JPH0172A - 4−置換−2,6−ジフェニルピリジン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

4−置換−2,6−ジフェニルピリジン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤

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JPH0172A
JPH0172A JP62-227673A JP22767387A JPH0172A JP H0172 A JPH0172 A JP H0172A JP 22767387 A JP22767387 A JP 22767387A JP H0172 A JPH0172 A JP H0172A
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河村 伸一
実光 穣
浜田 達裕
亮 吉田
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住友化学工業株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、新規な4−If!換−2,6−ジフェニルピ
リジン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする
除草剤に関する。
〈従来の技術〉 これ迄、J、 Amer、 Chem、 Soc、、 
90  (6)1569(1968)に2.6−ピスフ
エニルー4−メトキシピリジンが、また、J、 Ame
r。
Chem、 Soc、、 108(12)8585(1
981)等に2.6−ピスフエニルー4−(メチルチオ
)−ピリジン、2.6−ビス(4−メトキシフェニル”
)−4−(メチルチオ)−ピリジン、2.6−ビス(4
−ブロモフェニル)−4−(メチルチオ)−ピリジン等
が記載されている。
〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、これらの化合物の生理活性については全
く述べられていない。しかも本発明の   :iA  
   z、6−ジフェニルピリジン誘導体については、
その化学構造および生理活性とも全く述べられていない
く問題を解決するための手段〉 本発明者等は、優れた除草剤を開発すべく種々検討した
結果、下記一般式(1)で示される化合物が優れた除草
効力を有し、かつ作物−雑草間に優れた選択性を示す化
合物であることを見い出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、一般式(1) 〔式中、Rは低級アルキル基を表わし、R1は水穴原子
あるいは〇−位またはm−位の低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、低ffl/’ロアルキル基または低級アルコキ
シ基を表わし、Rは〇−位、m−位またはp−位の低級
アルキル基、′ハロゲン原子または低級ハロアルキル基
を表わし、Xは酸素原子または硫黄原子を表わす。〕 で示される4−アルキルチオ−2,6−ジフェニルピリ
ジン誘導体(以下、本発明化合物と記す。)、その製造
法およびそれを有効成分とする除草剤を提供するもので
ある。
次にその製造法について詳しく説明する。
本発明化合物のうち、Xが硫黄原子で示されるものは一
般式Cm) 〔式中、RおよびRは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるα−オキソケテンジチオアセタール誘導体と
一般式Cmり 〔式中、Rは前記と同じ意味を衷わす。〕で示されるア
セトフェノン訊導体とを塩基の存在下に反応させること
によって一般式(■)〔式中、RlRおよびRは前記と
同じ意味を表わす。〕 で示される化合物を得、次いで、酢酸アンモニラム、ア
ンモニアまたは塩化アンモニウムと反応させることによ
って製造することができる。
前段の反応は、通常、溶媒中で行われ、反応温度の範囲
は0〜50℃、反応時間の範囲は0.6〜2時間が標準
的であり、反応に供されを試剤の量は、α−オキソケテ
ンジチオアセタール誘導体〔■〕1当量に対してアセト
フェノン誘導体(1)は通常0.9〜1.1当量、塩基
は通常2〜8当量である。
溶媒としては、たとえばジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、N
、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
、あるいはそれらの混合物があげられる。
塩基としては、たとえばカリウム t−ブトキシド、水
素化ナトリウム等があげられる。
後段の反応は、通常、溶媒中で行われ、反応温度の範囲
は0〜180°C1反応時間の範囲は0.5〜8時間が
標準的であり、反応に供される試剤の量は、α−オキソ
ケチンジオチアセタール誘導体(1) 1当量に対して
酢酸アンモニウム、アンモニアまたは塩化アンモニウム
は通常1〜20当量、好ましくは5〜lO当量である。
溶媒としては、たとえばジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、蟻
酸、I!1−酸等の脂肪酸、メタノール、エタノール、
イソプロパツール、t−ブタノール、オクタツール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブ、ジエチレングリ
コール、グリセリン等のアルコール類、ホルムアミド、
N、N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸ア
ミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合
物、などあるいは、それら混合物があげられ、好ましく
は、脂肪酸およびアルコール類である。
これらの反応は、一般式〔■〕で示される化合物を単離
することな(、同一容器内で行なうこともでき、その場
合、溶媒としてはテトラヒドロフラン、N、N−ジメチ
ルホルムアミド等を用いることが好ましい。
前段および後段の反応とも、反応終了後の反応液は、有
機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要に
