JPH0192347A - 電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製造法 - Google Patents
電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製造法Info
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- JPH0192347A JPH0192347A JP24892987A JP24892987A JPH0192347A JP H0192347 A JPH0192347 A JP H0192347A JP 24892987 A JP24892987 A JP 24892987A JP 24892987 A JP24892987 A JP 24892987A JP H0192347 A JPH0192347 A JP H0192347A
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Landscapes
- Metal Rolling (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製造法
に関する。
に関する。
[従来技術]
一般に、電解コンデンサ用箔は、静電容量を高めるため
に電解エツチングにより表面を粗面化し、即ち、表面積
を拡大して用いられる。
に電解エツチングにより表面を粗面化し、即ち、表面積
を拡大して用いられる。
近年、静電容量をより高める目的で、エツチング方法の
改善およびエツチング性に優れたアルミニウム箔の開発
が進められている。
改善およびエツチング性に優れたアルミニウム箔の開発
が進められている。
そして、エツチング方法としては、高圧用陽極箔のよう
に400v程度の厚い耐電皮膜を化成処理により生成さ
せるものでは、所謂、トンネルエツチングと呼ばれる直
流エツチングが施されるが、一方、゛200V程度まで
の比較的耐電皮膜が薄い中低圧陽極箔や耐電皮膜を生成
させないで用いられる陰極箔では微細粗面が得られ易い
交流エツチングが施されている。
に400v程度の厚い耐電皮膜を化成処理により生成さ
せるものでは、所謂、トンネルエツチングと呼ばれる直
流エツチングが施されるが、一方、゛200V程度まで
の比較的耐電皮膜が薄い中低圧陽極箔や耐電皮膜を生成
させないで用いられる陰極箔では微細粗面が得られ易い
交流エツチングが施されている。
また、トンネルエツチングでは、エツチング性を箔厚方
向に成長させるために立方体方位の再結晶集合組織を発
達させることが必要であり、高純度アルミニウム(99
,99wt%以上)を用いて、箔製造条件が検討され、
開発が行なわれている(例えば、特公昭54−0112
42号公報参照)。
向に成長させるために立方体方位の再結晶集合組織を発
達させることが必要であり、高純度アルミニウム(99
,99wt%以上)を用いて、箔製造条件が検討され、
開発が行なわれている(例えば、特公昭54−0112
42号公報参照)。
また、陰極箔では、耐電皮膜が必要でないために比較的
低純度の99,6〜99.8wt%アルミニウムが使用
できるので、エツチング性を上げるためには各種の合金
箔の開発が行なわれている(例えば、特開昭56−13
3 =144号公報参照)。
低純度の99,6〜99.8wt%アルミニウムが使用
できるので、エツチング性を上げるためには各種の合金
箔の開発が行なわれている(例えば、特開昭56−13
3 =144号公報参照)。
一方、中低圧陽極箔では漏洩電流のない耐電皮膜を生成
させるために、99.9wt%以上の高純度アルミニウ
ムの使用が必要とされている。
させるために、99.9wt%以上の高純度アルミニウ
ムの使用が必要とされている。
従って、合金元素の含frら規制されることから、エツ
チング性を上げるためにはエツチング方法の改善が行な
われている(特開昭58−164215号公報参照)。
チング性を上げるためにはエツチング方法の改善が行な
われている(特開昭58−164215号公報参照)。
その他、従来エツチングは完全軟質材(0材)で実施さ
れていたが、最近では微細なエツチング組織か得られ易
いことから、硬質材(I−bs材)が用いられるように
なってきている。
れていたが、最近では微細なエツチング組織か得られ易
いことから、硬質材(I−bs材)が用いられるように
なってきている。
そして、現在よく使用されている硬質材()its材)
に才゛いて、微細なエツチング組織が得られる理由とし
ては、高転位密度の組織が多数のエツチング活性点を付
与するためであると考えられている。
に才゛いて、微細なエツチング組織が得られる理由とし
ては、高転位密度の組織が多数のエツチング活性点を付
与するためであると考えられている。
しかし、より静電容量を増加させろためにエツチングを
進行させると、エツチング活性点同志が合体して表面溶
解か生じることにより、かえって、静電容量が低下する
という現象が起こり、静電容量の改善は困難となる。
進行させると、エツチング活性点同志が合体して表面溶
解か生じることにより、かえって、静電容量が低下する
という現象が起こり、静電容量の改善は困難となる。
また、完全軟質材では転位は消滅しているため、エツチ
ング開始点は焼純時に生じた酸化皮膜の欠陥部および微
量不純元素による晶出物や析出物が関与していることが
考えられるが、しかし、酸化皮膜厚さは仕上げ焼純時の
温度、雰囲気の影響を受は易く、コイル内外部や幅方向
における部位による差が生じ、その結果、エツチング性
のばらつき、即ち、静電容量も不安定になる。実際には
