のような化学放射線を放射することによ
り、帯電防止性及び表面特性に優れた硬化皮膜を形成さ
せることができるのである。
クス基材等を被覆するに当たっては、通常行なわれてい
る浸漬法、噴霧法、ローラーコーティング法、フローコ
ート法等が使用でき、このような方法で該組成物をコー
ティングした後、空気中若しくは不活性ガス雰囲気中で
室温下、紫外線のような化学放射線を放射することによ
り、帯電防止性及び表面特性に優れた硬化皮膜を形成さ
せることができるのである。
以下、実施例等により本発明の構成及び効果なより具体
的にするが、本発明は該実施例に限定されるものではな
い。
的にするが、本発明は該実施例に限定されるものではな
い。
〈実施例等〉
拳実施例1
エポキシアクリレート系プレポリマー(共栄社油脂社製
の3002A)60重量部に、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート20重量部、2−エチルへキシルアクリ
レート16重量部、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラ
ブチルホスホニウム4色量部、ベンゾインエチルエーテ
ル1重量部、及びベンゾフェノン3重量部を加え、充分
混合し、透明で均一な液状物を得た。この液状物50重
量部にイソプロピルアルコール50重量部を加え、更に
充分混合して均一とした後、これを市販のポリエステル
フィルムに乾量で5 g / m 2の割合で塗布し、
乾燥後、高圧水銀ランプにより紫外線照射を行なって硬
化させた。得られたポリエステルフィルムは、外観を観
察した後、20℃X 65%RHの恒温恒湿室に1夜放
置後、同雰囲気下にて超絶縁抵抗計(東亜電波工業社製
の5M−5E型)により表面抵抗を測定した0次いで、
このフィルムを沸眠水中に10分間浸漬した後、上記と
同様にして表面抵抗を測定した。結果を表−1に示した
。
の3002A)60重量部に、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート20重量部、2−エチルへキシルアクリ
レート16重量部、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラ
ブチルホスホニウム4色量部、ベンゾインエチルエーテ
ル1重量部、及びベンゾフェノン3重量部を加え、充分
混合し、透明で均一な液状物を得た。この液状物50重
量部にイソプロピルアルコール50重量部を加え、更に
充分混合して均一とした後、これを市販のポリエステル
フィルムに乾量で5 g / m 2の割合で塗布し、
乾燥後、高圧水銀ランプにより紫外線照射を行なって硬
化させた。得られたポリエステルフィルムは、外観を観
察した後、20℃X 65%RHの恒温恒湿室に1夜放
置後、同雰囲気下にて超絶縁抵抗計(東亜電波工業社製
の5M−5E型)により表面抵抗を測定した0次いで、
このフィルムを沸眠水中に10分間浸漬した後、上記と
同様にして表面抵抗を測定した。結果を表−1に示した
。
ψ実施例2
ポリウレタンアクリレート(2、4−)リレンジイソシ
アネート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、及びエ
チレングリコールの反応生成物)60重量部に、1.6
−ヘキサンジオールジアクリレート20重量部、2−エ
チルへキシルアクリレート15重量部、アルキル(平均
炭素数14)スルホネートテトラブチルホスホニウム5
重量部、ベンゾインエチルエーテル1ffiffi部、
及びベンゾフェノン3重量部を加え、充分混合し、透明
で均一な液状物を得た。この液状物50重が部にイソプ
ロピルアルコール50重量部を加え、更に充分混合して
均一とした後、これを市販のポリカーボネートシートに
乾量で5 g / rrl 2の割合で塗布し、乾燥後
、高圧水銀ランプにより紫外線照射を行なって硬化させ
た。得られたポリカーポネートシートは、外観を観察し
た後、以下実施例1と同様にして表面抵抗を測定した。
アネート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、及びエ
チレングリコールの反応生成物)60重量部に、1.6
−ヘキサンジオールジアクリレート20重量部、2−エ
チルへキシルアクリレート15重量部、アルキル(平均
炭素数14)スルホネートテトラブチルホスホニウム5
重量部、ベンゾインエチルエーテル1ffiffi部、
及びベンゾフェノン3重量部を加え、充分混合し、透明
で均一な液状物を得た。この液状物50重が部にイソプ
ロピルアルコール50重量部を加え、更に充分混合して
均一とした後、これを市販のポリカーボネートシートに
乾量で5 g / rrl 2の割合で塗布し、乾燥後
、高圧水銀ランプにより紫外線照射を行なって硬化させ
た。得られたポリカーポネートシートは、外観を観察し
た後、以下実施例1と同様にして表面抵抗を測定した。
結果を表−1に示した。
中比較例1
ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
に代えてラウリルトリメチルアンモニウムトシレートを
使用した以外は全て実施例1と同様に行なった。結果を
表−1に示した。
に代えてラウリルトリメチルアンモニウムトシレートを
使用した以外は全て実施例1と同様に行なった。結果を
表−1に示した。
・比較例2
アルキル(平均炭素数14)スルホネートテトラブチル
ホスホニウムに代えてグリセリンモノラウレートを使用
した以外は全て実施例2と同様に行なった。結果を表−
1に示した。
ホスホニウムに代えてグリセリンモノラウレートを使用