より、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精
製することができる。
また本発明化合物のうちXが硫黄原子で示されるものは
、一般式■ 〔式中、R1は前記と同じ意味を表わす。〕で示される
アセトフェノン誘導体と一般式(Vl)〔式中 R1お
よびR8は前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるα−オキソケテンジチオアセタール誘導体と
を塩基の存在下反応させることによって前記一般式(m
V)で示される化合物を得、次いで、酢酸アンモニウム
、アンモニアまたは塩化アンモニウムと反応させること
によっても製造するξとができる。
ξの反応の反応条件は、前記のα−オキソケテンジチオ
アセタール誘導体〔1〕とアセトフェノン誘導体〔鳳〕
を反応させ、次いで酢酸アンモニウム、アンモニアまた
は塩化アンモニウムと反応させる反応条件と同様である
上記の製造法において、原料化合物である一般式(1)
または〔■〕−で示されるα−オキソケテンジチオアセ
タール誘導体は、前記のアセトフェノン誘導体CDまた
はCI)と二硫化炭素とを塩基の存在下反応させ、次い
で一般式 %式%[] 〔式中、Rは前記と同じ意味を表わし、Xは沃素原子、
臭素原子または塩素原子を表わも〕で示されるアルキル
ハライドと反応させることによって製造することができ
る。一般式(1)または(Vl)においてR1がメチル
基である場合は、アルキルハライド〔■〕のかわりにジ
メチル硫酸を用いることもできる。
この反応は、通常、溶媒中で行い、反応温度の範囲は通
常0〜100℃、好ましく0〜40”C1反応時間の範
囲は通常0.5〜10時間、好ましくは2〜5時間であ
り、反応に供される試剤の量は、アセトフェノン誘導体
CDまたは〔■〕1当足に対して二硫化炭素は0.9〜
1当量、塩基は2〜2,6当量、アルキルハライド〔1
口は2〜2.5当量が標準的である。
溶媒としては、たとえばジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、N
、N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物等、あるいはそ
れらの混合物があげられる。
反応終了後の反応液は、生じた結晶、をP集するかまた
は有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必
要により、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によっ
て精製することができる。
本発明化合物のうち、Xが酸素原子で示されるものは一
般式〔l 〔゛式中、R1およびR8は前記と同じ意味を表わし、
Rは低級アルキル基を表わす。〕 で示される4−@換−2.6−ジフェニルピリジン誘導
体を酸化剤と反応させ、一般式([)〔式中、R%Rお
よびRは前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物を得、次いで一般式CI)ROM  
     Q) 〔式中、Rは前記と同じ意味を表わし、Mはアルカリ金
属を表わす。〕 で示される金属アルコキシドと反応させることにより製
造することができる。
前段の反応は、通常、溶媒中で行われ、反応温度の範囲
は0〜180℃、反2時間の範囲は0.5〜lO時間が
標準的であり、反応に供される試剤の量は、4−置換−
2,6−ジフェニルピリジン誘導体1当量に対して、酸
化剤は2当量以上、通常2〜5当量である。
溶媒としては、たとえばヘキサン、ヘブタスリグロイン
、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
アセトン等のケトン類、メタノール、エタノール等のア
ルコール類、水等、あるいはそれらの混合物があげられ
る。
酸化剤としては、たとえばm−クロロ過安息香酸、過酸
化水素水等があげられる。
反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通
常の後処理を行い、必要により、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作により精製することができる。
後段の反応は、通常、賭媒中で行われ、反応温度の範囲
は0〜120℃、反応時間の範囲は0.6〜10時間が
標準的であり、反応に供される試剤の量は、 一般式(IX)で示される化合物1当量に対して、金属
アルコキシ背は通常1〜10当量である。
溶媒としては、たとえばヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等
のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、t−ブタノール等のアルコール類、アセトニトリ
ル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジン、ト
リエチルアミン、N、N−ジエチルアニリン、トリブチ
ルアミン、N−メチルモルホリン等の箇三級ア【ン、ホ
ルムアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、アセトア
ミド等の酸アミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン
等の硫黄化合物等、あるいは、それらの混合物があげら
れる。
本発明化合物は、優れた除買効力を有し、かつ作物−雑
草間に優れた逗択性を示す。すなわち本発明化合物は、
畑地の茎葉処理および土壌処理において、問題となる色
々の雑草、例えば、ハコベ、ダイコン、ノハラガラシ、
イチビ、アメリカキンゴジカ、フィールドパンジー、ヤ
エムグラ、アメリカアサガオ、マルパアサガオ、イヌホ
オズキ、オオイヌノフグリ等の広葉雑草、ヒエ、イヌビ
エ、エノコログサ、メヒシバ、エンバク、カラスムギ等
のイネ科雑草等に対して除草効力を有し、しかも本発明
化合物は、コムギ、オオムギ等の主要作物に対して問題
となるような薬害を示さない。
また、本発明化合物は、水田の湛水処理において、問題
となる種々の雑草、例えば、タイヌ゛ビニ等のイネ科雑
草等に対して除草効力を有し、しかもイネに対しては問
題となるような薬害を示さない。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補
