JPH0159728B2 - - Google Patents
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- JPH0159728B2 JPH0159728B2 JP8963383A JP8963383A JPH0159728B2 JP H0159728 B2 JPH0159728 B2 JP H0159728B2 JP 8963383 A JP8963383 A JP 8963383A JP 8963383 A JP8963383 A JP 8963383A JP H0159728 B2 JPH0159728 B2 JP H0159728B2
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- hot isostatic
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Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
Description
本発明は、セラミツクス内部の空孔が0のとき
の密度(理論密度)に対する実際の密度の比であ
る理論密度比が99%TD(Theoretical Density)
以上の高密度セラミツクス及び結晶粒界強度の高
いセラミツクスを同時に得ることが可能な粒界絶
縁型半導体磁器コンデンサの製造方法に関するも
のである。 従来例の構成とその問題点 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサは、半導体化
結晶間の粒界領域を高低抗化し、結晶粒界に誘電
体層を設けたものである。この粒界層型は結晶粒
界近傍の10-2μm〜数μmを利用するものであり、
結晶粒界の状態にて、コンデンサ特性が左右され
る。従来の方法だと結晶粒界の結合強度が弱く、
結晶粒界に誘電体層を設けた場合、誘電体層の厚
みのバラツキや誘電体層の強度が弱く、耐電圧特
性、誘電損失等が悪いものであつた。 また、酸化性雰囲気中にて焼成した誘電体磁器
を還元性粉末中にて熱間静水圧プレスをし、半導
体化した後に前記半導体磁器の粒界に拡散剤を熱
拡散させた粒界絶縁型半導体磁器コンデンサもあ
るが、この場合、結晶粒界強度が増大しているた
め、拡散剤が熱拡散しにくくなつており、拡散処
理管理が非常に困難となる。(熱間静水圧の参考
文献:産業技術センター発行、セラミツクス材料
技術集成P684〜P688) 発明の目的 本発明は上記従来の欠点を除去し、理論密度比
99%TD以上の高密度セラミツクス、結晶粒界の
誘電体層の緻密化及び結晶粒界強度の高いセラミ
ツクスを同時に得ることが可能であり、高い耐電
圧特性、低い誘電損失、さらに優れた機械特性を
与える粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方
法を提供することを目的とするものである。 発明の構成 上記目的を達成するために、本発明は半導体磁
器の粒界に拡散剤を熱拡散させて粒界領域に誘電
体層を形成し、その後前記半導体磁器を熱間静水
圧プレスするもので、高い耐電圧特性、低い誘電
損失、さらに優れた機械的強度をもつた粒界絶縁
型半導体磁器コンデンサを得ることができた。 実施例の説明 以下本発明について一実施例とともに説明す
る。試料の調整工程では、半導体磁器組成とし
て、市販の工業用原料SrCO3粉末(純度99.9%以
上)、TiO2粉末(純度99.9%以上)、及び市販の
試薬特級Nb2O5の各粉末を第1表の組成比になる
よう配合し、不純物混入防止のためウレタン内張
ポツトを用いて湿式混合し、乾燥した後1200℃の
温度で仮焼成した。この仮焼物を湿式粉砕し、 第 1 表 半導体磁器組成(モル%) SrCO3 TiO2 Nb2O5 50.10 49.85 0.05 乾燥した後、ポリビニルアルコール水溶液をバイ
ンダにして混合し、32メツシユパスに整粒した。
この整粒粉を直径13mm、厚さ0.5mmの円板形に
1t/cm2の加圧力で成形し、これらの成形体を空気
中1000℃で加熱処理した後に、90%N2−10%H2
の混合ガス気流中において1400℃の温度で3時間
焼成し半導体磁器を得た。 次に、拡散剤として、組成としては公知の
Bi2O3:65モル%、Cu2O:35モル%よりなる酸化
物粉末をペースト状にしたものを用い、前記半導
体磁器素子表面にむらなく塗布した。以上のよう
に拡散剤を塗布した半導体磁器素子を大気下1200
℃の温度にて拡散処理を行つた。この熱拡散処理
にあたつては塗布した拡散成分が蒸発、溶融流
失、試料外への拡散により試料外に失なわれない