、酸化皮膜を均一に生成させるためには、焼純を無酸化
ガスまたは真空雰囲気において実施しているが雰囲気制
御が困難である。
ング開始点は焼純時に生じた酸化皮膜の欠陥部および微
量不純元素による晶出物や析出物が関与していることが
考えられるが、しかし、酸化皮膜厚さは仕上げ焼純時の
温度、雰囲気の影響を受は易く、コイル内外部や幅方向
における部位による差が生じ、その結果、エツチング性
のばらつき、即ち、静電容量も不安定になる。実際には
、酸化皮膜を均一に生成させるためには、焼純を無酸化
ガスまたは真空雰囲気において実施しているが雰囲気制
御が困難である。
さらに、微量不純元素の晶出物や析出物等も含有量が非
常に少ないこと、また、製造条件の影響を受は易いこと
から安定した品質の製品を製造することは困難であった
。
常に少ないこと、また、製造条件の影響を受は易いこと
から安定した品質の製品を製造することは困難であった
。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明は上記に説明したよう−に、従来の電解コンデン
サ陽極用アルミニウム箔の製造法における種々の問題点
および困難性に鑑み、本発明台が鋭意研究を行ない、検
討を重ねた結果、熱処理により、所謂、半硬質としたア
ルミニウムを使用して、ある程度転位を消滅させて転位
密度分布の調整を行なうことによって、エツチング活性
点の合体から生じる表面溶解性を抑制してエツチング性
の改善を図ることができろ電解コンデンサ陽極用アルミ
ニウム箔の製造法を開発したのである。
サ陽極用アルミニウム箔の製造法における種々の問題点
および困難性に鑑み、本発明台が鋭意研究を行ない、検
討を重ねた結果、熱処理により、所謂、半硬質としたア
ルミニウムを使用して、ある程度転位を消滅させて転位
密度分布の調整を行なうことによって、エツチング活性
点の合体から生じる表面溶解性を抑制してエツチング性
の改善を図ることができろ電解コンデンサ陽極用アルミ
ニウム箔の製造法を開発したのである。
なお、半硬質材とはJISIlooOIに規定されてい
るところの加工硬化、焼純により強度を調整した材料で
ある。
るところの加工硬化、焼純により強度を調整した材料で
ある。
し問題点を解決するための手段〕
本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製
造法は、 (1) 純度99.9wt%以上のアルミニウムに対
し、熱間圧延を行ない、次いで、所定の厚さまで冷間加
工率80%以上で冷間圧延を行なった後、280〜55
0℃の温度において中間焼純を行ない、さらに、製品厚
さまで最終冷間圧延率20〜75%の圧延を行なうこと
を特徴とする電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製
造法を第1の発明とし、 (2)純度99.・9wt%以上のアルミニウムに対し
、熱間圧延および冷間圧延を行なった後、冷間加工率8
0%以上で最終圧延を行なって製品の厚さとした箔を、
100〜280℃の温度において軟化熱処理を行なうこ
とを特徴とする半硬質電解コンデンサ陽極用アルミニウ
ム箔の製造法を第2の発明とする2つの発明よりなるも
のである。
造法は、 (1) 純度99.9wt%以上のアルミニウムに対
し、熱間圧延を行ない、次いで、所定の厚さまで冷間加
工率80%以上で冷間圧延を行なった後、280〜55
0℃の温度において中間焼純を行ない、さらに、製品厚
さまで最終冷間圧延率20〜75%の圧延を行なうこと
を特徴とする電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製
造法を第1の発明とし、 (2)純度99.・9wt%以上のアルミニウムに対し
、熱間圧延および冷間圧延を行なった後、冷間加工率8
0%以上で最終圧延を行なって製品の厚さとした箔を、
100〜280℃の温度において軟化熱処理を行なうこ
とを特徴とする半硬質電解コンデンサ陽極用アルミニウ
ム箔の製造法を第2の発明とする2つの発明よりなるも
のである。
本発明(こ係る電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の
製造法について、以下詳細に説明する。
製造法について、以下詳細に説明する。
本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製
造法において、アルミニウム箔を半硬質状態に熱処理す
る方法としては、JISHOO01に規定されているよ
うに、冷間圧延途中において中間焼純を行なう方法、お
よび、最終圧延後において軟化熱処理を行なう方法とが
ある。
造法において、アルミニウム箔を半硬質状態に熱処理す
る方法としては、JISHOO01に規定されているよ
うに、冷間圧延途中において中間焼純を行なう方法、お
よび、最終圧延後において軟化熱処理を行なう方法とが
ある。
即ち、熱間圧延を行なちた後、冷間圧延の途中において
、280〜550°Cの温度において中間焼純を行なう
ことにより、完全軟質材とした後仕上げ加工を行なうこ
とにより、最終圧延後安定した品質のアルミニウム箔が
得られる。
、280〜550°Cの温度において中間焼純を行なう
ことにより、完全軟質材とした後仕上げ加工を行なうこ
とにより、最終圧延後安定した品質のアルミニウム箔が
得られる。
なお、中間焼純までの冷間加工率80%以上、望ましく
は、90%以上必要であり、80%未満では微量不織元
素による晶出物、昔出物が充分にびさいに分散せず、エ
ツチングむらの原因となることが多く、できるだけ加工
率を大きくとること重要である。