助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤
して用いる。
これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重量
比で1〜90%、好ましくは2〜80%含有する。
固体担体としては、カオリンクレー、アッタパルジャイ
トクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト
、タルク、珪線土、方解石、クルミ殻粉、尿蟲、硫酸ア
ンモニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状
物があげられ、液体担体としては、キシレン、メチルナ
フタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロパツール、エ
チレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセ
トン、シクロヘキサノン、イソホロン箋のケトン類、大
豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、N、
N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、水等があ
げられる。
乳化1分散、湿展等のために用いられる界面活性剤とし
ては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩
、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコ
ハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ルリン酸ニス゛チル塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオ
キシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等があげられる
製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩、アルギ
ン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、CMC
(カルボキシメチルセルロース)、PAP(酸性リン酸
イソプロピル)等があげられる。
本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前または出
芽後に土壌処理、茎葉処理または出芽前に湛水処理する
。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり
、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物
に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等があ
る。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、そ
の処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、方法、場
所、対象雑草、対象作物等によっても異なるが、通常1
アールあたり0.1f〜200 f、好ましくは、0.
5v〜80fIであり、乳剤、水和剤、懸濁剤等は、通
常その所定【を1アールあたり1リツトル〜10リツト
ルの(必要ならば、展着剤等の補助剤を添加した)水で
希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら名訳することな
くそのまま処理する。
展着剤としては、前記の界面活性剤のほか、ポリオキシ
エチレン樹脂酸(エステル)、リグニンスルホン酸塩、
アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パ
ラフィン等があげられる。
〈実施例〉 以下、本発明を製造例、製剤例および試験例により、さ
らに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
製造例1 〔本発明化合物(77)の製造〕m−クロロ
アセトフェノン0.60fとテトラヒドロフラン20 
mlを混合した溶液に室温でカリウム t−ブトキシド
1.Ofを加え80分間撹拌した。更に8.8−ビス(
メチルチオ)−1−(4’−クロロフェニル)−2−プ
ロペン−1−オン1fを加え、1時間撹拌した。続いて
、酢酸20g/及び酢酸アンモニウム8fを加え、テト
ラヒドロフランを留去しながら8時間還流した。反応液
を、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチル50
g/で2回抽出し、水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。酢酸エチルを減圧下に留去したe縮残渣をイソプ
ロパツールで再結晶することにより、2−(8’−クロ
ロフェニル)−4−lチルチオ−6−(4’−クロロフ
ェニル)ピリジンを1.0fffた。m、 p、 98
.4℃製造例2 〔本発明化合物(57)の製造〕m−
)リフルオロメチルアセトフェノン0、641とテトラ
ヒドロフラン20窮1を混合した溶液に室温でカリウム
 t−ブトキシド0.9fを加え、80分間撹拌した。
更に、3゜8−ビス(メチルチオ)−1−(4’−トリ
フルオロメチルフェニル)−2−プロペン−1−オン1
Fを加え1時間撹拌した。続いて酢#20 ml及び酢
酸アンモニウム8fを加え、テトラヒドロフランを留去
しながら3時間還流した。反応液を水酸化ナトリウム水
溶液で中和し、酢酸エチル50 wtで2回抽出し、水
洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減
圧下に留去した濃縮残渣をイソプロパツールで再結晶す
ることにより2−CB’−トリフルオロメチルフェニル
)−4−メチ製造例8 〔本発明化合物(4)の製造〕
m−クロロアセトフェノン0.69fとテトラヒドロフ
ラン20 mlを混合した溶液に室温でカリウム t−
ブトキシド1.1Fを加え80分間撹拌した。更に8.