ように留意した。 その後、前記半導体磁器を第2表に示す充填材
としてのパツキング材中にて熱間静水圧プレスす
る。この時のプレス条件と磁器の理論密度化、平
均結晶粒径の関係を第1図、第2図に示す。 このようにして得られた粒界絶縁型半導体磁器
の円板形素子の両面にAg電極を焼付けてコン
の密度(理論密度)に対する実際の密度の比であ
る理論密度比が99%TD(Theoretical Density)
以上の高密度セラミツクス及び結晶粒界強度の高
いセラミツクスを同時に得ることが可能な粒界絶
縁型半導体磁器コンデンサの製造方法に関するも
のである。 従来例の構成とその問題点 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサは、半導体化
結晶間の粒界領域を高低抗化し、結晶粒界に誘電
体層を設けたものである。この粒界層型は結晶粒
界近傍の10-2μm〜数μmを利用するものであり、
結晶粒界の状態にて、コンデンサ特性が左右され
る。従来の方法だと結晶粒界の結合強度が弱く、
結晶粒界に誘電体層を設けた場合、誘電体層の厚
みのバラツキや誘電体層の強度が弱く、耐電圧特
性、誘電損失等が悪いものであつた。 また、酸化性雰囲気中にて焼成した誘電体磁器
を還元性粉末中にて熱間静水圧プレスをし、半導
体化した後に前記半導体磁器の粒界に拡散剤を熱
拡散させた粒界絶縁型半導体磁器コンデンサもあ
るが、この場合、結晶粒界強度が増大しているた
め、拡散剤が熱拡散しにくくなつており、拡散処
理管理が非常に困難となる。(熱間静水圧の参考
文献:産業技術センター発行、セラミツクス材料
技術集成P684〜P688) 発明の目的 本発明は上記従来の欠点を除去し、理論密度比
99%TD以上の高密度セラミツクス、結晶粒界の
誘電体層の緻密化及び結晶粒界強度の高いセラミ
ツクスを同時に得ることが可能であり、高い耐電
圧特性、低い誘電損失、さらに優れた機械特性を
与える粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方
法を提供することを目的とするものである。 発明の構成 上記目的を達成するために、本発明は半導体磁
器の粒界に拡散剤を熱拡散させて粒界領域に誘電
体層を形成し、その後前記半導体磁器を熱間静水
圧プレスするもので、高い耐電圧特性、低い誘電
損失、さらに優れた機械的強度をもつた粒界絶縁
型半導体磁器コンデンサを得ることができた。 実施例の説明 以下本発明について一実施例とともに説明す
る。試料の調整工程では、半導体磁器組成とし
て、市販の工業用原料SrCO3粉末(純度99.9%以
上)、TiO2粉末(純度99.9%以上)、及び市販の
試薬特級Nb2O5の各粉末を第1表の組成比になる
よう配合し、不純物混入防止のためウレタン内張
ポツトを用いて湿式混合し、乾燥した後1200℃の
温度で仮焼成した。この仮焼物を湿式粉砕し、 第 1 表 半導体磁器組成(モル%) SrCO3 TiO2 Nb2O5 50.10 49.85 0.05 乾燥した後、ポリビニルアルコール水溶液をバイ
ンダにして混合し、32メツシユパスに整粒した。
この整粒粉を直径13mm、厚さ0.5mmの円板形に
1t/cm2の加圧力で成形し、これらの成形体を空気
中1000℃で加熱処理した後に、90%N2−10%H2
の混合ガス気流中において1400℃の温度で3時間
焼成し半導体磁器を得た。 次に、拡散剤として、組成としては公知の
Bi2O3:65モル%、Cu2O:35モル%よりなる酸化
物粉末をペースト状にしたものを用い、前記半導
体磁器素子表面にむらなく塗布した。以上のよう
に拡散剤を塗布した半導体磁器素子を大気下1200
℃の温度にて拡散処理を行つた。この熱拡散処理
にあたつては塗布した拡散成分が蒸発、溶融流
失、試料外への拡散により試料外に失なわれない
ように留意した。 その後、前記半導体磁器を第2表に示す充填材
としてのパツキング材中にて熱間静水圧プレスす
る。この時のプレス条件と磁器の理論密度化、平
均結晶粒径の関係を第1図、第2図に示す。 このようにして得られた粒界絶縁型半導体磁器
の円板形素子の両面にAg電極を焼付けてコン
【表】
【表】
【表】
デンサ素子とし、誘電率εa(測定周波数1KHz)、
誘電体損失tanδ(1KHz)、昇圧破壊電圧Vb(V/
mm)及び500g荷重を15秒間かけた際のビツカー
ス硬度Hv(Kg/mm2)測定した。その結果を第3表
に示す。ここで、比較試料No.14は熱間静水圧プレ
ス処理しない試料である。 本発明によるNo.1〜No.9の試料は比較試料No.14
と比較すると、εaで約60%、Vbで約40%、Hvで
約30%アツプし、tanδでは約60%ダウンするなど