は、90%以上必要であり、80%未満では微量不織元
素による晶出物、昔出物が充分にびさいに分散せず、エ
ツチングむらの原因となることが多く、できるだけ加工
率を大きくとること重要である。
そして、中間焼純温度が280℃未満では完全に軟質材
にすることはできず、また、400℃以上の温度では表
面の酸化皮膜の生成が大きくなり過ぎ、製品のエツチン
グ性のに悪影響を及ぼすので酸化皮膜の生成を抑制する
ために連続焼純ラインによる短時間処理を行なう必要が
あり、さらに、500℃を越える温度では連続焼純ライ
ンによる焼純でもバーニング等の表面欠陥が生じるよう
になり、かっ、消費エネルギーからみてもふりである。
にすることはできず、また、400℃以上の温度では表
面の酸化皮膜の生成が大きくなり過ぎ、製品のエツチン
グ性のに悪影響を及ぼすので酸化皮膜の生成を抑制する
ために連続焼純ラインによる短時間処理を行なう必要が
あり、さらに、500℃を越える温度では連続焼純ライ
ンによる焼純でもバーニング等の表面欠陥が生じるよう
になり、かっ、消費エネルギーからみてもふりである。
よって、中間焼純温度は280〜550℃とする。
なお、中間焼純後の加工率は20〜75%の範囲とする
のが良く、20%未満では転位の生成が不充分であり、
また、75%を越える加工率ではエツチング活性点が多
くなり、表面溶解が生じるようになりエツチング性の改
善は認められないのである。
のが良く、20%未満では転位の生成が不充分であり、
また、75%を越える加工率ではエツチング活性点が多
くなり、表面溶解が生じるようになりエツチング性の改
善は認められないのである。
その他、最終圧延後100〜280℃の温度で加熱する
軟質熱処理を行なうことによっても、優れた品質のアル
ミニウム箔が得られる。なお、最終冷間圧延率80%以
上、望ましくは、90%以上必要であり、80%未満で
は転位密度が不均一になり易く、後の軟質熱処理を行な
っても、不均一な部分が残存し、エツチングむらの原因
となる。
軟質熱処理を行なうことによっても、優れた品質のアル
ミニウム箔が得られる。なお、最終冷間圧延率80%以
上、望ましくは、90%以上必要であり、80%未満で
は転位密度が不均一になり易く、後の軟質熱処理を行な
っても、不均一な部分が残存し、エツチングむらの原因
となる。
また、軟質熱処理温度としては、100℃未満の温度で
は転位の消滅による内部組織の改善が不充分であり、ま
た、280℃を越える温度では再結晶が進行してしまい
、転位が過度に消滅してしまう。よって、最終圧延後の
軟質熱処理は100〜280℃の温度において行なうの
が良い。
は転位の消滅による内部組織の改善が不充分であり、ま
た、280℃を越える温度では再結晶が進行してしまい
、転位が過度に消滅してしまう。よって、最終圧延後の
軟質熱処理は100〜280℃の温度において行なうの
が良い。
[実 施 例]
本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製
造法の実施例を説明する。
造法の実施例を説明する。
実施例
陽極箔に使用される純度99.99wt%アルミニウム
(Si 24ppm、 re 16ppm、 Cu 2
7ppm)を通常の方法によりDCスラブ(400t)
造塊後、590℃の温度で6時間の均熱処理を行ない、
次いで、熱間圧延により3.5t、1.6tの熱間圧延
板を製造した。
(Si 24ppm、 re 16ppm、 Cu 2
7ppm)を通常の方法によりDCスラブ(400t)
造塊後、590℃の温度で6時間の均熱処理を行ない、
次いで、熱間圧延により3.5t、1.6tの熱間圧延
板を製造した。
その後、冷間圧延により所定の厚さの箔とした後、中間
焼純を行ない、再び冷間圧延を行なって90μmの箔を
製造した。
焼純を行ない、再び冷間圧延を行なって90μmの箔を
製造した。
従来通りの中間焼純を行なわずに、製品の厚さまで圧延
を行なった後、軟化熱処理を行なった箔を製造した。
を行なった後、軟化熱処理を行なった箔を製造した。
このようにして、製造された箔を以下説明する条件によ
り、エツチング、化成処理を行なった後、静電容量を測
定して評価を行なった。
り、エツチング、化成処理を行なった後、静電容量を測
定して評価を行なった。
また、比較材として硬質材(H18材)および軟質材(
0材)を同様な試験を実施した。
0材)を同様な試験を実施した。
結果を第1表に示す。
[エツチング性
液組成 3%塩酸、0.5%燐酸水溶液液温 60℃
電気ffi AC30Hz 25A/dm’x4m
in[化成処理] 液組成 純水11中 燐酸0.25cc。
in[化成処理] 液組成 純水11中 燐酸0.25cc。
燐酸第1アンモニウム 14g
液温 85℃
化成電圧 20V、80V
[静電容量測定法]
液組成 純水ll中
硼酸 50g1クエン酸 50g1
アンモニア 50cc
液温 25°C
測定装置 市販LcRメータ 1201(z第1表から
明らかなように、本発明に係る電解コンデンサ陽極用ア
ルミニウム箔の製造法により製造された、半硬質アルミ
ニウム箔は、従来の硬質材および軟質材に比較して静電
4蚤が増大していることがわかる。
明らかなように、本発明に係る電解コンデンサ陽極用ア
ルミニウム箔の製造法により製造された、半硬質アルミ
ニウム箔は、従来の硬質材および軟質材に比較して静電
4蚤が増大していることがわかる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明に係る電解コンデンサ陽極
用アルミニウム箔の製造法は上記の構成であるから、製
造されたアルミニウム箔は静電容量が極めて大きいとい
う優れた効果を有するものである。