8−ビス(メチルチオ)−1−フェニル−2−プロペン
−1−オンifを加え、1時間撹拌した。続いて、酢酸
20+/及び酢酸アンモニウム8yを加え、テトラヒド
ロフランを留去しながら8時間還流した。反応液を、水
酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチル50g/で
2回抽出し、水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
酢酸エチルを減圧下に留去した濃縮残渣をイソプロパツ
ールで再結晶することにより、2−(8′−クロロメチ
ル−フェニル)−4−メチルチオ−6−フェニルピリジ
ンを1.11を得た。m、 p、 56.8℃ 製造例4 〔本発明化合物(1o)の製造〕メタトリフ
ルオロアセトフェノン0.84 Fとテトラヒドロフラ
ン20m+/を混合した溶液に室温でカリウム t−ブ
トキシド1.11を加え、80分間撹拌した。更に、8
.8−ビス(メチルチオ)−1−フェニル−2−プロペ
ン−1−オン1.9を加え1時間撹拌した。
続いて酢酸20m+/及び酢酸アンモニウム8fを加え
、テトラヒドロフランを留去しながら8時間還流した。
反応液を水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチル
50vtlで2回抽出し、水洗後無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去した濃縮残渣を
イソプロパツールで再結晶することにより2−(8’−
)リフルオロメチルフヱニル)−4−メチルチオ−6−
(4’−)リフルオロメチルフェニル)ピリジン1fを
クロロホルム20tlに溶解し、室温でm−クロロ過安
息香酸0.9gを加え10時間撹拌した。反応液にクロ
ロホルム100c/を加え、チオ硫酸ナトリウムで洗浄
し、次いで水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。缶水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して白色
納品1.05fを得た。
上記で得られた白色結晶をメタノール10g/とテトラ
ヒドロフラン10g/との混合液に溶解し、ナトリウム
エトキシド0.8ダを加えて5時間加熱還流した。減圧
下に溶媒を留去し、水60−を加え、酢酸エチル50w
1で2回抽出して熱水硫酸マグネシウムで乾燥した。
酢酸エチルを減圧下に留去した1綿残渣をカラムクロマ
トグラフィーで処理することにより、2−(8’−)リ
フルオロメチルフェニル)−4−エトキシ−6−(4’
−)リフルオロメチルフェニル)ピリジン0.85Fを
得た。
m、 p* 95.1℃ 次にこの製造法に準じて製造される本発明化合物を第1
表に示す。
第  1  表 \ \\、 \ \、 \ ゝ・、 \ \ \ 次に原料化合物であるα−オキソケテンジチオアセター
ル誘導体CI)または(Vl)の製造例を参考例として
示す。
参考例1 3′−トリフルオロメチルアセトフェノン20fと二硫
化炭素8.OfとN、N−ジメチルホルムアミド200
 mlを混合した溶液に室温で水素化ナトリウム(油性
、60%)9.2Fを加え、80分撹拌した。更に、ヨ
ウ化メチル40Fを、80分かけて滴下した後、2時間
室温で撹拌した。
500 dの氷水を徐々に注ぎ込み、生成した結晶を濾
過して集めた。その結晶をヘキサン40s+lで洗浄し
、イソプロパツールから再結晶することにより、8.8
−ビス(メチルチオ)−1−(8’−)リフルオロフェ
ニル)−2−プロペン−1−オンを219得た。
m、 1)、 89.5℃ 参考例2 0−メチルアセトフェノン159と二硫化炭素9gとN