の優れたコンデンサ特性が得られた。No.10〜13の
試料は発明外の比較例のものであり、本発明の特
性より劣つている。 また、酸化性雰囲気中にて焼成した誘電体磁器
を、還元性粉末中にて熱間静水圧プレスし半導体
化した後に、前記誘電体磁器の粒界に拡散剤を熱
拡散させた従来の粒界絶縁型半導体磁器コンデン
サと本発明のコンデンサの必要拡散剤量の関係
は、第4表に示すように後者の方が前者より拡散
剤量が約1/2倍程度で同程度の特性となる。こ
のことより、本発明が従来例より優れてい
誘電体損失tanδ(1KHz)、昇圧破壊電圧Vb(V/
mm)及び500g荷重を15秒間かけた際のビツカー
ス硬度Hv(Kg/mm2)測定した。その結果を第3表
に示す。ここで、比較試料No.14は熱間静水圧プレ
ス処理しない試料である。 本発明によるNo.1〜No.9の試料は比較試料No.14
と比較すると、εaで約60%、Vbで約40%、Hvで
約30%アツプし、tanδでは約60%ダウンするなど
の優れたコンデンサ特性が得られた。No.10〜13の
試料は発明外の比較例のものであり、本発明の特
性より劣つている。 また、酸化性雰囲気中にて焼成した誘電体磁器
を、還元性粉末中にて熱間静水圧プレスし半導体
化した後に、前記誘電体磁器の粒界に拡散剤を熱
拡散させた従来の粒界絶縁型半導体磁器コンデン
サと本発明のコンデンサの必要拡散剤量の関係
は、第4表に示すように後者の方が前者より拡散
剤量が約1/2倍程度で同程度の特性となる。こ
のことより、本発明が従来例より優れてい
【表】
ることがわかる。
熱間静水圧プレス(HIP)条件においては、第
1図に示すように、1100℃未満では圧力効果が急
激に減少し、300気圧未満では温度効果が減少し、
ともに高密度(99%TD以上)を得ることが出来
ない。また、第2図に示すように、磁器の平均結
晶粒径は熱間静水圧プレス温度に依存し、熱間静
水圧プレス圧力にはあまり依存せず、熱間静水圧
プレス温度が焼成温度(図では1400℃)をオーバ
ーすると急激に結晶粒成長する。すなわち、熱間
静水圧プレス温度が焼成温度より300℃低い温度
未満では磁器密度の上昇が認められず、拡散温度
を超えると、第3表のNo.12試料の如くεaが低下
し、tanδが上昇するなどコンデンサ特性が劣化す
る。また、熱間静水圧プレス圧力が300気圧未満
では磁器密度の上昇が認められない。 熱間静水圧プレス時のパツキング材で拡散剤添
加量が50重量%を超えると、第3表のNo.11の試料
の如く、εaが急激に低下する。パツキング材に
拡散剤成分を添加する理由は、高温で熱間静水圧
プレスをするとパツキング材中に粒界絶縁型半導
体磁器コンデンサの拡散剤成分が逆拡散し、コン
デンサ特性にバラツキ等が発生しやすくなるから
であり、添加しない場合は、HIP温度を可能な限
り下げる必要がある。 なお本発明で述べたパツキング材以外で、コン
デンサ特性を劣化させない材料があれば、これを
用いてもよい。また、パツキング材を用いると、
製品の品質安定が図れるが、パツキング材がなく
てもこれに近い品質を得る事が出来ることは言う
までもない。 発明の効果 以上本発明によれば、次のような効果がもたら
される。 (1) 理論密度比99%TD以上の高密度セラミツク
スが得られる。 (2) コンデンサ特性が向上し、安定化する。 (3) 粒界誘電体層が緻密化する。 このように、本発明の粒界絶縁型半導体磁器の
製造方法は非常に優れた性能を備えており、この
性能は工業的量産化においても著しく安定であ
り、産業的価値の大なるものである。
1図に示すように、1100℃未満では圧力効果が急
激に減少し、300気圧未満では温度効果が減少し、
ともに高密度(99%TD以上)を得ることが出来
ない。また、第2図に示すように、磁器の平均結
晶粒径は熱間静水圧プレス温度に依存し、熱間静
水圧プレス圧力にはあまり依存せず、熱間静水圧
プレス温度が焼成温度(図では1400℃)をオーバ
ーすると急激に結晶粒成長する。すなわち、熱間
静水圧プレス温度が焼成温度より300℃低い温度
未満では磁器密度の上昇が認められず、拡散温度
を超えると、第3表のNo.12試料の如くεaが低下
し、tanδが上昇するなどコンデンサ特性が劣化す
る。また、熱間静水圧プレス圧力が300気圧未満
では磁器密度の上昇が認められない。 熱間静水圧プレス時のパツキング材で拡散剤添
加量が50重量%を超えると、第3表のNo.11の試料
の如く、εaが急激に低下する。パツキング材に
拡散剤成分を添加する理由は、高温で熱間静水圧
プレスをするとパツキング材中に粒界絶縁型半導
体磁器コンデンサの拡散剤成分が逆拡散し、コン
デンサ特性にバラツキ等が発生しやすくなるから