した以外は全て実施例2と同様に行なった。結果を表−
1に示した。
表−1
〈発明の効果〉
各実施例の結果からも明らかなように、以上説明した本
発明には、光硬化性樹脂との優れた相溶安定性を有し、
プラスチックス等の基材表面に良好な帯電防止性及び表
面特性を具備する硬化皮膜を形成させることができると
いう効果がある。
発明には、光硬化性樹脂との優れた相溶安定性を有し、
プラスチックス等の基材表面に良好な帯電防止性及び表
面特性を具備する硬化皮膜を形成させることができると
いう効果がある。
特許出願人 竹本油脂株式会社
代理人 弁理士 入 山 宏 正
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次のA成分及びB成分並びにC成分を含有すること
を特徴とする光硬化性樹脂組成物。 A成分:下記一般式( I )で示されるホスホニウムス
ルホネート 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ [但し、Aは、炭素数4〜18のアルキル基若しくはア
ルケニル基、フェニル基、炭素数1〜18のアルキル基
で置換したフェニル基、ナフチル基、又は炭素数1〜1
8のアルキル基で置換したナフチル基。R^1〜R^4
は、同一又は異なる、炭素数1〜18の炭化水素基、又
は置換基を有する炭素数1〜18の炭化水素基。] B成分:光重合性単量体 C成分:光重合開始剤 2、一般式( I )のR^1、R^2、R^3が同一で
且つ炭素数1〜8の脂肪族又は芳香族一価炭化水素基で
ある特許請求の範囲第1項記載の光硬化性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25185587A JPH0195105A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 光硬化性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25185587A JPH0195105A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 光硬化性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0195105A true JPH0195105A (ja) | 1989-04-13 |
JPH0528722B2 JPH0528722B2 (ja) | 1993-04-27 |
Family
ID=17228923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25185587A Granted JPH0195105A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 光硬化性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0195105A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6783809B2 (en) | 1992-01-27 | 2004-08-31 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photosensitive diacrylate and dimethacrylate compositions |
WO2020054502A1 (ja) * | 2018-09-10 | 2020-03-19 | Dic株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物、及び、それを用いたフィルム |
-
1987
- 1987-10-06 JP JP25185587A patent/JPH0195105A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6783809B2 (en) | 1992-01-27 | 2004-08-31 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photosensitive diacrylate and dimethacrylate compositions |
WO2020054502A1 (ja) * | 2018-09-10 | 2020-03-19 | Dic株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物、及び、それを用いたフィルム |
CN112654644A (zh) * | 2018-09-10 | 2021-04-13 | Dic株式会社 | 活性能量射线固化性组合物和使用其的膜 |
JPWO2020054502A1 (ja) * | 2018-09-10 | 2021-08-30 | Dic株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物、及び、それを用いたフィルム |
TWI818073B (zh) * | 2018-09-10 | 2023-10-11 | 日商Dic股份有限公司 | 活性能量線硬化性組成物、及使用其之薄膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0528722B2 (ja) | 1993-04-27 |
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