、N−ジメチルホルムアミド150gjを混合した溶液
に、室温で水素化ナトリウム(油性、60%)10Fを
加え80分撹拌した。更に、ヨウ化メチル401を30
分かけて滴下した後2時間室温で撹拌した。400 m
lの氷水を徐々に注ぎ込み、生成した結晶を濾過して集
めた。その結晶をヘキサン40sgtで洗浄し、イソプ
ロパツールから再結晶することにより、3.3−ビス(
メチルチオ)−1−(2’−メチルフェニル)−2−プ
ロペン−1−オンを221得た。
m、p、96.2℃ このようにして製造されたα−オキソケテンジチオアセ
タール誘導体〔叢〕または〔V1〕のいくつかを第2表
に示す。
第2表 一般式 次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第1表の化合
物番号で示す。部は重量部である。
製剤例1 本発明化合物(28)または(46) 89部、リグニ
ンスルホン酸カルシウム8部、ラウリル硫酸ナトリウム
2部および合成含水酸化珪素15部をよく粉砕混合して
水和剤を得る。
製剤例2 本発明化合物(1)〜(102)夫々10部、ポリオキ
シエチレンスチリルフェニルエーテル14部、ドデシル
ベンゼンスルホン酸カルシウム6部、キシレン70部を
よく混合して乳剤を得る。
製剤例8 本発明化合物(52)または(56) 2部、合成含水
酸化珪素1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベ
ントナイト80部およびカオリンクレー65部をよく粉
砕混合し、水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥して
粒剤を得る。
製剤例4 本発明化合物(28)または(57) 25部、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノオレエート3部、CMC8
部、水69部を混合し、粒度が5ミクロン以下になるま
で配式粉砕して懸濁剤を得る。
次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第1表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第8表
の化合物記号で示す。
第  8  表 また、除草効力は、調査時の供試植物の出芽および生背
阻害の程度を肉ta観察し、化合物を供試、していない
場合と全くないしほとんど違いがないものを1−O」 
 とし、供試植物が枯死ないし生育が完全に阻害されて
いるものを「6」として、0〜506段階に評価し、0
.1.2.3.4.5で示す。
試験例1 水田湛水処理試験 直径Bes、深さ121の円筒型プラスチック4eツト
に水田土壌を詰め、タイヌビエの種子を1〜2cmの深
さに混ぜ込んだ。湛水して、  水田状態にした後温室
内で育成した。6B後(タイヌビエの発生初期)に製剤
例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を5ミ
リリツトルの水で希釈し、水面に処理した。
処理後20 lE1間温室温室内成し、除草効力を調査
した。その結果を第4表に示す。
第  4  表 試験例2 水田湛水処理試験 115000aワグネルポツトに水田土壌を詰め、タイ
ヌビエの種子を1〜23の深さに混ぜ込んだ。湛水して
水田状態にした後、8葉期のイネを移植し、温室内で育
成した。6日後に、製剤例8に準じて供試化合物を粒剤
にし、処理した。処Jul後20日間温室内で阿成し、
除草効力を調査した。その結果を第5表に示す。
第  5  表 試験例8 水田湛水処理試験 直径8c11、深さ12αの円筒型プラスチックはット
に水田土壌をMbめ、夕・fヌビエの種子を1〜2c!