であり、添加しない場合は、HIP温度を可能な限
り下げる必要がある。 なお本発明で述べたパツキング材以外で、コン
デンサ特性を劣化させない材料があれば、これを
用いてもよい。また、パツキング材を用いると、
製品の品質安定が図れるが、パツキング材がなく
てもこれに近い品質を得る事が出来ることは言う
までもない。 発明の効果 以上本発明によれば、次のような効果がもたら
される。 (1) 理論密度比99%TD以上の高密度セラミツク
スが得られる。 (2) コンデンサ特性が向上し、安定化する。 (3) 粒界誘電体層が緻密化する。 このように、本発明の粒界絶縁型半導体磁器の
製造方法は非常に優れた性能を備えており、この
性能は工業的量産化においても著しく安定であ
り、産業的価値の大なるものである。
第1図は本発明の一実施例を説明するための熱
間静水圧プレス(HIP)条件と理論密度比の関係
を示す特性図、第2図は本発明の一実施例を説明
するための熱間静水圧プレス条件と磁器の平均結
晶粒子径の関係を示す特性図である。
間静水圧プレス(HIP)条件と理論密度比の関係
を示す特性図、第2図は本発明の一実施例を説明
するための熱間静水圧プレス条件と磁器の平均結
晶粒子径の関係を示す特性図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 半導体磁器の粒界に拡散剤を熱拡散させて粒
界領域に誘電体層を形成し、その後、前記半導体
磁器を熱間静水圧プレスすることを特徴とする粒
界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方法。 2 熱間静水圧プレスの条件として、温度は粒界
絶縁型半導体磁器コンデンサの焼成温度より300
℃低い温度から拡散温度の間とし、圧力は300気
圧以上とすることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製
造方法。 3 熱間静水圧プレスする際に半導体磁器周囲に
充填されるパツキング材として、拡散処理後の粒
界絶縁型半導体磁器を粉砕した粒子を用いること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の粒界絶
縁型半導体磁器コンデンサの製造方法。 4 熱間静水圧プレスする際に半導体磁器周囲に
充填されるパツキング材として、ZrO2、AlO3、
MgO、SiO2、TiO2、BaTiO3、SrTiO3の1種又
は2種以上の混合粉末に、拡散剤無機成分を合計
50重量%以下含ませることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の粒界絶縁型半導体磁器コンデ
ンサの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8963383A JPS59214212A (ja) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8963383A JPS59214212A (ja) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59214212A JPS59214212A (ja) | 1984-12-04 |
JPH0159728B2 true JPH0159728B2 (ja) | 1989-12-19 |
Family
ID=13976165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8963383A Granted JPS59214212A (ja) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59214212A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5266079A (en) * | 1989-04-04 | 1993-11-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing a ceramic capacitor having varistor characteristics |
-
1983
- 1983-05-20 JP JP8963383A patent/JPS59214212A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59214212A (ja) | 1984-12-04 |
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