用アルミニウム箔の製造法は上記の構成であるから、製
造されたアルミニウム箔は静電容量が極めて大きいとい
う優れた効果を有するものである。
Claims (2)
- (1)純度99.9wt%以上のアルミニウムに対し、
熱間圧延を行ない、次いで、所定の厚さまで熱間加工率
80%以上で冷間圧延を行なった後、280〜550℃
の温度において中間焼純を行ない、さらに、製品厚さま
で最終冷間圧延率20〜75%の圧延を行なうことを特
徴とする半硬質電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の
製造法。 - (2)純度99.9wt%以上のアルミニウムに対し、
熱間圧延および冷間圧延を行なった後、冷間加工率80
%以上で最終圧延を行なって製品の厚さとした箔を、1
00〜280℃の温度において軟化熱処理を行なうこと
を特徴とする半硬質電解コンデンサ陽極用アルミニウム
箔の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24892987A JPH0192347A (ja) | 1987-10-01 | 1987-10-01 | 電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24892987A JPH0192347A (ja) | 1987-10-01 | 1987-10-01 | 電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0192347A true JPH0192347A (ja) | 1989-04-11 |
Family
ID=17185516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24892987A Pending JPH0192347A (ja) | 1987-10-01 | 1987-10-01 | 電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0192347A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02200749A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-09 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 電解コンデンサ陰極用アルミニウム箔及びその製造方法 |
JP2003049233A (ja) * | 2001-08-07 | 2003-02-21 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53118214A (en) * | 1977-03-26 | 1978-10-16 | Mitsubishi Aluminium | Method of producing aluminum foil for cathode of electrolytic capacitor |
JPS64256A (en) * | 1987-03-05 | 1989-01-05 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | Manufacture of aluminum foil for electrolytic capacitor |
-
1987
- 1987-10-01 JP JP24892987A patent/JPH0192347A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53118214A (en) * | 1977-03-26 | 1978-10-16 | Mitsubishi Aluminium | Method of producing aluminum foil for cathode of electrolytic capacitor |
JPS64256A (en) * | 1987-03-05 | 1989-01-05 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | Manufacture of aluminum foil for electrolytic capacitor |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02200749A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-09 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 電解コンデンサ陰極用アルミニウム箔及びその製造方法 |
JPH0567695B2 (ja) * | 1989-01-31 | 1993-09-27 | Sumitomo Light Metal Ind | |
JP2003049233A (ja) * | 2001-08-07 | 2003-02-21 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 |
JP4530244B2 (ja) * | 2001-08-07 | 2010-08-25 | 三菱アルミニウム株式会社 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 |
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