!1の深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状態にした後、
2葉期のイネを移植し、温室内でW或した。6日後(各
雑草の発生w期)に製剤例8に準じて供試化合物を粒剤
にし、その所定量を5ミリリツトルの水で希釈し、水面
に処理した。処理後20日間温室内で育成し、除草効力
および菜二dを調査した。
その結果を第6表に示す。
第  6  表 試験例4 畑地茎葉処理試験 直径10α、深さ10cImの円筒型プラスチックイツ
トに畑地土壌を詰め、ヒエ、エンバク、ダイコン、イチ
ビを播種し、温室内で10日間育成した。その後、製剤
例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ア
ールあたり10リツトル相当の展着剤を含む水で希釈し
、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処理後
20日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を第7表に示す。
第  7  表 試験例6 畑地草葉処理試験 面積88X28d、深さ11cIIIのバットに畑地土
壌を詰め、コムギ、スミレ、オオイヌノフグリ、ハコベ
、ヤエムグラを播種し、18日間育成した。その後、製
剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を展
着剤を含む1アールあたり6リツトル相当の水で希釈し
、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉部全直に均一に処
理した。このとき雑草および作物の生育状況は草種によ
り異なるが、1〜4F!期で、草丈は1〜18c11で
あった。処理28日後に除草効力を調査した。その結果
を第8表に示す。なお、本試験は、全期間を通して温室
内で行った。
第  8  表 〈発明の効果〉 本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理、さらに
水田の湛水処理において問題となる種々の雑草に対して
優れた除草効力を有し、主要作物と雑草間に優れた選択
性を示すことから除草剤の有効成分として種々の用途に
用いることができる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は低級アルキル基を表わし、R^2は水
    素原子あるいはo−位またはm−位の低級アルキル基、
    ハロゲン原子、低級ハロアルキル基または低級アルコキ
    シ基を表わし、R^3はo−位、m−位またはp−位の
    低級アルキル基、ハロゲン原子または低級ハロアルキル
    基を表わし、Xは酸素原子または硫黄原子を表わす。〕 で示される4−置換−2,6−ジフェニルピリジン誘導
    体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は低級アルキル基を表わし、R^2は水
    素原子あるいはo−位またはm−位の 低級アルキル基、ハロゲン原子、低級ハロ アルキル基または低級アルコキシ基を表わ す。〕 で示されるα−オキソケテンジチオアセタール誘導体と
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^3はo−位、m−位またはp−位の低級ア
    ルキル基、ハロゲン原子または低 級ハロアルキル基を表わす。〕 で示されるアセトフェノン誘導体とを塩基の存在下に反
    応させ、次いで酢酸アンモニウム、アンモニアまたは塩
    化アンモニウムとを反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2およびR^3は前記と同じ意味
    を表わす。〕 で示される4−置換−2,6−ジフェニルピリジン誘導
    体の製造法。
  3. (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^3は水素原子あるいはo−位またはm−位
    の低級アルキル基、ハロゲン原子、低級ハロアルキル基
    または低級アルコキシ 基を表わす。〕 で示されるアセトフェノン誘導体と、一般式▲数式、化
    学式、表等があります▼ 〔式中R^1は低級アルキル基を表わし、R^3はp−
    位の低級アルキル基、ハロゲン原子または低級ハロアル
    キル基を表わす。〕 で示されるα−オキソケテンジチオアセタール誘導体と
    を塩基の存在下に反応させ、次いで酢酸アンモニウム、
    アンモニアまたは塩化アンモニウムとを反応させること
    を特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2およびR^3は前記と同じ意味
    を表わす。〕 で示される4−置換−2,6−ジフェニルピリジン誘導
    体の製造法。
  4. (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^2は水素原子あるいはo−位またはm−位
    の低級アルキル基、ハロゲン原子、低級ハロアルキル基
    または低級アルコキシ基を表わし、R^3はo−位、m
    −位またはp−位の低級アルキル基、ハロゲン原子また
    は低級ハロアルキル基を表わし、R^4は低級アルキル
    基を表わす。〕 で示される4−置換−2,6−ジフェニルピリジン誘導
    体を酸化剤と反応させ、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^2、R^3およびR^4は前記と同じ意味
    を表わす。〕 で示される化合物を得、次いで一般式 〔式中、R^1は低級アルキル基を表わし、Mはアルカ
    リ金属を表わす。〕 で示される金属アルコキシドと反応させることを特徴と
    する一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2およびR^3は前記と同じ意味
    を表わす。〕 で示される4−置換−2,6−ジフェニルピリジン誘導
    体の製造法。
  5. (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は低級アルキル基を表わし、R^2は水
    素原子あるいはo−位またはm−位の低級アルキル基、
    ハロゲン原子、低級ハロアルキル基または低級アルコキ
    シ基を表わし、R^3はo−位、m−位またはp−位の
    低級アルキル基、ハロゲン原子または低級ハロアルキル
    基を表わし、Xは酸素原子または硫黄原子を表わす。〕 で示される4−置換−2,6−ジフェ ニルピリジン誘導体を有効成分として含有することを 特徴とする除草剤。
JP22767387A 1986-09-16 1987-09-10 4-substituted 2,6-diphenylpyrodine derivative, production thereof and herbicide containing said derivative as active ingredient Pending JPS6472A (en)

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